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JP2552345B2 - Method for manufacturing magneto-optical recording medium - Google Patents
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JP2552345B2 - Method for manufacturing magneto-optical recording medium - Google Patents

Method for manufacturing magneto-optical recording medium

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JP2552345B2
JP2552345B2 JP63322933A JP32293388A JP2552345B2 JP 2552345 B2 JP2552345 B2 JP 2552345B2 JP 63322933 A JP63322933 A JP 63322933A JP 32293388 A JP32293388 A JP 32293388A JP 2552345 B2 JP2552345 B2 JP 2552345B2
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政信 小林
佳代子 大石
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は光磁気記録媒体の製造方法に関するもので
あり、特に、基板と記録層との間の密着性を向上させる
技術に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a magneto-optical recording medium, and more particularly to a technique for improving the adhesion between a substrate and a recording layer.

(従来の技術) 光磁気記録媒体(以下、単に記録媒体と称する場合も
有る。)は、書換えのできる磁性膜を具えた高密度記録
媒体として、研究開発が活発に行なわれている。
(Prior Art) A magneto-optical recording medium (hereinafter, also simply referred to as a recording medium) is actively researched and developed as a high density recording medium having a rewritable magnetic film.

このような記録媒体の磁性膜を構成する光磁気記録材
料の内でも、希土類金属と遷移金属との非晶質合金(以
下、単にRE−TM合金と称する場合も有る。)は、磁化方
向が成膜面に対して垂直に配向した垂直磁化膜となるこ
と、保磁力が数(KOe)と大きいこと、スパッタ、真空
蒸着またはその他の被着技術で比較的容易に成膜が可能
であること等の点で、最も研究が進み、実用化が進んで
いる。
Among the magneto-optical recording materials forming the magnetic film of such a recording medium, an amorphous alloy of a rare earth metal and a transition metal (hereinafter sometimes simply referred to as RE-TM alloy) has a magnetization direction. A perpendicular magnetic film oriented perpendicular to the film formation surface, a large coercive force (KOe), and relatively easy film formation by sputtering, vacuum evaporation or other deposition techniques. In terms of the above, research has advanced most and practical application has advanced.

しかしながら、RE−TM合金から成る磁性膜は耐食性が
低く(例えば文献|:「光磁気ディスク」(今村修武監
修,(株)トリケプス発行,第427頁)参照)、しか
も、磁気光学的な効果(カー(Kerr)効果)が小さいと
いう欠点が有る。
However, the magnetic film made of the RE-TM alloy has low corrosion resistance (see, for example, Reference |: "Opto-Magnetic Disk" (edited by Shutake Imamura, published by Trikeps Co., Ltd., p. 427)) and has a magneto-optical effect. There is a drawback that (Kerr effect) is small.

そこで、種々の材料から成る保護膜でRE−TM合金から
成る磁性膜を挟んで構成した記録層を基板表面に形成
し、当該磁性膜の腐食を防ぐと共に、光の多重反射を利
用して見掛け上のカー(Kerr)回転角を大きくする構造
が知られている(前記文献|:第119頁)。
Therefore, a recording layer composed of a protective film made of various materials sandwiching a magnetic film made of a RE-TM alloy is formed on the surface of the substrate to prevent corrosion of the magnetic film and to utilize multiple reflections of light. A structure for increasing the rotation angle of the upper Kerr is known (the above document: page 119).

先ず、この発明の説明に先立ち、上述した従来の光磁
気記録媒体につき説明する。
First, prior to the description of the present invention, the conventional magneto-optical recording medium described above will be described.

第3図は、従来の記録媒体の一構成例を説明するた
め、概略的な断面により示す説明図である。図中、断面
を表わすハッチング等は一部省略する。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a schematic cross section for explaining one configuration example of a conventional recording medium. In the figure, some hatching and the like showing the cross section are omitted.

この第3図からも理解できるように、基板11の表面
に、保護膜13a、磁性膜15及び保護膜13bを順次被着する
ことによって記録層17を形成し、記録媒体19を構成して
いた。
As can be understood from FIG. 3, the recording layer 17 is formed by sequentially depositing the protective film 13a, the magnetic film 15 and the protective film 13b on the surface of the substrate 11 to form the recording medium 19. .

このうち、基板11は例えばポリカーボネート樹脂、ガ
ラス、エポキシ樹脂またはその他任意好適な材料から成
り円板形状を有する。
Of these, the substrate 11 is made of, for example, polycarbonate resin, glass, epoxy resin, or any other suitable material and has a disc shape.

また、保護膜13a及び13bは、例えばSiO、SiO2、AlN、
Si3N4、AlSiN、AlSiONまたはその他の保護膜材料を被着
させて形成していた。既に述べたように、この保護膜の
被着は例えばスパッタ法、真空蒸着法またはその他の、
保護膜を構成する材料に応じた被着技術によって行なわ
れる。
Further, the protective films 13a and 13b are formed of, for example, SiO, SiO 2 , AlN,
It was formed by depositing Si 3 N 4 , AlSiN, AlSiON or other protective film material. As already mentioned, this protective film can be deposited by, for example, a sputtering method, a vacuum evaporation method, or another method.
This is performed by a deposition technique depending on the material forming the protective film.

さらに、磁性膜15は前述したRE−TM合金から構成さ
れ、このような合金として例えばTb−Fe合金、Tb−Co合
金、Tb−Fe−Co合金またはその他、希土類金属と遷移金
属との組み合わせが、種々、知られている。
Furthermore, the magnetic film 15 is composed of the above-mentioned RE-TM alloy, and as such an alloy, for example, a Tb-Fe alloy, a Tb-Co alloy, a Tb-Fe-Co alloy or others, a combination of a rare earth metal and a transition metal is used. , Various are known.

このような構造の記録媒体19において、当該媒体19の
読取り側に配設された保護膜13aはC/N比(Carrier/Nois
e Ratio:搬送波対雑音比)に影響を及ぼす要因であるた
め、次のような条件を満たすことが必要とされている。
In the recording medium 19 having such a structure, the protective film 13a disposed on the reading side of the medium 19 has a C / N ratio (Carrier / Nois).
Since it is a factor that affects the e Ratio (carrier to noise ratio), it is necessary to satisfy the following conditions.

見掛け上のカー回転角を高めるために屈折率の高い材
料であること 書込みや読取りに使用される光の波長(通常、750〜9
00(nm)程度)において透光性を有する材料であること 媒体を使用する環境で、例えば水分等から磁性膜を保
護し得る耐食性材料であること また、保護膜13bは、少なくとも上述のとして示す
耐食性を満たす材料であれば、カー効果エンハンスメン
トをもたらす条件を欠く他の材料で構成しても良い。
Material with high refractive index to increase apparent Kerr rotation angle Wavelength of light used for writing and reading (usually 750-9
A material having a light-transmitting property at about 00 (nm)) A corrosion-resistant material capable of protecting the magnetic film from moisture, for example, in an environment where a medium is used. The protective film 13b is shown at least as described above. As long as the material satisfies the corrosion resistance, it may be composed of another material that does not satisfy the conditions that bring about the Kerr effect enhancement.

さらに、従来知られている記録媒体の他の構造とし
て、上述した磁性膜15と保護膜13a及び13bとに、反射膜
を加えて記録層とする構成も知られている。この反射膜
には、例えばアルミニウム(Al)、金(Au)、銅(C
u)、チタン(Ti)を始めとする種々の反射膜材料が用
いられている。
Further, as another structure of a conventionally known recording medium, there is also known a structure in which a reflective film is added to the above-described magnetic film 15 and protective films 13a and 13b to form a recording layer. This reflective film may be made of aluminum (Al), gold (Au), copper (C
Various reflective film materials including u) and titanium (Ti) are used.

このような反射膜を含む構成として、まず、第4図
(A)に示すように、保護膜13a、磁性膜15、保護膜13b
及び反射膜21を順次被着し、記録層23を基板11の表面に
形成する構造の記録媒体25が知られている。
As a structure including such a reflective film, first, as shown in FIG. 4A, a protective film 13a, a magnetic film 15, and a protective film 13b are provided.
Also known is a recording medium 25 having a structure in which a recording layer 23 is formed on the surface of the substrate 11 by sequentially depositing a reflection film 21 on the substrate 11.

また、通常、上述の反射膜は基板との間に磁性膜を挟
むように設けられ、反射膜を具える他の構造として、第
4図(B)に示すように、基板11の表面に、保護膜13
a、磁性膜15、反射膜21及び保護膜13bを順次被着して、
記録層27を基板11の表面に形成する構造の記録媒体29も
知られている。
In addition, usually, the above-mentioned reflective film is provided so as to sandwich the magnetic film between it and the substrate, and as another structure including the reflective film, as shown in FIG. 4 (B), on the surface of the substrate 11, Protective film 13
a, the magnetic film 15, the reflective film 21, and the protective film 13b are sequentially deposited,
A recording medium 29 having a structure in which the recording layer 27 is formed on the surface of the substrate 11 is also known.

このような従来の記録媒体は、1(μm)程度のスポ
ット径に絞ったレーザビーム及び外部磁界を用いた熱磁
気書込み方式によって情報の書込みが行なわれ、前述し
た垂直磁化膜であることから108(ビット/cm2)という
極めて高密度な記録が可能である。また、原理的には、
消去と再書込みとの繰り返しを無限回に近く行なうこと
ができるという優れた特色を有する。
In such a conventional recording medium, information is written by a thermomagnetic writing method using a laser beam focused to a spot diameter of about 1 (μm) and an external magnetic field, and is a perpendicular magnetic film as described above. Very high density recording of 8 (bit / cm 2 ) is possible. Also, in principle,
It has an excellent feature that the erase and rewrite can be repeated almost infinitely.

(発明が解決しようとする課題) 上述したように、従来の光磁気記録媒体は、ポリカー
ボネート樹脂やエポキシ樹脂といった合成樹脂、または
ガラスによって基板を構成し、当該基板の表面に、種々
の構成で記録層を形成して製造される。周知のように、
光磁気記録媒体は、上述した基板材料のうち、ガラスに
比べて機械的強度に優れ、しかも安価な合成樹脂を用い
て構成する傾向に有る。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in the conventional magneto-optical recording medium, the substrate is made of synthetic resin such as polycarbonate resin or epoxy resin, or glass, and the surface of the substrate is recorded with various configurations. It is manufactured by forming layers. As we all know,
Among the above-mentioned substrate materials, the magneto-optical recording medium tends to be formed by using a synthetic resin which is superior in mechanical strength and cheaper than glass.

しかしながら、従来知られている光磁気記録媒体の製
造技術では、合成樹脂から成る基板と記録層との界面に
クラックや剥離を生じ、長時間に亙って安定な、光磁気
記録媒体の特性を維持することが難しいという問題点が
有った。
However, in the conventionally known magneto-optical recording medium manufacturing technology, cracks and peeling occur at the interface between the substrate made of synthetic resin and the recording layer, and stable characteristics of the magneto-optical recording medium over a long period of time can be obtained. There was a problem that it was difficult to maintain.

この発明の目的は、上述した従来の問題点に鑑み、合
成樹脂から成る基板と、記録層との間の密着性向上を図
ることを可能とし、以って、優れた特性を長時間に亙っ
て安定に発揮し得る光磁気記録媒体の製造技術を提供す
ることに有る。
In view of the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to improve the adhesion between a substrate made of a synthetic resin and a recording layer, thereby providing excellent characteristics for a long time. Therefore, it is to provide a manufacturing technique of a magneto-optical recording medium which can be stably exhibited.

(課題を解決するための手段) この目的の達成を図るため、この発明に係る光磁気記
録媒体の製造方法によれば、合成樹脂から成る基板の表
面を逆スパッタした後、この基板の表面に記録層を形成
する光磁気記録媒体の製造方法において、逆スパッタを
アルゴンガスと窒素ガスとの混合ガス雰囲気中で行なう
ことを特徴としている。この場合、混合ガス中の窒素ガ
スの含有量は3mol%以上(ただし、100mol%は含まず)
である。
(Means for Solving the Problem) In order to achieve this object, according to the method of manufacturing a magneto-optical recording medium of the present invention, after the surface of a substrate made of synthetic resin is reverse-sputtered, the surface of the substrate is formed. A method of manufacturing a magneto-optical recording medium for forming a recording layer is characterized in that reverse sputtering is performed in a mixed gas atmosphere of argon gas and nitrogen gas. In this case, the content of nitrogen gas in the mixed gas is 3 mol% or more (however, 100 mol% is not included)
Is.

また、この発明の実施に当り、記録層の形成を、基板
の表面に接して窒素を含む保護膜を被着させて行なうの
が好適である。
Further, in carrying out the present invention, it is preferable that the recording layer is formed by contacting the surface of the substrate and depositing a protective film containing nitrogen.

(作用) この発明に係る光磁気記録媒体の製造方法によれば、
窒素ガスの含有量が3mol%以上(ただし、100mol%は含
まず)であるアルゴンガスと窒素ガスとの混合ガス雰囲
気中で、合成樹脂から成る基板の表面を逆スパッタした
後、この基板の表面に記録層を形成する構成となってい
る。
(Operation) According to the method of manufacturing the magneto-optical recording medium of the present invention,
After reverse sputtering the surface of a substrate made of synthetic resin in a mixed gas atmosphere of argon gas and nitrogen gas with a nitrogen gas content of 3 mol% or more (however, not including 100 mol%), the surface of this substrate The recording layer is formed on the.

