f-electronとは 意味・読み方・使い方

Furthermore, because of energization of the electromagnetic coil 3 for deflection, and because the electron beam is incident on the refuge part F3 of the hood electrode F in the defocus state, damage of the hood electrode F is suppressed.例文帳に追加

また、偏向用電磁コイル３の通電により、電子ビームはフード電極Ｆの退避部位Ｆ３にデフォーカス状態で入射されるため、フード電極Ｆの損傷が抑制される。 - 特許庁

Then, by a deflecting system 15, the Auger electron that passes through a focus point (f) of an input lens 12 is deflected to an input lens 12.例文帳に追加

そして、偏向器１５により、インプットレンズ１２のフォーカス点ｆを通過したオージェ電子はインプットレンズ１２の方へ偏向される。 - 特許庁

When a current-carrying quantity to the filament F is adjusted so that an electron quantity per unit time generated in the filament F becomes constant, such a change that the frequency f of an alternating current supplied to the filament F is lowered below a prescribed value and then increased is observed, and after the frequency change like this, the filament F is disconnected quickly.例文帳に追加

フィラメントＦで発生する単位時間当たりの電子量が一定となるようにフィラメントＦへの通電量を調整していると、フィラメントＦへ供給される交流の周波数ｆが所定値以上低下した後に増加するという変化が観察され、このような周波数変化の後にフィラメントＦが速やかに断線する。 - 特許庁

In the reaction space F where laser beam L1 passes in multiplex, the electron beam E and the laser beam L interact with each other to generate X-ray.例文帳に追加

レーザー光Ｌ１が多重に通過する反応空間Ｆで、電子ビームＥとレーザー光Ｌとを相互作用させ、Ｘ線を発生させる。 - 特許庁

When being irradiated with an electron beam EB from an electron emission source 7, the Al_0.7Ga_0.3 N/AlN multiple quantum well layer 5 is excited, and deep UV light DUV is radiated from a light-extraction face F of a sapphire (0001) substrate 1.例文帳に追加

電子放出源７より電子線ＥＢが照射されると、Al_0.7Ga_0.3N/AlN多重量子井戸層５が励起されて深紫外光ＤＵＶがサファイア（0001）基板１の光取り出し面Ｆより放射される。 - 特許庁

The protective film forming material for the resist layer used for the electron beam or EUV lithography is obtained by dissolving a fluorine-containing polymer (F) in an organic solvent.例文帳に追加

フッ素含有ポリマー（Ｆ）を有機溶剤に溶解してなる、電子線又はＥＵＶリソグラフィーに用いられるレジスト層用の保護膜形成用材料。 - 特許庁

Furthermore, by making the direction of the center orbit E of the electron beam e which enters into the throttle hole 8 be changed, the position of the focus F can be changed easily and freely.例文帳に追加

さらに、絞り孔８へ入射する電子ビームｅの中心軌道Ｅの方向を変えるようにすることで、焦点Ｆの位置を容易にかつ自在に変えることができる。 - 特許庁

This method comprises rectifying granules F to a single-granule array, dropping the resultant array in the air, imparting rotation to each falling granule and horizontally or diagonally irradiating each rotatingly falling granule F with electron beams.例文帳に追加

粒状物Ｆを単粒の配列になるように整流して空中に落下させ、落下する粒状物の各粒に回転運動を付与し、回転しながら落下する粒状物Ｆの各粒に水平又は斜め方向から電子線を照射する。 - 特許庁