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JP2551116B2 - Method for producing fluorine-containing copolymer - Google Patents
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JP2551116B2 - Method for producing fluorine-containing copolymer - Google Patents

Method for producing fluorine-containing copolymer

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JP2551116B2
JP2551116B2 JP63211119A JP21111988A JP2551116B2 JP 2551116 B2 JP2551116 B2 JP 2551116B2 JP 63211119 A JP63211119 A JP 63211119A JP 21111988 A JP21111988 A JP 21111988A JP 2551116 B2 JP2551116 B2 JP 2551116B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フッ素樹脂塗料の原料などとして有用なカ
ルボキシル基を含有する含フッ素共重合体の製造法に関
する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a fluorinated copolymer containing a carboxyl group, which is useful as a raw material for a fluororesin coating material.

〔従来の技術およびその課題〕[Conventional technology and its problems]

カルボキシル基を有するビニルエーテルとフルオロオ
レフィンを共重合させると、カルボキシル基を有するフ
ッ素樹脂を製造することができるが、カルボキシル基を
有するビニルエーテルは合成が困難である。たとえば、
ヒドロキシアルキルビニルエーテルと二塩基性酸無水物
を反応させて(ハーフエステル化)カルボキシル基を有
するビニルエーテルを合成しようとしても、カルボキシ
ル基とビニル基が反応して分子内で環化してしまい、目
的物をうることができない。
When a vinyl ether having a carboxyl group and a fluoroolefin are copolymerized, a fluororesin having a carboxyl group can be produced, but it is difficult to synthesize a vinyl ether having a carboxyl group. For example,
When trying to synthesize a vinyl ether having a carboxyl group by reacting a hydroxyalkyl vinyl ether with a dibasic acid anhydride (half-esterification), the carboxyl group and the vinyl group react and are cyclized in the molecule. I can't get it.

したがって、カルボキシル基を含有する含フッ素共重
合体は、たとえばヒドロキシル基を含有するビニルエー
テルとフルオロオレフィンとの共重合体を製造し、つい
で共重合体に含有されるヒドロキシル基と二塩基性酸無
水物を反応(ハーフエステル化)させる方法(特公昭61
-49323号公報参照)によってえている。しかし、この方
法では共重合ののちハーフエステル化を行なうので、共
重合の溶媒として二塩基性酸無水物と反応する安価なア
ルコール類などを使用し難いという問題がある。
Accordingly, a fluorinated copolymer containing a carboxyl group can be produced, for example, by producing a copolymer of vinyl ether containing a hydroxyl group and a fluoroolefin, and then producing a copolymer of the hydroxyl group contained in the copolymer and a dibasic acid anhydride. Reaction (half esterification) (Japanese Patent Publication Sho 61)
-49323 gazette). However, in this method, since half-esterification is carried out after the copolymerization, there is a problem that it is difficult to use an inexpensive alcohol or the like which reacts with a dibasic acid anhydride as a solvent for the copolymerization.

本発明者らは、カルボキシル基を含有するビニルエー
テルの製法について鋭意検討した結果、ヒドロキシアル
キルビニルエーテルと二塩基性酸無水物を反応させる
際、塩基性化合物を系内に存在させておくと分子内環化
反応が生じず、えられたビニルエーテルのカルボキシル
基が塩基性化合物の塩の形をとることにより安定性が向
上し、しかもフルオロオレフィンと共重合させるばあい
に収率が格段に向上することを見出した。また、カルボ
キシル基含有ビニル単量体としてアリルアルコールと二
塩基性酸無水物とのハーフエステル化物や二塩基性酸無
水物のモノビニルエステルも用いることができる。
The present inventors have made extensive studies on a method for producing a vinyl ether containing a carboxyl group, and as a result, when a hydroxyalkyl vinyl ether and a dibasic acid anhydride are reacted with each other, if a basic compound is allowed to exist in the system, an intramolecular ring That the carboxyl group of the obtained vinyl ether takes the form of the salt of the basic compound, the stability is improved, and the yield is significantly improved when it is copolymerized with the fluoroolefin. I found it. As the carboxyl group-containing vinyl monomer, a half-esterified product of allyl alcohol and a dibasic acid anhydride or a monovinyl ester of a dibasic acid anhydride can also be used.

ところで、こうした一般水性塗料や電着塗料として有
用なカルボキシル基含有含フッ素共重合体を重合してう
るばあい、重合溶媒として水に溶解性であるか分散性に
すぐれたものを用いる必要がある。
By the way, when polymerizing a carboxyl group-containing fluorine-containing copolymer useful as such a general aqueous paint or electrodeposition paint, it is necessary to use a solvent which is soluble in water or has excellent dispersibility as a polymerization solvent. .

そうした溶媒のうち、ジメチルホルムアミドやジメチ
ルアセトアミドなどのアミド系溶媒および酢酸メチルセ
ロソルブなどのエステル系溶媒は水溶液中で雑イオンを
生じ、共重合体の水溶化の際の安定化を損ねたり、生成
する塗膜の外観にワキやハジキを生ぜしめたりする。ま
た、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどの
アルコール系溶媒はそれがもつ水酸基の作用によりビニ
ルエーテル系モノマーの安定性をわるくするほか、重合
率の低下をまねき、その結果、アミド系やエステル系と
同様の塗膜欠陥を生ずる。さらにまた、アセトンやメチ
ルエチレンケトンなどのケトン系溶媒を単独で使用する
ばあいにはゲル化が生じてしまう。こうした塗膜性能の
低下は、含フッ素重合体を電着塗料として用いるばあい
に、より顕著となる。
Among such solvents, amide-based solvents such as dimethylformamide and dimethylacetamide and ester-based solvents such as methyl cellosolve acetate generate miscellaneous ions in aqueous solution, impairing the stability of the copolymer when it is solubilized, or forming it. The appearance of the coating film may cause fire and cissing. In addition, alcohol solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol weaken the stability of vinyl ether monomers by the action of their hydroxyl groups, and also lead to a decrease in the polymerization rate, resulting in the same coating as amide and ester solvents. A film defect occurs. Furthermore, gelation occurs when a ketone solvent such as acetone or methyl ethylene ketone is used alone. Such a decrease in coating film performance becomes more remarkable when the fluoropolymer is used as an electrodeposition coating material.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明は、かかる課題を解決するためになされたもの
であり、 (A)ヒドロキシ基含有ビニル単量体と、 (B)式(Ia): CH2=CHOR1OC(=O)R2C(=O)O (Ia) (式中、R1は炭素原子数2〜10の2価の脂肪族基、R2
式(i): CHX1 CX2 2 (i) 〔式中、X1は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキ
ル基、X2は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル
基、pおよびqは0または1〜11の整数(ただし、同時
に0であることはない)を示す〕で表わされる基、式
(ii): CH2 CX3=CH (ii) 〔式中、rは0または1〜3の整数、sは1〜3の整
数、X3は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基
を示す〕で表わされる基、式(iii): 〔式中、R7は−(CHX4 基(ただし、X4は水素原子ま
たは炭素原子数1〜3のアルキル基、tは1〜4の整数
である)、 -CH2CH=CHCH2-基、 または を示す〕で表わされる基、式(iv): 〔式中、R8はCHX5 基(ただし、Xは水素原子また
は炭素原子数1〜3のアルキル基、uは3〜4の整数で
ある)または CX6=CX7 基(ただし、X6およびX7は同一または異
なり水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基、v
は2〜3の整数である)を示す〕で表わされる基、式
(v): -C(=CH2)-CH2- (v) で表わされる基または式(vi): で表わされる基、 M はアルカリ金属のイオンである)または式(Ib): CH2=CHOR1OC(=O)R2C(=O)O ・HY (Ib) (式中、R1およびR2は前記と同じ、Y はチッ素原子ま
たはリン原子を含有する化合物であってそのpKaが6〜1
2である1官能性の塩基性化合物の1価のイオンを示
す) で表わされるカルボキシル基が塩の形のビニルエーテル
(以下、ビニルエーテル(Ia)または(Ib)という) と式(II): CH2=CHOR1OC(=O)R2C(=O)OH (II) (式中、R1およびR2は前記と同じ)で表わされる遊離の
カルボキシル基を有するビニルエーテル(以下、ビニル
エーテル(II)という)とからなり、ビニルエーテル
(Ia)または(Ib)がビニルエーテル(II)の1モル%
以上含有されてなるビニルエーテルモノマー組成物、ま
たは式(III): (式中、Y1、Y2およびY3は同じかまたは異なり、ハロゲ
ン原子または炭素数1〜6のアルキル基、aは0または
1〜6の整数、R2は前記と同じ)で表わされるモノマー
と、 (C)フルオロオレフィン とを共重合させる際に、炭素数3〜20のケトン系溶媒と
式(IV): (式中、Y4は炭素原子数1〜8のアルキル基、Y5は水素
原子またはメチル基、lは0または1〜20の整数であ
る)で表わされるアルコール系溶媒を混合したアルコー
ル系溶媒/ヒドロキシ基含有ビニル単量体のモル比が1/
10〜10/1である溶媒を重合溶媒として用いることを特徴
とする含フッ素共重合体の製造法に関するものである。
 The present invention has been made to solve such problems.
And (A) a hydroxy group-containing vinyl monomer, and (B) formula (Ia): CH2= CHOR1OC (= O) R2C (= O) O M  (Ia) (In the formula, R1Is a divalent aliphatic group having 2 to 10 carbon atoms, R2Is
Formula (i): CHX1 pCX2 2 q (I) [wherein X1Is a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 3 carbon atoms.
Lu group, X2Is a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 3 carbon atoms
Group, p and q are 0 or an integer of 1 to 11
A group represented by
(Ii): CH2 rCX3= CHs (Ii) [In the formula, r is 0 or an integer of 1 to 3, and s is an integer of 1 to 3.
Number, X3Is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms
A group represented by the formula (iii):(Where R7Is- (CHXFour tGroup (however, XFourIs a hydrogen atom
Or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, t is an integer of 1 to 4
, -CH2CH = CHCH2-Group,OrA group represented by the formula (iv):(Where R8Is CHXFive uGroup (where X is a hydrogen atom or
Is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, u is an integer of 3 to 4
Yes) or CX6= CX7 vGroup (however, X6And X7Are the same or different
A hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, v
Represents an integer of 2 to 3], a group represented by the formula:
(V): -C (= CH2) -CH2A group represented by-(v) or a formula (vi):A group represented by M Is an alkali metal ion) or formula (Ib): CH2= CHOR1OC (= O) R2C (= O) O ・ HY  (Ib) (In the formula, R1And R2Is the same as above, Y Is a nitrogen atom
Or a compound containing a phosphorus atom and having a pKa of 6 to 1
2 represents the monovalent ion of a monofunctional basic compound that is 2.
Vinyl ether in which the carboxyl group represented by
(Hereinafter referred to as vinyl ether (Ia) or (Ib)) and formula (II): CH2= CHOR1OC (= O) R2C (= O) OH (II) (In the formula, R1And R2Is the same as above)
Vinyl ether having a carboxyl group (hereinafter referred to as vinyl
Ether (II)), vinyl ether
(Ia) or (Ib) is 1 mol% of vinyl ether (II)
A vinyl ether monomer composition containing the above, or
Or formula (III):(Where Y1, Y2And Y3The same or different
Hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a is 0 or
An integer from 1 to 6, R2Is the same as above)
And (C) a fluoroolefin are copolymerized with a ketone solvent having 3 to 20 carbon atoms.
Formula (IV):(Where YFourIs an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, YFiveIs hydrogen
Atom or methyl group, l is 0 or an integer of 1 to 20
Alcohol mixed with alcohol solvent
The molar ratio of solvent / hydroxy group-containing vinyl monomer is 1 /
Characterized by using a solvent of 10 to 10/1 as a polymerization solvent
And a method for producing a fluorine-containing copolymer.

