JP2537868B2 - Resin-sealed semiconductor device - Google Patents
Resin-sealed semiconductor deviceInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半田浸漬後の信頼性に優れた樹脂封止半
導体装置に関するものである。The present invention relates to a resin-encapsulated semiconductor device having excellent reliability after solder immersion.
従来から、トランジスタ,IC,LSI等の半導体素子をプ
ラスチツクパツケージで保護した樹脂封止半導体装置と
して、プリント基板等にピンを挿入して実装するデユア
ル・インライン・パツケージ(DIP)タイプのものが賞
用されている。Conventionally, as a resin-encapsulated semiconductor device in which semiconductor elements such as transistors, ICs, and LSIs are protected by a plastic package, a dual-in-line package (DIP) type in which a pin is inserted into a printed circuit board for mounting is a prize. Has been done.
しかしながら、近年、腕時計や電卓,VTRカメラ等の小
形高機能製品の開発の流れに伴い、半導体装置の高密度
実装化,薄形化が要求され、いわゆるフラツトパツケー
ジタイプの表面実装型半導体装置が多用されるようにな
つてきている。However, in recent years, with the flow of development of small high-performance products such as wristwatches, calculators, VTR cameras, etc., high density mounting and thinning of semiconductor devices are required, and so-called flat package type surface mounting type semiconductor devices have been developed. It is becoming popular.
上記表面実装型半導体装置は、従来のDIPタイプのも
ののようにリードピンだけを部分的に半田浸漬するもの
ではなく、通常、半導体装置全体を200℃以上の半田槽
に浸漬したり、もしくは赤外線加熱法,ベーパーフエイ
ズ法等によつて半導体装置全体を加熱した後、プリント
基板に接続,固定することにより実装を行うものであ
る。The surface-mount type semiconductor device is not one in which only the lead pins are partially solder-immersed as in the conventional DIP type, but usually the whole semiconductor device is immersed in a solder bath at 200 ° C. or higher, or an infrared heating method. After heating the entire semiconductor device by the vapor phase method or the like, the semiconductor device is mounted by being connected and fixed to a printed circuit board.
しかしながら、上記のように半導体装置全体を半田槽
に浸漬等すると、半導体装置が室温から200℃以上とい
うような急激な温度変化を受けるため、熱衝撃によつて
パツケージクラツクが発生したり、リードフレームと封
止樹脂間に隙間を生じ、パツケージの耐湿性が損なわれ
てしまう。However, when the entire semiconductor device is immersed in the solder bath as described above, the semiconductor device undergoes a rapid temperature change from room temperature to 200 ° C. or higher, so that a thermal shock causes a package crack or a lead crack. A gap is created between the frame and the sealing resin, and the moisture resistance of the package is impaired.
そこで、半導体装置の薄形化,高密度実装化の要求に
対応できるよう、上記パツケージの耐湿性低下の改善が
強く望まれていた。Therefore, it has been strongly desired to improve the moisture resistance of the package so as to meet the demands for thinning and high-density mounting of the semiconductor device.
この発明は、このような事情に鑑みなされたもので、
半田浸漬後の耐湿性に優れた樹脂封止半導体装置の提供
をその目的とするものである。The present invention has been made in view of such circumstances,
It is an object of the present invention to provide a resin-encapsulated semiconductor device having excellent moisture resistance after solder immersion.
上記の目的を達成するため、この発明の樹脂封止半導
体装置は、半導体素子がリードフレームに取付けられ樹
脂組成物によつて封止されている樹脂封止半導体装置で
あつて、上記半導体素子およびリードフレームが撥水性
ワツクスによつて表面処理されているという構成をと
る。なお、上記「半導体素子およびリードフレームの表
面処理における表面」とは、文字通りの表面のみなら
ず、裏面,側面等外表面全てを含む趣旨である。また上
記リードフレームとは半導体素子を支持するダイボンド
プレート(ダイパツト)を含む趣旨である。そして、上
記リードフレームの材質は銅,合金(42アロイ)等どの
ような材質であつてもよく、さらに、どのようなメツキ
が施されていても差し支えはない。In order to achieve the above object, the resin-sealed semiconductor device of the present invention is a resin-sealed semiconductor device in which a semiconductor element is attached to a lead frame and sealed with a resin composition. The lead frame is surface-treated with a water-repellent wax. The "surface in the surface treatment of the semiconductor element and the lead frame" is intended to include not only the literal surface but also the entire outer surface such as the back surface and the side surface. The lead frame includes a die bond plate (die pad) that supports the semiconductor element. The material of the lead frame may be any material such as copper or alloy (42 alloy), and any kind of plating may be applied.
