JP2525366B2 - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
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- JP2525366B2 JP2525366B2 JP61128011A JP12801186A JP2525366B2 JP 2525366 B2 JP2525366 B2 JP 2525366B2 JP 61128011 A JP61128011 A JP 61128011A JP 12801186 A JP12801186 A JP 12801186A JP 2525366 B2 JP2525366 B2 JP 2525366B2
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- Japan
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- optical recording
- protective film
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ビームにより記録、再生を行なうことが
可能な光学的記録媒体に関する。特に、記録層の保存安
定性の向上を目的として記録層上に形成される保護膜に
関するものである。
可能な光学的記録媒体に関する。特に、記録層の保存安
定性の向上を目的として記録層上に形成される保護膜に
関するものである。
従来より、光ディスクに用いられる光メモリー材料と
しては希土類−遷移金属の合金薄膜、非晶質から結晶質
への相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化
物薄膜、ヒートモード記録媒体、サーモプラスチック記
録媒体等が知られている。例えば、希土類−遷移金属の
合金薄膜で形成される光磁気記録媒体としてては、MnB
i,MnCuBiなどの多結晶薄膜、GdCo,GdFe,TbFe,DyFe,GdTb
Fe,TbDyFe,GdFeCo,TbFeCo,GdTbCoなどの非晶質薄膜、Gd
IGなどの単結晶薄膜などが知られている。これらの薄膜
のうち、大面積の薄膜を室温近傍の温度で製作する際の
製膜性、信号を小さな光熱エネルギーで書き込むための
書き込み効率、および書き込まれた信号をS/N比よく読
み出すための読み出し効率を勘案して、最近では前記非
晶質薄膜が光磁気記録媒体として優れていると考えられ
ている。特に、GdTbFeはカー回転角も大きく、150℃前
後のキューリー点を持つので光磁気記録媒体として最適
である。
しては希土類−遷移金属の合金薄膜、非晶質から結晶質
への相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化
物薄膜、ヒートモード記録媒体、サーモプラスチック記
録媒体等が知られている。例えば、希土類−遷移金属の
合金薄膜で形成される光磁気記録媒体としてては、MnB
i,MnCuBiなどの多結晶薄膜、GdCo,GdFe,TbFe,DyFe,GdTb
Fe,TbDyFe,GdFeCo,TbFeCo,GdTbCoなどの非晶質薄膜、Gd
IGなどの単結晶薄膜などが知られている。これらの薄膜
のうち、大面積の薄膜を室温近傍の温度で製作する際の
製膜性、信号を小さな光熱エネルギーで書き込むための
書き込み効率、および書き込まれた信号をS/N比よく読
み出すための読み出し効率を勘案して、最近では前記非
晶質薄膜が光磁気記録媒体として優れていると考えられ
ている。特に、GdTbFeはカー回転角も大きく、150℃前
後のキューリー点を持つので光磁気記録媒体として最適
である。
しかしながら、一般にGdTbFe等の光磁気記録媒体をは
じめとする磁気記録媒体に用いられる非晶質磁性体は耐
食性が悪いという欠点を持っている。すなわち、大気、
水蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的には完全に
酸化されて透明化するに至る。
じめとする磁気記録媒体に用いられる非晶質磁性体は耐
食性が悪いという欠点を持っている。すなわち、大気、
水蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的には完全に