[好ましい実施態様] 本発明で用いるヒドロキシ基含有ビニル単量体(A)
としては、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−
ヒドロキシエチルビニルエーテル、3−ヒドロキシ−n
−プロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシ−iso−プ
ロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシ−2−メチルエ
チルビニルエーテル、2−ヒドロキシ−1,1ジメチルビ
ニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエ
ーテル、3−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテ
ル、2−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、4
−ヒドロキシベンゾオキシビニル、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルα−クロロ
アクリレート、アリルアルコールなどがあげられる。
[Preferred Embodiment] Hydroxy group-containing vinyl monomer (A) used in the present invention
As, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 2-
Hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxy-n
-Propyl vinyl ether, 2-hydroxy-iso-propyl vinyl ether, 2-hydroxy-2-methylethyl vinyl ether, 2-hydroxy-1,1 dimethyl vinyl ether, 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 3-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 2-hydroxycyclohexyl vinyl ether Four
-Hydroxybenzooxy vinyl, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl α-chloroacrylate, allyl alcohol and the like can be mentioned.

本発明で用いる(B)成分のうちビニルエーテルモノ
マー組成物は、前記のごとく、ビニルエーテル(II)単
独使用のばあいに比して各段に保存安定性が向上してい
る。その理由は、安定なビニルエーテル(Ia)または
(Ib)を(II)の1モル%以上共存させることにより、
ビニルエーテル(II)の環化を促進するH の系内濃度
が低下するためであると推定される。
 Among the components (B) used in the present invention, vinyl ether mono
As described above, the mer composition is a vinyl ether (II) unit.
The storage stability is improved at each stage compared to when it is used alone.
You. The reason is stable vinyl ether (Ia) or
By making (Ib) coexist with 1 mol% or more of (II),
H that promotes the cyclization of vinyl ether (II) Concentration in the system
It is estimated that this is because the

ビニルエーテルモノマー組成物のうち、ビニルエーテ
ル(Ia)または(Ib)は、 式: CH2=CHOR1OH (式中、R1は前記と同じ)で表わされるヒドロキシアル
キルビニルエーテル、 式: (式中、R2は前記と同じ)で表わされる二塩基性酸無水
物、 および アルカリ金属化合物またはチッ素原子もしくはリン原
子を含有する化合物であってそのpKa(水中25℃におけ
る酸解離指数)が6〜12の1官能性の塩基性化合物(以
下、両者を区別しないときは単に塩基という)を反応
させることによりえられる。
In the vinyl ether monomer composition, the vinyl ether (Ia) or (Ib) is a hydroxyalkyl vinyl ether represented by the formula: CH 2 = CHOR 1 OH (wherein R 1 is the same as above), the formula: Wherein R 2 is the same as described above, and an alkali metal compound or a compound containing a nitrogen atom or a phosphorus atom and having a pKa (acid dissociation index at 25 ° C. in water) By reacting 6 to 12 monofunctional basic compounds (hereinafter simply referred to as bases when the two are not distinguished).

この製法の原料であるヒドロキシアルキルビニルエー
テルの具体例としては、4−ヒドロキシブチルビニルエ
ーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、3−ヒ
ドロキシ−n−プロピルビニルエーテル、2−ヒドロキ
シ−iso−プロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシ−
2−メチルエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシ−1,
1−ジメチルエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシシ
クロヘキシルビニルエーテル、3−ヒドロキシシクロヘ
キシルビニルエーテル、2−ヒドロキシシクロヘキシル
ビニルエーテル、4−ヒドロキシベンゾオキシビニルな
どをあげることができる。
Specific examples of the hydroxyalkyl vinyl ether which is a raw material of this production method include 4-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxy-n-propyl vinyl ether, 2-hydroxy-iso-propyl vinyl ether, and 2-hydroxy-vinyl vinyl ether.
2-methylethyl vinyl ether, 2-hydroxy-1,
Examples thereof include 1-dimethylethyl vinyl ether, 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 3-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 2-hydroxycyclohexyl vinyl ether, and 4-hydroxybenzooxyvinyl.

