DE1496983B2 - Selen titan und zirkonverbindungen enthaltendes tetrachrom bad und verfahren zur abscheidung von duplex chromschichten - Google Patents
Selen titan und zirkonverbindungen enthaltendes tetrachrom bad und verfahren zur abscheidung von duplex chromschichtenInfo
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-
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Description
Als Tetrachromatbäder werden bekanntlich galvanische Chrombäder bezeichnet, bei denen durch
Zugabe von Natriumionen zu Chromsäurelösungen ein Natriumtetrachromat als wesentlichen Bestandteil
enthaltender Elektrolyt mit einem Molekularverhältnis Na2OiCrO3 = 1:3,5 bis 1:8, vorzugsweise
1:4 bis 1:6, entsteht und die Badtemperaturen unter
der Zersetzungstemperatur des Natriumtetrachromats (40° C) gehalten werden. Derartige Tetrachromatbäder
sind durch die deutsche Patentschrift 608 757 bekanntgeworden. Entsprechende Versuchsreihen unter
den Bedingungen
Gesamt-CrO3, g/l.... 150 300 600
freie CrO3, g/l 50 100 120
NaOH, g/l 20 40 96
H2SO4, g/l 0,5 1,0 1,5
ergaben bei einer Badtemperatur von 18 bis 200C
und e.ner Stromdichte von 20 A/dm2 weiche matte,
1 LlU PA olierende Poröse, rissige Chromüberzüge
mit 60 bis 80 Rissen je 2,5 cm jedoch mit inneren Spannungen
und deshalb schlechter Korrosionsbeständigkeit von nur zwei bis drei Runden Kesternich-Test
gegenüber dem geforderten Minimum von sechs Runden
Für Glanzchrombäder auf Tetrachromatbasis wurden durch die deutsche Auslegeschrift 1106 575
bereits Zusätze von Verbindungen des Titans, Zirkoniums oder Selens zur Abscheidung hochglänzender
Chromüberzüge vorgeschlagen. Versuchsreihen mit solchen Bädern bei gleichem Gehalt wie vorher an
Gesamt-CrO3, freier CrO3, NaOH und H2SO4 und
folgenden Zusätzen.
Na2SeO3, g/l 0,2 0,3 0,4
Selen (Se), g/l 0,09 0,135 0,18
Stromdichte, A/dm2.. 5 10 20
ergaben bei gleichen Badtemperaturen zwar glänzende, jedoch poröse Chromüberzüge mit nur 60 bis 67 Rissen
je 2,5 cm mit inneren Spannungen. Die Korrosionsbeständigkeit war auf vier bis fünf Runden Kesternich
festgestellt worden. Die aus solchen Tetrachromatbädern abgeschiedenen Glanzchromüberzüge sind zwar
relativ porenarm und können daher als »dicht« bezeichnet werden, sie weisen jedoch keine rißfreien
oder mikrorissigen Strukturen auf und sind deshalb unelastisch und anfällig gegen Temperaturschwankungen
der überzogenen Gegenstände.
Als mikrorissige Chromüberzüge bezeichnet man solche mit 400 bis 1000 die lineare Meßstrecke von
2,5 cm schneidenden Rissen.
Es wurde nun gefunden, daß sich spiegelglänzende, riß- und porenfreie Chromüberzüge hoher Korrosionsbeständigkeit
mit verbesserter Tiefenstreuung des Bades abscheiden lassen, wenn das Bad
150 bis 600 g/l Gesamtchromsaure, freie Chromsäure im Gewichtsverhältnis 1:3 bis 1:5
zur Gesamtchromsaure und 0,15 bis 0,48 % Schwefelsäure und 0,001 bis
0,005 g/l Selendioxid
sowie
sowie
0,17 bis 0,4 °/0 Titan als komplexe Titan verbindung,
bezogen auf den Gesamtchromsauregehalt,
oder
oder
0,33 bis 1,78 % Zirkonium als komplexe Zirkoniumverbindung,
bezogen auf den Gesamtchromsäuregehalt,
enthält.
enthält.