酸化されて透明化するに至る。
このような欠点を除くために、従来から光メモリー材
料層の上に、SiO2,SiOなどの無機系の保護層を設けるこ
とが提案されている。しかしながら、SiO,SiO2等の無機
物の保護層は蒸着、スパッタ等の真空装置を使って成膜
しなければならず、又その成膜にも時間がかかる為設備
投資及び人件費が膨大なものとなり、記録媒体のコスト
を上昇させる原因となっている。また、これら無機物の
保護膜は有機物に比べると熱伝導率が高く、メモリー材
料膜への記録時に、保護膜側に散逸してしまうエネルギ
ーが多く、これが書き込み感度を低下させる原因となっ
ていた。
料層の上に、SiO2,SiOなどの無機系の保護層を設けるこ
とが提案されている。しかしながら、SiO,SiO2等の無機
物の保護層は蒸着、スパッタ等の真空装置を使って成膜
しなければならず、又その成膜にも時間がかかる為設備
投資及び人件費が膨大なものとなり、記録媒体のコスト
を上昇させる原因となっている。また、これら無機物の
保護膜は有機物に比べると熱伝導率が高く、メモリー材
料膜への記録時に、保護膜側に散逸してしまうエネルギ
ーが多く、これが書き込み感度を低下させる原因となっ
ていた。
また有機樹脂を保護膜として記録層上に塗布すること
も試みられているが、従来試みられている樹脂には、以
下に記載するような問題があった。まず初めにアクリル
樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等を保護膜とした場
合には上記樹脂から記録層を冒す物質が記録層へ拡散し
て来て記録層の劣化を促進する。またアクリル樹脂、シ
リコーン樹脂、塩化ビニル等を保護膜にした場合には、
保護膜の耐湿性が悪く保護膜としての機能をはたすまで
に至らない。また、上記樹脂を使用した場合には塗布後
樹脂が硬化するまでに時間がかかり、製造コストアップ
の原因になっていた。
も試みられているが、従来試みられている樹脂には、以
下に記載するような問題があった。まず初めにアクリル
樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等を保護膜とした場
合には上記樹脂から記録層を冒す物質が記録層へ拡散し
て来て記録層の劣化を促進する。またアクリル樹脂、シ
リコーン樹脂、塩化ビニル等を保護膜にした場合には、
保護膜の耐湿性が悪く保護膜としての機能をはたすまで
に至らない。また、上記樹脂を使用した場合には塗布後
樹脂が硬化するまでに時間がかかり、製造コストアップ
の原因になっていた。
本発明は以上の問題点を解決するためになされたもの
であり短時間でしかも簡単な操作で形成しえて、かつ書
き込み感度の低下が少ない耐食性保護膜を有する光学的
記録媒体を提供することを目的とする。
であり短時間でしかも簡単な操作で形成しえて、かつ書
き込み感度の低下が少ない耐食性保護膜を有する光学的
記録媒体を提供することを目的とする。
本発明は基板上に光学的記録層が設けられている光学
的記録媒体において、該記録層上にエチレン・アクリル
酸共重合体とワックス状炭化水素との混合物から成る保
護膜が形成されていることを特徴とする光学的記録媒体
である。
的記録媒体において、該記録層上にエチレン・アクリル
酸共重合体とワックス状炭化水素との混合物から成る保
護膜が形成されていることを特徴とする光学的記録媒体
である。
本発明において、基板としては、ガラス；アクリル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチ
ックが用いられる。
脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチ
ックが用いられる。
本発明において、光学的記録層とは、光メモリー材料
層だけを意味するのではなく、必要に応じて光メモリー
材料層の上および／または下に、下地層、反射防止層、
反射層、干渉層、本発明で用いる保護膜以外の材料で構
成される保護層等を適宜設けることによって構成される
層全体をも意味する。
層だけを意味するのではなく、必要に応じて光メモリー
材料層の上および／または下に、下地層、反射防止層、
反射層、干渉層、本発明で用いる保護膜以外の材料で構
成される保護層等を適宜設けることによって構成される
層全体をも意味する。
基板状に上記光学的記録層を設けるには上記各層を順