二塩基性酸無水物およびビニルエーテル(Ia)もしく
は(Ib)または(II)に含有されるR2としては、式
(i): CHX1 CX2 2 (i) 〔式中、X1は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキ
ル基、X2は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル
基、pおよびqは0または1〜11の整数(ただし、同時
に0であることはない)を示す〕で表わされる基、式
(ii): CH2 CX3=CH (ii) 〔式中、rは0または1〜3の整数、sは1〜3の整
数、X3は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基
を示す〕で表わされる基、式(iii): 〔式中、R7は−(CHX4 基(ただし、X4は水素原子ま
たは炭素原子数1〜3のアルキル基、tは1〜4の整数
である)、 -CH2CH=CHCH2-基、 または を示す〕で表わされる基、 式(iv): 〔式中、R8はCHX5 基(ただし、Xは水素原子また
は炭素原子数1〜3のアルキル基、uは3〜4の整数で
ある)または CX6=CX7 基(ただし、X6およびX7は同一または異
なり水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基、v
は2〜3の整数である)を示す〕で表わされる基、式
(v): -C(=CH2)-CH2- (v) で表わされる基または式(vi): で表わされる基などをあげることができる。
R 2 contained in the dibasic acid anhydride and the vinyl ether (Ia) or (Ib) or (II) is represented by the formula (i): CHX 1 p CX 2 2 q (i) [wherein, X 1 is A hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, X 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, p and q are 0 or an integer of 1 to 11 (however, they cannot be 0 at the same time) A group represented by the formula], CH 2 r CX 3 = CH s (ii) [wherein r is 0 or an integer of 1 to 3, s is an integer of 1 to 3 and X 3 is A group represented by a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms], formula (iii): [In the formula, R 7 is-(CHX 4 t group (however, X 4 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, t is an integer of 1 to 4), -CH 2 CH = CHCH 2 -Group, Or A group represented by the formula (iv): [In the formula, R 8 is a CHX 5 u group (provided that X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and u is an integer of 3 to 4) or a CX 6 = CX 7 v group (provided that X 6 and X 7 are the same or different and each is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, v
Represents an integer of 2 to 3]], a group represented by the formula (v): -C (= CH 2 ) -CH 2- (v) or a formula (vi): And the like.

二塩基性酸無水物の具体例としては、無水マレイン
酸、無水コハク酸、無水メチルコハク酸、無水フタル
酸、無水アジピン酸、無水グルタル酸、無水グルタコン
酸、無水イタコン酸、無水1,8−ナフタル酸、無水シト
ラコン酸、無水1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、無
水4−メチル−1,2−ヘキサンジカルボン酸、無水cis−
4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、無水1−シ
クロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、シクロペンタジエ
ンと無水マレイン酸のディールスーアルダー反応による
付加物などをあげることができる。
Specific examples of dibasic acid anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, methylsuccinic anhydride, phthalic anhydride, adipic anhydride, glutaric anhydride, glutaconic anhydride, itaconic anhydride, 1,8-naphthalic anhydride Acid, citraconic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 4-methyl-1,2-hexanedicarboxylic anhydride, cis-
Examples thereof include 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, 1-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, and an adduct of cyclopentadiene and maleic anhydride by a Diels-Alder reaction.

一般に、ヒドロキシル化合物と二塩基性酸無水物との
反応は塩基性触媒の存在下に、次式に従って進行する。
Generally, the reaction of a hydroxyl compound with a dibasic acid anhydride proceeds according to the following formula in the presence of a basic catalyst.

このばあい、90%以上の収率で目的物をうるには高々
0.5モル%(二塩基性酸無水物基準)の塩基を使用すれ
ば充分である。しかしながら、本発明者らの研究によれ
ばヒドロキシル化合物としてカチオン反応性に富むヒド
ロキシビニルエーテルを使用するばあい、反応は後述す
るごとく、塩基が存在しなければ目的物がえられず、ま
た0.5モル%程度では目的物の収率は低く、しかも安定
性がわるいため重合用モノマーとして適さない。
In this case, it is at most necessary to obtain the target product with a yield of 90% or more.
It is sufficient to use 0.5 mol% (based on dibasic acid anhydride) of the base. However, according to the study of the present inventors, when hydroxyvinyl ether having high cation reactivity is used as the hydroxyl compound, the reaction cannot be carried out as described below unless the base is present, and the desired product cannot be obtained. If the degree is too low, the yield of the target product is low and the stability is poor, so that it is not suitable as a monomer for polymerization.

しかし、前記の塩基を1モル%以上存在させること
により収率は90%を超え、しかもえられる生成物も安定
となり、収率の低下は防ぐことができる。その理由は、
塩基がカルボキシル基とビニル基の反応を防ぎ、かつ
前記したごとく生成したビニルエーテル(II)の環化を
防いでいるものと考えられる。なお、塩基はカルボキ
シル基と化学量論的に反応するが、前記のごとく反応系
内に酸無水物に対して1モル%以上存在すればよく、
そのばあいビニルエーテル(Ia)または(Ib)と(II)
の混合物がえられる。
However, the presence of the above-mentioned base in an amount of 1 mol% or more results in a yield of more than 90%, and furthermore, the obtained product becomes stable, and a decrease in the yield can be prevented. The reason is,
It is considered that the base prevents the reaction between the carboxyl group and the vinyl group and prevents the cyclization of the vinyl ether (II) produced as described above. The base reacts stoichiometrically with the carboxyl group, but may be present in the reaction system in an amount of 1 mol% or more based on the acid anhydride as described above.
In that case vinyl ether (Ia) or (Ib) and (II)
A mixture of

また、モノマー組成物はビニルエーテル(Ia)または
(Ib)と(II)との混合物に塩基を加え、ビニルエー
テル(II)と反応させることによってもえられる。後添
加する塩基は反応の際に存在させた塩基と同一でも異
なっていてもよい。このばあいもビニルエーテル(II)
のカルボキシル基と塩基とは化学量論的に反応する。
The monomer composition can also be obtained by adding a base to a mixture of vinyl ether (Ia) or (Ib) and (II) and reacting with vinyl ether (II). The base to be added later may be the same as or different from the base present during the reaction. In this case, vinyl ether (II)
The carboxyl group and the base react with each other stoichiometrically.

塩基としては前記のごとくアルカリ金属化合物と特
定の1官能性の塩基性化合物が用いられる。
As the base, an alkali metal compound and a specific monofunctional basic compound are used as described above.

アルカリ金属化合物としては、Li,KまたはNaの化合物
が好ましく、たとえば水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチ
ラート、カリウムメチラートなどがあげられる。
As the alkali metal compound, a compound of Li, K or Na is preferable, for example, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate,
Examples include potassium carbonate, sodium methylate, sodium methylate, potassium methylate and the like.

特定の1官能性の塩基性化合物は、前記のごとくチッ
素原子またはリン原子を含有する化合物であって、その
pKaが6〜12、好ましくは8〜11の塩基性化合物であ
る。pKaがこの範囲にあるものは塩形成能が高く、ビニ
ルエーテル(II)の安定化作用が大きい。すなわち、二
塩基性酸無水物のカルボン酸よりも高いpKaを有する
ものが高い塩形成能を有し、特に対応するカルボン酸よ
りも3〜8高いpKaを有するものが好ましい。好適な1
官能性の塩基性化合物としてはアンモニア、アミン類、
フォスフィン類などがあげられる。アミン類の具体例と
しては、たとえばメチルアミン、エチルアミン、n−プ
ロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、イソブチルアミン、sec−ブチルアミン、1,2−ジメ
チルプロピルアミン、2−エチルヘキシルアミン、トリ
デシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−
n−プロピルアミン、ジ−イソプロピルアミン、ジブチ
ルアミン、ジ−イソブチルアミン、ジ−sec−ブチルア
ミン、ジ−2−エチルヘキシルアミン、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、ト
リ−n−ブチルアミン、N−メチルブチルアミン、N−
エチルブチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N
−ジメチルイソプロピルアミン、N,N−ジメチルテトラ
デシルアミン、N,N−ジメチルオクタデシルアミン、2
−メトキシエチルアミン、3−エトシキエチルアミン、
シクロヘキシルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシル
アミン、ジシクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、N,
N−ジメチルベンジルアミン、4−メトキシフェニルエ
チルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、
トリエタノールアミン、イソプロパノールアミン、ジメ
チルエタノールアミン、ピロリジン、ピペリジン、1−
メチルピペリジン、4−メチルピペリジン、モルホリン
などがあげられる。
The specific monofunctional basic compound is a compound containing a nitrogen atom or a phosphorus atom as described above,
It is a basic compound having a pKa of 6 to 12, preferably 8 to 11. Those having a pKa in this range have a high salt-forming ability and a large stabilizing effect on vinyl ether (II). That is, a dibasic acid anhydride having a pKa higher than that of the carboxylic acid has a high salt-forming ability, and particularly preferably a dibasic acid anhydride having a pKa of 3 to 8 higher than that of the corresponding carboxylic acid. Suitable one
As the functional basic compound, ammonia, amines,
Examples include phosphines. Specific examples of amines include, for example, methylamine, ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, sec-butylamine, 1,2-dimethylpropylamine, 2-ethylhexylamine, tridecylamine, Dimethylamine, diethylamine, di-
n-propylamine, di-isopropylamine, dibutylamine, di-isobutylamine, di-sec-butylamine, di-2-ethylhexylamine, trimethylamine, triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, N- Methylbutylamine, N-
Ethylbutylamine, N, N-Dimethylethylamine, N, N
-Dimethylisopropylamine, N, N-dimethyltetradecylamine, N, N-dimethyloctadecylamine, 2
-Methoxyethylamine, 3-ethoxyethylamine,
Cyclohexylamine, N, N-dimethylcyclohexylamine, dicyclohexylamine, benzylamine, N,
N-dimethylbenzylamine, 4-methoxyphenylethylamine, ethanolamine, diethanolamine,
Triethanolamine, isopropanolamine, dimethylethanolamine, pyrrolidine, piperidine, 1-
Methylpiperidine, 4-methylpiperidine, morpholine and the like can be mentioned.

