ion plasma waveとは 意味・読み方・使い方

To provide a plasma ion mass spectrometry device and method which enables introduction of sample ion to a mass spectrometer by maintaining plasma temperature high as well as preventing degradation of ion generation volume due to plasma temperature fall while carrying out shielding of electromagnetic wave from the surroundings of an apparatus or cooling it.例文帳に追加

機器周辺への電磁波の遮蔽、或いはその冷却をしながらプラズマの温度低下によるイオン生成量の低下を防止し、プラズマの温度を高温に維持して試料のイオンを質量分析計に導入することを可能としたプラズマイオン質量分析装置と分析方法を提供する。 - 特許庁

A substrate W to be treated is placed on a susceptor 16 of a lower electrode, and wave of a first high frequency for plasma generation is applied from a high-frequency power source 30, and wave of a second high frequency for ion extraction is applied from a high-frequency power source 70.例文帳に追加

下部電極のサセプタ１６には被処理基板Ｗが載置され、高周波電源３０よりプラズマ生成用の第１高周波が印加され、高周波電源７０よりイオン引き込み用の第２高周波が印加される。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus which can obtain an etching grade higher than a conventional one, where a damage of a treated matter due to etching is little, and which can produce a surface wave downstream negative ion in a radio frequency band; and to provide a plasma producing method.例文帳に追加

従来の装置よりも高いエッチングレートを得られ、エッチングによる被処理物へのダメージが少なく、ラジオ周波数帯で表面波ダウンストリーム負イオンの生成が可能であるプラズマ処理装置およびプラズマ発生方法を提供する。 - 特許庁

A silicon substrate W is placed on a susceptor 12 arranged inside a chamber 10 that can be evacuated an etching gas is electrically discharged inside the chamber 10 to generate a plasma; and a primary radio-frequency wave RF_L for pulling in ion to the susceptor 12 is impressed.例文帳に追加

真空可能なチャンバ１０内に配置されたサセプタ１２上にシリコン基板Ｗを載置し、チャンバ１０内でエッチングガスを放電させてプラズマを生成し、サセプタ１２にイオンを引き込むための第１の高周波ＲＦ_Ｌを印加する。 - 特許庁

This fluorine generator is constituted so that a potassium fluoride (KF) source is located in a vacuum chamber which is filled with a working gas, a high frequency wave antenna is located at the outside of the chamber across the insulating window to heat the working gas and to sublimate the KF source, and a plasma for a potassium ion, a fluoride ion, a fluorine atom and the working gas are to be formed.例文帳に追加

作業ガスを充填した真空チャンバにフッ化カリウム（ＫＦ）源を位置させ、絶縁性の窓部の向こう側のチャンバの外側に位置づけさせた高周波アンテナが窓部を通して作業ガスを加熱してＫＦ源を昇華し、カリウムイオン、フッ素イオン、フッ素原子、作業ガスイオンのプラズマを形成する。 - 特許庁

At least either of a device or a bonded object to be lid is outlined with a pile of bonding metal and both of them are put into a decompression chamber to bond at low temperature of 180°C or less after their surfaces to be bonded are activated by an energy wave of atomic beams, ion beams or plasma.例文帳に追加

デバイスと蓋となる被接合物間の少なくとも一方に周辺を輪郭状に接合金属で盛りつけ、デバイスと被接合物を減圧チャンバー内で両接合表面を原子ビーム、イオンビームまたはプラズマであるエネルギー波により表面活性化した後、１８０℃以下の低温で接合することにより、デバイスと被接合物間に空間を空けてある雰囲気に封止する接合方法及び装置が可能となる。 - 特許庁

Nanoparticles which can be fully dispersed are made by plasma without carrying out surface treatment, and moreover, in order to shift an equipotential point to an acid side and to raise dispersibility in a neutral region extremely, while making a dissimilar metal ion or atom pour in and unify in a crystal structure when needed, a crystal structure which does not make active oxygen discharge is created, and simultaneously desired fine particles are obtained by an ultrasonic wave dispersion or centrifuge method.例文帳に追加

プラズマにより、表面処理をせずに完全分散できるナノ粒子を作ること、また、等電位点を酸性側にシフトさせ中性域での分散性を極めて高めるため、必要に応じて結晶構造中に異種金属イオン又は原子を注入せしめて一体化するとともに、活性酸素を排出させない結晶構造を創製せしめて、同時に超音波分散又は及び遠心分離法により所望の微粒子を得る。 - 特許庁