次その物性に応じた層形成手段、たとえばスパッタリン
グ法、真空蒸着法などにより積層してゆく。
次その物性に応じた層形成手段、たとえばスパッタリン
グ法、真空蒸着法などにより積層してゆく。
本発明の光学的記録媒体を形成するには、上述の方法
で記録層を設けたのち、その上にエチレン・アクリル酸
共重合体を主成分とする保護膜を形成するのであるが、
エチレン・アクリル酸共重合体は熱可塑性樹脂であるの
で、それを加熱溶融し、記録層上にロールコーター、ス
プレー、印刷、スピンコーティングなどの塗布手段で膜
状に塗布すれば、記録層および基板側への熱伝導により
塗布された共重合体は瞬時に冷却固化して塗膜を形成
し、塗布後保護膜が形成されるまでに要する時間は従来
試みられてきた有機樹脂保護膜の場合の時間に比べては
るかに短時間である。更に、エチレン・アクリル酸共重
合体膜は、従来試みられてきた有機樹脂膜にくらべて透
湿性や気体透過性が低く、従って記録層の酸化劣化防止
の観点からも好ましい。加うるに、熱伝導率がSiO,SiO2
等の誘電体、Al,Cu等の金属に比べて低いので、記録時
の記録エネルギーの散逸も少なく、記録感度も向上す
る。
で記録層を設けたのち、その上にエチレン・アクリル酸
共重合体を主成分とする保護膜を形成するのであるが、
エチレン・アクリル酸共重合体は熱可塑性樹脂であるの
で、それを加熱溶融し、記録層上にロールコーター、ス
プレー、印刷、スピンコーティングなどの塗布手段で膜
状に塗布すれば、記録層および基板側への熱伝導により
塗布された共重合体は瞬時に冷却固化して塗膜を形成
し、塗布後保護膜が形成されるまでに要する時間は従来
試みられてきた有機樹脂保護膜の場合の時間に比べては
るかに短時間である。更に、エチレン・アクリル酸共重
合体膜は、従来試みられてきた有機樹脂膜にくらべて透
湿性や気体透過性が低く、従って記録層の酸化劣化防止
の観点からも好ましい。加うるに、熱伝導率がSiO,SiO2
等の誘電体、Al,Cu等の金属に比べて低いので、記録時
の記録エネルギーの散逸も少なく、記録感度も向上す
る。
本発明で用いるエチレン・アクリル酸共重合体は、エ
チレンとアクリル酸を主要構成モノマーとして得られる
共重合体であり、エチレンとアクリル酸とのモノマー比
率は9:1乃至6:4の範囲のものを用いるのが好ましい。
チレンとアクリル酸を主要構成モノマーとして得られる
共重合体であり、エチレンとアクリル酸とのモノマー比
率は9:1乃至6:4の範囲のものを用いるのが好ましい。
上述の如く、エチレン・アクリル酸共重合体単独でも
保護膜を形成出来るが、本発明に於いては保護膜の透湿
率をよりいっそう低下させるとともに溶融液の粘度を低
下させ、塗布を容易にするために、該共重合体にパラフ
ィンワクスやマイクロクリスタリンワックス等のワック
ス状炭化水素をブレンドする。その好ましいブレンド比
率は重量比で共重合体：ワックス状炭化水素が9:1乃至
6:4の範囲のものである。以下、図面を用いて本発明を
説明する。
保護膜を形成出来るが、本発明に於いては保護膜の透湿
率をよりいっそう低下させるとともに溶融液の粘度を低
下させ、塗布を容易にするために、該共重合体にパラフ
ィンワクスやマイクロクリスタリンワックス等のワック
ス状炭化水素をブレンドする。その好ましいブレンド比
率は重量比で共重合体：ワックス状炭化水素が9:1乃至
6:4の範囲のものである。以下、図面を用いて本発明を
説明する。
第１乃至第３図は本発明の記録媒体の構造例を説明す
るための側断面図であり、第４図は従来の記録媒体に関
する同様の図である。各図において、１は基板、２は下
地層、３は光メモリー材料層、４はエチレン・アクリル
酸共重合体を主成分とする保護膜、５は従来技術による
保護膜層、６は接着剤層である。
るための側断面図であり、第４図は従来の記録媒体に関
する同様の図である。各図において、１は基板、２は下
地層、３は光メモリー材料層、４はエチレン・アクリル
酸共重合体を主成分とする保護膜、５は従来技術による
保護膜層、６は接着剤層である。
第３図にみられる如く、２つの記録層が対向するよう
に接着剤で貼り合わせた構造のもの、またその際スペー
サーを介して貼り合わせた所謂エアーサンドイッチ構造
のものなども、記録層上にエチレン・アクリル酸共重合
体を主成分とする保護膜が形成されている限り、本発明
の光学的記録媒体の実施態様である。