フォスフィン類の具体例としては、たとえばトリメチ
ルフォスフィン、トリエチルフォスフィン、トリプロピ
ルフォスフィン、トリブチルフォスフィン、トリオクチ
ルフォスフィン、トリラウリルフォスフィン、トリステ
アリルフォスフィン、ジメチルフォスフィン、ジエチル
フォスフィン、ジブチルフォスフィン、ジオクチルフォ
スフィン、ジラウリルフォスフィンのごときジ−もしく
はトリアルキルフォスフィン類;トリス(3−ヒドロキ
シプロピル)フォスフィン、トリス(2−シアノエチ
ル)フォスフィン、トリス(2−メトキシエチル)フォ
スフィン、トリス(2−クロロエチル)フォスフィン、
トリス(2−メトキシカルボニル)フォスフィン、トリ
ス(2−(2−ジメチルアミノエトキシ)カルボニル)
フォスフィン、トリス(2−エトキシカルボニル)フォ
スフィン、ビス(3−ヒドロキシプロピル)フォスフィ
ン、ビス(2−シアノエチル)フォスフィンのごときジ
−もしくはトリ−置換アルキルフォスフィン類;ジシク
ロペンチルフォスフィン、ジシクロヘキシルフォスフィ
ン、トリシクロペンチルフォスフィン、トリシクロヘキ
シルフォスフィンのごとき脂環式フォスフィン類;トリ
フェニルフォスフィン、トリス(4−メチルフェニル)
フォスフィン、ジフェニルフォスフィン、ビス(4−メ
チルフェニル)フォスフィンのごときジ−もしくはトリ
アリールフォスフィン類;トリベンジルフォスフィン、
トリフェネチルフォスフィン、ジベンジルフォスフィ
ン、ジフェネチルフォスフィンのごときジ−もしくはト
リ−アラルキルフォスフィン類;テトラメチレンフォス
フィン、テトラメチレン−メチル−フォスフィンなどの
環内にリン原子を有するフォスフィン類;ジフェニルメ
チルフォスフィン、ジフェニルエチルフォスフィン、フ
ェニルジエチルフォスフィンのごときリン原子に互いに
異なる2種または3種の有機基が結合したフォスフィン
類などがあげられる。特に第3級アミンが好ましい。
Specific examples of phosphines include, for example, trimethylphosphine, triethylphosphine, tripropylphosphine, tributylphosphine, trioctylphosphine, trilaurylphosphine, tristearylphosphine, dimethylphosphine, diethylphosphine, dibutyl Di- or trialkylphosphines such as phosphine, dioctylphosphine, dilaurylphosphine; tris (3-hydroxypropyl) phosphine, tris (2-cyanoethyl) phosphine, tris (2-methoxyethyl) phosphine, tris ( 2-chloroethyl) phosphine,
Tris (2-methoxycarbonyl) phosphine, tris (2- (2-dimethylaminoethoxy) carbonyl)
Di- or tri-substituted alkyl phosphines such as phosphine, tris (2-ethoxycarbonyl) phosphine, bis (3-hydroxypropyl) phosphine and bis (2-cyanoethyl) phosphine; dicyclopentylphosphine, dicyclohexylphosphine, tris Alicyclic phosphines such as cyclopentylphosphine and tricyclohexylphosphine; triphenylphosphine, tris (4-methylphenyl)
Di- or triarylphosphines such as phosphine, diphenylphosphine, bis (4-methylphenyl) phosphine; tribenzylphosphine;
Di- or tri-aralkylphosphines such as triphenethylphosphine, dibenzylphosphine and diphenethylphosphine; phosphines having a phosphorus atom in the ring such as tetramethylenephosphine and tetramethylene-methylphosphine; diphenyl Examples thereof include phosphines such as methylphosphine, diphenylethylphosphine and phenyldiethylphosphine in which two or three different organic groups are bonded to phosphorus atoms. A tertiary amine is particularly preferable.

反応温度は、通常−80〜100℃、好ましくは0〜50℃
である。溶媒は、通常使用するが、使用しなくても実施
できる。溶媒は、二塩基性酸無水物と反応するアルコー
ル類を除き使用することができるが、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類
が、原料の反応性の低下、反応混合物の着色などをもた
らさないので好ましい。塩基の使用量は、前記の二
塩基性酸無水物に対して、通常0.01〜1.2、好ましくは
0.05〜1.0(ただし、モル比)である。
The reaction temperature is generally -80 to 100C, preferably 0 to 50C.
Is. A solvent is usually used, but it can be carried out without using it. Solvents can be used except for alcohols that react with the dibasic acid anhydride, but ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone cause a decrease in reactivity of the raw materials and a coloring of the reaction mixture. Not preferred. The amount of the base used is usually 0.01 to 1.2 with respect to the above dibasic acid anhydride, preferably
It is 0.05 to 1.0 (however, molar ratio).

(B)成分の他のカルボキシル基含有ビニル単量体と
しては、式(III)で表わされるモノマーがあげられ
る。具体例としては、たとえばアリルアルコールまたは
メタアリルアルコールと前記二塩基性酸無水物から合成
されたジカルボン酸モノアリルエステルおよびジカルボ
ン酸モノメタアリルエステルなどがあげられる。
Examples of the other carboxyl group-containing vinyl monomer as the component (B) include monomers represented by the formula (III). Specific examples include dicarboxylic acid monoallyl ester and dicarboxylic acid monomethallyl ester synthesized from allyl alcohol or methallyl alcohol and the above dibasic acid anhydride.

本発明の製造法は、ヒドロキシ基含有ビニル単量体
(A)とカルボキシル基含有ビニル単量体(B)とフル
オロオレフィン(C)を共重合させる際に、重合溶媒と
してケトン系溶媒と前記式(IV)で表わされるアルコー
ル系溶媒との混合溶媒を用いることに特徴がある。
In the production method of the present invention, when a hydroxy group-containing vinyl monomer (A), a carboxyl group-containing vinyl monomer (B), and a fluoroolefin (C) are copolymerized, a ketone solvent and the above formula are used as a polymerization solvent. It is characterized by using a mixed solvent with an alcoholic solvent represented by (IV).

ケトン系溶媒としては、たとえばアセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、ジブチルケト
ン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどがあげら
れ、アセトンまたはメチルエチルケトン、とくにアセト
ンが好ましい。
Examples of the ketone solvent include acetone, methylethylketone, methylisobutylketone, dibutylketone, acetylacetone, cyclohexanone and the like, and acetone or methylethylketone, particularly acetone is preferable.

式(IV)で表わされるアルコール系溶媒としては、た
とえばメタノール、エタノール、イソプロパノール、n
−ブタノール、t−ブタノール、メチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、ブチルカルビトール、メチルカルビト
ールなどの1種または2種以上があげられ、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノールまたはn−ブタノー
ルが好ましい。
Examples of the alcohol solvent represented by the formula (IV) include methanol, ethanol, isopropanol, and n.
-Butanol, t-butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, butyl carbitol, methyl carbitol and the like may be mentioned alone or in combination, and methanol, ethanol, isopropanol or n-butanol is preferable.

