DE2331865B2 - METHOD OF MANUFACTURING A CYLINDRICAL ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL - Google Patents
METHOD OF MANUFACTURING A CYLINDRICAL ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIALInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren z«r Herstellung eines zylindrischen, elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials bei dem ein zylindrischer Schichtträger in eine Beschichtungsflüssigkeit eingetaucht und entweder wieder entfernt oder die Beschichtungsflüssigkeit entfernt wird.The invention relates to a method of manufacture of a cylindrical electrophotographic recording material in which a cylindrical support is immersed in a coating liquid and either removed again or the coating liquid is removed.
Hierbei werden generell dreischichtige Aufzeichnungsmaterialien erhalten, die eine photoleitende Schicht zwischen einer leitenden Schicht und einerIn this case, three-layer recording materials are generally obtained which have a photoconductive one Layer between a conductive layer and a
Bei elektrophotographischem Aufzeichnungsmaterial wird gewöhnlich zwischen zwei Typen unterschieden, von denen der eine einen leitenden Schichtträger und ein den leitenden Schichtträger überziehende photoleitende Schicht aufweist und der andere, das sogenannteA distinction is usually made between two types of electrophotographic recording material, one of which is a conductive support and a photoconductive one coating the conductive support Has layer and the other, the so-called
4kiUi I4kiUi I
material, eine photoleit<mde Schicht besitzt, die zwischen einem leitenden Schichtträger und einer Isolierschicht vorgesehen ist Es wurden verschiedene Versuche unternommen, um derartige mit einem Schichtträger ausgestattete elektrophotographische Aufzeichnungsmaterialien zu verbessern. Beispielsweise wurden zur Erreichung günstigerer Eigenschaften mehrere photoleitende Schichten angewandt; der Übergang zwischen der leitenden Trägerschicht und der photoleitenden Schicht wurde verbessert. Hierin wurden α a. mehrere Isolierschichten und ein verbesserter Kleber verwendetmaterial that has a photoconductive layer that is provided between a conductive substrate and an insulating layer. There have been several Attempts have been made to produce such electrophotographic To improve recording materials. For example, were to achieve more favorable properties multiple photoconductive layers applied; the transition between the conductive support layer and the photoconductive layer was improved. Herein were α a. several layers of insulation and an improved adhesive used
Das elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial wird in Abhängigkeit von dem angewandten elektrophoiographischen Verfahren ausgewählt. Beim sogenannten Carlson-Verfahren wird beispielsweise ein Aufzeicr-- igsmaterial mit einer leitenden Trägerschicht -..α einer darauf befindlichen Phoioleitschicht eingesetzt. Bei den elektrophotographischen VerfahrenThe electrophotographic recording material is used depending on the electrophotographic Procedure selected. In the so-called Carlson process, for example, a Recording material with a conductive carrier layer - .. α of a Phoioleitschicht located thereon used. In the electrophotographic process
nach den US-PS 36 66363 und 34 38 706 wird ein Aufzeichnungsmaterial verwendet, das auf der vorerwähnten Photoleitschicht eine Isolierschicht trägt.according to US-PS 36 66363 and 34 38 706 a recording material is used which is based on the aforementioned Photoconductive layer carries an insulating layer.
Bei elektrophotographischem Aufzeichnungsmaterial mit einer Photoleitschicht zwischen einer leitendenIn the case of electrophotographic recording material with a photoconductive layer between a conductive one
,o Trägerschicht und einer Isolierschicht sind die Eigenschaften der photoleitenden Substanzen und der zu verwendenden Bindemittel sowie deren Menge und die Stärke der ferügen Photoleitschicht zweifellos wichtig, während darüber hinaus der Bindungszustand zwischen, o Backing layer and an insulating layer are the properties the photoconductive substances and the binders to be used as well as their amount and the Thickness of the photoconductive layer is undoubtedly important, while also the state of bonding between
,5 der Photoleitschicht und der Isolierschicht und die Eigenschaften der Isolierschicht selbst sehr wichtige Faktoren darstellen., 5 the photoconductive layer and the insulating layer and the properties of the insulating layer itself are very important Represent factors.
Bei der Elektrophotographie unter Verwendung eines Aufzeichnungsmaterials mit einer auf eine Photoleitschicht aufgebrachten Isolierschicht wird eine elektrische Ladung bestimmter Polarität auf dieIn electrophotography using a recording material with one on one Photoconductive layer applied insulating layer is a electric charge of certain polarity on the
lSOIiCfsClIlCili auigvi/i«»."' ·»·'— t-— —' "c· —-«e-iu... ,„lSOIiCfsClIlCili auigvi / i «». "'·» ·' - t -— - '" c · -« e-iu ..., "
elektrische Ladung zum Wandern gebracht. In diesem Falle stellen die Menge der elektrischen Ladung und ihr Wanderungsvermögen sehr wichtige Faktoren dar. Die erstere beeinflußt den Kontrast des elektrostatischen Bildes und das Oberflächenpotential und das letztere neben dem Kontrast das Auflösungsvermögen u.dgl. Die Menge der Ladung hängt von den Eigenschaftenelectric charge made to wander. In this case, adjust the amount of electrical charge and ye Migration is very important factors. The former affects the contrast of the electrostatic Image and the surface potential and the latter in addition to the contrast, the resolution and the like. The amount of charge depends on the properties
der Isolierschicht ab, während das Wanderungsvermögen
der Ladung von der Beschaffenheit des Übergangs zwischen Isolierschicht und Photoleitschicht abhängt.
Wenn das Vermögen, die Ladung der Isolierschicht festzuhalten, gering ist, erfolgt die Schwächung bzw das
Abklingen der Ladung so schnell, daß kein elektrostatisches Bild erzeugt werden kann. Wenn die Eigenschaft
der Isolierschicht nicht gleichmäßig ist, zeigt sich ein ungleichförmiges Ladungspotential.
Darüber hinaus neigt eine Isolierschicht mit mangelhafter
Spannungshalteeigenschaft zu elektrischen Durchbruch; sie kann ihre Fähigkeit zur Ladungshaltung
nicht bewahren, wenn sie ink Hochspannung beaufschlagt wird. Der Isolierschicht wird auch Beständigkeit
gegenüber physikalischer Reibung abverlangt, der sie bei den Arbeitsgängen zur Bildherstellung,
nämlich dem Entwickeln, Übertragen und Reinigen, ausgesetzt ist.the insulating layer, while the ability of the charge to migrate depends on the nature of the transition between the insulating layer and the photoconductive layer. If the ability to retain the charge of the insulating layer is low, the weakening or decay of the charge takes place so quickly that no electrostatic image can be generated. If the property of the insulating layer is not uniform, a non-uniform charge potential will be exhibited.
In addition, an insulating layer poor in voltage holding property tends to have electrical breakdown; it cannot retain its ability to hold a charge when it is subjected to high voltage. The insulating layer is also required to be resistant to the physical friction to which it is subjected during image production operations, namely developing, transferring and cleaning.
Auch der Kontakt zwischen der Photoleitschicht und der Isolierschicht ist ein bedeutender Faktor bei der Ausbildung des elektrostatischen Bildes. Die Ladung auf der Isolierschicht wird durch die von der Photoleitschicht eingeführte Ladung bestimmt. Wenn daher der Übergang ungleichmäßig ist oder in ihm Feinluüker. Poren od. dgl. vorhanden sind, kann die eingeführte Ladung nicht gleichmäßig festgehalten werden. Wenn aber die Kapazität der Isolierschicht unterschiedlich ist, wird das Ladungspotential nicht gleichmäßig. Diese Erscheinungen treten deshalb auf, weii sich die eingeführte Ladung und die Ladung auf der Isolierte schicht gegenseitig anziehen und sich im Gleichgewicht halten. Schließlich wird die Photoleitschicht im anschließenden Arbeitsgang einer Bildbelichtung ausgesetzt und dabei die Photoleitfähigkeit angeregt, wobei gleichzeitig Ladung entgegengesetzter Polarität wie die Ladung an der Isolierschicht entfernt und so die dem bestrahlten Teil des Bildes entsprechende Ladung gelöscht wird. Bei dem vorerwähnten ungleichmäßigen übergang ist diese Löschung unbefriedigend.The contact between the photoconductive layer and the insulating layer is also an important factor in the Formation of the electrostatic image. The charge on the insulating layer is carried by that from the photoconductive layer imported cargo determined. Therefore, if the transition is uneven or in it Feinluüker. If there are pores or the like, the charge introduced cannot be held evenly. if but the capacitance of the insulating layer is different, the charge potential does not become uniform. These Phenomena therefore occur when the introduced charge and the charge on the insulated one know each other layers attract each other and keep yourself in balance. Finally, the photoconductive layer is used in the subsequent Operation exposed to an image exposure and the photoconductivity stimulated, wherein at the same time charge of opposite polarity as the charge on the insulating layer is removed and so the dem irradiated part of the image corresponding charge is deleted. With the aforementioned uneven transition, this deletion is unsatisfactory.
