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ion current densityとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 イオン電流密度
「ion current density」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 79件
ION INJECTION DEVICE HAVING ARC CHAMBER FOR IMPROVING ION CURRENT DENSITY例文帳に追加
イオン電流密度を向上させるアークチャンバを持つイオン注入装置 - 特許庁
MEASURING METHOD OF CURRENT DENSITY DISTRIBUTION OF ION BEAM, ION INJECTION METHOD USING THE SAME AND ION INJECTION DEVICE例文帳に追加
イオンビームの電流密度分布測定方法及び同測定方法を用いたイオン注入方法及びイオン注入装置 - 特許庁
To provide an ion current density measuring method and a device for measuring ion current density indicating the amount of ion irradiation to a treated article in plasma treatment, along with plasma density and an electron temperature using a probe measuring instrument without depending on an ion current measuring instrument.例文帳に追加
プラズマ処理において被処理物品へのイオン照射量を示すイオン電流密度を、イオン電流計測器に頼ることなく、プローブ計測器を利用して、プラズマ密度や電子温度と併せて計測できるイオン電流密度計測方法及び装置を提供する。 - 特許庁
Furthermore, the ion beam irradiation device includes beam current density distribution adjustment mechanisms 70a, 70b for respectively adjusting beam current density distributions in the vicinity of an end of ion beams 54a, 54b.例文帳に追加
更に、イオンビーム54a、54bの一端付近のビーム電流密度分布をそれぞれ調整するビーム電流密度分布調整機構70a、70bを備えている。 - 特許庁
To improve a deposition speed without increasing the current density of an ion beam.例文帳に追加
イオンビームの電流密度を上げることなく、成膜スピードの向上を可能とする。 - 特許庁
To provide an ion source that generates an ion beam having a large effective diameter with an ion beam current density of 10 mA/cm2 or more, an ion beam uniformity of ±3% or less and a reproducibility (change with the passage of time) of ion beam current density of ±1% or less.例文帳に追加
本発明は、イオンビーム電流密度10mA/cm^2 以上、イオンビームの均一性±3%以内、イオンビーム電流密度の再現性(経時変化)±1%以内で、有効径の大きいイオンビームを発生するイオン源を提供する。 - 特許庁
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「ion current density」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 79件
NEGATIVE ION SOURCE FORMING NEGATIVE ION OF HIGH CURRENT DENSITY IN HIGH EFFICIENCY BY REDUCING GAS PRESSURE OF BEAM PASSAGE REGION例文帳に追加
ビーム通過領域のガス圧を低減し、高い電流密度の負イオンを高効率で生成する負イオン源 - 特許庁
To provide an ion beam having constantly uniform current density even at a short distance from an ion source.例文帳に追加
イオン源から近距離であっても、常に均一な電流密度を有するイオンビームを得ることができるようにする。 - 特許庁
To provide an ion implantation device in which a uniformity of a beam current density distribution in a Y direction of the ion beam can be improved even if a plasma density distribution is not uniform in a plasma generator of an ion source.例文帳に追加
イオン源のプラズマ生成部内におけるプラズマ密度分布が均一でない場合でも、イオンビームのY方向におけるビーム電流密度分布の均一性を良くする。 - 特許庁
The M plasma parameters are selected from a group including wafer voltage, ion density, etch rate, wafer current, etch selectivity, ion energy, and ion mass.例文帳に追加
M個のプラズマパラメータはウェハ電圧、イオン密度、エッチング速度、ウェハ電流、エッチング選択性、イオンエネルギー及びイオン質量を含む群から選択される。 - 特許庁
A microcomputer 30 controls the current density of the argon ions emitted by the ion gun 20, based on the current density of transmitted electrons measured by a current detector 40.例文帳に追加
また、マイコン30は、電流検出器40が測定した透過電子の電流密度を基にして、イオン銃20が放出するアルゴンイオンの電流密度を制御する。 - 特許庁
The current supplied between the molten metal and the oxygen ion conductive refractory constituting the nozzle wall, is made to 0.1 A/cm2-1.0 A/cm2 ion current density.例文帳に追加
溶融金属とノズル壁を構成する酸素イオン伝導性耐火材との間に流す電流を、イオン電流密度として0.1A/cm^2以上1.0A/cm^2以下とする。 - 特許庁
To efficiently adjust a beam current density distribution of each ion beam in an ion-beam-superposed region on a glass substrate irradiated with a plurality of ion beams.例文帳に追加
ガラス基板上に照射された複数本のイオンビームによる重ね合わせ領域において、各イオンビームのビーム電流密度分布を効率的に調整する。 - 特許庁
To adjust a current density distribution of an ion implantation apparatus with precision by finely bending a part of a stripe type ion beam in a surface of the stripe type ion beam.例文帳に追加
イオン注入装置において、帯状イオンビームの一部分を帯状イオンビームの面内で小さく曲げて電流密度分布を精度よく調整する。 - 特許庁
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