に接着剤で貼り合わせた構造のもの、またその際スペー
サーを介して貼り合わせた所謂エアーサンドイッチ構造
のものなども、記録層上にエチレン・アクリル酸共重合
体を主成分とする保護膜が形成されている限り、本発明
の光学的記録媒体の実施態様である。
以下に本発明を実施例により更に詳細に説明する。
実施例１ 以下に記述した方法でその模式側断面が第１図の構造
のディスク状光学的記録媒体を作製した。インジェクシ
ョン成形法により、その表面にスパイラル状の案内溝を
もったポリカーボネート樹脂基板１を作製し、その上に
真空蒸着法で900Åの厚さのSiOを下地層２として成膜
し、引き続きRFスパッタ法によりGdTbFeCoの光メモリー
材料層３を700Å成膜した。さらにその上にエチレン・
アクリル酸共重合体とパラフィンワックスを７対３の重
量比率で混合した樹脂を加熱溶融し、ロールコーターに
て30μｍの厚さに塗布した。塗膜は塗布されるとすぐに
記録層および基板側へ熱伝導が起り、瞬時に冷却固化し
て保護膜４が形成され、かくて本発明の光学的記録媒体
が得られた。
のディスク状光学的記録媒体を作製した。インジェクシ
ョン成形法により、その表面にスパイラル状の案内溝を
もったポリカーボネート樹脂基板１を作製し、その上に
真空蒸着法で900Åの厚さのSiOを下地層２として成膜
し、引き続きRFスパッタ法によりGdTbFeCoの光メモリー
材料層３を700Å成膜した。さらにその上にエチレン・
アクリル酸共重合体とパラフィンワックスを７対３の重
量比率で混合した樹脂を加熱溶融し、ロールコーターに
て30μｍの厚さに塗布した。塗膜は塗布されるとすぐに
記録層および基板側へ熱伝導が起り、瞬時に冷却固化し
て保護膜４が形成され、かくて本発明の光学的記録媒体
が得られた。
実施例２ 以下に記述した方法でその模式側断面が第２図の構造
の円形状の光学的記録媒体を作製した。
の円形状の光学的記録媒体を作製した。
光メモリー材料層を成膜するまでは実施例１と同様に
行ない、その上に保護膜５としてSiOを500Å真空蒸着法
で形成した。ついで、実施例１と同様な方法でエチレン
・アクリル酸共重合体とパラフィンワックスとの重量比
が6:4である厚さ40μｍの混合保護膜４をその上に形成
して本発明の光学的記録媒体を得た。尚、保護膜の形成
に要した時間は約２分であった。
行ない、その上に保護膜５としてSiOを500Å真空蒸着法
で形成した。ついで、実施例１と同様な方法でエチレン
・アクリル酸共重合体とパラフィンワックスとの重量比
が6:4である厚さ40μｍの混合保護膜４をその上に形成
して本発明の光学的記録媒体を得た。尚、保護膜の形成
に要した時間は約２分であった。
比較のために第４図にその模式側断面を示す構造の光
学的記録媒体を作製した。すなわちこの場合は光メモリ
ー材料層を成膜するまでは実施例１と同様に行ない、そ
の上に保護膜５としてSiOを3000Å真空蒸着法で形成し
たものである。この場合の保護膜形成の所要時間は約５
分であった。
学的記録媒体を作製した。すなわちこの場合は光メモリ
ー材料層を成膜するまでは実施例１と同様に行ない、そ
の上に保護膜５としてSiOを3000Å真空蒸着法で形成し
たものである。この場合の保護膜形成の所要時間は約５
分であった。
得られた２つの記録媒体を45℃,95％RHの環境試験器
中に1000時間放置後、記録層の劣化の程度を比較した
が、両者に殆ど差がなかった。
中に1000時間放置後、記録層の劣化の程度を比較した
が、両者に殆ど差がなかった。
同一膜厚の場合は樹脂膜の方がSiO膜にくらべて気体
および水分透過量が多いにも拘らず上記の如き結果が得
られたのはエチレン・アクリル酸共重合体−ワックスの
保護膜を厚く成膜したためと思われるが、それにも拘ら
ず前述の如く保護膜形成のための所要時間を本発明の場
合はかなり短縮出来るので、その経済的効果はきわめて
大きい。
および水分透過量が多いにも拘らず上記の如き結果が得
られたのはエチレン・アクリル酸共重合体−ワックスの
保護膜を厚く成膜したためと思われるが、それにも拘ら
ず前述の如く保護膜形成のための所要時間を本発明の場
合はかなり短縮出来るので、その経済的効果はきわめて
大きい。
実施例３ 実施例２の光学的記録媒体を記録層が対向するように
ゴム系のホットメルト接着剤６で貼り合わせて、その模
式側断面が第３図の構造の記録媒体を作製した。このよ
