JP2546129B2 - 半導体装置用リードフレームの製造方法 - Google Patents
半導体装置用リードフレームの製造方法Info
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Description
ームの製造方法に係わり、特に樹脂モールドされる半導
体装置用リードフレームの製造方法に関する。
ペレットを搭載した面(表面)と反対の面(裏面)を露
出させて樹脂モールドする半導体装置は、アイランド部
が放熱板としての機能を有するために、特に高出力の半
導体装置に用いられている。
には1μm以下の微小な凹凸があるために、図5に示す
ように、封入金型45を用いた樹脂封入工程で樹脂47
がアイランド部11の露出面13上に流れ込みこれが樹
脂バリ51となり、外装メッキ前処理工程の例えば、水
と研磨材による樹脂バリ工程でもその除去が困難である
という問題があった。
6に示すように、アイランド部11と樹脂47との境界
付近のアイランド部に境界に沿って突起(ダム)53を
形成する溝52を設け、この突起53が封入金型と密着
して樹脂の流入をなくし樹脂バリの形成を防止する技術
が開示されている。
図7に示すように、アイランド部54を変形させて形成
した突起(ダム)55により樹脂の流入による樹脂バリ
の形成を防止する技術が開示されている。
す方法は、アイランド部11の側壁14から0.1〜
0.5mm内部に離間した位置に溝52を形成しそれに
よる突起53を形成するものである。このように側壁か
らある一定の間隔をとって突起を形成するから、特にア
イランド部の面積が小さい半導体装置への適用が困難と
なる。
54の周辺を曲げ加工して突起55を形成しているか
ら、アイランド部54の中央が大きく浮いた状態とな
る。したがって外部の放熱器もしくは基板に実装した場
合に放熱性が悪くなる。さらにアイランド部に搭載でき
る半導体ペレットのサイズが小さくなるという問題を生
じる。
ードフレームのプレス加工工程が複雑となり、かつ所望
の幅の突起を容易に形成することが困難となる。
となりかつその一主面(表面)上に半導体ペレツトを搭
載するアイランド部と、前記アイランド部の側壁に対向
して位置する電極リ−ドと、前記アイランド部の前記側
壁から前記アイランド部より薄い厚さとなって前記電極
リ−ドの方向に突出するエラ部とを有し、前記エラ部を
プレス加工により形状形成する際に同時に、前記アイラ
ンド部の他主面(裏面)より前記アイランド部の前記側
壁と連続せる外辺を有して垂直に突出する微小な突起を
形成する半導体装置用リ−ドフレ−ムの製造方法におい
て、前記プレス加工において、上型プレス金型と、下型
プレス金型および該下型プレス金型から所定の間隙を有
するノツクアウト金型との間にリ−ドフレ−ムを載置
し、前記上型プレス金型に対して前記下型プレス金型お
よび前記ノツクアウト金型を同時に圧縮し、これにより
前記薄い厚さのエラ部および前記アイランド部の側壁の
形状形成を前記上型プレス金型と前記下型プレス金型と
の間で行ない、前記アイランド部の平坦化を前記上型プ
レス金型と前記ノツクアウト金型との間で行ない、同時
に、前記下型プレス金型と前記ノツクアウト金型との間
の前記間隙に前記微小な突起を形成する半導体装置用リ
−ドフレ−ムの製造方法にある。
より前記微小な突起の幅を1〜3μmにすることができ
る。
図面であり、(A)は底面図、(B)は(A)のB−B
部の断面図、(C)は(B)の丸100で示した部分の
拡大図である。
の側壁14から所定の間隔を維持してそれぞれ電極リー
ド15が設けられ、アイランド部11の一主面(表面)
12上に搭載された半導体ペレット21の電極パッドと
電極リード15をボンディングワイヤー16で接続して
いる。また、アイランド部11の側壁14からアイラン
ド部11の厚さより薄い厚さとなって電極リード15の
方向にそれぞれエラ部20が突出している。そしてエラ
部20の上面20’はアイランド部11の表面12と連
続的に形成され両者は同一の高さレベルとなっており、
一方、エラ部20の下面はアイランド部11の他主面
(裏面)13と両者の厚さの違いだけ階段状になってい
る。このエラ部20は樹脂封止後に樹脂とアイランド部
との剥れを防止するためのものである。また、外部の放
熱器もしくは基板と熱抵抗を小にして実装できるように
アイランド部の裏面13を露出させ、この裏面13と略
