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JP2551995B2 - Optical memory device - Google Patents
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JP2551995B2 - Optical memory device - Google Patents

Optical memory device

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JP2551995B2
JP2551995B2 JP1121819A JP12181989A JP2551995B2 JP 2551995 B2 JP2551995 B2 JP 2551995B2 JP 1121819 A JP1121819 A JP 1121819A JP 12181989 A JP12181989 A JP 12181989A JP 2551995 B2 JP2551995 B2 JP 2551995B2
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optical memory
magnetic recording
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善照 村上
明 高橋
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光メモリ素子、特に、接着剤により貼り付
けられる保護基板を有する光メモリ素子に関するもので
ある。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical memory element, and more particularly to an optical memory element having a protective substrate attached by an adhesive.

〔従来の技術〕 従来、光メモリ素子としては、読出し専用型メモリ、
追加記録可能型メモリ及び書換え可能型メモリが知られ
ている。第10図に、その内の書換え可能型光メモリ素子
の一例を示す。
[Prior Art] Conventionally, as an optical memory device, a read-only memory,
Additional recordable memory and rewritable memory are known. FIG. 10 shows an example of the rewritable optical memory element.

すなわち、この書換え可能型光メモリ素子は、透光性
を有する基板1の表面に磁気記録膜2を形成し、磁気記
録膜2の裏面側に接着剤層3を介して保護用基板4を接
着して構成されている。
That is, in this rewritable optical memory device, the magnetic recording film 2 is formed on the front surface of the substrate 1 having a light transmitting property, and the protective substrate 4 is adhered to the back surface side of the magnetic recording film 2 via the adhesive layer 3. Is configured.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

ところが、上記の光メモリ素子においては、基板1と
保護用基板4とを接着剤層3により接着する際に、接着
剤層3内に気泡5・5…が生じる問題がある。特にこの
ようにして生じた気泡5・5…が磁気記録膜2に接して
いると、磁気記録膜2にレーザ光を照射して昇温させな
がら磁気的に記録を行う際に、気泡5・5…の部位では
接着剤層3より熱伝導性が悪くなるため、磁気記録膜2
における気泡5・5…に面した部位と接着剤層3に面し
た部位とで記録ビットの大きさにばらつきが生じ、信号
特性が悪化するものである。
However, in the above-mentioned optical memory device, when the substrate 1 and the protective substrate 4 are bonded by the adhesive layer 3, there is a problem that bubbles 5, 5, ... Are generated in the adhesive layer 3. In particular, when the bubbles 5, 5 generated in this manner are in contact with the magnetic recording film 2, when the magnetic recording film 2 is irradiated with a laser beam to be heated and magnetically recorded, the bubbles 5. Since the thermal conductivity of the portion 5 is worse than that of the adhesive layer 3, the magnetic recording film 2
In the area facing the bubbles 5, 5, and the area facing the adhesive layer 3, the recording bit size varies, and the signal characteristics deteriorate.

又、気泡5・5…が外気に接していると、気泡5・5
…の部位から磁気記録膜2に劣化が生じる不具合もあ
る。
Also, if the bubbles 5.5 are in contact with the outside air, the bubbles 5.5
There is also a problem that the magnetic recording film 2 is deteriorated from the portion of.

以上では片面記録型の光メモリ素子について説明した
が、第11図に示すように、それぞれ磁気記録膜7・7を
形成した2枚の基板6・6を接着剤層8を介して貼り合
わせてなる両面記録型の光メモリ素子においても、接着
剤層8内に気泡9・9…が発生することにより、片面記
録型の光メモリ素子の場合と同様の問題が生じるもので
あった。
Although the single-sided recording type optical memory element has been described above, as shown in FIG. 11, two substrates 6 and 6 on which the magnetic recording films 7 and 7 are formed respectively are bonded via the adhesive layer 8. Also in the double-sided recording type optical memory element, the same problem as in the single-sided recording type optical memory element occurs due to the generation of the bubbles 9 in the adhesive layer 8.