前記のごとくケトン系溶媒を単独使用して重合を行な
うとゲル化してしまうが、ケトン系溶媒と前記アルコー
ル系溶媒を混合使用するとゲル化は生じない。この理由
は、ヒドロキシ基含有ビニル単量体(A)とケトン系溶
媒との架橋により生ずるゲル化を、アルコール系溶媒を
添加することにより阻止しているものと推定される。し
かし、アルコール系溶媒には前記のごとき欠点があるの
で、ゲル化を抑えかつアルコール系溶媒の欠点を出さな
いため、アルコール系溶媒/ヒドロキシ基含有ビニル単
量体(モル比)が1/10〜10/1、好ましくは1/3〜5/1とな
る範囲で使用する。
As described above, gelation occurs when the polymerization is performed using the ketone solvent alone, but gelation does not occur when the ketone solvent and the alcohol solvent are mixed and used. The reason for this is presumed to be that gelation caused by cross-linking of the hydroxy group-containing vinyl monomer (A) and the ketone solvent is prevented by adding the alcohol solvent. However, since the alcohol-based solvent has the above-mentioned drawbacks, the alcohol-based solvent / hydroxy group-containing vinyl monomer (molar ratio) is 1/10 to 10% or less in order to suppress gelation and not exhibit the drawbacks of the alcohol-based solvent. It is used in the range of 10/1, preferably 1/3 to 5/1.

混合溶媒の量としては全モノマーに対し通常4/1〜1/4
が好ましい。
The amount of mixed solvent is usually 4/1 to 1/4 with respect to all monomers.
Is preferred.

かかる混合溶媒を重合溶媒として用いるときは各モノ
マーに対して悪影響を与えず、重合収量に優れ、えられ
る重合体溶液に低分子量物が含まれにくく、塗装性や塗
膜物性に優れる。
When such a mixed solvent is used as a polymerization solvent, it does not adversely affect each monomer, the polymerization yield is excellent, the obtained polymer solution does not easily contain low molecular weight substances, and the coating properties and coating film physical properties are excellent.

共重合系は、基本的にヒドロキシ基含有ビニル単量体
(A)、カルボキシル基含有ビニル単量体(B)、フル
オロオレフィン(C)、重合溶媒、重合開始剤からな
る。重合方法としては乳化重合、懸濁重合、溶液重合な
どを採用することができる。
The copolymerization system basically comprises a hydroxy group-containing vinyl monomer (A), a carboxyl group-containing vinyl monomer (B), a fluoroolefin (C), a polymerization solvent and a polymerization initiator. As the polymerization method, emulsion polymerization, suspension polymerization, solution polymerization and the like can be adopted.

重合温度は開始剤や溶媒の種類に応じて適宜変更する
ことができるが、通常−20〜150℃、好ましくは、5〜9
5℃である。反応圧力も適宜選択可能であるが、通常0
〜50kg/cm2Gである。
The polymerization temperature can be appropriately changed depending on the type of the initiator and the solvent, but is usually −20 to 150 ° C., preferably 5 to 9
It is 5 ° C. The reaction pressure can be appropriately selected, but is usually 0.
~ 50 kg / cm 2 G.

フルオロオレフィン(C)としては、たとえばテトラ
フルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキ
サフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン、フッ化
ビニリデン、フッ化ビニルなどをあげることができる。
Examples of the fluoroolefin (C) include tetrafluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, hexafluoropropylene, trifluoroethylene, vinylidene fluoride, vinyl fluoride and the like.

本発明において、ヒドロキシ基含有ビニル単量体
(A)とカルボキシル基含有ビニル単量体(B)とフル
オロオレフィン(C)の反応モル比は、通常、(A)/
(B)/(C)=1〜50/1〜60/20〜80である。
In the present invention, the reaction molar ratio of the hydroxy group-containing vinyl monomer (A), the carboxyl group-containing vinyl monomer (B) and the fluoroolefin (C) is usually (A) /
(B) / (C) = 1 to 50/1 to 60/20 to 80.

水溶性塗料として含フッ素共重合体を使用するばあい
ヒドロキシ基含有ビニル単量体(A)を5〜50モル%含
有し、さらにこの共重合体の水溶性を良好にするうえ
で、カルボキシル基含有ビニル単量体(B)を5〜60モ
ル%含有していることが好ましく、これのカルボキシル
基は30%以上中和されていることがさらに好ましい(電
着塗装のばあい)。中和に用いる化合物としては前記塩
基で例示したものがあげられる。
When a fluorine-containing copolymer is used as the water-soluble paint, it contains 5 to 50 mol% of a hydroxy group-containing vinyl monomer (A), and in order to improve the water solubility of this copolymer, a carboxyl group is used. It is preferable that the contained vinyl monomer (B) is contained in an amount of 5 to 60 mol%, and it is more preferable that the carboxyl group thereof is neutralized by 30% or more (in the case of electrodeposition coating). Examples of the compound used for neutralization include those exemplified as the above base.

含フッ素共重合体を有機溶媒に溶解し、いわゆる溶剤
型塗料として使用するばあい、ヒドロキシ基含有ビニル
単量体(A)は2〜40モル%、カルボキシル基含有ビニ
ル単量体(B)の含有量は、基材との密着性の点で1〜
15モル%が好ましく、顔料分散性の点で2〜10モル%が
好ましい。
When the fluorine-containing copolymer is dissolved in an organic solvent and used as a so-called solvent type coating material, the hydroxy group-containing vinyl monomer (A) is contained in an amount of 2 to 40 mol% and the carboxyl group-containing vinyl monomer (B). The content is 1 to 1 in terms of adhesion to the base material.
15 mol% is preferable, and 2 to 10 mol% is preferable in terms of pigment dispersibility.

前記含フッ素共重合体には、(A)〜(C)成分のほ
かに他種のエチレン性不飽和化合物を含フッ素共重合体
に対し80モル%以下の量比で含有させることができる。
他種のエチレン性不飽和化合物としては、たとえば式: CH2=CH-OC=O)kR3 (式中、R3は炭素原子数1〜17の脂肪族基、炭素原子数
3〜17の脂環式基、炭素原子数1〜20のフルオロアルキ
ル基、kは0または1を示す)で表わされるアルキルビ
ニルエーテルまたはビニルエステルがあげられ、具体例
としては、たとえばメチルビニルエーテル、エチルビニ
ルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピ
ルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブ
チルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、n−
ペンチルビニルエーテル、n−ヘキシルビニルエーテ
ル、n−オクチルビニルエーテル、2−エチルヘキシル
ビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ラウ
リルビニルエーテル、ステアリルビニルエーテル、2,2,
2−トリフルオロエチルビニルエーテル、2,2,3,3−テト
ラフルオロプロピルビニルエーテル、2,2,3,3,3−ペン
タフルオロプロピルビニルエーテル、2,2,3,3,4,4,5,5
−オクタフルオロペンチルビニルエーテル、2,2,3,3,4,
4,4−ヘプタフルオロブチルビニルエーテル、酢酸ビニ
ルエステル、プロピオン酸ビニルエステル、酪酸ビニル
エステル、ピバリン酸ビニルエステル、カプロン酸ビニ
ルエステル、ラウリン酸ビニルエステル、バーサチック
酸ビニルエステル、シクロヘキサンカルボン酸ビニルエ
ステルなどがあげられる。
In addition to the components (A) to (C), the fluorine-containing copolymer may contain another type of ethylenically unsaturated compound in an amount ratio of 80 mol% or less based on the fluorine-containing copolymer.
Examples of other kinds of ethylenically unsaturated compounds include, for example, the formula: CH 2 ═CH—OC═O) k R 3 (wherein R 3 is an aliphatic group having 1 to 17 carbon atoms, and 3 to 17 carbon atoms). And an alkyl vinyl ether or vinyl ester represented by a cycloaliphatic group having 1 to 20 carbon atoms, k is 0 or 1), and specific examples thereof include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, and n. -Propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, n-
Pentyl vinyl ether, n-hexyl vinyl ether, n-octyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, stearyl vinyl ether, 2,2,
2-trifluoroethyl vinyl ether, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl vinyl ether, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl vinyl ether, 2,2,3,3,4,4,5,5
-Octafluoropentyl vinyl ether, 2,2,3,3,4,
4,4-heptafluorobutyl vinyl ether, vinyl acetate, propionic acid vinyl ester, butyric acid vinyl ester, pivalic acid vinyl ester, caproic acid vinyl ester, lauric acid vinyl ester, versatic acid vinyl ester, cyclohexanecarboxylic acid vinyl ester, etc. To be