同一の面19を有するモールド樹脂18により全体的に
封止されている。そして露出した裏面13の端辺部か
ら、モールド樹脂18との境界に幅wが1〜3μmの微
小な突起(ダム)17が裏面13より垂直に突出しアイ
ランド部11の露出する裏面13を包囲して形成されて
いる。すなわちこの突起17は、図1(C)に示すよう
に、アイランド部11の側壁14から下方向に連続して
形成された外辺17’を有している。
プレス加工の方法を示す。尚、同図において、(A)は
リードフレームから下型プレス金型方向を視た平面図、
(B)は(A)のB−B部の断面図、(C)は(B)の
微小突起の近傍を拡大して示した断面図である。
ペレットを搭載するアイランド部11がその電極リード
11’となる部分により支持部23に接続され、またア
イランド部の両側にそれぞれ位置する電極リード15も
支持部23に接続されてCu−Ni合金の半導体装置用
リードフレーム30を構成している。
ス金型41と、下型プレス金型42およびノックアウト
金型43との間に載置し、上型プレス金型に対して下型
プレス金型およびノックアウト金型を同時に圧縮して、
アイランド部11の表面12からアイランド部より薄い
厚さとなり、かつアイランド部11の表面12と連続し
た上面を上型プレス金型41の平坦面により維持して電
極リード15の方向にそれぞれ突出するエラ部20を形
状形成し、電極リード15の曲げ加工を行ない、アイラ
ンド部11の平坦化を行ない、アイランド部11の端辺
部の側壁14の形状形成を行なうと同時に、アイランド
部11の裏面13の端辺部より裏面13に対して垂直に
突出する本発明の微小な突起(ダム)17を形成する。
ード15の曲げ加工は上型プレス金型41と下型プレス
金型42との間で行ない、アイランド部11の側壁14
の形状形成は下型プレス金型42の垂直な側壁42’に
より行ない、アイランド部11の平坦化は上型プレス金
型41とノックアウト金型43との間で行ない、同時に
微小な突起17の形成を下型プレス金型42の垂直な側
壁42’とノックアウト金型43の垂直な側壁43’と
の間の間隙wにより行なう。ここで下型プレス金型42
の連続的に垂直な側壁42’により、突起17はアイラ
ンド部11の側壁14から下方向に連続して形成され
た、樹脂18と当接する、外辺17’を有することにな
る。そして、この間隙wを1〜3μmとすることによ
り、幅が1〜3μmで高さ(アイランド部11の裏面1
3からの高さ)が3〜5μmの樹脂流れ防止用の突起1
7が形成される。
イランド部11の表面12上に半導体ペレットを搭載し
その電極パッドと電極リード15をボンディングワイヤ
ーで接続し、アイランド部11の裏面13が露出するよ
うに樹脂封止される。
の裏面13側から視た平面図である。封止金型45の流
入口46から樹脂18が流入して樹脂モ−ルドされる
が、突起17の存在により樹脂の露出裏面13への侵入
による樹脂バリの問題は発生しない。
部分にわたって突起17が形成された場合を例示したの
に対して、図2および図3ではアイランド部11の放熱
板としての幅広の本体と樹脂18との境界に突起17を
形成し幅広の本体から幅狭のリード部11’にいたる部
分には突起17が形成していない場合を例示した。しか
しながら図2および図3において周囲に突起17が形成
されていない部分はアイランド部全体からみて小面積の
部分であるから、たとえわずかな樹脂の侵入がこの小面
積の部分にあってもそれによるわずかな樹脂バリは外装
メッキ前処理で簡単に除去できるから問題は生じない。
また、樹脂モールド工程後の外装メッキにより突起17
間のアイランド部11の裏面13上にメッキ膜が形成さ
れるから、リードフレーム30の電極リード15、1
1’をその支持部23から切り離して得られた最終的な
製品として突起17が存在していても半導体装置から実
装基板への熱伝導に支障を生じない。
た半導体装置として、多ピン小信号半導体装置に本発明
を適用した樹脂モールドの状態を示す平面図である。同
図において、図1および図2と同一もしくは類似の機能
の箇所は同じ符号で示してあるから重複する説明は省略
する。この半導体装置ではリードフレームのアイランド
部の裏面の露出部が2箇所存在する。この場合も図1、
図2に示した効果と同様の効果を有する。
レームのエラ部の形状形成と樹脂流れ防止用の突起の形
成とを同一のプレス工程で行なうから工程が簡素化され
た能率的な半導体装置用リードフレームの製造方法とな
る。