すなわち、本発明者らは、樹脂封止半導体装置の半田
浸漬後の耐湿性向上のために、まず、パツケージの耐湿
性を低下させる因子を解明すべく研究を重ねた。その結
果、半導体装置製造過程あるいは製品化後の保管過程に
おいて半導体装置内に吸収された水分が、主として半導
体素子,リードフレームと封止用樹脂との界面に滞留し
ており、この水分が、半田浸漬時の高温(200℃以上)
により急激に蒸発して高圧蒸気となり、半導体素子およ
びリードフレームと封止用樹脂との界面に隙間を生じさ
せたり、パツケージにクラツクを生じさせたりし、それ
によつて基板への実装がうまくできなかつたり、半田浸
漬後のパツケージの耐湿性が低下することを突き止め
た。That is, the inventors of the present invention first conducted research to elucidate the factors that reduce the moisture resistance of the package in order to improve the moisture resistance of the resin-sealed semiconductor device after immersion in solder. As a result, the water absorbed in the semiconductor device during the manufacturing process of the semiconductor device or the storage process after commercialization is mainly retained at the interface between the semiconductor element, the lead frame and the sealing resin. High temperature during immersion (200 ℃ or more)
Rapidly evaporates to high-pressure vapor, which creates a gap at the interface between the semiconductor element and the lead frame and the encapsulating resin, or creates a crack in the package, which makes it difficult to mount on the board. In addition, it was found that the moisture resistance of the package after dipping the solder deteriorates.
そこで、本発明者らは、上記半導体装置内に滞留する
水分を除去する方法あるいは、予め吸湿を防止する方法
についてさらに一連の研究を重ねた結果、半導体素子お
よびリードフレームを特定の撥水性ワツクスで表面処理
して撥水性をもたせると、半導体素子と封止用樹脂との
界面に水分が浸入せず、半田浸漬後の耐湿性が大幅に改
善されることを見いだしこの発明に到達した。Therefore, as a result of further series of studies on the method of removing the water staying in the semiconductor device or the method of preventing the moisture absorption in advance, the present inventors have determined that the semiconductor element and the lead frame have a specific water-repellent wax. It has been found that when the surface treatment is made to be water-repellent, moisture does not enter the interface between the semiconductor element and the encapsulating resin, and the moisture resistance after solder immersion is greatly improved, and the present invention was reached.
この発明の樹脂封止半導体装置は、その表面が特定の
撥水性ワツクスで表面処理されている半導体素子および
リードフレームと、この半導体素子およびリードフレー
ムを封止する樹脂組成物とから構成される。The resin-sealed semiconductor device of the present invention comprises a semiconductor element and a lead frame whose surface is surface-treated with a specific water-repellent wax, and a resin composition for sealing the semiconductor element and the lead frame.
上記撥水性ワツクスとしては、半導体素子およびリー
ドフレームに対する濡れ性がよく、しかも水に対して撥
水性が発揮するものであれば特に制限するものではな
い。ただ、好適なものは175℃程度の高温において、半
導体素子およびリードフレームに対する接触角が50゜以
下であつて、常温での水との接触角が90゜以上のもので
ある。このような特性を有する撥水性ワツクスを使用す
ることにより、半田浸漬後のパツケージクラツクや耐湿
性が大幅に改善されるようになるのである。The water-repellent wax is not particularly limited as long as it has good wettability with respect to the semiconductor element and the lead frame and exhibits water-repellent property against water. However, a preferable one is that the contact angle with respect to the semiconductor element and the lead frame is 50 ° or less at a high temperature of about 175 ° C., and the contact angle with water at room temperature is 90 ° or more. By using the water repellent wax having such characteristics, the package crack and the moisture resistance after the solder immersion can be significantly improved.