Nachteilig bei den bisher benutzten Beschichtungsmethoden ist. daß <.!;e aufgebrach!»» PMoleitschicht nicht die Glattheit und Gleichmäßigkeit besitzx. die aus den vorstehend dargelegten Gründen zur Herstellung einer hochwertigen gleichmäßigen elektrostatischen Reproduktion erforderlich sindThe coating methods used hitherto have a disadvantage. that <.! ; e broke up! »» PMoconductive layer does not possess the smoothness and uniformityx. which, for the reasons set out above, are necessary to produce a high quality, uniform electrostatic reproduction
Aufgabe der Erfindung ist demzufolge die Schaffung eines Verfahrens zur Herstellung eines zylindrischen elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials, bei dem die Photoleitende Schicht mit großer Gleichmäßigkeit auf den Schichtträger aufgebracht wird und die Oberfläche der Photoleitschicht glatt ausgebildet istThe object of the invention is therefore to provide a method for producing a cylindrical electrophotographic recording material, in which the photoconductive layer with great uniformity is applied to the substrate and the surface of the photoconductive layer is smooth
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß ein zylindrischer Behälter, in dem der zylindrische Schichtträger angeordnet ist, mit einer Beschichtungsflüssigkeit gefüllt und entweder der zylindrische Schichtträger oder die Beschichtung-flüssigkeit mit einer Geschwindigkeit entfernt wird, die ia. ,smer ist als der Nachlauf der BeschiciaungsP^ss'?kei* *uf diese Weise wird auf dem Schichtträgei ei;.^ f.-'ijcht sehr gleichmäßiger Dicke und guter Gigtr*—;. aufgebracht, wodurch Unregelmäßigkeiten bei .. Entwicklung des elektrostatischen Bildes verro· ~dcn werden.According to the invention, this object is achieved in that a cylindrical container, in which the cylindrical layer support is arranged, is filled with a coating liquid and either the cylindrical layer support or the coating liquid is removed at a speed that generally. 'smer is than the after-run of the BeschiciaungsP ^ ss'? kei * * In this way, on the layer support ai;. ^ f .-' ijt very even thickness and good gigtr * - ; . applied, whereby irregularities in the development of the electrostatic image are rotten.
Nach einer bevorzugten Au.'' irungsform der Erfindung ist diese dadurch gekennzeichnet, daß eine Beschichtungsflüssigkeit mit einem Photoleiter verwendet wird, das vorstehend geschilderte Verfilzen der Erfindung nach dem Trocknen der photoleitfähigen Schicht mit einer Lösung eines Harzes in einem Lösungsmittel, welches die photoleitfähige Schicht weder auflöst noch zum Quellen bringt, wiederholt und das vorstehend geschilderte Verfahren der Erfindung nach dem Trocknen der Harzschicht mit einer Lösung einer isolierenden polymeren Verbindung nochmals wiederholt wird.According to a preferred embodiment of the invention this is characterized by using a coating liquid with a photoconductor the above-described felting of the invention after drying the photoconductive Layer with a solution of a resin in a solvent, which is the photoconductive layer neither dissolves nor causes swelling, repeated and the above-described method of the invention after drying the resin layer with a solution of an insulating polymeric compound again is repeated.
Auf diese Weise wird ein dreischichtiges Aufzeichnungsmaterial erhalten, bei dem die Oberflächenporigkeit der Photoleitschicht durch das aufgebrachte Harz ausgeglichen wird, so daß sich ein sehr gleichmäßiger Übergang von der Photoleitschicht zur Isolierschicht ergibt, was für eine gleichmäßige elektrophotographische Reproduktion von Wichtigkeit istIn this way, a three-layer recording material is obtained in which the surface pores the photoconductive layer is balanced by the applied resin, so that a very uniform Transition from the photoconductive layer to the insulating layer results in what a uniform electrophotographic Reproduction is important
Bei dem "erfahren der Erfindung ist es besonders bevorzugt, daß als isolierende polymere Verbindung ein lichthartbares synthetisches Harz oder ein durch ein Isocyanat härtbares flüssiges Zweikomponen'en-Harz. das ein vernetztes Polyurethan ergibt, verwendet wird.When "experiencing the invention, it is particularly preferred that as the insulating polymeric compound photocurable synthetic resin or a through a Isocyanate curable liquid two-component resin. which gives a crosslinked polyurethane is used.
Bei Verwendung dieser Harze erhäit man isoiierschichten. die gegenüber dielektrischem Durchbruch, mechanischer Reibung und organischen Lösungsmitteln sowie auch gegenüber Ozon beständig sind.When using these resins, insulating layers are obtained. the opposite to dielectric breakdown, mechanical friction and organic solvents as well as ozone are resistant.
Als leitende Schicht werden elektrisch leitfähige Metallplatten oder elektrisch leitend gemachte isolierende Körper verwendet Andere isolierende Körper können so, wie sie sind, verwendet werden. Repräsentativ können Metallplatten mit einer Dicke von unter 100 μ, beispielsweise Aluminiumfolie, angegeben werden, wobei die Erfindung jedoch nicht darauf beschränkt ist Wo die leitende Basis selbst als Träger für eine lichtempfindliche Platte benützt wird, kann die photoleitende Schicht direkt auf der Basis vorgesehen sein.Electrically conductive metal plates or electrically conductive insulating plates are used as the conductive layer Body Used Other insulating bodies can be used as they are. Representative metal plates with a thickness of less than 100 μ, for example aluminum foil, can be specified, however, the invention is not limited to where the conductive base itself is used as a support for a photosensitive plate is used, the photoconductive plate Layer can be provided directly on the base.
Photoleitende Materialien können in herkömmlicher Weise auf der leitenden Basis vorgesehen sein,
beispielsweise in Form einer Schicht aus photoleitendem* Material selbst oder in Form einer Mischung eines
Binders und darin dispergiertem photoleitendem Material.
Bei ersteren, sind Se, Legierungen wie SeTe, SeGeSiPhotoconductive materials can be provided on the conductive base in a conventional manner, for example in the form of a layer of photoconductive material itself or in the form of a mixture of a binder and photoconductive material dispersed therein.
The former are Se, alloys such as SeTe, SeGeSi
u. dgl. und CdS auf der leitenden Basis auf konventionelle Weise aufgetragen worden, beispielsweise durch Vakuumverdampfung, um eine photoleitende Schicht auszubilden, oder es wurden organische Halbleitermate-and the like and CdS have been applied on the conductive base in a conventional manner, for example by Vacuum evaporation to form a photoconductive layer, or organic semiconductor materials were
s riaiien, wie Polyvinylcarbazol, vorgesehen, die selbst einen Film bilden können. Bei letzteren werden kristalline Partikeln, wie Cu2O, CuI, 2InO, ZnS, ZnSe, CdS. Se-Te. CdSe, CdTe, PbS. Sb2S3. In2Te3, GeS, GeSe, TIjS u. dgl. als photoleitende Substanz eingesetzt, wobeiS riaiien, such as polyvinyl carbazole, provided, which can form a film by themselves. In the case of the latter, crystalline particles such as Cu 2 O, CuI, 2InO, ZnS, ZnSe, CdS. Se-Te. CdSe, CdTe, PbS. Sb 2 S 3 . In 2 Te 3 , GeS, GeSe, TIjS and the like used as a photoconductive substance, where
to diese Substanzen in thermohärtende Harze, wie Epoxyharze, ungesättigte Polyesterhajze oder in in Lösungsmittel lösliche thermoplastische Harze, wie Copolymere von Vinylchlorid und Vinylacetat, Polymere von Vinylacetat, Vinylchlorid, Zelluloseacetat, Zellu-to these substances in thermosetting resins such as epoxy resins, unsaturated Polyesterhajze or in Solvent soluble thermoplastic resins such as copolymers of vinyl chloride and vinyl acetate, polymers of vinyl acetate, vinyl chloride, cellulose acetate, cellulose
r5 losenitrat, Methacrylat, Phenol. Urethan und Silicon, Polyvinylalkohol, Polyvinylbutyral. Polyurethan u. dgl, dispergiert sind und eine photoleitende Schicht bilden.r 5 loose nitrate, methacrylate, phenol. Urethane and silicone, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral. Polyurethane and the like are dispersed to form a photoconductive layer.