うに貼り合わせ構造の記録媒体においても実施例２と同
様の効果がある。
ゴム系のホットメルト接着剤６で貼り合わせて、その模
式側断面が第３図の構造の記録媒体を作製した。このよ
うに貼り合わせ構造の記録媒体においても実施例２と同
様の効果がある。
尚、上記実施例ではいずれも光磁気記録媒体で本発明
を説明したが、記録層の種類はこれに限定されるもので
はない。
を説明したが、記録層の種類はこれに限定されるもので
はない。
以上説明したようにエチレン・アクリル酸共重合体を
保護膜に使った場合には従来の無機保護膜に比べて記録
感度が向上しコスト的にも有利である。又、従来から使
われている有機保護膜に比べても記録層の保護性能が高
く加熱溶融して塗布し、常温にもどると固化するため短
時間で成膜でき、コスト的に有利である。
保護膜に使った場合には従来の無機保護膜に比べて記録
感度が向上しコスト的にも有利である。又、従来から使
われている有機保護膜に比べても記録層の保護性能が高
く加熱溶融して塗布し、常温にもどると固化するため短
時間で成膜でき、コスト的に有利である。
第１〜３図および第４図は、本発明および従来の光学的
記録媒体の構造を、それぞれ模式的に示した側断面図で
ある。 １……基板、２……下地層、３……光メモリー材料層、
４……エチレン・アクリル酸共重合体を主成分とする保
護層、５……従来技術による保護層、６……接着剤層。
記録媒体の構造を、それぞれ模式的に示した側断面図で
ある。 １……基板、２……下地層、３……光メモリー材料層、
４……エチレン・アクリル酸共重合体を主成分とする保
護層、５……従来技術による保護層、６……接着剤層。
Claims (2)
- 【請求項１】基板上に光学的記録層が設けられている光
学的記録媒体において、該記録層上にエチレン・アクリ
ル酸共重合体とワックス状炭化水素との混合物から成る
保護膜が形成されていることを特徴とする光学的記録媒
体。 - 【請求項２】前記エチレン・アクリル酸共重合体とワッ
クス状炭化水素との混合比が、重量比で共重合体：ワッ
クス状炭化水素が9:1乃至6:4の範囲にある特許請求の範
囲第１項記載の光学的記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61128011A JP2525366B2 (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61128011A JP2525366B2 (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 光学的記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62285251A JPS62285251A (ja) | 1987-12-11 |
| JP2525366B2 true JP2525366B2 (ja) | 1996-08-21 |
Family
ID=14974270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61128011A Expired - Fee Related JP2525366B2 (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2525366B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02177138A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-10 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光記録部材 |
| CN102876250A (zh) * | 2012-09-24 | 2013-01-16 | 无锡市科麦特光电材料有限公司 | 一种用于复合金属带的乙烯丙烯酸胶液 |
-
1986
- 1986-06-04 JP JP61128011A patent/JP2525366B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62285251A (ja) | 1987-12-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |