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formation stageとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 生成段階; 形成期
「formation stage」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 263件
Formerly it seemed to be performed in a two-stage formation but now it is performed in a single-stage formation without intermission.発音を聞く 例文帳に追加
古くは二段構成であったらしいが、現在は中入りなしの一段構成で上演される。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Indexes of amounts of recorded data are printed in advance on an index formation layer, such as "STAGE 1", "STAGE 2", "STAGE 3" and "STAGE 4".例文帳に追加
指標形成層には、「ＳＴＡＧＥ１」，「ＳＴＡＧＥ２」，「ＳＴＡＧＥ３」，「ＳＴＡＧＥ４」のように、記録したデータ量の指標が予め印刷されている。 - 特許庁
Furthermore, backside image formation is carried out in a short paper re-feeding path in a final stage of double-sided image formation.例文帳に追加
また、両面画像形成の末期において、短い再給紙路にて裏面画像形成を行う。 - 特許庁
To assess the characteristics of colonies at the early stage of their formation in high accuracy.例文帳に追加
コロニー形成の早い段階でその特性を精度よく評価する。 - 特許庁
To suppress formation of a reverse gear stage at the time of forward traveling.例文帳に追加
前進走行時に後進ギア段が形成されることを抑制する。 - 特許庁
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「formation stage」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 263件
Further, the average particle diameter in the initial film formation stage is 0.3 to 0.6 μm and the average particle diameter in the subsequent film formation stage is 0.4 to 8.0 μm.例文帳に追加
また、初期の製膜段階での平均粒径は０．３〜０．６μｍであり、その後の製膜段階での平均粒径は０．４〜８．０μｍである。 - 特許庁
To provide a film formation method and a film formation device by which elements forming a stage and jigs for holding the stage can be prevented from reaching a substrate.例文帳に追加
ステージ及びステージを保持するための治具を構成する構成元素が基板に到達するのを抑止できる成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁
OPTICAL UNIT, INTERFERENCE DEVICE, STAGE DEVICE, PATTERN FORMATION DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
光学ユニット、干渉装置、ステージ装置、パターン形成装置およびデバイス製造方法 - 特許庁
In a stage prior to the formation of resin layer, a resin material is heated and its evaporation is stabilized.例文帳に追加
樹脂層形成前の段階から、樹脂材料を加熱して蒸発を安定化させる。 - 特許庁
To provide a culturing method enabling flower stalk formation of plural flower stems from initial stage of culture.例文帳に追加
栽培初期段階から複数の花茎の抽苔を可能とする栽培方法の提供。 - 特許庁
An LDMOSFET is formed in each of a driver stage LDMOSFET formation region 20A of an SOI substrate 20 and an output stage LDMOSFET formation region 20B.例文帳に追加
ＳＯＩ基板２０のドライバ段ＬＤＭＯＳＦＥＴ形成領域２０Ａおよび出力段ＬＤＭＯＳＦＥＴ形成領域２０ＢのそれぞれにＬＤＭＯＳＦＥＴが形成されている。 - 特許庁
When the pattern formation has been completed, the processes is finished by removing the substrate 50 from the stage 5.例文帳に追加
また、パターンが完成した場合は、ステージ５から基板５０を取り外して作業が終了する。 - 特許庁
To reduce fog in an image obtained in an initial stage when continuous image formation is started.例文帳に追加
連続的な画像形成を開始したときの初期に得られる画像でカブリの発生が低減する。 - 特許庁
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