Zur Herstellung der photoleitenden Schicht gemäß der Erfindung kann, wie oben erwähnt, irgendein Verfahren zur Schichtbildung verwendet werden, wobei vorzugsweise das photoleitende System verwendet wird, bei dem photoleitende Partikeln in einem Binder dispergiert sind, da es gute Ergebnisse hervorbringt. Bei der Herstellung einer derartigen p'iotoleitenden Schicht können die verschiedensten Verf-nren verwendet werden, beispielsweise das Beschichten nvt einer Bürste, durch Sprühen, mit einem Messer, durch Strömen, mit einer leicht berührenden Walze u. dgl. Es wird jedoch ein sehr spezielles Verhältnis zwischen den vorerwähnten phote leitenden Partikeln und dem Binder benutzt, beispielsweise 100 Teile Cadmiumsulfid zu 10 Teilen Vinylchlorid-Vinylacetat-Copolymer, um eine photoleitende Schicht vorzubereiten, bei der photoleitende Partikeln in dem Binder dispergiert sind. Das Verhältnis ist so spezifisch, daß es sehr schwierig ist, bei Anwendung herkömmlicher Verfahren eine photoleitende Schicht zu erhalten, deren Dicke von hoher Genauigkeit und Gleichmäßigkeit ist und deren Oberfläche glatt ist. In elektrophotographischen Kopiergeräten werden insbesondere zylindrische lichtempfindliche Platten gegenüber flachen Platten bevorzugt angewendet, wobei es schwieriger ist unter Verwendung konventioneller Verfahren derartige zylindrische Pl -tten zu fertigen.For the preparation of the photoconductive layer according to the invention, as mentioned above, any Method for layer formation can be used, preferably using the photoconductive system in which photoconductive particles are dispersed in a binder because it gives good results. at the production of such a p'iotoconductive layer a wide variety of methods can be used be, for example, coating nvt a brush, by spraying, with a knife, by flowing, with a lightly touching roller and the like. However, there becomes a very special relationship between the aforementioned phote conductive particles and the binder used, for example 100 parts of cadmium sulfide to 10 parts Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer to make a photoconductive Prepare layer in which photoconductive particles are dispersed in the binder. The relationship is so specific that it is very difficult to obtain a photoconductive one using conventional techniques Obtain layer, the thickness of which is of high accuracy and uniformity and whose Surface is smooth. In particular, cylindrical photosensitive ones are used in electrophotographic copiers Plates are preferred over flat plates, although it is more difficult to use conventional methods to manufacture such cylindrical plates.
Unter Bezugnahme auf die Figur wird nachstehend eines der effektiven Verfahren gemäß der Erfindung im Detail beschrieben, nach dem ein Anstrch auf die Oberfläche einer zylindrischen Platte aufgetragen wird, der durch Dispergieren photoleitender Partikeln in Bindeharz hergestellt istWith reference to the figure, one of the effective methods according to the invention will now be described in FIG Described detail after which a paint is applied to the surface of a cylindrical plate, which is made by dispersing photoconductive particles in binder resin
Eine zylindrische Basis I wird vorher mit Flanschen 2 und 2' und einer Welle 4 festgesetzt Die Bezugsziffer 3 bezeichnet einen zylindrischen Anstrichbehälter, die Bezugsziffer 6 eine i Jnteriage, die den Behälter 3 trägt, die Bezugsziffer 7 einen Boden, auf dem der Behälter 3 rma die Unterlage 6 montiert sind, 5 ist ein Unterbau, der alle ^"eile trägt und 16 eine Kernstange, die in der Welle 4 sitzt und liafür sorgt daß die zylindrische Basis 1 entlang der Kernstange 16 nach oben gezogjn werden kann und die zu beschichtende Oberfläche an einer Berührung mit der Innenwand des zylindrischen Anstrichbehälters 3 gehindert wird. Mit 8 ist ein Anstricheinlaß oder -ausfaß und 17 eine die zylindrische Basis 1 tragende Platte bezeichnet, die mit einer Schraubklemme 15 befestigt ist Zur Verhinderung eines Entweichens des Anstrichs ist eine Dichtung 18 verwendet Mit 12 ist ein Filter bezeichnet mit 13 und 14 sind Absperrorgane, mit 11 ist eine Pumpe, mit 9 einA cylindrical base I is fixed beforehand with flanges 2 and 2 'and a shaft 4. The reference numeral 3 denotes a cylindrical paint container, the reference numeral 6 an interiage which supports the container 3, the reference numeral 7 a base on which the container 3 r Once the base 6 has been mounted, 5 is a substructure which carries all the parts and 16 a core rod which sits in the shaft 4 and which ensures that the cylindrical base 1 can be pulled up along the core rod 16 and that which is to be coated Surface is prevented from contacting the inner wall of the cylindrical paint container 3. Denoted at 8 is a paint inlet or barrel, and 17 is a plate supporting the cylindrical base 1 and secured with a screw clamp 15 used With 12 a filter is designated with 13 and 14 are shut-off devices, with 11 is a pump, with 9 a
Anstrichvorratsbehäiter und mit 10 ein Rührer bezeichnet Paint storage containers and 10 denotes a stirrer
Die mit dem Flansch 2 und der Welle 4 versehene zylindrische Basis 1 wird in den Beschichtungsapparat gestellt Die Pumpe 11 wird betätigt und der Anstrich ρ durch den Filter 12 und das Absperrorgan 13 (während das Absperrorgan 14-geschlossen ist)gepumpt, so daß der Anstrich in den Hohlraum zwischen der zylindri-,schen Basis 1 und dem Anstrichbehälter gelangt Wenn eine bestimmte Menge des Anstrichs aufgenommen worden ist wird das Absperrorgan,13 geschlossen und -,das Absperrorgan' 14 geöffnet, so daß der Anstrich -"/durch.natürliches Sinken oder-durch Pumpen aus dem Hohlraum herausgezogen wird. In diesem Fall hat die Geschwindigkeit mit der der Anstrich herausgezogen wird, so großen Einfluß auf die Gleichmäßigkeit der Dicke der aufgetragenen Schicht daß es nötig ist sie vorher zu bestimmea In dem Zeitaugenblick, in dem der Anstrich abgezogen ist ist die Beschirmung fertig, weshalb die zylindrische Basis dann entlang der Kernstange 16 zusammen mit der Welle 4 nerausgezogen und anschließend der Anstrich getrocknet wird. Er wird vorteilhaft durch Drehen der zylindrischen Basis 1 getrocknet da dadurch etn Tropfen des Anstrichs ausgeschaltet wird. In dem Behälter kann eine Trocknungseinrichtung installiert sein oder es wird erhitzte Luft in den Behälter geblasen. Versuche haben ergeben, daß die Ungleichmäßigkeit des Films p- in dessen oberen und unteren Abschnitten wirksam dadurch behoben werden kann, daß das Beschichten unter der Bedingung durchgeführt wird, daß der Pegel des Anstrichs in dem Hohlraum langsamer absinkt als das Nachtropfen des Anstrichs.The cylindrical base 1 provided with the flange 2 and the shaft 4 is placed in the coating apparatus. The pump 11 is actuated and the paint ρ is pumped through the filter 12 and the shut-off device 13 (while the shut-off device 14 is closed), so that the paint enters the cavity between the cylindrical base 1 and the paint container. When a certain amount of paint has been absorbed, the shut-off device 13 is closed and -, the shut-off device 14 is opened, so that the paint - "/ by natural sinking or-is drawn out of the cavity by pumping In this case the speed at which the paint is drawn out has so great an influence on the uniformity of the thickness of the applied layer that it is necessary to determine it in advance at the moment in which the paint is applied is removed, the shield is finished, which is why the cylindrical base is then pulled out along the core rod 16 together with the shaft 4 and then connected nd the paint is dried. It is advantageously dried by rotating the cylindrical base 1, since this eliminates a few drops of the paint. A drying device may be installed in the container or heated air may be blown into the container. Experiments have shown that the unevenness of the film p- in its upper and lower portions can be effectively eliminated by carrying out the coating under the condition that the level of the paint in the cavity decreases more slowly than the dripping of the paint.
Die vorstehende Beschreibung bezieht sich auf das Auftragen einer photoleitenden Schicht für eine lichtempfindliche Platte; das erfindungsgemäße Verfahren ist jedoch nicht darauf beschränkt und kann auch bei verschiedenen Arten des Beschichtens angewendet werden, bei denen gewöhnliche Anstriche verwendet werden.The above description relates to the application of a photoconductive layer for a photosensitive plate; However, the method according to the invention is not restricted to this and can also be used in various types of coating can be applied in which ordinary paints are used will.
