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elution patternとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 溶出パターン
「elution pattern」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 39件
To obtain a coated biologically active substance whose elution speed and/or pattern is easily controlled, and whose elution is effectively suppressed during initial elution period in the elution pattern of a time-limited elution type.例文帳に追加
溶出速度や溶出パターンの制御が容易であり、時限溶出型の溶出パターンにおいても、初期溶出期間中の溶出を効果的に抑制された被覆生物活性物質の提供。 - 特許庁
To provide coated biologically active substance particles capable of suppressing the elution during an initial elution period in an elution pattern of a time limiting elution type where the elution speed and elution pattern are controllable comprising a specified period (initial elution suppression period) when a biologically active substance component is not eluted after application and a period (elution period) when it is eluted after the specified period is elapsed.例文帳に追加
溶出速度や溶出パターンの制御が可能で、施用後生物活性物質成分を溶出しない一定期間（初期溶出抑制期間）と、一定期間経過後溶出する期間（溶出期間）とを有する時限溶出型の溶出パターンにおいて、初期溶出期間中の溶出を抑制することが可能な被覆生物活性物質粒子を提供する。 - 特許庁
To prevent elution of a dye from an already existing pattern when a composition is applied onto the existing pattern.例文帳に追加
既設パターンに更に重ね塗りした際に既設パターンからの染料の溶出を防止する。 - 特許庁
To provide a sigmoid elution type coated granular potassic fertilizer combining elution properties (a sigmoid elution pattern consisting of suitable elution suppression period and elution type) and mixing resistance suitable for a method of total weight manuring on seedling culture.例文帳に追加
育苗時全量施肥法に好適な溶出特性（好適な溶出抑止期間及び溶出タイプからなるシグモイド溶出型パターン）と混合耐性を合わせ持ったシグモイド溶出型被覆粒状加里肥料の提供。 - 特許庁
To provide a coated granular body capable of attaining simultaneously a short-term elution type elution pattern and suppression of initial elution, and maintaining an excellent quality.例文帳に追加
本発明は短期溶出型の溶出パターンと初期溶出の抑制とを同時に達成し、なおかつ良好な品質を維持することが可能な被覆粒状体を得ることを目的とする。 - 特許庁
To provide a controlled release coated granular fertilizer whose coating film after completion of elution is well degraded, and shows a timecontrolled elution pattern of strictly suppressing initial elution and, when used in a paddy field, coating films after completion of elution do not float.例文帳に追加
溶出終了後の被膜分解性が良好で、かつ初期溶出を厳密に抑制した時限型の溶出パターンを示すとともに、水田に使用した場合には、溶出終了後の被膜が浮上しにくい時限溶出型被覆粒状肥料を提供する。 - 特許庁
To prevent a pattern from getting defective caused by elution of a quencher in a resist into a liquid, in a liquid immersion lithography.例文帳に追加
液浸リソグラフィにおけるレジスト中のクェンチャーの液体への溶出によるパターン不良を防止できるようにする。 - 特許庁
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「elution pattern」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 39件
To provide a positive resist composition for immersion exposure which suppresses material elution in immersion exposure, and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加
浸漬露光時の物質溶出が抑制された液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition for liquid immersion lithography capable of suppressing elution of materials during liquid immersion lithography and excellent also in lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加
液浸露光時の物質溶出を抑制でき、リソグラフィー特性にも優れた液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a fine pattern having a favorable profile by preventing elution of an acid generating agent from a resist film into a liquid used for immersion lithography.例文帳に追加
液浸リソグラフィに用いる液体にレジスト膜からの酸発生剤の溶出を防止できるようにして、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁
To provide a positive resist composition improved in thickness reduction of a resist film after pattern development and deterioration of a pattern profile in normal exposure, and further improved in elution of a resist component into a immersion solution, pattern collapse or deterioration of a profile after immersion exposure in liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
通常露光時に於ける、パターン現像後のレジスト膜厚減少、及び、パターンプロファイル劣化が改善され、更には、液浸露光時に於ける、液浸液へのレジスト成分の溶出が改善され、液浸露光後のレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition which can decrease elution of substances in a liquid immersion medium used in an immersion lithography process, and to provide a method for forming a resist pattern by using the resist composition.例文帳に追加
イマージョンリソグラフィー工程において用いられる液浸媒体中への物質溶出を低減できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive type resist composition in which a defect, a scum and an elution ratio when liquid immersion exposure are improved and favorable for a liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a granular fertilizer composition capable of realizing the diversified duration of fertilizer effect or elution pattern and supplying fertilizer components suitably to crops.例文帳に追加
より多様な肥効持続期間や溶出パターンを実現することができ、作物に対してより好適に肥料成分を供給することを可能にする粒状肥料組成物等を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid immersion exposure resin of radiation sensitive composition which is good in pattern shape to be obtained, excellent in focus depth and small in the amount of elution during liquid immersion exposure.例文帳に追加
得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ、且つ液浸露光時に接触した水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
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溶出パターン
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