なお、真空引等の手段で上記の接着剤層3・8内の気
泡5・5…、9・9…を除去することも考えられるが、
その場合は作業が極めて煩雑になるという問題がある。
Although it is conceivable to remove the air bubbles 5.5, ..., 9 ... in the adhesive layer 3/8 by means such as vacuuming,
In that case, there is a problem that the work becomes extremely complicated.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明に係る光メモリ素子は、上記の課題を解決する
ために、基板上に磁気記録膜を形成し、この磁気記録膜
上に接着剤層を介して保護用基板を接着してなる光メモ
リ素子において、上記保護用基板には、保護用基板の厚
み方向に延び接着剤層と外気とを連通する複数の孔と、
接着剤層側に形成され保護用基板の中心から放射状に延
びてその外周端が外気に連通した複数の溝とが形成され
ていることを特徴とするものである。
In order to solve the above problems, an optical memory element according to the present invention is an optical memory element in which a magnetic recording film is formed on a substrate and a protective substrate is bonded onto the magnetic recording film via an adhesive layer. , The protective substrate, a plurality of holes extending in the thickness direction of the protective substrate to communicate the adhesive layer and the outside air,
It is characterized in that a plurality of grooves are formed on the adhesive layer side and extend radially from the center of the protective substrate, and the outer peripheral edge thereof communicates with the outside air.

〔作 用〕[Work]

上記の構成によれば、保護用基板に接着剤層と外気と
を連通する通路として、保護用基板の厚み方向に延びる
複数の孔と、放射状に延びる複数の溝とを形成したの
で、保護用基板を接着する際に接着剤層内に生じる気泡
は上記複数の孔及び溝を介して外部に放出されるように
なり、接着剤層内に気泡が残存する恐れは少なくなる。
According to the above configuration, since a plurality of holes extending in the thickness direction of the protective substrate and a plurality of radially extending grooves are formed in the protective substrate as a passage that connects the adhesive layer and the outside air, the protective substrate is formed. Bubbles generated in the adhesive layer when the substrates are bonded are released to the outside through the plurality of holes and grooves, and the possibility that the bubbles remain in the adhesive layer is reduced.

〔実施例1〕 本発明の一実施例を第1図乃至第3図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
[Embodiment 1] The following will describe one embodiment of the present invention with reference to FIGS. 1 to 3.

第1図及び第2図に示すように、光メモリ素子10は、
透光性の基板11と、基板11上に形成された磁気記録膜12
とを備えている。磁気記録膜12は膜面に対し垂直な方向
に磁化容易軸を有している。
As shown in FIGS. 1 and 2, the optical memory device 10 is
Translucent substrate 11 and magnetic recording film 12 formed on substrate 11.
It has and. The magnetic recording film 12 has an easy axis of magnetization in a direction perpendicular to the film surface.

磁気記録膜12上には接着剤層13を介して保護用基板14
が接着されている。保護用基板14はその厚み方向に延
び、接着剤層13と外気とを連通する通路としての複数の
孔15・15…を有し、孔15・15…内には接着剤層13から流
出した接着剤13a・13a…が充填されている。
A protective substrate 14 is provided on the magnetic recording film 12 via an adhesive layer 13.
Are glued together. The protective substrate 14 extends in the thickness direction thereof and has a plurality of holes 15, 15 ... As passages for communicating the adhesive layer 13 with the outside air, and the protective substrate 14 flows out from the adhesive layer 13 into the holes 15, 15. The adhesives 13a, 13a ... Are filled.

この光メモリ素子10においては、周知のように、基板
11を通して磁気記録膜12にレーザ光を照射して昇温させ
ながら磁場を印加することにより、記録・消去が行われ
る。又、基板11を介して磁気記録膜12にレーザ光を照射
することにより、磁気光学効果を利用して情報の再生が
行える。
In this optical memory device 10, as is well known, the substrate
Recording and erasing are performed by irradiating the magnetic recording film 12 with a laser beam through 11 and applying a magnetic field while raising the temperature. By irradiating the magnetic recording film 12 with laser light through the substrate 11, information can be reproduced by utilizing the magneto-optical effect.

以下、上記の光メモリ素子10の製造手順を説明する。 Hereinafter, a manufacturing procedure of the above optical memory device 10 will be described.

