hydrogen ion concentrationsとは 意味・読み方・使い方

The polishing composition is obtained by mixing a colloidal silica 30 nm in a mean particle size, a cocondensate of PMMA of 40 nm in mean particle size and divinylbenzene, glycine, benzotriazole, and hydrogen peroxide into an ion-exchanged water filtered through a 0.5 μm cartridge filter so that their concentrations come to a specified value, and by homogeneously dispersing the mixture by agitation in a high-speed homogenizer.例文帳に追加

平均粒径３０ｎｍのコロイダルシリカ、平均粒径４０ｎｍのＰＭＭＡとジビニルベンゼンの共縮合物、グリシン、ベンゾトリアゾール及び過酸化水素を特定濃度になるように０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させた研磨用組成物である。 - 特許庁

The polishing composition is obtained by mixing a cocondensate of PMMA of 40 nm in mean particle size and divinylbenzene, glycine, benzotriazole, a polyoxyethylene alkyl ether sulfate ammonium salt, and hydrogen peroxide into an ion-exchanged water filtered through a 0.5 μm cartridge filter so that their concentrations come to a specified value, and by homogeneously dispersing the mixture by agitation in a high-speed homogenizer.例文帳に追加

平均粒径４０ｎｍのＰＭＭＡとジビニルベンゼンの共縮合物、グリシン、ベンゾトリアゾール、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩及び過酸化水素を特定濃度になるように０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させた研磨用組成物である。 - 特許庁

This polishing composition is obtained by mixing ion-exchanged water filtered through a 0.5μm cartridge filter with polymethyl methacrylate(PMMA) particles 30 nm in mean size and 60° in contact angle with water as a polishing material, benzotriazole, hydrogen peroxide and citric acid so that their concentrations come to levels in a prescribed ratio, followed by agitation using a high-speed homogenizer to effect homogeneous dispersion.例文帳に追加

研磨材として、平均粒径３０ｎｍで水の接触角が６０度のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）粒子、ベンゾトリアゾール、過酸化水素、クエン酸が表１に示された濃度になるように０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させて研磨用組成物を得た。 - 特許庁