面からアイランド部の側壁と連続せる外辺を有して垂直
に突出する微小な突起が形成されているから、アイラン
ド部の面積が小さい場合でも突起の形成が可能となり、
かつ良好な放熱性を維持したアイランド部となる。
り、(A)は底面図、(B)は(A)のB−B部の断面
図、(C)は(B)の丸100で示した部分を拡大して
示した断面図である。
の製造方法を示す図面であり、(A)はリードフレーム
から下型プレス金型方向を視た平面図、(B)は(A)
のB−B部の断面図、(C)は(B)の微小突起の近傍
を拡大して示した断面図である。
する状態をアイランド部の露出する裏面側から視た平面
図である。
更した半導体装置の樹脂モールドの状態を示す平面図で
ある。
図である。
示す断面図である。
術を示す断面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 放熱板となりかつその一主面上に半導体
ペレツトを搭載するアイランド部と、前記アイランド部
の側壁に対向して位置する電極リ−ドと、前記アイラン
ド部の前記側壁から前記アイランド部より薄い厚さとな
って前記電極リ−ドの方向に突出するエラ部とを有し、
前記エラ部をプレス加工により形状形成する際に同時
に、前記アイランド部の他主面より前記アイランド部の
前記側壁と連続せる外辺を有して垂直に突出する微小な
突起を形成する半導体装置用リ−ドフレ−ムの製造方法
において、前記プレス加工において、上型プレス金型
と、下型プレス金型および該下型プレス金型から所定の
間隙を有するノツクアウト金型との間にリ−ドフレ−ム
を載置し、前記上型プレス金型に対して前記下型プレス
金型および前記ノツクアウト金型を同時に圧縮し、これ
により前記薄い厚さのエラ部および前記アイランド部の
側壁の形状形成を前記上型プレス金型と前記下型プレス
金型との間で行ない、前記アイランド部の平坦化を前記
上型プレス金型と前記ノツクアウト金型との間で行な
い、同時に、前記下型プレス金型と前記ノツクアウト金
型との間の前記間隙に前記微小な突起を形成することを
特徴とする半導体装置用リ−ドフレ−ムの製造方法。 - 【請求項2】 前記間隙を1〜3μmとすることにより
前記微小な突起の幅を1〜3μmにしたことを特徴とす
る請求項1に記載の半導体装置用リ−ドフレ−ムの製造
方法。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP5086611A JP2546129B2 (ja) | 1993-04-14 | 1993-04-14 | 半導体装置用リードフレームの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5086611A JP2546129B2 (ja) | 1993-04-14 | 1993-04-14 | 半導体装置用リードフレームの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06302736A JPH06302736A (ja) | 1994-10-28 |
| JP2546129B2 true JP2546129B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=13891819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5086611A Expired - Fee Related JP2546129B2 (ja) | 1993-04-14 | 1993-04-14 | 半導体装置用リードフレームの製造方法 |
Country Status (1)
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| JP2995119B2 (ja) * | 1992-02-17 | 1999-12-27 | アピックヤマダ株式会社 | パワートランジスタ用リードフレームの製造方法 |
-
1993
- 1993-04-14 JP JP5086611A patent/JP2546129B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH06302736A (ja) | 1994-10-28 |
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