さらに式: CH2=CX8C(=O)O)mR9 (式中、X8は水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル
基またはトリフルオロメチル基、R9は水素原子、塩素原
子、炭素原子数1〜17の脂肪族基、炭素原子数3〜17の
脂環式基または炭素原子数1〜20のフルオロアルキル
基、mは0または1を示す)で表わされる化合物があげ
られ、具体例としては、エチレン、プロピレン、1−ブ
テン、イソブテン、スチレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、イソブチルアクリレート、メチルアクリレート、
エチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプ
ロピルα−フルオロアクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,
6,7,7−ドデカフルオロペンチルα−トリフルオロメチ
ルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2,2,3,
3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13,
14,14,15,15,15−ノナコサフルオロペンタデシルアクリ
レート、オクチルα−クロロアクリレート、オクタデシ
ルアクリレートなどがあげられる。
Furthermore, the formula: CH 2 = CX 8 C (= O) O) mR 9 (wherein, X 8 is a hydrogen atom, a chlorine atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group, R 9 is a hydrogen atom, a chlorine atom, And a compound represented by an aliphatic group having 1 to 17 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 17 carbon atoms or a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and m represents 0 or 1. Specific examples include ethylene, propylene, 1-butene, isobutene, styrene, vinyl chloride, vinylidene chloride, isobutyl acrylate, methyl acrylate,
Ethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl α-fluoroacrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,
6,7,7-dodecafluoropentyl α-trifluoromethyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2,2,3,
3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13,
Examples include 14,14,15,15,15-nonacosafluoropentadecyl acrylate, octyl α-chloroacrylate, and octadecyl acrylate.

また、式: CH2=CHCH2X9 (式中、X9は塩素原子または炭素原子数1〜8の脂肪族
オキシ基を示す)で表わされる化合物も使用でき、具体
例としてはたとえばアリルクロライド、アリルメチルエ
ーテル、アリルイソプロピルエーテル、アリルオクチル
エーテルなどがあげられる。
Further, a compound represented by the formula: CH 2 = CHCH 2 X 9 (wherein, X 9 represents a chlorine atom or an aliphatic oxy group having 1 to 8 carbon atoms) can also be used, and specific examples thereof include allyl chloride. , Allyl methyl ether, allyl isopropyl ether, allyl octyl ether and the like.

また要すれば、共重合時に少量の多価金属(たとえば
Mg、Ca、Zn、Alなど)または多官能性のチッ素原子もし
くはリン原子含有化合物(たとえばアルキルジアミン、
アルキルトリアミンなどのポリアミン類、アルキルジフ
ォスフィン、アルキルトリフォスフィンなどのポリフォ
スフィン類)とビニルエーテル(II)との塩からなるジ
ビニルエーテルやトリビニルエーテルなどを共重合成分
として存在させることもでき、このばあいは部分ゲル化
により艶消しなどの用途に用いることができる。
If necessary, a small amount of a polyvalent metal (for example,
Mg, Ca, Zn, Al, etc.) or polyfunctional compounds containing a nitrogen atom or a phosphorus atom (for example, alkyldiamine,
Polyvinylamines such as alkyltriamines, polyphosphines such as alkyldiphosphines and alkyltriphosphines) and vinyl ether (II) may be present as copolymer components such as divinyl ether and trivinyl ether. Ai can be used for applications such as matting by partial gelation.

重合開始剤としては、たとえば過硫酸塩(過硫酸アン
モニウム、過硫酸カリウムなど)、過硫酸塩と亜硫酸塩
(亜硫酸カリウム、亜硫酸ナトリウムなど)または酸性
亜硫酸塩(酸性亜硫酸カリウム、酸性亜硫酸ナトリウム
など)からなるレドックス系開始剤、有機過酸化物(ジ
イソプロピルパーオキシジカーボネート、tert−ブチル
パーオキシブチレート、ベンゾイソパーオキサイド、イ
ソブチリルパーオキサイドなど)、アゾ化合物(アゾビ
スイソブチロニトリルなど)などをあげることができ
る。開始剤の使用量は、通常使用する全単量体に対し0.
001〜5重量%、好ましくは0.05〜2.0重量%である。
Examples of the polymerization initiator include persulfates (ammonium persulfate, potassium persulfate, etc.), persulfates and sulfites (potassium sulfite, sodium sulfite, etc.), or acidic sulfites (potassium acid sulfite, sodium acid sulfite, etc.). Redox initiators, organic peroxides (diisopropyl peroxydicarbonate, tert-butyl peroxybutyrate, benzoisoperoxide, isobutyryl peroxide, etc.), azo compounds (azobisisobutyronitrile, etc.), etc. be able to. The amount of the initiator used is 0.
It is 001 to 5% by weight, preferably 0.05 to 2.0% by weight.

本発明の製造法の操作方式に関しては、特に制限はな
く、回分式、半連続式、連続式などの方式が採用可能で
ある。
The operating method of the production method of the present invention is not particularly limited, and batch type, semi-continuous type, continuous type and the like can be adopted.

つぎに本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明
はかかる実施例のみに限定されるものではない。
Next, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited to only these examples.

参考例1 1000mlのフラスコに無水1,2−シクロヘキサンジカル
ボン酸(酸無水物)405g(2.63モル)およびアセトン40
gからなる溶液を入れ、トリエチルアミン(塩基:pKa=1
0.72)2.63g(0.26モル)を添加し、磁気攪拌機で5分
間攪拌した。
Reference Example 1 In a 1000 ml flask, anhydrous 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid (anhydride) 405 g (2.63 mol) and acetone 40
Add a solution consisting of g and add triethylamine (base: pKa = 1
0.72) 2.63 g (0.26 mol) was added, and the mixture was stirred with a magnetic stirrer for 5 minutes.

この混合物を氷水で0〜10℃になるよう冷却しなが
ら、ヒドロキシブチルビニルエーテル305g(2.63モル)
を2g/分の割合で滴下した。
While cooling this mixture with ice water to 0 to 10 ° C, 305 g (2.63 mol) of hydroxybutyl vinyl ether
Was dropped at a rate of 2 g / min.

反応混合物についてフーリエ変換核磁気共鳴分析(FT
-NMR、13C、テトラメチルシラン標準)を行ない、下記
の本発明のビニルエーテル(I)(以下、cHHEM塩とい
う)と対応する遊離のビニルエーテル(II)(以下、cH
HEMという)がほぼ10/85(モル比)での収率で生成して
いることを確認した。各炭素原子(a〜mの符号を付
す)のケミカルシフトを示す。
Fourier transform nuclear magnetic resonance analysis (FT
-NMR, 13 C, tetramethylsilane standard) was performed, and the following vinyl ether (I) of the present invention (hereinafter referred to as cHHEM salt) and corresponding free vinyl ether (II) (hereinafter referred to as cH
It was confirmed that HEM) was produced in a yield of about 10/85 (molar ratio). The chemical shift of each carbon atom (labeled with a to m) is shown.

δ(ppm)=85.6(a)、151.5(b)、67.2(c)、2
5.3-25.6(d)、62.8(e)、173.3(f)、42.9
(g)、27.4(h)、24.4(i)、43.5(j)、176.2
(k)、44.9(l)、9.1(m) 参考例2 参考例1のトリエチルアミン量を第1表に示す量に変
更したほかは参考例1と同様の手順でcHHEM塩とcHHEMと
からなるモノマー組成物を製造した。FT-NMRで分析した
収率を第1表に示す。
δ (ppm) = 85.6 (a), 151.5 (b), 67.2 (c), 2
5.3-25.6 (d), 62.8 (e), 173.3 (f), 42.9
(G), 27.4 (h), 24.4 (i), 43.5 (j), 176.2
(K), 44.9 (l), 9.1 (m) Reference Example 2 Monomer consisting of cHHEM salt and cHHEM in the same procedure as Reference Example 1 except that the amount of triethylamine in Reference Example 1 was changed to the amount shown in Table 1. A composition was produced. The yields analyzed by FT-NMR are shown in Table 1.

さらに、えられた反応生成物の20℃および−20℃で保
存したときの分解率(%)を13C-NMRによって調べた。
結果を第1表に併記する。
Furthermore, the decomposition rate (%) of the obtained reaction product when stored at 20 ° C and -20 ° C was examined by 13 C-NMR.
The results are shown in Table 1.

参考例3 参考例2の実験番号4の条件でえられた反応生成物
(cHHEM塩/cHHEM=0.1/84.9:モル比)に第2表に示す塩
基を加えてcHHEMをcHHEM塩に変換し、参考例2と同様に
して分解率を調べた。結果を第2表に示す。
Reference Example 3 The reaction product obtained under the condition of Experiment No. 4 of Reference Example 2 (cHHEM salt / cHHEM = 0.1 / 84.9: molar ratio) was added with a base shown in Table 2 to convert cHHEM to a cHHEM salt, The decomposition rate was examined in the same manner as in Reference Example 2. The results are shown in Table 2.

第2表から明らかなように、pKaが6未満の塩基性化
合物ではその塩基性が弱いためcHHEMの安定化への寄与
が小さいことがわかる。
As is clear from Table 2, the basic compound having a pKa of less than 6 has a weak basicity and thus has a small contribution to the stabilization of cHHEM.

実施例1 攪拌機を備えた容積800mlのガラス製オートクレーブ
にアセトン140.2gおよびエタノール19.8gを仕込み、液
体チッ素で固化後、脱気した。
Example 1 A glass autoclave having a volume of 800 ml equipped with a stirrer was charged with 140.2 g of acetone and 19.8 g of ethanol, solidified with liquid nitrogen, and then deaerated.

その後、クロロトリフルオロエチレン(以下、CTFEと
いう)を128.2g仕込み、系内を65℃に加熱した。つぎ
に、別途参考例1でえたビニルエーテルモノマー組成物
(cHHEM塩/cHHEM=10/85、モル比)72.83g、ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル(以下、HBVEという)49.9g、炭
素原子数10のアルキル基を有するカルボン酸のビニルエ
ステル[シエル化学社製のベオバ10(以下、VAとい
う)]61.4gおよびアゾビスイソブチロニトリル(以
下、AIBNという)1.64gを混合し、液体チッソで固化後
脱気したモノマー混合物をで4時間かけて連続して仕込
んだ。系内温度は65℃に維持した。仕込み終了後、65℃
で16時間反応を続け、カルボキシル基含有含フッ素共重
合体をえた。収量は455gで共重合体濃度は64.3%であっ
た。
Then, 128.2 g of chlorotrifluoroethylene (hereinafter referred to as CTFE) was charged, and the system was heated to 65 ° C. Next, a vinyl ether monomer composition separately obtained in Reference Example 1 (cHHEM salt / cHHEM = 10/85, molar ratio) 72.83 g, hydroxybutyl vinyl ether (hereinafter referred to as HBVE) 49.9 g, and has an alkyl group having 10 carbon atoms. Monomer obtained by mixing 61.4 g of vinyl ester of carboxylic acid [Beova 10 (hereinafter referred to as VA) manufactured by Ciel Chemical Co., Ltd.] and 1.64 g of azobisisobutyronitrile (hereinafter referred to as AIBN), solidifying with liquid nitrogen and degassing. The mixture was continuously charged over 4 hours. The system temperature was maintained at 65 ° C. After the preparation, 65 ℃
The reaction was continued for 16 hours, and a carboxyl group-containing fluorocopolymer was obtained. The yield was 455 g and the copolymer concentration was 64.3%.

実施例2〜5および比較例1〜4 第3表に示す組成で実施例1と同様にして共重合を行
ない、それぞれ含フッ素共重合体をえた。それらの収量
および共重合体濃度を第3表に示す。
Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 Copolymerization was carried out in the same manner as in Example 1 with the compositions shown in Table 3 to obtain fluorine-containing copolymers. Their yields and copolymer concentrations are shown in Table 3.

第3表中の記号はそれぞれつぎの化合物を示す。 The symbols in Table 3 indicate the following compounds, respectively.

EVE :エチルビニルエーテル AIBN:アゾビスイソブチロニトル 実施例6 実施例1でえられた含フッ素重合体をイソプロピルア
ルコール(IPA)で重合体濃度25重量%になるまで希釈
した。えられたワニス100gを攪拌機付きフラスコに入れ
MgO10.0gを添加し、60℃にて24時間攪拌したのちグラス
フィルターで過して脱ハロゲン処理をした。
EVE: Ethyl vinyl ether AIBN: Azobisisobutyronitol Example 6 The fluoropolymer obtained in Example 1 was diluted with isopropyl alcohol (IPA) until the polymer concentration became 25% by weight. Put 100 g of the obtained varnish in a flask with a stirrer.
10.0 g of MgO was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 24 hours and then passed through a glass filter for dehalogenation.

脱ハロゲン処理した25重量%ワニスを減圧下に濃縮
し、65%濃度のワニスとした。このワニス100重量部に
対してジメチルエタノールアミン3.9重量部(重合体酸
価に対し0.9等量)加えて中和した。
The dehalogenated 25% by weight varnish was concentrated under reduced pressure to give a 65% concentration varnish. To 100 parts by weight of this varnish, 3.9 parts by weight of dimethylethanolamine (0.9 equivalents to the acid value of the polymer) was added for neutralization.

えられた部分中和ワニスを用い、つぎの処方で電着塗
装用組成物を調製した。
Using the obtained partially neutralized varnish, a composition for electrodeposition coating was prepared according to the following formulation.

重量部 ワニス 100 ブチルセロソルブ 10 80%メチルメチロール化 メラミン樹脂 (日立化成工業(株)製のメラン620。 Parts by weight Varnish 100 Butyl cellosolve 10 80% Methyl methylolated melamine resin (Melan 620 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.).

固形分含量70重量%) 20 脱イオン水 990 この電着塗装用組成物を用い、アルマイト処理された
6063Sアルミニウム合金板(アルマイト皮膜の厚さ9μ
m)を被塗装物(陽極)とし、塗装用組成物温20℃、電
圧140Vで3分間通電し、組成物をアルミニウム合金板上
に被着させたのち水洗し、ついで180℃に30分間保って
焼付け、硬化させて電着塗膜をえた。
Solid content 70% by weight) 20 Deionized water 990 Anodized using this composition for electrodeposition coating
6063S aluminum alloy plate (thickness of anodized film 9μ
m) as an object to be coated (anode), applying a coating composition at a temperature of 20 ° C. and a voltage of 140 V for 3 minutes, applying the composition on an aluminum alloy plate, washing with water, and then keeping at 180 ° C. for 30 minutes. Baking and curing to obtain an electrodeposition coating film.

えられた塗膜について第4表に示す性質を調べた。結
果を第4表に示す。
The properties shown in Table 4 were examined for the obtained coating film. The results are shown in Table 4.

(膜厚) 膜厚計((株)ケット科学研究所製のパーマスコープ
EW型)を使用して測定した(単位:μm)。
(Film Thickness) Film Thickness Gauge (Permscope manufactured by Kett Scientific Research Institute Co., Ltd.)
EW) (unit: μm).

(光沢) 光沢計(日本電色工業(株)製のVG-2PD)を使用し60
°鏡面反射率(単位:%)を測定した。
(Gloss) 60 using a gloss meter (VG-2PD manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.)
The specular reflectance (unit:%) was measured.

(耐候性) ウェザーメーター(スガ試験機(株)製、デューサイ
クル、照射60分/暗黒60分、ブラックパネル温度63℃)
で360時間の促進耐候性試験を行ない、光沢保持率(単
位:%)を測定した。
(Weather resistance) Weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., due cycle, irradiation 60 minutes / dark 60 minutes, black panel temperature 63 ° C)
Was conducted for 360 hours, and the gloss retention (unit:%) was measured.

(付着性) 塗膜にカッターナイフで1mm角の枡目100個の切り目を
入れ、セロハン粘着テープで10回剥離試験を行ない、残
存した枡目数を求めた。
(Adhesiveness) 100 cuts of 1 mm square were made on the coating film with a cutter knife, a peeling test was performed 10 times with cellophane adhesive tape, and the number of remaining grids was obtained.

(耐沸水性) JIS H 8602に準ずる。(Boiling resistance) According to JIS H 8602.

(耐沸水テスト後の耐アルカリ性) 耐沸水テスト後のサンプルを1重量%の水酸化ナトリ
ウムの水溶液に72時間浸漬したのちの塗膜の外観を目視
で観察し、ブリスター発生の有無を調べた。
(Alkali Resistance after Boiling Water Test) The sample after the boiling water test was immersed in a 1% by weight aqueous solution of sodium hydroxide for 72 hours, and the appearance of the coating film was visually observed to check for blister generation.