まず、第3図(a)に示すように、ガラス又は透光性
の樹脂等からなる基板11に蒸着、スパッタリング等によ
り磁気記録膜12を所定の膜厚で形成し、引続き、磁気記
録膜12に、例えば、紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂等
からなる接着剤を塗布して接着剤層13を形成する。
First, as shown in FIG. 3 (a), a magnetic recording film 12 having a predetermined thickness is formed on a substrate 11 made of glass or translucent resin by vapor deposition, sputtering or the like, and then the magnetic recording film 12 is continuously formed. Then, for example, an adhesive made of an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin or the like is applied to form the adhesive layer 13.

次に、第3図(b)のように、接着剤層13上に保護用
基板14を載せ、下方に加圧する。そうすると、接着剤層
13内に気泡16・16…が存在する場合、これらの気泡16・
16…は第3図(c)に示すように、保護用基板14の孔15
・15…を通して外部に放出される。更に、接着剤層13の
一部の接着剤13a・13a…が孔15・15…内に流入し、孔15
・15…が閉塞される。
Next, as shown in FIG. 3B, a protective substrate 14 is placed on the adhesive layer 13 and pressed downward. Then, the adhesive layer
If there are air bubbles 16 ・ 16 in 13 ...
16 ... As shown in FIG. 3 (c), the holes 15 of the protective substrate 14
・ It is released to the outside through 15…. Further, some of the adhesives 13a, 13a, ... Of the adhesive layer 13 flow into the holes 15,15 ,.
・ 15 ... is blocked.

その後、接着剤層13の種類に応じて、紫外線照射又は
加熱等を行い、孔15・15…内の接着剤13a・13a…を含む
接着剤13を硬化させる。
Then, depending on the type of the adhesive layer 13, ultraviolet irradiation or heating is performed to cure the adhesive 13 including the adhesives 13a, 13a ... Inside the holes 15, 15.

〔実施例2〕 次に、第4図乃至第6図に基づいて第2実施例を説明
する。
[Second Embodiment] Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. 4 to 6.

第4図(a)(b)及び第5図に示すように、この光
メモリ素子17は、第1実施例の光メモリ素子10と基本的
に同一の構成を有している。但し、光メモリ素子17に
は、保護用基板14に孔15・15…に代えて、外気との通路
として接着剤層13側に複数の18・18…が形成されてい
る。すなわち、保護用基板14には、接着剤層13に接しな
がら保護用基板14の中心から放射状に延び、その外周端
が外気に連通した複数の溝18・18…が形成されている。
なお、第1実施例と共通の構成を有する部位には同一の
参照番号を付して示している。
As shown in FIGS. 4 (a), (b) and FIG. 5, the optical memory device 17 has basically the same configuration as the optical memory device 10 of the first embodiment. However, in the optical memory element 17, instead of the holes 15, 15, ... In the protective substrate 14, a plurality of 18, 18, ... Are formed on the adhesive layer 13 side as passages to the outside air. That is, the protective substrate 14 is formed with a plurality of grooves 18, 18 ... Radiating from the center of the protective substrate 14 while being in contact with the adhesive layer 13 and having outer peripheral ends communicating with the outside air.
It should be noted that the same reference numerals are given to the parts having the same configuration as the first embodiment.

以下、光メモリ素子17の製造手順を説明する。 The manufacturing procedure of the optical memory device 17 will be described below.

第1実施例と同様に、まず、第6図(a)に示すよう
に、基板11上に磁気記録膜12を形成し、続いて、磁気記
録膜12上に接着剤を塗布して接着剤層13を形成する。
Similar to the first embodiment, first, as shown in FIG. 6A, the magnetic recording film 12 is formed on the substrate 11, and then an adhesive is applied on the magnetic recording film 12 to form an adhesive. Form layer 13.

次に、第6図(b)に示すように、接着剤層13上に保
護用基板14を載せ、下方に加圧すると、接着剤層13内に
気泡16・16…が存在する場合、これらの気泡16・16…が
第6図(c)に示すように、溝18・18…を通して外部に
放出される。更に、溝18・18…内に接着剤層13の一部の
接着剤13a・13a…が流入し、溝18・18…が接着剤13a・1
3a…により閉塞される。その後、接着剤層13の種類に応
じた方法で接着剤層13が硬化される。
Next, as shown in FIG. 6 (b), when the protective substrate 14 is placed on the adhesive layer 13 and pressure is applied downward, when bubbles 16 are present in the adhesive layer 13, these 6 are discharged to the outside through the grooves 18, 18 ... As shown in FIG. 6 (c). Further, some of the adhesives 13a, 13a ... Of the adhesive layer 13 flow into the grooves 18,18, and the grooves 18,18 ...
Blocked by 3a. After that, the adhesive layer 13 is cured by a method according to the type of the adhesive layer 13.