上記のような撥水性ワツクスの代表例としては、高級
脂肪酸系,高級脂肪酸エステル系,高級脂肪酸金属塩
系,炭化水素系,酸アミド系等のものを例示することが
できる。これらの撥水性ワツクスは、単独で使用しても
よいし併用しても差し支えはない。特に、上記例示の撥
水性ワツクスのなかでも、炭素数10〜25の高級脂肪酸系
のもの、また、炭素数20〜45の高級脂肪酸エステル系の
もの、炭素数10〜45の高級脂肪酸金属塩素のもの、炭素
数35〜350の炭素水素系のもの、また、炭素数10〜110の
酸アミド系のものを使用することが好適である。Typical examples of the water-repellent waxes include higher fatty acid type, higher fatty acid ester type, higher fatty acid metal salt type, hydrocarbon type, acid amide type and the like. These water-repellent waxes may be used alone or in combination. In particular, among the water-repellent waxes exemplified above, higher fatty acid-based ones having 10 to 25 carbon atoms, higher fatty acid ester-based ones having 20 to 45 carbon atoms, and higher fatty acid metal chlorine having 10 to 45 carbon atoms It is preferable to use those having 35 to 350 carbon atoms, and those having 10 to 110 carbon atoms and amides.
また、この発明に用いる樹脂組成物は、熱硬化性樹
脂,硬化剤,充填剤,顔料等を用いて得られるものであ
つて、通常、粉末状もしくはこれを打錠したタブレツト
状になつている。Further, the resin composition used in the present invention is obtained by using a thermosetting resin, a curing agent, a filler, a pigment, etc., and is usually in the form of powder or a tablet formed by tableting. .
上記熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂が好適に用
いられるが、フエノール樹脂,尿素樹脂,メラミン樹
脂,ポリエステル樹脂,ジアクリルフタレート樹脂,ポ
リフエニレンサルフアイド等を上記エポキシ樹脂の全部
もしくは一部に代えて用いることができる。An epoxy resin is preferably used as the thermosetting resin, but a phenol resin, a urea resin, a melamine resin, a polyester resin, a diacrylic phthalate resin, a polyphenylene sulfide, or the like may be used as the whole or a part of the epoxy resin. It can be used instead.
エポキシ樹脂としては、ビスフエノールA型,フエノ
ールノボラツク型,クレゾールノボラツク型のようなグ
リシジルエーテル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹
脂、ハロゲン化エポキシ樹脂等公知のいずれのものを用
いてもよいが、特にフエノールノボラツクあるいはクレ
ゾールノボラツク型エポキシ樹脂の使用が好適である。
さらに、これらのエポキシ樹脂の中でも塩素イオンの含
有量が10ppm以下で、かつ加水分解性塩素の含有量が0.1
重量%(以下「%」と略す)以下のものが適している。As the epoxy resin, any known one such as glycidyl ether type epoxy resin such as bisphenol A type, phenol novolak type, cresol novolak type, alicyclic epoxy resin, halogenated epoxy resin may be used. It is particularly preferable to use a phenol novolac or cresol novolak type epoxy resin.
Furthermore, among these epoxy resins, the chlorine ion content is 10 ppm or less, and the content of hydrolyzable chlorine is 0.1 ppm.
A material having a weight% (hereinafter abbreviated as “%”) or less is suitable.
上記エポキシ樹脂の硬化剤としては、ノボラツク型フ
エノール樹脂(フエノールノボラツク,クレゾールノボ
ラツク等)、酸無水物系硬化剤(テトラハイドロ無水フ
タル酸,無水トリメリツト酸,無水ベンゾフエノンテト
ラカルボン酸等)、アミン(ジアミノジフエニルメタ
ン,メタフエニレンジアミン,ジアミノジフエニルエー
テル等)等が用いられる。特に、フエノール樹脂であつ
てフエノール,クレゾール,キシレノール,レゾルシノ
ール,フエニルフエノール,ビスフエノールA等の1種
または2種以上と、ホルムアルデヒド,パラホルムアル
デヒド等とを酸触媒の存在下に反応させて得られるもの
が好適である。これらの硬化剤は、前記熱硬化性樹脂の
1当量に対して0.5〜1.0当量の範囲で配合することが好
ましい。Examples of the curing agent for the epoxy resin include novolak type phenol resin (phenol novolac, cresol novolac, etc.), acid anhydride type curing agent (tetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, etc.) , Amines (diaminodiphenylmethane, metaphenylenediamine, diaminodiphenyl ether, etc.) and the like are used. In particular, it is obtained by reacting a phenol resin, one or more of phenol, cresol, xylenol, resorcinol, phenylphenol, bisphenol A and the like with formaldehyde, paraformaldehyde and the like in the presence of an acid catalyst. Those are preferable. These curing agents are preferably blended in the range of 0.5 to 1.0 equivalent with respect to 1 equivalent of the thermosetting resin.