(耐酸性) 5%塩酸溶液中に7日間浸漬後、塗膜の変化を目視に
て判定した。
(Acid resistance) After dipping in a 5% hydrochloric acid solution for 7 days, the change of the coating film was visually determined.

(外観) 塗膜の外観を目視で判定した。(Appearance) The appearance of the coating film was visually determined.

(液安定性) 30℃の雰囲気下に1カ月静置し、その変化を目視にて
判定した。
(Liquid Stability) The solution was allowed to stand for one month in an atmosphere of 30 ° C., and the change was visually determined.

実施例7〜10および比較例5〜8 実施例2〜5および比較例1〜4でそれぞれ製造した
含フッ素重合体を用いたほかは実施例6と同様にして電
着塗装用組成物を調製し、電着を行なった。
Examples 7 to 10 and Comparative Examples 5 to 8 Compositions for electrodeposition coating were prepared in the same manner as in Example 6 except that the fluoropolymers produced in Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 were used. Then, electrodeposition was performed.

結果を第4表に示す。 The results are shown in Table 4.

〔発明の効果〕 本発明によれば、特定の重合溶媒を用いることにより
収率を高め、かつより均質な含フッ素共重合体を提供す
ることができる。かかる含フッ素共重合体を塗料として
用いるときは、ワキとハジキがなく、しかも耐候性にす
ぐれた塗膜がえられる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, it is possible to increase the yield and provide a more homogeneous fluorine-containing copolymer by using a specific polymerization solvent. When such a fluorine-containing copolymer is used as a coating material, a coating film free from cracks and cissing and having excellent weather resistance can be obtained.

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】(A)ヒドロキシ基含有ビニル単量体と、 (B)式(Ia): CH2=CHOR1OC(=O)R2C(=O)O (Ia) (式中、R1は炭素原子数2〜10の2価の脂肪族基、R2
式(i): CHX1 CX2 2 (i) 〔式中、X1は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキ
ル基、X2は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル
基、pおよびqは0または1〜11の整数(ただし、同時
に0であることはない)を示す〕で表わされる基、式
(ii): CH2 CX3=CH (ii) 〔式中、rは0または1〜3の整数、sは1〜3の整
数、X3は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基
を示す〕で表わされる基、式(iii): 〔式中、R7は−(CHX4 基(ただし、X4は水素原子ま
たは炭素原子数1〜3のアルキル基、tは1〜4の整数
である)、 -CH2CH=CHCH2-基、 または を示す〕で表わされる基、式(iv): 〔式中、R8はCHX5 基(ただし、Xは水素原子また
は炭素原子数1〜3のアルキル基、uは3〜4の整数で
ある)または CX6=CX7 基(ただし、X6およびX7は同一または異
なり水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基、v
は2〜3の整数である)を示す〕で表わされる基、式
(v): -C(=CH2)-CH2- (v) で表わされる基または式(vi): で表わされる基、 M はアルカリ金属のイオンである)または式(Ib): CH2=CHOR1OC(=O)R2C(=O)O ・HY (Ib) (式中、R1およびR2は前記と同じ、Y はチッ素原子ま
たはリン原子を含有する化合物であってそのpKaが6〜1
2である1官能性の塩基性化合物の1価のイオンを示
す) で表わされるビニルエーテルと、式(II): CH2=CHOR1OC(=O)R2C(=O)OH (II) (式中、R1およびR2は前記と同じ)で表わされるビニル
エーテルとからなり、式(Ia)または式(Ib)で表わさ
れるビニルエーテルが式(II)で表わされるビニルエー
テルの1モル%以上含有されてなるビニルエーテルモノ
マー組成物、または式(III): (式中、Y1、Y2およびY3は同じかまたは異なり、ハロゲ
ン原子または炭素数1〜6のアルキル基、aは0または
1〜6の整数、R2は前記と同じ)で表わされるモノマー
と、 (C)フルオロオレフィン とを共重合させる際に、炭素数3〜20のケトン系溶媒と
式(IV): (式中、Y4は炭素原子数1〜8のアルキル基、Y5は水素
原子またはメチル基、lは0または1〜20の整数であ
る)で表わされるアルコール系溶媒を混合したアルコー
ル系溶媒/ヒドロキシ基含有ビニル単量体のモル比が1/
10〜10/1である溶媒を重合溶媒として用いることを特徴
とする含フッ素共重合体の製造法。
1. A hydroxy group-containing vinyl monomer (A), and (B) formula (Ia): CH2= CHOR1OC (= O) R2C (= O) O M  (Ia) (In the formula, R1Is a divalent aliphatic group having 2 to 10 carbon atoms, R2Is
Formula (i): CHX1 pCX2 2 q (I) [wherein X1Is a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 3 carbon atoms.
Lu group, X2Is a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 3 carbon atoms
Group, p and q are 0 or an integer of 1 to 11
A group represented by
(Ii): CH2 rCX3= CHs (Ii) [In the formula, r is 0 or an integer of 1 to 3, and s is an integer of 1 to 3.
Number, X3Is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms
A group represented by the formula (iii):(Where R7Is- (CHXFour tGroup (however, XFourIs a hydrogen atom
Or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, t is an integer of 1 to 4
, -CH2CH = CHCH2-Group,OrA group represented by the formula (iv):(Where R8Is CHXFive uGroup (where X is a hydrogen atom or
Is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, u is an integer of 3 to 4
Yes) or CX6= CX7 vGroup (however, X6And X7Are the same or different
A hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, v
Represents an integer of 2 to 3], a group represented by the formula:
(V): -C (= CH2) -CH2A group represented by-(v) or a formula (vi):A group represented by M Is an alkali metal ion) or formula (Ib): CH2= CHOR1OC (= O) R2C (= O) O ・ HY  (Ib) (In the formula, R1And R2Is the same as above, Y Is a nitrogen atom
Or a compound containing a phosphorus atom and having a pKa of 6 to 1
2 represents the monovalent ion of a monofunctional basic compound that is 2.
And a vinyl ether represented by the formula (II): CH2= CHOR1OC (= O) R2C (= O) OH (II) (In the formula, R1And R2Is the same as above)
Consisting of ether and represented by formula (Ia) or formula (Ib)
Vinyl ether represented by the formula (II)
Vinyl ether mono containing 1 mol% or more of ter
Mer composition, or formula (III):(Where Y1, Y2And Y3The same or different
Hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a is 0 or
An integer from 1 to 6, R2Is the same as above)
And (C) a fluoroolefin are copolymerized with a ketone solvent having 3 to 20 carbon atoms.
Formula (IV):(Where YFourIs an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, YFiveIs hydrogen
Atom or methyl group, l is 0 or an integer of 1 to 20
Alcohol mixed with alcohol solvent
The molar ratio of solvent / hydroxy group-containing vinyl monomer is 1 /
Characterized by using a solvent of 10 to 10/1 as a polymerization solvent
And a method for producing a fluorine-containing copolymer.
【請求項2】ケトン系溶媒がアセトンまたはメチルエチ
ルケトンである請求項1記載の製造法。
2. The method according to claim 1, wherein the ketone solvent is acetone or methyl ethyl ketone.
【請求項3】アルコール系溶媒がメタノール、エタノー
ル、イソプロパノールまたはn−ブタノールである請求
項1記載の製造法。
3. The method according to claim 1, wherein the alcohol solvent is methanol, ethanol, isopropanol or n-butanol.
【請求項4】式(Ia)または式(1b)で表わされるビニ
ルエーテルを式(II)で表わされるビニルエーテルの5
モル%以上含有している請求項1記載の製造法。
4. A vinyl ether represented by the formula (Ia) or (1b) is a vinyl ether represented by the formula (II).
The manufacturing method according to claim 1, wherein the content is at least mol%.
【請求項5】フルオロオレフィンがテトラフルオロエチ
レン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプ
ロピレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデンお
よびフッ化ビニルよりなる群から選ばれたものである請
求項1記載の製造法。
5. The method according to claim 1, wherein the fluoroolefin is selected from the group consisting of tetrafluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, hexafluoropropylene, trifluoroethylene, vinylidene fluoride and vinyl fluoride.
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