〔実施例3〕 次に、第7図及び第8図に基づいて第3実施例を説明
する。
Third Embodiment Next, a third embodiment will be described based on FIGS. 7 and 8.

第7図(a)(b)及び第8図に示すように、第3実
施例における光メモリ素子20は第1及び第2実施例を組
み合わせてなるもので、保護用基板14に厚み方向に延び
る複数の孔15・15…と、放射状に延びる複数の溝18・18
…とが、気泡を放出するための通路として設けられてい
る。この光メモリ素子20の製造手順は詳述しないが、保
護用基板14を貼り付ける際に、接着剤層13内の気泡16・
16…が孔15・15…及び溝18・18…を通して外部に放出さ
れるので、気泡16・16…が接着剤層13内に残存する恐れ
が一層少なくなる。
As shown in FIGS. 7 (a), (b) and FIG. 8, the optical memory element 20 in the third embodiment is a combination of the first and second embodiments and extends in the thickness direction on the protective substrate 14. A plurality of holes 15 and 15 ... and a plurality of grooves 18 and 18 extending radially
, And are provided as passages for discharging bubbles. The manufacturing procedure of the optical memory element 20 will not be described in detail, but when the protective substrate 14 is attached, the bubbles 16 in the adhesive layer 13
16 are discharged to the outside through the holes 15 and 15 and the grooves 18 and 18, so that the bubbles 16 and 16 are less likely to remain in the adhesive layer 13.

〔実施例4〕 続いて第9図に基づいて第4実施例を説明する。Fourth Embodiment Next, a fourth embodiment will be described based on FIG.

この第4実施例は両面記録型の光メモリ素子に関する
ものである。
The fourth embodiment relates to a double-sided recording type optical memory device.

すなわち、この光メモリ素子21はポリカーボネイト等
の樹脂又はAl等の金属等からなる透明又は不透明な基板
22と、基板22の両面にそれぞれ形成された1対の磁気記
録膜23・23とを備えている。
That is, the optical memory device 21 is a transparent or opaque substrate made of resin such as polycarbonate or metal such as Al.
22 and a pair of magnetic recording films 23, 23 formed on both surfaces of the substrate 22, respectively.

磁気記録膜23・23上には、それぞれ接着剤層24・24を
介して保護用基板25・25が貼り付けられている。各保護
用基板25は透光性樹脂等の透明部材からなり、かつ、そ
の厚み方向に延びる複数の孔26・26…が、気泡を放出す
るための通路として設けられている。なお、接着剤層24
をなす接着剤としては透光性を有し、かつ、その屈折率
が保護用基板25の屈折率とほぼ等しいものが使用されて
いる。
Protective substrates 25, 25 are attached on the magnetic recording films 23, 23 via adhesive layers 24, 24, respectively. Each protective substrate 25 is made of a transparent member such as a light-transmissive resin, and a plurality of holes 26 extending in the thickness direction are provided as passages for discharging bubbles. The adhesive layer 24
As the adhesive forming the material, an adhesive having a light-transmitting property and having a refractive index substantially equal to that of the protective substrate 25 is used.

光メモリ素子21の製造に際しては、まず、基板22上に
磁気記録膜23・23が蒸着、スパッタリング等により形成
され、続いて、磁気記録膜23・23上に、例えば、紫外線
硬化型樹脂から成る接着剤が塗布されて接着剤層24・24
が形成される。
In manufacturing the optical memory device 21, first, the magnetic recording films 23, 23 are formed on the substrate 22 by vapor deposition, sputtering, etc., and then, on the magnetic recording films 23, 23, an adhesive made of, for example, an ultraviolet curable resin is used. Adhesive layer 24
Is formed.

次に、接着剤層24・24上に保護用基板25・25が載せら
れ、基板22側に加圧される。これにより、接着剤層24・
24内に気泡が存在している場合、その気泡が保護用基板
25の孔26・26…を通して外部に放出される。更に、接着
剤層24・24の一部の接着剤24a・24a…が孔26・26…内に
流入し、孔26・26…が閉塞される。その後、接着剤層24
・24の種類に応じた方法で、接着剤層24・24の硬化が行
われる。
Next, the protective substrates 25, 25 are placed on the adhesive layers 24, 24, and pressure is applied to the substrate 22 side. As a result, the adhesive layer 24
If there are bubbles inside 24, those bubbles will be
It is discharged to the outside through the holes 26, 26 of 25. Further, some of the adhesives 24a, 24a ... Of the adhesive layers 24, 24 flow into the holes 26, 26 ... And the holes 26, 26 ... Are closed. Then the adhesive layer 24
-The adhesive layers 24, 24 are cured by a method according to the type of 24.

上記の光メモリ素子21においては、保護用基板25・25
を介して磁気記録膜23・23にレーザ光を照射しながら磁
場を印加することにより、磁気記録膜23・23に情報の記
録又は消去が行われる。又、保護用基板25・25を介して
磁気記録膜23・23にレーザ光を照射することにより、磁
気光学効果を利用して情報の再生が行われる。その場
合、保護用基板25・25は透光性材料により形成されると
ともに、接着剤層24・24が保護用基板25・25と屈折率の
ほぼ等しい透光性の接着剤により形成されているため、
情報の記録・再生・消去は円滑に行われ、信号再生品質
も高レベルに維持できるものである。
In the above optical memory device 21, the protective substrate 25
Information is recorded or erased on the magnetic recording films 23, 23 by applying a magnetic field while irradiating the magnetic recording films 23, 23 with a laser beam via the magnetic field. Further, by irradiating the magnetic recording films 23, 23 with laser light through the protective substrates 25, 25, information is reproduced by utilizing the magneto-optical effect. In that case, the protective substrates 25, 25 are formed of a translucent material, and the adhesive layers 24, 24 are formed of a translucent adhesive having a refractive index substantially equal to that of the protective substrates 25, 25. For,
Information can be recorded / reproduced / erased smoothly, and the signal reproduction quality can be maintained at a high level.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明に係る光メモリ素子の製造方法は、以上のよう
に、基板上に磁気記録膜を形成し、この磁気記録膜上に
接着剤層を介して保護用基板を接着してなる光メモリ素
子において、上記保護用基板には、保護用基板の厚み方
向に延び接着剤層と外気とを連通する複数の孔と、接着
剤層側に形成され保護用基板の中心から放射状に延びて
その外周端が外気に連通した複数の溝とが形成されてい
る構成である。
As described above, the method for manufacturing an optical memory element according to the present invention is an optical memory element in which a magnetic recording film is formed on a substrate and a protective substrate is bonded onto the magnetic recording film via an adhesive layer, The protective substrate has a plurality of holes extending in the thickness direction of the protective substrate to communicate the adhesive layer with the outside air, and the outer peripheral edge of the protective layer formed on the adhesive layer side and extending radially from the center of the protective substrate. This is a configuration in which a plurality of grooves communicating with the outside air are formed.

これにより、保護用基板を接着する際に接着剤層内に
生じる気泡は保護用基板に設けられた複数の孔及び溝を
介して外部に放出され、接着剤層内に気泡が残存する恐
れは少なくなる。
Thereby, the bubbles generated in the adhesive layer when the protective substrate is bonded are discharged to the outside through the plurality of holes and the grooves provided in the protective substrate, and the bubbles may remain in the adhesive layer. Less.

従って、磁気記録膜に気泡が接触することによる記録
ビットのサイズのばらつき等の信号特性の劣化が抑制さ
れ、又、磁気記録膜が気泡を介して外気と接触すること
による磁気記録膜の劣化も生じにくくなる。
Therefore, deterioration of signal characteristics such as variation in size of recording bits due to contact of bubbles with the magnetic recording film is suppressed, and deterioration of the magnetic recording film due to contact of the magnetic recording film with outside air through the bubbles is also suppressed. Less likely to occur.

