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laser chemical reactionとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 レーザ化学反応
「laser chemical reaction」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 7件
To provide a method for safely and efficiently promoting photochemical reaction for causing chemical reaction of a combustible substance or self-degradable substance as a raw material, particularly causing reaction by radiating laser beam.例文帳に追加
可燃性物質や自己分解性物質を原料とする化学反応、特にレーザ光等を照射して反応を起こす光化学反応を安全に、そして効率的に進行させる方法を提供する。 - 特許庁
The image-forming area 100G can be a pigment, a substance which shows visible chemical reaction by the irradiation of the laser beam, whatever it may be fused or carbonized, or the like.例文帳に追加
画像形成領域100Gは色素の他、レーザ光の照射により可視可能な化学反応を示す物質であれば溶融、炭化するものでもよい。 - 特許庁
The print layer 123 may be formed of dyes or of substances which melt or carbonize as far as the substances exhibit visible information through a chemical reaction by irradiation of laser light.例文帳に追加
印字層123は色素の他、レーザ光の照射により可視可能な化学反応を示す物質であれば溶融、炭化するものでもよい。 - 特許庁
The processing effects such as curing, annealing, implant activation, selective melting, deposition, and chemical reaction can be achieved with a dimension limited by a diameter of the focused laser beam.例文帳に追加
例えば、硬化、焼きなまし、インプラント活性化、選択的溶融、デポジション、及び化学反応のような処理効果が、集束ビーム直径によって限定された寸法で達成されることができる。 - 特許庁
The recording agent for the write once photorecording medium is (l)composed mainly of an organic compound which generates a chemical reaction upon exposure to a laser beam and forms a molecule or a molecular group showing light absorption to light with a wavelength of 500 nm or less, or changes to a chemical compound showing the light absorption to the light with a wavelength of 500 nm or less.例文帳に追加
(1)レーザ光の照射を受けると化学反応を生じ、波長500nm以下の光に対して光吸収性を示す分子又は分子団を生成するか、又は波長500nm以下の光に対して光吸収性を示す化合物に変化する有機化合物を主成分とする追記型光記録媒体用記録剤。 - 特許庁
A resist film 11 consisting of a chemical amplification type resist material including a hydrophobic base polymer which is made hydrophilic by elimination of a protective group by an acid elimination reaction and an acid generating agent to generate an acid with light is formed and thereafter this resist film 11 is irradiated with an F_2 laser beam 14 across a mask 12 and is thus exposed with patterns.例文帳に追加
酸脱離反応により保護基が脱離して親水性となる疎水性のベースポリマーと、光により酸を発生する酸発生剤とを含む化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜11を形成した後、該レジスト膜11にマスク12を介してF_2 レーザ光13を照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁
The original film for laser engraving type flexographic printing plate has a crosslinked relief forming layer, obtained by crosslinking a resin composition containing a chain polymerizable monomer (A), a crosslinking agent (B) which makes a crosslinking through successive reaction and a crosslinkable polymer (C) with a crosslinkable group which makes a chemical reaction with the crosslinking agent (B), under chain polymerization and successive crosslinking reaction, formed on a support.例文帳に追加
連鎖的重合性モノマー(A)、逐次的反応で架橋する架橋剤(B)、及び架橋剤(B)と反応する被架橋性基を有する被架橋性ポリマー(C)を含有する樹脂組成物を、連鎖的重合並びに逐次的架橋反応により架橋した架橋レリーフ形成層を支持体上に有し、前記架橋レリーフ形成層の、25℃における周波数100Hzでの貯蔵弾性率E’(MPa)が下記(a)の関係を満たし、かつ、25℃における引っ張り破断時の最大伸び率L(%)が下記(b)の関係を満たすことを特徴とするレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版。 - 特許庁
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