さらに、上記硬化剤とともに、2−エチル−4−メチ
ルイミダゾール,2−ヘプタデシルイミダゾール,2−メチ
ルイミダゾールのような異環型イミダゾール化合物や、
1,8−ジアザービシクロ(5,4,0)ウンデセン−7および
その塩、トリフエニルホスフインのような有機第三ホス
フイン化合物等の硬化促進剤を配合することもできる。Further, together with the above curing agent, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, and a heterocyclic imidazole compound such as 2-methylimidazole,
A curing accelerator such as 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 and a salt thereof, or an organic tertiary phosphine compound such as triphenylphosphine may be added.
なお、上記組成物には、必要に応じて従来から用いら
れる無機質充填剤,難燃剤,離型剤,顔料等を含有させ
てもよい。In addition, the above composition may contain conventionally used inorganic fillers, flame retardants, release agents, pigments and the like, if necessary.
この発明に用いる樹脂組成物は、上記のような原料を
用い、例えばつぎのようにして製造することができる。
すなわち、上記に例示した樹脂と硬化剤,顔料その他の
添加剤を適宜配合し、この配合物をミキシングロール機
等の混練機に掛けて加熱状態で混練して半硬化の樹脂組
成物とし、これを室温に冷却したのち、公知の手段によ
つて粉砕し、そのままもしくは必要に応じて打錠するこ
とにより製造される。The resin composition used in the present invention can be produced using the above-mentioned raw materials, for example, as follows.
That is, the above-exemplified resin and curing agent, pigments and other additives are appropriately blended, and the blended mixture is kneaded in a kneading machine such as a mixing roll machine in a heated state to give a semi-cured resin composition. Is cooled to room temperature, pulverized by a known means, and then tableted as it is or if necessary, to produce a tablet.
この発明の樹脂封止半導体装置は、上記のような樹脂
組成物と前記撥水性ワツクスとを用い、例えばつぎのよ
うにして製造することができる。すなわち、まず封止す
べき半導体素子に対して、前記撥水性ワツクスを吹付
け,噴霧,あるいは撥水性ワツクスに半導体素子および
リードフレームを浸漬して表面処理し、半導体素子およ
びリードフレームの表面に厚み数μmないし数十μm程
度のワツクス層を形成する。このワツクス層は半導体素
子およびリードフレームの全面に形成されていることが
好ましいが、これは必須ではない。部分的に形成されて
いてもよい。つぎに、このようにして表面処理された半
導体素子を、上記樹脂組成物によつて封止するというこ
とにより得ることができる。上記半導体素子の封止は特
に制限されるものではなく、通常の方法、例えばトラン
スフアー成形等の公知のモールド方法により行うことが
できる。The resin-encapsulated semiconductor device of the present invention can be manufactured, for example, as follows using the resin composition as described above and the water-repellent wax. That is, first, the semiconductor element to be sealed is sprayed with the water-repellent wax, sprayed, or the semiconductor element and the lead frame are immersed in the water-repellent wax for surface treatment, and the surface of the semiconductor element and the lead frame is thickened. A wax layer having a thickness of several μm to several tens μm is formed. This wax layer is preferably formed on the entire surfaces of the semiconductor element and the lead frame, but this is not essential. It may be partially formed. Next, the semiconductor element thus surface-treated can be obtained by sealing with the above resin composition. The sealing of the semiconductor element is not particularly limited, and can be performed by an ordinary method, for example, a known molding method such as transfer molding.
このようにして得られる樹脂封止半導体装置は、樹脂
封止前のワツクス表面処理によつて半導体素子およびリ
ードフレーム表面が撥水性に改質されているため、製造
中あるいは保管中に半導体素子およびリードフレームと
封止樹脂との界面に水分が浸入することがない。したが
つて、半導体装置の半田浸漬時に、半導体素子およびリ
ードフレームと封止樹脂の界面で高圧水蒸気が発生せ
ず、上記界面に隙間が生じることがない。The resin-encapsulated semiconductor device thus obtained has the semiconductor element and the lead frame surface modified to be water-repellent by the wax surface treatment before resin encapsulation. Water does not enter the interface between the lead frame and the sealing resin. Therefore, when the semiconductor device is dipped in solder, high-pressure steam is not generated at the interface between the semiconductor element and the lead frame and the sealing resin, and no gap is created at the interface.