その上、真空引等の特別の作業を行うことなく、容易
に接着剤層内の気泡を放出することができるようにな
る。
Moreover, the bubbles in the adhesive layer can be easily discharged without performing a special work such as vacuuming.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図乃至第3図は本発明の実施例を示すものである。 第1図は第2図のA−A線に沿う光メモリ素子の拡大縦
断面部分図である。 第2図は光メモリ素子の平面図である。 第3図(a)〜(c)は光メモリ素子の製造手順を示す
拡大縦断面部分図である。 第4図乃至第6図は本発明の他の実施例を示すものであ
る。 第4図(a)は第5図のB−B線に沿う光メモリ素子の
拡大縦断面部分図である。 第4図(b)は第5図のC−C線に沿う光メモリ素子の
拡大縦断面部分図である。 第5図は光メモリ素子の平面図である。 第6図(a)〜(c)は光メモリ素子の製造手順を示す
拡大縦断面部分図である。 第7図及び第8図は本発明の更に他の実施例を示すもの
である。 第7図(a)は第8図のD−D線に沿う光メモリ素子の
拡大縦断面部分図である。 第7図(b)は第8図E−E線に沿う光メモリ素子の拡
大縦断面部分図である。 第8図は光メモリ素子の平面図である。 第9図は本発明の異なる実施例におけ光メモリ素子の拡
大縦断面部分図である。 第10図及び第11図はそれぞれ従来の光メモリ素子を示す
拡大縦断面部分図である。 10・17・20・21は光メモリ素子、11・22は基板、12・23
は磁気記録膜、13・24は接着剤層、14・25は保護用基
板、15・26は孔、16は気泡、18は溝である。
1 to 3 show an embodiment of the present invention. FIG. 1 is an enlarged vertical partial sectional view of the optical memory device taken along the line AA of FIG. FIG. 2 is a plan view of the optical memory device. 3 (a) to 3 (c) are enlarged vertical sectional partial views showing the manufacturing procedure of the optical memory element. 4 to 6 show another embodiment of the present invention. FIG. 4 (a) is an enlarged vertical sectional partial view of the optical memory element taken along the line BB in FIG. FIG. 4 (b) is an enlarged vertical sectional partial view of the optical memory element taken along the line CC of FIG. FIG. 5 is a plan view of the optical memory device. 6 (a) to 6 (c) are enlarged vertical sectional partial views showing the manufacturing procedure of the optical memory element. 7 and 8 show still another embodiment of the present invention. FIG. 7 (a) is an enlarged vertical sectional partial view of the optical memory device taken along the line D-D in FIG. FIG. 7 (b) is an enlarged vertical sectional partial view of the optical memory element taken along the line EE in FIG. FIG. 8 is a plan view of the optical memory device. FIG. 9 is an enlarged vertical sectional partial view of an optical memory device according to another embodiment of the present invention. FIG. 10 and FIG. 11 are enlarged vertical sectional partial views showing a conventional optical memory device. 10 ・ 17 ・ 20 ・ 21 is optical memory device, 11 ・ 22 is substrate, 12 ・ 23
Is a magnetic recording film, 13 and 24 are adhesive layers, 14 and 25 are protective substrates, 15 and 26 are holes, 16 is a bubble, and 18 is a groove.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 賢司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (72)発明者 石川 俊夫 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Kenji Ota 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Prefecture Sharp Corporation (72) Toshio Ishikawa 22-22 Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka Prefecture, Osaka Sharp Corporation Within

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基板上に磁気記録膜を形成し、この磁気記
録膜上に接着剤層を介して保護用基板を接着してなる光
メモリ素子において、 上記保護用基板には、保護用基板の厚み方向に延び接着
剤層と外気とを連通する複数の孔と、接着剤層側に形成
された保護用基板の中心から放射状に延びてその外周端
が外気に連通した複数の溝とが形成されていることを特
徴とする光メモリ素子。
1. An optical memory device comprising a magnetic recording film formed on a substrate and a protective substrate adhered to the magnetic recording film via an adhesive layer, wherein the protective substrate is a protective substrate. A plurality of holes extending in the thickness direction for communicating the adhesive layer with the outside air and a plurality of grooves extending radially from the center of the protective substrate formed on the adhesive layer side and having outer peripheral ends communicating with the outside air are formed. An optical memory device characterized by being provided.
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