formation bombardmentとは 意味・読み方・使い方

This method comprises a step of supplying a substrate which already has an element structure which results in uneven topography, a step of forming the film, and while forming the film, performing ion bombardment to promote gap-filling of the film, and a step of continuously performing the ion bombardment up to a specified time, after stopping the film formation to improve the extent of the flatness of the film.例文帳に追加

既に素子構造を具備し地勢の高低が起伏している基板を提供するステップ、上記基板上にフィルムを形成しフィルムの形成の際イオンボムバードメントを進行してフィルムのギャップフィリングを増進するステップ、上記フィルムの形成を停止した後再び持続的にイオンボムバードメントを特定時間まで進行してフィルムのフラット程度を改善するステップとを備えてなる。 - 特許庁

To improve the quality of film formation by eliminating ion bombardment onto a processed substrate and reduce the cost of a plasma processing apparatus by efficiently removing particles in a processing chamber with a simple configuration in the apparatus and a plasma cleaning method thereof.例文帳に追加

プラズマプロセス装置及びそのプラズマクリーニング方法について、被処理基板へのイオン衝撃を無くして成膜の質を向上させると共に、簡単な構成により処理室内のパーティクルを効率よく除去できるようにして、装置コストの低減を図る。 - 特許庁