以上のように、この発明の樹脂封止半導体装置は、そ
の表面が撥水性ワツクスで処理されて撥水性に改質され
ている特殊な半導体素子およびリードフレームを用いる
ため、半導体素子およびリードフレームと封止樹脂との
界面から水分が浸入することがない。したがつて、半田
浸漬後等においてもパツケージクラツクが起こらず耐湿
性の低下が起こらず極めて信頼性が高い。特に、このよ
うに半導体素子およびリードフレームの双方を撥水性ワ
ツクスで処理することにより、8ピンSOP(2方向フラ
ツトパツケージ)等の小さなパツケージのみならず、80
ピン9FP(4方向フラツトパツケージ)や68ピンPLCC
(プラスチツクリード付チツプキヤリア)のような大き
なパツケージについて、従来ダイボンドプレートの裏側
の封止樹脂の部分からパツケージクラツクが発生してい
たものを完全に防止しうるというような効果が得られる
ようになる。As described above, the resin-encapsulated semiconductor device of the present invention uses the special semiconductor element and the lead frame whose surface is treated with the water-repellent wax and modified to be water-repellent. Water does not enter from the interface with the sealing resin. Therefore, the package crack does not occur even after the solder dipping, and the moisture resistance does not decrease, so that the reliability is extremely high. In particular, by treating both the semiconductor element and the lead frame with a water-repellent wax in this way, not only a small package such as an 8-pin SOP (two-way flat package)
Pin 9FP (4-way flat package) or 68-pin PLCC
For a large package such as (chip carrier with plastic lead), it is possible to obtain the effect that it is possible to completely prevent the package crack from occurring in the sealing resin part on the back side of the die bond plate. .
なお、この発明によれば、半導体素子およびリードフ
レームと封止樹脂との界面に水分が浸入することがない
ため、いずれの種類の半導体装置に適用いても一定の耐
湿性向上の効果を奏することができるものであるが、特
に、表面実装型の半導体装置に適用することが、従来よ
り問題となつていた半田浸漬後のパツケージクラツク,
耐湿性低下を解消するため好適であるといえる。According to the present invention, moisture does not enter the interface between the semiconductor element and the lead frame and the encapsulating resin, so that even if applied to any type of semiconductor device, a certain effect of improving moisture resistance can be obtained. However, the package crack after solder immersion, which has been a problem in the past when applied to a surface mount type semiconductor device,
It can be said that it is suitable because it eliminates the decrease in moisture resistance.
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。 Next, examples will be described together with comparative examples.
〔実施例1〜4〕 半導体素子としてリニアICを用意し、これの半導体素
子およびリードフレーム表面を、それぞれ下記の第1表
に示す撥水性ワツクスで吹き付け処理し同表に示す厚み
のワツクス層を形成した。[Examples 1 to 4] A linear IC was prepared as a semiconductor element, and the surface of the semiconductor element and the lead frame were sprayed with a water-repellent wax shown in Table 1 below to form a wax layer having a thickness shown in the same table. Formed.
このようにして表面処理された半導体素子およびリー
ドフレームは、第1表に示すとおり、高温での半導体素
子およびリードフレームとの濡れ性がよく、また、常温
において撥水性を示している。As shown in Table 1, the surface-treated semiconductor element and the lead frame have good wettability with the semiconductor element and the lead frame at high temperature and exhibit water repellency at room temperature.
つぎに、上記撥水性ワツクスで表面処理された半導体
素子およびリードフレームを、下記の第2表に示す原料
を用い通常の方法で製造されたエポキシ樹脂組成物で樹
脂封止して、80ピンクワツドフラツト(80pinQFP)型の
樹脂封止半導体装置とした。 Next, the semiconductor element and the lead frame surface-treated with the water-repellent wax were resin-sealed with an epoxy resin composition produced by a usual method using the raw materials shown in Table 2 below, and then 80 pink wax It was a dflat (80-pin QFP) type resin-sealed semiconductor device.