Die Badtemperaturen können dabei unter 32° C, vorzugsweise bei 23 bis 25°C, liegen. Die niedrigste
bisher für rißfreie Chromabscheidung angewandte Badtemperatur betrug 35°C, und diese war nur dann verwendbar,
wenn dabei eng begrenzte Bereiche des Katalysatorgehaltes, bezogen auf den Chromsäuregehalt,
eingehalten wurden.
Es sei hier erwähnt, daß der Selendioxidgehalt für rißfreie Verchromung einen Wert von 0,005 g/l nicht
übersteigen darf.
£s WUrde ferner gefunden, daß sich spiegelglänzende,
mikrorissige Chromüberzüge hoher Korrosionsbeständigkeit mit verbesserter Tiefenstreuung des Bades
abscheiden lassen, wenn das Bad
150 bis 600 ;, Gesamtchromsäure, freie Chromsäure *o im Gewichtsverhältnis 1:3 bis 1:5 zur
150 bis 600 ;, Gesamtchromsäure, freie Chromsäure *o im Gewichtsverhältnis 1:3 bis 1:5 zur
Gesamtchromsäure und 0,47 bis 0,68°/0
Schwefelsäure und 0,007 bis 0,02 g/l Selendioxid
sowje
sowje
' 0>05°/0 Titan als komplexe Titanverbindung,
b<f °gen auf den ferti8en Elektrolyten,
oder
0,04 bis 0,15% Zirkonium als komplexe Zirkoniumverbindung, bezogen auf den fertigen Elektrolyten, enthält.
Die Badtemperaturen können dabei zwischen 28 bis
390C liegen, vorzugsweise bei 37 bis 39 0C. Für die Auf tragungmikrorissigerChromüberzügewardieniedrigste
bisher bekannte Badtemperatur 450C. Auch diese bedingte
die Einhaltung sehr enger Grenzen in der Badzusammensetzung und in den Arbeitsbedingungen.
Die Glanzchrombäder auf Tetrachromatbasis gemaß der Erfindung ergeben also bei jeweils unterschiedlicher
Badzusammensetzung und verschiedenen Arbeitsbedingungen spiegelglänzende, sowohl riß-
und porenfreie als auch mikrorissige Chromüberzüge. Folgende Beispiele für erfindungsgemäße Bäder
können angegeben werden, wobei die Gehaltsangaben in g/l gemacht sind:
B e i s ρ i e 1 I
B e i s ρ i e 1 I
Gesamtchromsaure 600
ijeie Chromsäure 120
Schwefelsaure .. . 1,5
Zirkomumhexafluorid 13,0 oder
Titanhexattuorid 10,0
Na2be(J3 0,008
belen
0,0036
Die Badtemperatur beträgt etwa 18 bis 20°C und die verwendete Stromdichte 20 A/dm2.
B e i s η i e 1 II
Gesamtchromsaure 300
Frei Chromsäure 100
NaOH 40
Schwefelsäure 1,9
Zirkoniumhexafluorid 0,6 oder
Titanhexafluorid 0,5
Na2SeO3 0,015
Selen 0,0068
Die Badtemperatur beträgt 37 bis 390C und die
verwendete Stromdichte 15 A/dm2.
Die mit diesen Bädern abgeschiedenen Chromüberzüge zeigen die ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit
von 10 bis 18 Runden Kesternich. Bei den mikrorissigen Überzügen wurden 1100 bis 1280 Risse je
2,5 cm gezählt.
Die Konzentration des Bades richtet sich auch nach der Art der zu verchromenden Gegenstände, weil
kleinere, schwieriger zu galvanisierende Werkstücke, z. B. aus Edelstahlen, sich besser in weniger konzentrierten,
dagegen großflächige, stark profilierte Werkstücke sich besser in stärker konzentrierten Bädern
galvanisieren lassen. Dabei ist allerdings zu beachten, daß zu wenig konzentrierte Bäder durch die in der
Praxis unvermeidliche Vermehrung von Verunreinigungen leichter aus dem Gleichgewicht gebracht
werden, daß andererseits zu hoch konzentrierte Bäder wegen ihrer hohen Viskosität die Glanzverchromung
erschweren. Die jeweils richtige Badkonzentration muß im Rahmen der Erfindung den jeweiligen Verhältnissen
angepaßt werden.
Die Erfindung bezieht sich ferner auf ein Verfahren zur Abscheidung von Duplex-Chromschichten unter
Verwendung von Tetrachromatbädern der beschriebenen Art. Während es bisher zur Erzeugung einer
einwandfreien Duplex-Verchromung erforderlich war, nach dem Austragen des im ersten Chrombad behandelten
Werkstückes eine Zwischenspülung zur Entfernung der Reste des ersten Bades vorzunehmen,
bevor das Werkstück in das zweite Chrombad gesenkt wurde, ist es nach dem erfindungsgemäßen Verfahren
möglich, rißfrei bei etwa 25°C verchromte Werkstücke aus dem ersten Bad (Beispiel I) bei einer
unterhalb des Abscheidungspotentials des Chroms liegenden Spannung herauszunehmen und unmittelbar
anschließend in dem zweiten Bad (Beispiel II) mit einer mikrorissigen Glanzchromschicht zu versehen, da
die beiden Bäder aufeinander abgestimmt sind.
Die komplexen Verbindungen des Titans oder Zirkoniums können in den Tetrachromatbädern
entweder in Form löslicher Salze oder auch in situ durch Zugabe äquivalenter Mengen einfacher Verbindungen,
z. B. Alkalifluoriden und Alkalititanaten oder Alkalizirkonaten, gebildet werden.
Um eine einwandfreie Arbeitsweise der erfindungsgemäßen Glanzchrombäder auf Tetrachromatbasis
und die hohe Korrosionsbeständigkeit der daraus abgeschiedenen Chromüberzüge sicherzustellen, ist
es erforderlich, daß eine Verunreinigung der Bäder mit störenden Anionen, vorzugsweise Borionen,
Chlorionen, Nitrat- oder Nitritionen, Phosphat- oder Phosphitionen vermieden wird. Auch andere basische
Verbindungen, z. B. des Calciums, ferner Chromhydroxyd oder Ferrihydroxyd können, wenn diese
in größeren Mengen in die Elektrolyte gelangen, so viel Chromsäure binden, daß die Bildung von Tetrachromat
behindert wird.
Die technischen Vorteile der erfindungsgemäßen Bäder liegen in dem weiten Glanzabscheidungsbereich,
der außergewöhnlich guten Deckfähigkeit, der hervorragenden Tiefenstreuung, der bei normalen Arbeitsstromdichten
von 10 bis 20 A/dm2 hohen Stromausbeute von 18 bis 22% des theoretischen Wertes und
der deshalb wesentlich erhöhten Abscheidungsgeschwindigkeiten sowie in der Möglichkeit, bei niedrigeren
Badtemperaturen als bei allen bisher bekannten Glanzchrombädern spiegelglänzende riß- und porenfreie
oder mikrorissige oder Doppel-Chromüberzüge abscheiden zu können, ferner darin, daß die abgeschiedenen
Glanzchromüberzüge weitgehend frei von inneren Spannungen sind und eine dauerhaftere riß-
und porenfreie bzw. mikrorissige Struktur aufweisen als die bisher bekannten Chromüberzüge gleicher
Rißstruktur.
Die hervorragende Tiefenstreuung ist ganz besonders vorteilhaft für die Auftragung mikrorissiger
Glanzchromüberzüge, die aus den erfindungsgemäßen Glanzchrombädern auch in den Vertiefungen stark
ίο profilierter Werkstücke einwandfrei abgeschieden werden
können. Als weiterer Vorteil ergibt sich, daß die Glanzverchromung aus den erfindungsgemäßen Bädern
bei stark profilierten Gegenständen ohne besondere Maßnahmen, wie z. B. die Anwendung von
Deckstrom oder Innenanoden, möglich ist.
Galvanische Chrombäder erwärmen sich bekanntlich durch die Strombelastung. Der Grad der Erwärmung
ist im wesentlichen abhängig von der Raumtemperatur, der Strombelastung pro Liter Badflüssigkeit
und der Stromausbeute des Bades. Die Glanzchrombäder gemäß der Erfindung für die riß- und
porenfreie Verchromung können über lange Zeiträume ohne Heizung und Kühlung betrieben werden.
Bei hohen Raumtemperaturen über 25° C kann im Sommer eine Kühlung zweckmäßig sein, um die Badtemperatur
in den angegebenen Grenzen zu halten. In der kälteren Jahreszeit ist bei Raumtemperaturen
unter 200C zu empfehlen, die Elektrolyten auf die Mindesttemperatur aufzuwärmen.
Überraschenderweise hat sich auch ergeben, daß die erfindungsgemäßen Glanzchrombäder auf Tetrachromatbasis,
auch wenn sie mit Badtemperaturen oberhalb der Zersetzungstemperatur des Natriumtetrachromats
(400C) betrieben werden, außerordent-Hch stabil sind und sich im Temperaturbereich von 40
bis 6O0C nicht zersetzen. Außerdem ist der bei erhöhten
Temperaturen bekannte Abfall der Stromausbeute erheblich geringer als bei den bisher bekannten Tetrachromatbädern.
Nachstehend werden zwei weitere Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Glanzchrombäder
auf Tetrachromatbasis angegeben, deren Zusatzmengen jeweils für die gesamten Konzentrationsbereiche
der angegebenen Gesamtchromsäure gelten.
420 bis 480 g/l Gesamt-Chromsäure,
110 bis 130 g/l freie Chromsäure,
110 bis 130 g/l freie Chromsäure,
0,8 g/l Schwefelsäure = 0,17 bis 0,19%, bezogen auf Gesamtchromsäure,
3 g/l Titanfluorid = 0,19 bis 0,21% Titan, bezogen auf Gesamtchromsäure,
oder
8 g/l Zirkoniumfluorid = 0,74 bis
oder
8 g/l Zirkoniumfluorid = 0,74 bis
0,85% Zirkonium, bezogen auf Gesamtchromsäure,
0,001 bis 0,005 g/l Selendioxyd.
0,001 bis 0,005 g/l Selendioxyd.
Glanzvernickelte Werkstücke, welche in den nach Beispiel III zusammengesetzten Glanzchrombädern
auf Tetrachromatbasis bei einer Badtemperatur von 23 bis 250C mit einer Stromdichte von 14 A/dm2
10 Minuten verchromt worden waren, erhielten einen spiegelglänzenden, riß- und porenfreien Chromüberzug
von 2 My Schichtstärke. Die abgeschiedenen Glanzchromüberzüge sind über einen weiten Bereich
der Schichtstärken von 0,1 bis 3 My riß- und porenfrei.
10
Mikrorissige Glanzchromüberzüge erhält man mit Bädern folgender Zusammensetzung:
B e i s ρ i e 1 IV
360 bis 400 g/l Gesamt-Chromsäure,
110 bis 130 g/l freie Chromsäure,
110 bis 130 g/l freie Chromsäure,
1,9 g/l Schwefelsäure = 0,47 bis 0,53 0I0,
bezogen auf Gesamt-Chromsäure, 0,5 g/l Titanfluorid = 0,04 °/0 Titan, bezogen
auf Gesamt-Chromsäure,
oder
oder
1,2 g/l Zirkonfluorid = 0,13 bis 0,15 °/0
Zirkonium, bezogen auf Gesamt-Chromsäure,
0,007 bis 0,02 g/l Selendioxyd.
0,007 bis 0,02 g/l Selendioxyd.
Die in den Ausführungsbeispielen III und IV angegebenen Glanzchrombäder auf Tetrachromatbasis
eignen sich auch hervorragend zur Doppelverchromung von glanzvernickelten Werkstücken oder Gegenständen
mit Doppelnickelschichten. Dabei wird ein riß- und porenfreier Chromüberzug aus dem Bad
nach Beispiel III mit einer Schichtstärke von z. B. 0,25 My abgeschieden, anschließend wird bei einer
Spannung unterhalb des Abscheidungspotentials des ^5
Chroms, z. B. bei 1 bis 2 Volt, der mit dem ersten Überzug verchromte Gegenstand aus dem ersten
Glanzchrombad herausgenommen, ohne Zwischenspülung sofort in ein zweites Glanzchrombad nach
Ausführungsbeispiel IV eingebracht und dort wird, nach periodisch stufenweiser langsamer Einstellung
der Arbeitsstromdichte bei 37 bis 39° C und Stromdichten von 10 bis 20 A/dm2 ein mikrorissiger Glanzchrom
überzug von z. B. 0,5 My Schichtstärke abgeschieden. Die Elektrolytverschleppung aus dem Bad
des Ausführungsbeispieles III in das Bad des Ausführungsbeispieles IV ist nicht schädlich, eher nützlich,
da diese beiden Bäder aufeinander abgestimmt sind.
Werkstücke, welche mit einer Doppelnickelschicht vernickelt und in den unter dem Beispiel IV genannten
Glanzchrombädern bei der Badtemperatur von 37° C und einer Stromdichte von 16 A/dm2 9 Minuten verchromt
worden waren, erhielten einen mikrorissigen Chromüberzug von 2 My mit 500 bis 600 die lineare
Meßstrecke von 2,5 cm schneidenden Rissen.
Die Doppelverchromung gemäß der vorliegenden Erfindung ergibt noch den Vorteil, daß bei der ersten
rißfreien Verchromung mit Badtemperaturen von 23 bis 25° C ein Maximum an Tiefenstreuung erreicht
wird und dabei für den nachfolgenden mikrorissigen Chromüberzug eine vorzügliche Deckfähigkeit gegeben
ist.
Claims (3)
1. Selen-, Titan- und Zirkoniumverbindungen enthaltendes Tetrachromatbad zum Abscheiden
spiegelglänzender, riß- und porenfreier Chromüberzüge hoher Korrosionsbeständigkeit mit verbesserter
Tiefenstreuung, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad
150 bis 600 g/l Gesamtchromsäure, freie
Chromsäure im Gewichtsverhältnis 1:3 bis 1:5 zur Gesamtchromsäure,
0,15 bis 0,48% Schwefelsäure und
0,001 bis 0,005 g/l Selendioxid
sowie
sowie
0,17 bis 0,4 % Titan als komplexe Titanverbindung, bezogen auf den Gesamtchromsäuregehalt
oder
oder
0,33 bis 1,78 °/0 Zirkonium als komplexe Zirkoniumverbindung,
bezogen auf den Gesamtchromsäuregehalt, enthält.
2. Selen-, Titan- und Zirkoniumverbindungen enthaltendes Tetrachromatbad zum Abscheiden
spiegelglänzender, mikrorissiger Chromüberzüge hoher Korrosionsbeständigkeit mit verbesserter
Tiefenstreuung, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad
150 bis 600 g/l Gesamtchromsäure, freie
Chromsäure im Gewichtsverhältnis 1:3 bis 1:5 zur Gesamtchromsäure,
0,47 bis 0,68 % Schwefelsäure und
0,47 bis 0,68 % Schwefelsäure und
0,007 bis 0,02 g/l Selendioxid
sowie
sowie
0,001 bis 0,05 °/0 Titan als komplexe Titanverbindung,
bezogen auf den fertigen Elektrolyten
oder
oder
0,04 bis 0,15 °/„ Zirkonium als komplexe Zirkoniumverbindung,
bezogen auf den fertigen Elektrolyten,
enthält.
3. Verfahren zur Abscheidung von Duplex-Chromschichten unter Verwendung von Tetrachromatbädern
nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß glanzvernickelte Gegenstände bei etwa 25 0C zunächst in einem Bad
nach Anspruch 1 verchromt, sodann bei einer unterhalb des Abscheidungspotentials des Chroms
liegenden Spannung aus dem Bad genommen und unmittelbar anschließend in einem Bad nach
Anspruch 2 verchromt werden.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DER0044923 | 1965-01-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1496983A1 DE1496983A1 (de) | 1969-04-17 |
| DE1496983B2 true DE1496983B2 (de) | 1971-03-18 |
Family
ID=7407451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19651496983 Pending DE1496983B2 (de) | 1965-01-20 | 1965-01-20 | Selen titan und zirkonverbindungen enthaltendes tetrachrom bad und verfahren zur abscheidung von duplex chromschichten |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE1496983B2 (de) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1244376A (en) * | 1983-05-12 | 1988-11-08 | Thaddeus W. Tomaszewski | Trivalent chromium electrolyte and process |
-
1965
- 1965-01-20 DE DE19651496983 patent/DE1496983B2/de active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE1496983A1 (de) | 1969-04-17 |
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