In Obereinstimmung mit dem vorerwähnten Verfahren werden allein die äußere Oberfläche der zylindrischen Basis 1 und die innere Oberfläche des Behälters 3 mit dem Anstrich beschichtet was zu einem äußerst niedrigen Verlust an Anstrich führt Darüber hinaus wird der Anstrich nach der Beschichtung abgezogen und über das Filter 12 geführt wenn er wieder in den Behälter 3 eingeleitet wird. Auf diese Weise wird verhindert daß fremde Substanzen in den Anstrich gelangen. Der Anstrich wird in dem gesondert montierten Vorratsbehälter 9 verrührt so daß der Pegel des Anstrichs in dem Behälter 3 während des Beschichtungsvorganges gleichmäßig gehalten wird. So kann die Beschichtung gleichmäßig auf die zylindrische Basis aufgetragen werden. Die Geschwindigkeit des Absinksns des Anstrichpegels kann leicht und beliebig durch Änderung der Geschwindigkeit mit der der Anstrich abgezogen wird, reguliert werden. Auf diese Weise können jegliche Anstriche mit unterschiedlichen Viskositäten in der gewünschten Filmdicke aufgetragen werden.In accordance with the aforementioned method, only the outer surface of the cylindrical Base 1 and the inner surface of the container 3 coated with the paint resulting in an extremely low paint loss. In addition, the paint is peeled off after coating and passed through the filter 12 when it is fed back into the container 3. That way will prevents foreign substances from getting into the paint. The painting is done separately mounted storage container 9 stirred so that the level of paint in the container 3 during the Coating process is kept uniform. So the coating can be applied evenly to the cylindrical Base to be applied. The speed of the drop in the paint level can be easily and arbitrarily can be regulated by changing the speed at which the paint is peeled off. To this Any paint with different viscosities can be applied in the desired film thickness will.
Die Erfindung besitzt die vorerwähnten Vorteile und überwindet die Nachteile herkömmlicher Verfahren. Das erfindungsgemäße Verfahren ist insofern von Vorteil als eine Mischung aus einem photoleitenden Material mit äußerst spezifischen Eigenschaften mit Harz glatt und gleichmäßig auf die äußere Oberfläche der zylindrischen Basis geschichtet werden kann.The invention has the aforementioned advantages and overcomes the disadvantages of conventional methods. The method of the present invention is advantageous in that it is a mixture of a photoconductive one Material with extremely specific properties with resin smooth and evenly on the outer surface the cylindrical base can be layered.
Wenn auch das vorerwähnte Verfahren angewendet,ψΜ wird, kann jedoch im Fall«;, daß das photoleitendeϊ,Μ£ Partikel in dem Harzbjnder dispergiert ist; -emViam Porigkeit nicht beseitigt werden. Das heiß^es ,Itaön;^If also applied the aforementioned method, ψΜ is, however, in the case ";, that the photoconductive ϊ, Μ £ particles dispersed in the Harzbjnder; -emViam porosity cannot be eliminated. That means ^ es, Itaön; ^
zwar die Filmiitärke, der photoleitenden Schichtselbsfi gleichmäßig gewacht werdeh,-<die gesamte OberMchi ^ fder photoleitef.den Schicht oder^ deren NäehDarschäft^J Jkann jedoch nicht; gjeibhmäß.igmit -,jäemt^BiM«^^ ;:|>eschichM,sein;;da;äe^It is true that the film of the photoconductive layer itself is uniformly guarded, but the entire surface of the photoconductive layer or its proximity cannot be; gjeibhmäß.igmit -, yäemt ^ BiM «^^ ; : |> eschichM, sein ;; da; äe ^
iplphotoleitenden ^Schicht 4h .,dnei|i''Soic&en|^iiiengj^p Syerwendet;, wird,!,;daß· Me Vh(n0i0!U^i^äii^0^^ iplphotoconductive ^ layer 4h., dnei | i''Soic & en | ^ iiiengj ^ p Syerwendet ;, being,!,; that · Me Vh (n0i0! U ^ i ^ äii ^ 0 ^^
^bljeifetlf I^ eb" enigma )mTerwMM0^3^i^mn^dKiiiM ^ bljeifetlf I ^ eb " enigma) mTerwMM0 ^ 3 ^ i ^ mn ^ dKiiiM
''ÄPongkeitläarüfö'' ÄPongkeitläarüfö
weil die photoleitenden Partikeln selbst nicht von gleicher Größe sind, was, die Bildung einer nicht glatten Schicht begründetbecause the photoconductive particles themselves are not of the same size, what, the formation of a not smooth one Layer justified
Als Verfahren zur Aufbringung einer Isolierschicht auf eine lichtempfindliche Schicht sind bisher Methoden bekannt nach denen beispielsweise nichtiösungsmittelflüchtiges Harz aufgetragen oder die Isolierschicht unter Verwendung eines geeigneten Kleb*»·"? befestigt wird. Infolge der Tatsache, daß in der photoleitenden Schicht eine Porigkeit vorhanden ist dringt jedoch das Isoliermaterial oder der Kleber durch die Poren in die photoleitende Schicht ein und erzeugt gleichzeitig Poren in dieser. Die Gleichmäßigkei» der photoleitenden Schicht ist auf diese Weise verloren urK* die feine Porigkeit kann nicht entfernt werden. Darüber hinaus wird ein dielektrischer Durchbruch bewirkt wenn eine Hochspsnnungs-Koronaentladung durchgeführt wird Diese Nachteile werden in dem Fall gefunden, in dem kein Harzbinder in der photoleitenden Schicht verwendet ist Daher ist es insbesondere bei einer !~htempfindlichen Platte, die eine eine ^hotoleitende Schicht überziehende Isolierschicht besitzt sehr wichtig, daß die photoleitende Schicht frei von derartiger Porigkeit ist und ihre Oberfläche darüber hinaus glatt gehalten wird Das folgende Behandlungsverfahren ist zur Ausschaltung derartiger Nachteile sehr wirksam.As a method of applying an insulating layer to a photosensitive layer, methods have hitherto been known known after which, for example, non-solvent-volatile resin is applied or the insulating layer attached using a suitable adhesive * »·"? will. However, due to the fact that there is porosity in the photoconductive layer, this penetrates Insulating material or the adhesive through the pores in the photoconductive layer and created at the same time Pores in this. In this way the uniformity of the photoconductive layer is lost and the fine one Porosity cannot be removed. In addition, a dielectric breakdown is caused when a High voltage corona discharge is carried out These disadvantages are found in the case where no resin binder is used in the photoconductive layer It is therefore particularly in the case of a sensitive plate that has a thermoconductive layer It is very important for the coating insulating layer that the photoconductive layer is free from such porosity and its surface is moreover kept smooth. The following treatment method is for elimination such drawbacks are very effective.