〔比較例1,2〕 実施例と同様にして80pinQFP型の樹脂封止半導体装置
を得たが、比較例1は半導体素子およびリードフレーム
について、撥水性ワツクスによる表面処理を行わなかつ
た。また、比較例2は半導体素子のみワツクス処理を行
った。 [Comparative Examples 1 and 2] An 80-pin QFP type resin-sealed semiconductor device was obtained in the same manner as in the example, but in comparative example 1, the semiconductor element and the lead frame were not subjected to surface treatment with a water-repellent wax. In Comparative Example 2, only the semiconductor element was wax treated.
このようにして得られた実施例品と比較例品を、85
℃,85%RHの雰囲気中に72時間入れて吸湿させたのち、2
60℃の半田浴に10秒間浸漬した。そして、半田浸漬後の
クラツクの有無を調べるとともに、プレツシヤー釜によ
る信頼性テスト(121℃、100%RHでのPCTテスト)を行
つた。その結果は下記の第3表に示すとおりである。The example product and comparative example product thus obtained were
Put it in the atmosphere of ℃, 85% RH for 72 hours to absorb the moisture, then 2
It was immersed in a solder bath at 60 ° C for 10 seconds. Then, the presence or absence of cracks after solder immersion was checked, and a reliability test (PCT test at 121 ° C, 100% RH) was performed using a pressurizing pot. The results are shown in Table 3 below.
上記の結果から、実施例品は、半田浸漬後に全くクラ
ツクを生じず、PCTテストの成績が比較例品に比べて著
しく優れていることがわかる。 From the above results, it can be seen that the product of Example did not cause cracking at all after immersion in solder and the PCT test performance was significantly superior to that of the product of Comparative Example.
すなわち、実施例品は、比較例品とは異なり、撥水性
ワツクスにより表面処理がなされていることにより、半
田浸漬後も耐湿性が極めて優れていることがわかる。That is, it can be seen that, unlike the comparative example product, the example product is extremely excellent in moisture resistance even after the solder immersion, because the surface treatment is performed with the water-repellent wax.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 秀人 茨木市下穂積1丁目1番2号 日東電気 工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭56−27941(JP,A) 特開 昭59−107547(JP,A) 特開 昭59−219948(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hideto Suzuki 1-2 1-2 Shimohozumi, Ibaraki Nitto Electric Industry Co., Ltd. (56) Reference JP-A-56-27941 (JP, A) JP-A-SHO 59-107547 (JP, A) JP 59-219948 (JP, A)
Claims (3)
樹脂組成物によつて封止されている樹脂封止半導体装置
であつて、上記半導体素子およびリードフレームが撥水
性ワツクスによつて表面処理されていることを特徴とす
る樹脂封止半導体装置。1. A resin-sealed semiconductor device in which a semiconductor element is attached to a lead frame and sealed with a resin composition, wherein the semiconductor element and the lead frame are surface-treated with a water-repellent wax. A resin-encapsulated semiconductor device characterized in that
ドフレームに対する接触角が175℃程度の高温において5
0゜以下であつて、常温での水との接触角が90゜以上の
ものである特許請求の範囲第1項記載の樹脂封止半導体
装置。2. A water repellent wax at a high contact temperature of about 175 ° C. with respect to a semiconductor element and a lead frame.
The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1, wherein the contact angle with water at room temperature is 0 ° or less and 90 ° or more.
肪酸エステル系,高級脂肪酸金属塩系,炭化水素系およ
び酸アミド系からなる群から選択された少なくとも一つ
の撥水性ワツクスである特許請求の範囲第1項記載の樹
脂封止半導体装置。3. The water-repellent wax is at least one water-repellent wax selected from the group consisting of higher fatty acid type, higher fatty acid ester type, higher fatty acid metal salt type, hydrocarbon type and acid amide type. A resin-sealed semiconductor device according to claim 1.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5627941A (en) * | 1979-08-17 | 1981-03-18 | Hitachi Ltd | Manufacture of semiconductor device |
| JPS59107547A (en) * | 1982-12-13 | 1984-06-21 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
| JPS59219948A (en) * | 1983-05-30 | 1984-12-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Lead frame for plastic seal type semiconductor device |
-
1987
- 1987-05-20 JP JP62124696A patent/JP2537868B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63288052A (en) | 1988-11-25 |
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