Der Anstrich, der durch Mischen der photoleitenden feinen Partikeln mit Harzbinder und durch Einstellen der Viskosität dieser Mischung durch Hinzugeben eines Lösungsmittels hergestellt ist wird nach dem sog. Tauchverfahren unter Verwendung des vorerwähnten Apparats gleichmäßig auf die äußere Oberfläche dei zylindrischen leitenden Basis geschichtet Wenn die beschichtete Oberfläche hinreichend getrocknet ist so daß sie mit dem Finger berührt werden kann, wird die beschichtete Basis in einen Vakuum-Trockenofen gegeben und so getrocknet daß das restliche Lösungsmittel vollständig verdampfen kann. Die zylindrische Basis, auf der die photoleitende Schicht gebildc. ist wird mit einer bestimmten Geschwindigkeit in eine Lösung getaucht die durch Auflösen eines bestimmten Harzes in einem Lösungsmittel, das die vorerwihnte photoleitende Schicht nicht aufzulösen vermag, hergestellt wird. Diese Lösung wird nachstehend als Haltelösung bezeichnet Nach einer bestimmten Zeit wird die zylindrische Basis langsam und mit einer bestimmtenThe paint obtained by mixing the photoconductive fine particles with resin binder and adjusting the viscosity of this mixture is established by adding a solvent is according to the so-called. Dipping method using the aforementioned apparatus evenly on the outer surface of the dei cylindrical conductive base layered when the coated surface is sufficiently dried so that it can be touched with the finger becomes the coated base placed in a vacuum drying oven and dried so that the remaining solvent can evaporate completely. The cylindrical base on which the photoconductive layer is formedc. it will immersed in a solution at a certain speed which dissolves a certain resin in a solvent which cannot dissolve the aforementioned photoconductive layer. This solution is referred to below as the holding solution. After a certain time, the cylindrical base slowly and with a definite
Geschwindigkeit aus der Haltelösung gezogen oder die Haltelösung wird langsam und mit einer bestimmten Geschwindigkeit aus dem unteren Teil des Behilters gezogen, so daß der Spiegel der Haltelösung abfallen kann. Auf diese Weise durchdringt die Haltelosung dieSpeed is drawn from the holding solution or the holding solution becomes slow and with a certain Velocity pulled out of the lower part of the container so that the level of the holding solution fall off can. In this way the holding solution penetrates the
photoleitende Schicht oder haftet gfekhinißig an der Oberfläche der photoleitenden Schicht an. Wenn die beschichtete Basis hinreichend getrocknet ist, so daß sie mit dem Finger berührbar ist wird sie in einenphotoconductive layer or adheres to the photoconductive layer Surface of the photoconductive layer. When the coated base has dried sufficiently so that it can be touched with the finger it turns into one
-.Vakuum-Trocknungsofen gegeben, so daß restliches Lösungsmittel vollständig verdampfen kann, was zur ,Ausbildung einer in Durchdringen unterbindenden ^Schicht führt die nachstehend als Halteschicht bezeich-Vnet wird. Wenn das Unterbinden gemäß dem vorstehenijacn Verfahren bewirkt wird, kann-die Stärke der '-i Halteschicht durch Ändern der Konzentration der ^„Kältelösung und der Tauchzeit gesteuert werden ,und -j- die Menge an Haltematerial, die auf die photoleitende. *,* ji*sSchicht geschichtet wird, durch Steuern der Konzentrav'j-ti^r, ,i„, Haltelosung oder der Geschwindigkeit J~--.Given a vacuum drying oven, so that the remaining solvent can evaporate completely, which leads to the formation of a layer which prevents penetration and which is referred to below as the holding layer. If the inhibiting is effected in accordance with the projecting ijacn method-can the strength of the '-i holding layer be controlled by changing the concentration of the ^ "cold solution and the immersion time, and - j, the amount of support material on the photoconductive. *, * ji * s layer is layered by controlling the concentration v'j-ti ^ r ,, i ", holding solution or the speed J ~ -
xtfii"iHerausziehe s der zu beschichtenden Basis oderrder -ι>[:*'/^^Sinkgeschwindigkeit der Haltelösung reguliert wer- *■'" xtfii "i Pull out s the base to be coated or r the - ι> [ : * '/ ^^ The sinking speed of the holding solution can be regulated * ■'"
Ein gleichförmiges und sicheres Aufschichten der Halteschicht auf die photoleitende Schicht kann leicht durcf. Herausziehen der Basis aus der Haltelösung oder Absenken des Spiegels der Haltelösung mit einer Geschwindigkeit die langsamer ist als sich das Abtropfen der an der Oberfläche der photoleitenden Schicht vorgesehenen Haltelösung vollzieht Die Anforderungen an eine elektroempfindliche Platte können mit herkömmlichen Verfahren, beispielsweise dem Sprüh-. Walz- oder Aufstreichbeschichten oder dem Kautschukpressen, nicht zufriedenstellend erfüllt werden, was darauf zurückzuführen ist daß die Schwierigkeit bei der Steuerung des Eindringens des Haltemittels in die photoleitende Schicht und das Brechen der photoleitenden Schicht nach herkömmlichen Methoden nicht beseitigt werden können. Trotzdem kann diesen Forderungen entsprochen und erfindungsgemäß ein sicherer und gleichmäßiger Haltezustand erhalten werden.A uniform and safe layering of the Holding layer on the photoconductive layer can be easily bycf. Pulling the base out of the holding solution or lowering the level of the holding solution with a Speed which is slower than the dripping on the surface of the photoconductive Layer provided holding solution completes the requirements on an electrosensitive plate can with conventional methods, such as spraying. Roller coating or brush coating or rubber molding, which cannot be satisfactorily met is due to the fact that the difficulty in controlling the penetration of the holding means into the photoconductive layer and the breaking of the photoconductive layer by conventional methods not can be eliminated. Nevertheless, these requirements can be met and, according to the invention, a more secure and uniform holding state can be obtained.
Als die nie r benutzten Haltesubstanzen oder Stopsub- ; stanzen können irgendwelche thermoplastischen oderAs the never used holding substances or stop substances ; can punch any thermoplastic or
; thermohärtenden Harze verwendet werden. Sie können; thermosetting resins can be used. You can
durch Verdünnen (vorzugsweise 2- bis 4fach) vonby diluting (preferably 2 to 4 times) of
harz, Nylonharz, Polyvinylidenfluorid, Polyvinyliden-resin, nylon resin, polyvinylidene fluoride, polyvinylidene
;■ chlorid, Polykarbonat u.dgL mit einem Lösungsmittel ; hergestellt werden, das die photoleitende Schicht nicht; ■ chloride, polycarbonate, etc. with a solvent ; that the photoconductive layer is not
l^f zum Aufquellen bringen oder zersetzen kann, wie St beispielsweise Wasser, AlkohoL Cyclohexanon, Xylol, jr· Toluol, Butylcellusolve, Äthylcellusolve u. dgLl ^ f can swell or decompose, like For example, water, alcohol, cyclohexanone, xylene, jr · toluene, butylcellusolve, ethylcellusolve and the like
Es muß bemerkt werden, daß das oben beschriebene Verfahren, obwohl es in Verbindung mit einer zylindrischen lichtempfindlichen Platte erläutert wurde, «ach auf flache lichtempfindliche Platten angewendet werden kann und dieselben Vorteile erhalten werden können.It must be noted that the method described above, although used in conjunction with a cylindrical photosensitive plate has been explained, also applied to flat photosensitive plates and the same advantages can be obtained.
Die lichtempfindliche Platte gemäß der Erfindung kann somit durch Aufbringen einer photoleitenden Schicht auf eine Basis, Aufbringen einer Halteschicht oder Stopschicht auf die photoleitende Schicht und ferner durch Aufbringen einer Isolierschicht auf die Halteschicht oderStopschicht erhalten werdeaThe photosensitive plate according to the invention can thus by applying a photoconductive Layer on a base, applying a holding layer or stop layer to the photoconductive layer and can also be obtained by applying an insulating layer to the holding layer or stop layer
Da die Isolierschicht einer Hochspannungs-Koronaentladung, mechanischer Reibung und speziellen Bedingungen ausgeseizt ist ist es erforderlich, daß sie derartigen Beanspruchungen gegenüber beständig ist Das heißt sie muß dauerhaft resisteni sein gegenüber einem dielektrischen Durchbruch, mechanischer Reibung und organischen Lösungsmitteln u.dgl.; ferner ist «ne Betätigung gegenüber Ozon erforderlich, da dielektrischer Durchbruch leicht infolge der Verschlech- f.-, terung der Isolierschicht durch vährend der Koronaentladung freiwerdendes Ozon voranschreitet Um eine Isolierschicht zu finden, die diesenSince the insulating layer is exposed to high-voltage corona discharge, mechanical friction and special conditions, it is necessary that it is resistant to such stresses, that is, it must be permanently resistant to dielectric breakdown, mechanical friction, and organic solvents and the like; further is «Ne actuation against ozone is necessary, since dielectric breakdown is easy due to the deterioration. The isolation of the insulating layer is caused by the ozone released during the corona discharge In order to find an insulating layer that this Anforderungen gerecht wird, sind öeständigkeitsversuche ausgeführt worden, bei denen die nachstehenden Substanzen benutzt wurden:Requirements, resistance tests have been carried out in which the following Substances were used:
a) herkömmliche Isolierharze, photohärtende Harze, wie photohärtendes Alkylalkydharz, Polyester, lichthärtendes Polyesterharz, Urethanacrylharz u. dg!, * b) Acrylharz, Epoxyharae^Polyesterharze, ,Urethanharze, andere Harze, wie Polyvinylchlorid, Nitrocellulose, Copolymer,'von Vinylchlorid, und /Vinylacetat, , Siliconharz, Schellack,.Cellu!qseacetatbutyrat, Polysulfonu.dgl.- ,7 ' "a) conventional insulating resins, photo-curing resins, such as photo-curing alkyl alkyd resin, polyester, light-curing polyester resin, urethane acrylic resin and the like! * b) Acrylic resin, Epoxyharae ^ polyester resins,, urethane resins, other resins such as polyvinyl chloride, nitrocellulose, copolymer, 'of vinyl chloride, and / vinyl acetate, , Silicone resin, shellac, cellulose acetate butyrate, polysulfone etc.-, 7 '"
;;Die obengenannten Harze werden auf die photoleitende Schicht und die Halteschicht oder Stopschicht, die " in Übereinstimmung mit dem obengenan nten Verfahren hergestellt ist aufgetragen, um eine lichtempfindliche Platte mit einer Isolierschicht zu bilden, deren Dicke 30 bis 40 μ beträgt Die so gefertigte lichtempfindliche Platte wird bei -6 kV geladen und anschließend bei - 2 k V. Das Oberflächenpotential wird auf 0 V reduziert, indem eine Wechselstromentladung von 7 kV angewendet wird, und dip Oberfläche bei +1 kV geladen, um die Übertragung mit einer Koronaentladung von + 5 kV zu erleichtern. Dieser Vorgang wird 30 OOOmal wiederholt um die Existenz von Feinlunkern oder Löchern infolge dielektrischen Durchbruchs ausfindig zu machen. Ferner werden das Abklingen des Oberflächenpotentials an der Isolierschicht wenn diese bei -2 kV geladen wird, und die mechanische Dauerhaftigkeit getestet;; The above resins are applied to the photoconductive layer and the holding layer or stop layer that "in accordance with the above procedure is applied to form a photosensitive plate with an insulating layer, the thickness of which is 30 up to 40 μ The photosensitive plate manufactured in this way is charged at -6 kV and then at - 2 kV. The surface potential is reduced to 0 V by an alternating current discharge of 7 kV is applied and dip surface at +1 kV charged to facilitate transmission with a corona discharge of + 5 kV. This process will Repeated 30,000 times about the existence of pinholes or holes as a result of dielectric breakdown to detect. Furthermore, the fading of the Surface potential at the insulating layer when it is charged at -2 kV, and the mechanical Durability tested
Diese Experimente haben gezeigt daO die photohärtbaren Harze der obigen Gruppe a). insbesondere Polyester und Urethan gute Ergebnisse erbringen; darüber hinaus ist gefunden worden, daß Urethanharze aus der obigen Gruppe b) gute Ergebnisse hervorbringen. So ist gefunden worden, daß der Zwei-Flüssigkomponenten-Typ von isocyanathärtendem Polyurethanharz vorteilhaft für eine hervorragende Isolierschicht verwendet werden kanaThese experiments have shown that the photocurable resins of group a) above. in particular Polyester and urethane perform well; in addition, it has been found that urethane resins from group b) above produce good results. Thus, the two-liquid component type of isocyanate curing polyurethane resin has been found to be advantageous for an excellent insulating layer to be used kana
Es ist zwar nicht klar, warum derartiges isocyanathärtbares 2-Flüssig-Polyurethanharz besonders wirksam ist es wird jedoch angenommen, daß es eine Vernetzung hoher Dichte hervorrufen kann, wobei hohe Zugfestigkeit erreicht wird. Die Radikale OH, NH; α dgL der Substanz werden verbraucht indem sie mit Isocyanat des Härters reagieren, wobei eine Vernetzung gebildet wird. Die elektrolytische Dissoziation und die Wanderung der Elektronen in dem Feld wird auf diese Weise unterbunden, während die Radikale, die zur Oxydation neigen, reduziert werden, wodurch die ausgezeichnete Beständigkeit gegenüber Ozon entsteht Folglich läßt sich denken, daß diese in physikalischer und elektrischer Hinsicht zur Verwendung als Isolierschicht geeignet sied. Die Erfindung wird jedoch durch die vorstehende theoretische Betrachtung nicht beschränktWhile it is not clear why such isocyanate curable 2-liquid polyurethane resin is particularly effective, it is believed that it is Can cause high density crosslinking, with high tensile strength being achieved. The radicals OH, NH; α dgL of the substance are consumed by reacting with isocyanate of the hardener, with a crosslinking is formed. The electrolytic dissociation and the migration of electrons in the field is due to this Way, while the radicals, which tend to oxidize, are reduced, thereby reducing the excellent resistance to ozone results and electrically suitable for use as an insulating layer. The invention, however, is through the above theoretical consideration is not limited
Die Isolierschicht wird durch Sprüh-, Tauchbeschichtung od. dgL aufgebracht Beim Sprühbeschichten sind Mikrofehler gefunden worden; obgleich die Oberfläche der Schicht glatt ist, zeigen sich elektrisch schwache Steilen, die zu dielektrischem Durchbruch neigen und Feinstlunker begründen. Wenn jedoch die zu beschichtende Substanz mit einer Geschwindigkeit von 2 cm/min bis 7 cm/min in einen Harzanstrich eingetaucht wird, wird eine Schicht erhalten, die in der Übergangsbeschaffenheit hervorragend ist und keine elektrischen Fehler aufweist Wenn demgemäß die Isolierschicht auf die photoleitende Schicht oder die Halteschicht aufgebracht wird, kann dies unter Benut-The insulating layer is applied by spray coating, dip coating or the like Micro-defects found; although the surface of the layer is smooth, electrically weak ones show up Steeps that tend to dielectric breakdown and Justify fine holes. However, if the substance to be coated at a speed of 2 cm / min to 7 cm / min is dipped in a resin paint, a layer is obtained which is in the Transition quality is excellent and has no electrical faults. Accordingly, if the If the insulating layer is applied to the photoconductive layer or the holding layer, this can be done using
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ίοίο
zung des beim Aufbringen der photoleitenden Schicht verwendeten Verfahrens geschehen; ferner kann das Verfahren beim Auftragen der Halteschicht angewendet werden.tion of the application of the photoconductive layer procedure used happen; furthermore, the method can be used when applying the holding layer will.
Beispiel
1. Herstellung der lichtempfindlichen Schichtexample
1. Preparation of the photosensitive layer
a) Eine Walzenmühle wurde mit 100. Gewichtsteilen aktivierten photoleitenden Cadmiumsulfids, 10 Gewichtsteilen eines Vinylchlorid-Vinylacetat-Mischpolyrnerisats in 5 Gewichtsteilen Methylisobutylketon gefüllt; um eine gleichmäßig dispergierte Beschichtungssuspension fertig zu stellen. Ein Aluminiumzylinder von 160 mm Durchmesser und 340 mm Länge als zylindrische Basis wurde in dem in Fig. 1 gezeigten Beschichmngsapparat installiert. In Übereinstimmung mit dem erfindungsgemäßen Verfahren wurde die Beschichtung ausgeführt und die beschichtete Basis bei 700C 30 Minuten lang getrocknet wobei eine außerordentlich gleichmäßige photoleitende Schicht mit einer Dicke von 40 μ erhalten wurde.a) A roller mill was filled with 100 parts by weight of activated photoconductive cadmium sulfide, 10 parts by weight of a vinyl chloride-vinyl acetate mixed polymer in 5 parts by weight of methyl isobutyl ketone; to complete a uniformly dispersed coating suspension. An aluminum cylinder 160 mm in diameter and 340 mm in length as a cylindrical base was installed in the coating apparatus shown in FIG. In accordance with the inventive method, the coating was carried out and the coated base at 70 0 C dried with an extremely uniform photoconductive layer was obtained having a thickness of 40 μ for 30 minutes.
b) lOOGewichtstei'e aktivierten photoleitenden Cadmiumsulfids. 10 Gewichtsteile in Form eines Körpers aus Vinylchlorid-Vinylacetat-Copolymer und 40Ge wichtsteile eines Verdünnungsmittels wurden gemischt und die Mischung in einer Kugelmühle dispergiert. so daß sich deren Viskosität auf 600 bis 1000 cP einstellte. Das so gefertigte photoleitende Material wurde auf die Oberfläche einer zylindrischen, aus Aluminium hergestellten Basis von 160 mm Durchmesser und 350 mm Länge nach dem Einu»uchverfahren aufgetragen, so daß sich eine Dicke der Schicht von 35 μ ergab. Nachdem die Basis hinreichend getrocknet war und mit dem Finger berührt werden konnte, wurde sie darüber hinaus 10 Minuten lang bei 700C getrocknet, um restliches Lösungsmittel vollständig zu entfernen.b) 10% by weight of activated photoconductive cadmium sulfide. 10 parts by weight in the form of a body of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and 40 parts by weight of a diluent were mixed, and the mixture was dispersed in a ball mill. so that their viscosity adjusted to 600 to 1000 cP. The photoconductive material produced in this way was applied to the surface of a cylindrical base made of aluminum, 160 mm in diameter and 350 mm in length, by the indentation process, so that the layer was 35 μm thick. After the base had dried sufficiently and could be touched with the finger, it was also dried for 10 minutes at 70 ° C. in order to completely remove residual solvent.
Darüber hinaus wurde eine andere photoleitende Schicht auf folgende Weise hergestellt:In addition, another photoconductive layer was made in the following way:
c) Ein nickelplattierter Aluminiumzylinder wurde mit Se-Te-Legierung(100 :15) im Vakuumplattierverfahren plattiert, um eine photoleitende Schicht mit einer Dicke von 50 bis 70 μ herzustellen.c) A nickel-plated aluminum cylinder was vacuum-plated with Se-Te alloy (100: 15) plated to a photoconductive layer with a thickness from 50 to 70 μ.
2. Herstellung der Halte- oder Stopschicht2. Production of the holding or stop layer
a) Acrylharz wurde dreifach mit dem Lösungsmittel Äthylbutylcellosolve verdünnt, das die photoleitende Substanz nicht aufzuquellen und zu zersetzen vermag, so daß eine Halte- oder Stoplösung erhalten wurde. Die mit der photoleitenden Schicht versehene zylindrische Basis, wie sie gemäß dem vorstehenden Beispiel erhalten wurde, wurde mit einer bestimmten Geschwindigkeit von 7 cm/sec in die Halte- oder Stoplösung eingetaucht wozu der in F i g. 1 gezeigte Apparat verwendet wurde. Nachdem eine Minute verstrichen war, wurde die zylindrische Basis langsam und mit einer vorgegebenen Geschwindigkeit von 1,7 cm/min aus der Halte- oder Stoplösung herausgezogen. Sie wurde hinreichend getrocknet, so daß sie mit den Fingern berührt werden konnte, worauf restliches Lösungsmittel bei 900C in einem Vakuum-Trocknungsofen verdampft wurde, womit die Halte- oder Stopschicht fertiggestellt war.a) Acrylic resin was diluted three times with the solvent ethylbutylcellosolve, which cannot swell and decompose the photoconductive substance, so that a holding or stopping solution was obtained. The cylindrical base provided with the photoconductive layer, as obtained according to the above example, was immersed in the holding or stopping solution at a certain speed of 7 cm / sec. 1 was used. After one minute had passed, the cylindrical base was slowly withdrawn from the hold or stop solution at a predetermined rate of 1.7 cm / min. It was sufficiently dried, so that it could be touched with the fingers, was evaporated whereupon residual solvent at 90 0 C in a vacuum drying oven, whereby the retaining or stop layer was completed.
b) Acrylharz wurde dreifach mit Äthylcellosolve verdünnt, um eine Halte- oder Stoplösung fertigzustellen. Die mit der photoleitenden Schicht versehene zylindrische Basis wurde mit einer vorgegebenen Geschwindigkeit von 7 cm/sec in die Halte- oder Stoplösung getaucht Nachdem eine Minute verstrichen war, wurde der Spiegel der Halte- oder Stoplösung mit einer vorgegebenen Geschwindigkeit von 2 cm/min abgesenkt indem die Halte- oder Stoplösung vom unteren Teil mit einer vorgegebenen Menge je Zeiteinheit abgezogen wurde. Die so präparierte lichtempfindliche Schicht wurde in einem Vakuum-Trocknungsofen getrocknet wobei eine Halte- oder Stopschicht mit einer Dicke von 4 μ fertiggestellt wurde.b) Acrylic resin was diluted three times with ethyl cellosolve to create a hold or stop solution. The cylindrical base provided with the photoconductive layer was given a predetermined one Speed of 7 cm / sec in the holding or Stop solution immersed. After a minute had passed, the level of the hold or stop solution became with a predetermined speed of 2 cm / min is lowered by the hold or stop solution from lower part was deducted with a predetermined amount per unit of time. The so prepared photosensitive layer was dried in a vacuum drying oven using a holding or Stop layer with a thickness of 4 μ was completed.
ίο c) Polyesterharz wurde im Tauchverfahren unter Verwendung des in Fig. 1 gezeigten Apparats auf die photoleitende Schicht geschichtet wobei eine Schicht von 2 bis 5 μ Dicke ausgebildet wurde. Sie wurde 30 Minuten lang bei 80°C getrocknet so daß eine Halte- oder Stopschicht gebildet wurdeίο c) Polyester resin was dipped under Using the apparatus shown in Fig. 1, the photoconductive layer is coated with one layer of 2 to 5 µm in thickness. It was dried for 30 minutes at 80 ° C so that a holding or stop layer was formed
3. Herstellung der Kleberschicht3. Production of the adhesive layer
a) 30% Esterharz in Toluol wurde gleichmäßig auf die mit der Halte- oder Stopschicht versehene phololeitende Schicht gesprüht, so daß eine Schichtdicke von 7 μ erhalten wurde. Nachdem sie hinreichend getrockne· war, so daß sie mit den Fingern berührt werden konnte, wurde sie in einen Vakuum Trocknungsofen gegeben und 10 Minuten lang bei 900C getrocknet, so daß restliches Lösungsmittel verdampfte. Auf diese Weise wurde eine Kleberschicht fertiggestellt.a) 30% ester resin in toluene was sprayed evenly onto the conductive layer provided with the holding or stopping layer, so that a layer thickness of 7 μ was obtained. After it had dried sufficiently that it could be touched with the fingers, it was placed in a vacuum drying oven and dried at 90 ° C. for 10 minutes so that residual solvent evaporated. In this way an adhesive layer was completed.
4. Herstellung einer Isolierschicht4. Production of an insulating layer
a) Urethanharz wurde mit Methyläthylketon ver-a) Urethane resin was treated with methyl ethyl ketone
jo dünnt um eine Lösung fertigzustellen, deren Viskosität bei der Bestimmung nach dem IWATA-Viskositätsbestimmungsverfahren 16 Sekunden/Becher betrug. In die so vorbereiten Lösung wurden die photoleitende Schicht und die mit der Halte- oder Stopschicht gemäß jo thins to complete a solution whose viscosity when determined by the IWATA viscosity determination method was 16 seconds / beaker. The photoconductive layer and that with the holding or stop layer according to FIG
dem obenerwähnten Beispiel beschichtete photoleitende Schicht eingetaucht wobei die Beschichtung unter Verwendung des in F i g. 1 gezeigten Apparats mit einer Geschwindigkeit von 5 cm/min durchgeführt wurde. Das Aushärten wurde in 30 Minuten bei 8O0C ausgeführt; dieselbe Prozedur wurde zweimal wiederholt, so daß ein dreifaches Beschichten vollzogen wurde und auf diese Weise eine endlose zylindrische lichtempfindliche Platte für die Elektrophotographie fertiggestellt wurde.the above-mentioned example coated photoconductive layer is immersed, the coating using the method shown in FIG. 1 was carried out at a speed of 5 cm / min. Curing was carried out in 30 minutes at 8O 0 C; the same procedure was repeated twice to make three-fold coating, thus completing an endless cylindrical photosensitive plate for electrophotography.
b) Urethanharz wurde mit Methyläthylketon verdünnt so daß die resultierende Lösung eine Viskosität nach dem IWATA-Viskositätsbestimmungsverfahren von 16 Sekunden/Becher erhielt In das so vorbereitete Harz wurden die photoleitende Schicht und die mit der Halte- oder Stopschicht gemäß dem obenerwähnten Beispiel beschichtete photoleitende Schicht unter Verwendung des in Fig. 1 gezeigten Apparats eingetaucht Die Beschichtung wurde bei einer Geschwindigkeit von 50 cm/min durchgeführt worauf die anhaftendeb) Urethane resin was diluted with methyl ethyl ketone so that the resulting solution had a viscosity According to the IWATA viscosity determination method of 16 seconds / cup, In received the so prepared Resin became the photoconductive layer and that with the holding or stopping layer according to the above Example coated photoconductive layer immersed using the apparatus shown in FIG The coating was carried out at a speed of 50 cm / min, followed by the adhering
Substanz in 30 Minuten bei 8O0C ausgehärtet wurde. Dieselbe Prozedur wurde zweimal wiederholt so daß eine dreifache Beschichtung durchgeführt und auf diese Weise eine endlose zylindrische elektrophotographische Platte mit einer Isolierschicht von 40 μ DickeSubstance was cured in 30 minutes at 8O 0 C. The same procedure was repeated twice so that a triple coating was carried out and thus an endless cylindrical electrophotographic plate with an insulating layer of 40 µm thick
erzeugt wurde.was generated.
c) Methyläthylketon wurde in Acrylharz gegeben, um eine Viskosität in den Werten des IWATA-Viskositätsbestimmungsverfahrens von 18 Sekunden/Becher festzulegen. Die Beschichtung wurde dreimal vorgenom-c) Methyl ethyl ketone was placed in acrylic resin to obtain a viscosity in the values of the IWATA viscosity determination method of 18 seconds / cup. The coating was carried out three times
men, wobei das so fertiggestellte Harz in der Weise benutzt wurde, daß das Eintauchen mit 5 cm/min folgte und das Aushärten innerhalb 30 Minuten bei 1000C so daß eine Isolierschicht fertiggestellt wurde,men, wherein the resin finished in this way was used in such a way that the immersion followed at 5 cm / min and the curing followed within 30 minutes at 100 0 C so that an insulating layer was completed,
iiii
deren Dicke 40 μ betrug.whose thickness was 40 μ.
d) Methyläthylketon wurde in hochhärtendes Urethan-Acrylharz gegeben, um eine Viskosität in Werten nach dem IWATA-Viskositätsbestimmungsverfahren von 2? Sekunden/Becher festzulegen. In das so präpa Werte Harz wurde eine photoleitende Schicht mit einer Geschwindigkeit von 6,0 cm/min eingetaucht und diese e«ner Bestrahlung mit einer Hochspannungs-Quecksil-Crtjrlichtlampe von 2x2 kW für 90 Minuten aus einer Entfernung von 25 cm ausgesetzt, während die Schicht zum Aushärten des Harzes gedreht wurde. Dieselbe Prozedur wurde zweimal wiederholt, so daß eine dreifache Beschichtung durchgeführt und eine endlose zylindrische photographische Platte mit einer Isolierschicht in einer Stärke von 40 μ hergestellt wurded) Methyl ethyl ketone was converted into highly hardening urethane acrylic resin given to a viscosity in values according to the IWATA viscosity determination method of 2? Seconds / cup to be set. A photoconductive layer with a Speed of 6.0 cm / min and this one irradiation with a high-voltage mercury light lamp of 2x2 kW exposed for 90 minutes from a distance of 25 cm during the shift rotated to cure the resin. The same procedure was repeated twice so that one triple coating carried out and an endless cylindrical photographic plate with an insulating layer was made in a thickness of 40 μ
e) In eine Lösung, die durch Verdünnen von Polyester mit Methyläthylketon zur Einstellung einer Viskosität der Lösung in Werten nach dem IWATA-Viskositätsbe· stimmungsveifahren von 25 Sekunden/Becher hergestellt wurde, wurde eine photoleitende Schicht mit einer Geschwindigkeit von 5.0 cm/min eingetaucht. Die Schicht wurde unter Verwendung einer Hochspannungs-Quecks'iberlichtlampe für die Photopolymerisation von 2 χ 2 kW für 120 see einer Bestrahlung aus einer Entfernu g von 25 cm ausgesetzt, um die Schicht 2<, auszuhärten, während sie gedreht wird. Dieselbe Prozedur wurde zweimal wiederholt, so daß eine dreifache Beschichtung erhalten wurde und dann eine endlose zylindrische photographische Platte mit einer Isolierschicht einer Dicke von 40 μ fertig war.e) A photoconductive layer was immersed at a speed of 5.0 cm / min in a solution which had been prepared by diluting polyester with methyl ethyl ketone to adjust the viscosity of the solution to values according to the IWATA viscosity determination method of 25 seconds / beaker. The layer was exposed to irradiation from a distance of 25 cm for 120 seconds using a high-voltage mercury lamp for photopolymerization of 2 × 2 kW to cure the layer 2 while rotating it. The same procedure was repeated twice so that a triple coating was obtained and then an endless cylindrical photographic plate with an insulating layer of 40 µm thick was completed.
f) Ein nahtloser und wärmeschrumpfbar Rohrfilm von 25 μ aus Polyäthylen-Ti-rephthalat wurde als Isolierschicht auf die getrocknete Kleberschicht durch Erlrizen auf 1000C in einem Vakuunofen geschichtet, um eine zylindrische lichtempfindliche Schicht fertigzustellen. f) A seamless tube and heat-shrinkable film of 25 μ made of polyethylene terephthalate was coated Ti as an insulating layer onto the dried adhesive layer by Erlrizen to 100 0 C in a Vakuunofen to a cylindrical photosensitive layer finish.
Lichtempfindliche Platten für die Elektrophotographie wurden unter Verwendung von Kombinationen der bei den obengenannten Beispielen verwendeten Verfahren hergestellt Es wurden herkömmliche isolierende ^0 Substanzen verwendet, die sich als Ergebnis dieses Auftragens unter Verwendung der Halte- oder Stopschicht und des Beschichtungsverfahrens nach der Erfindung als sehr wirksam zeigten.Photosensitive plates for electrophotography were prepared using combinations of the methods used in the above examples were used 0 substances conventional insulating ^ which showed as a result of this applying using the holding or stop layer and the coating method according to the invention to be very effective .
Auf die so hergestellten lichtempfindlichen Platten wurde das foigende Verfahren angewandt:The following procedure was applied to the photosensitive plates thus prepared:
Die lichtempfindlichen Platten wurden mit einer Koronaentladung von —6 kV geladen, so daß die Platten ein Oberflächenpotential von -2 kV annehmen können. Das Oberflächenpotential wurde durch Anwendung einer Wechselstrom-Koronaentladung von 6 kV auf 0 V reduziert, während mit Bildstrahlung von 2,5 Luxsekunden belichtet wurde. Dann wurde die gesamte Bestrahlung von 100 Luxsekunden angewendet, um ein elektrostatisches latentes Bild auf der Oberfläche der Isolierschicht zu erzeugen. Das latente Bild wurde mit Plus-Toner durch Flüssigentwicklung entwickelt und eine Koronaentladung angewendet, um ein Potential von +1000 V an der lichtempfindlichen Schicht vorzusehen, worauf die Übertragung auf gewöhnliches Papier erfolgte. Auf diese Weise wurden gedruckte Bilder von hoher Schwärze, Schleierfreiheit und Schärfe erhalten. Die vorerwähnte Behandlung wurde 30 OOOmal wiederholt, wobei keine Veränderung des elektrostatischen Kontrasts und kein Auftreten von Feinlunkern festgestellt werden konnte und die lichtempfindlichen Platten sich in wirtschaftlicher Hinsicht bezüglich mechanischem Verschleiß, Eintauchen in Petroleumlösungsmittel, Löschen mit Methyläthylketon u. dgl. als zufriedenstellend herausstellten.The photosensitive plates were charged with a corona discharge of -6 kV so that the Plates can assume a surface potential of -2 kV. The surface potential was determined by application an AC corona discharge reduced from 6 kV to 0 V, while with image radiation of 2.5 lux seconds was exposed. Then the entire irradiation of 100 lux seconds was applied, to form an electrostatic latent image on the surface of the insulating layer. The latent Image was developed using liquid plus toner and a corona discharge applied to provide a potential of +1000 V on the photosensitive layer, whereupon the transfer occurs ordinary paper was made. In this way, printed images became of high blackness, freedom from fog and get sharpness. The above-mentioned treatment was repeated 30,000 times with no change of the electrostatic contrast and no occurrence of pinholes could be determined and the photosensitive plates differ in economic terms in terms of mechanical wear, immersion in petroleum solvents, quenching with methyl ethyl ketone and the like proved to be satisfactory.
Es wird eine verbesserte dreischichtige lichtempfindliche Platte für die Elektrophotographie hergestellt, wobei ein Verfahren Anwendung findet, das folgende Schritte umfaßt: Auftragen einer photoleitenden Schicht auf eine leitende Schicht, anschließendes Beschichten der photoleitenden Schicht mit einer Halteoder Sioplösung, die durch Auflösen eines Harzes in einem Lösungsmittel, das die photoleitende Schicht weder zum Quellen bringen noch auflösen kann, hergestellt wird, und weiteres Beschichten der auf die photoleitende Schicht aufgebrachten Halte- oder Stoplösung mit einer Isolierschicht, die ein photohärtendes synthetisches Harz oder ein isocyanathärtendes Zwei-Flüssigkomponenten-Polyurethanharz aufweist. Das Verfahren wird unter Verwendung eines neuen Beschichtungsapparats ausgeführt, der einen Behälter zur Aufnahme einer zylindrischen Basis, eine Anordnung zum Abdichten eines Hohlraums zwischen dem Behälter und der zylindrischen Basis, in welchem Hohlraum ein Anstricl. aufgenommen wird, eine Einrichtung zum Aufwärts- und Abwärtsbewegen der zylindrischen Basis, eine Einrichtung zürn Zuführen eines Anstrichs in den Hohlraum und Abziehen des Anstrichs aus dem Hohlraum sowie eine Einrichtung zum gleichförmigen Umrühren des Anstrichs ei. hältAn improved three-layer photosensitive plate for electrophotography is produced, using a method comprising the steps of: applying a photoconductive Layer on a conductive layer, then coating the photoconductive layer with a holding or Siop solution made by dissolving a resin in a solvent that forms the photoconductive layer can neither swell nor dissolve, is produced, and further coating of the on the photoconductive layer applied holding or stop solution with an insulating layer, which is a photo-curing synthetic resin or an isocyanate curing two-liquid component polyurethane resin. The process is carried out using a new coating apparatus, which is a container for receiving a cylindrical base, an arrangement for sealing a cavity between the Container and the cylindrical base, in which cavity a paint. is recorded, a Means for moving the cylindrical base up and down, means for feeding a paint into the cavity and peeling off the paint from the cavity and a device to stir the paint uniformly. holds
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings
Claims (3)
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6346272A JPS5315095B2 (en) | 1972-06-23 | 1972-06-23 | |
| JP6346072A JPS5641994B2 (en) | 1972-06-23 | 1972-06-23 | |
| JP47073952A JPS5135146B2 (en) | 1972-07-24 | 1972-07-24 | |
| JP7614472A JPS5642863B2 (en) | 1972-07-29 | 1972-07-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2331865A1 DE2331865A1 (en) | 1974-01-17 |
| DE2331865B2 true DE2331865B2 (en) | 1976-07-15 |
Family
ID=27464323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19732331865 Ceased DE2331865B2 (en) | 1972-06-23 | 1973-06-22 | METHOD OF MANUFACTURING A CYLINDRICAL ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE2331865B2 (en) |
-
1973
- 1973-06-22 DE DE19732331865 patent/DE2331865B2/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2331865A1 (en) | 1974-01-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| BHV | Refusal |