この場合、混合ガス中にアルゴンガスが含まれるた
め、逆スパッタによって基板の表面に物理的変化(例え
ば凹凸の形成やスパッタクリーニング)を与え、さらに
混合ガス中に窒素ガスが含まれるため、物理的な変化に
加え、窒素ガスに由来する化学的変化を基板の表面に与
え得ると考えられる。このため、前述した密着性向上を
達成し得るものと考えられる。
In this case, since the mixed gas contains the argon gas, the reverse sputtering gives a physical change to the surface of the substrate (for example, the formation of irregularities or sputter cleaning), and the mixed gas also contains the nitrogen gas, which causes the physical change. In addition to such changes, it is considered that chemical changes derived from nitrogen gas can be applied to the surface of the substrate. Therefore, it is considered that the above-mentioned improvement in adhesion can be achieved.

また、従来知られている保護膜として、窒素を含むも
のが耐食性の面から優れているが、上述した物理的変化
と化学的変化とを与えた基板表面に接して、窒素を含む
保護膜を被着させて記録層を形成することにより、相乗
的に密着性の向上を図り得るものと考えられる。
Further, as a conventionally known protective film, one containing nitrogen is excellent in terms of corrosion resistance, but a protective film containing nitrogen is formed by contacting the surface of the substrate which has undergone the above-described physical change and chemical change. It is considered that the adhesion can be synergistically improved by forming the recording layer by depositing.

(実施例) 以下、図面を参照して、この発明に係る光磁気記録媒
体の製造方法の実施例につき説明する。尚、以下に説明
する実施例は、この発明の範囲の好ましい数値例、その
他の条件で説明するが、これらは単なる例示であって、
この発明はこれら特定の条件にのみ限定されるものでは
ないことを理解されたい。
(Example) An example of a method for manufacturing a magneto-optical recording medium according to the present invention will be described below with reference to the drawings. In addition, the examples described below will be described with preferred numerical examples within the scope of the present invention and other conditions, but these are merely examples,
It is to be understood that this invention is not limited to only these particular conditions.

この実施例では、前述した逆スパッタを、不活性ガス
であるアルゴンガスと、窒素ガスとの混合ガス雰囲気中
で行なった場合につき具体的に説明する。また、この実
施例では、記録媒体の構造の一例として、前述した第3
図に示す構造に統一して、実施例及び比較例に係る記録
媒体につき説明する。
In this embodiment, the case where the above-mentioned reverse sputtering is carried out in a mixed gas atmosphere of an inert gas such as argon gas and nitrogen gas will be specifically described. Further, in this embodiment, as an example of the structure of the recording medium, the above-mentioned third
The recording media according to the examples and comparative examples will be described with the structures shown in FIG.

なお、この実施例では、アルゴンガスのmol数と窒素
ガスのmol数との合計において、窒素ガスのmol数が占め
る割合を「mol%」の単位で含有量として表わし、当該
含有量を種々の値に変えて、複数の試料を作製した。
In this example, in the total of the number of mols of argon gas and the number of mols of nitrogen gas, the ratio of the number of mols of nitrogen gas is expressed as the content in the unit of “mol%”, and the content is varied. A plurality of samples were prepared by changing the values.

<製造条件の説明> まず、実施例に係る試料としての記録媒体の製造条件
につき説明する。尚、説明の理解を容易とするため、記
録媒体の積層関係については前述した第3図を参照され
たい。
<Description of Manufacturing Conditions> First, the manufacturing conditions of the recording medium as the sample according to the example will be described. In order to facilitate understanding of the description, refer to FIG. 3 described above for the stacking relationship of the recording media.

始めに、ポリカーボネート樹脂から成る基板11の表面
に対して、前述の混合ガス圧が3(mTorr)、投入電力
が100(W)の条件で、30分間に亙って逆スパッタを行
なう。
First, reverse sputtering is performed on the surface of the substrate 11 made of polycarbonate resin for 30 minutes under the conditions of the mixed gas pressure of 3 (mTorr) and the input power of 100 (W).

続いて、上述の逆スパッタを行なった基板11の表面
に、AlSiNから成る保護膜13aを約800(Å)の膜厚で被
着形成する。この時の成膜条件は、投入電力が500
(W)、アルゴンのガス圧が3(mTorr)として行なっ
た。
Then, a protective film 13a made of AlSiN is deposited on the surface of the substrate 11 subjected to the above-described reverse sputtering to a thickness of about 800 (Å). The film deposition conditions at this time are:
(W), the gas pressure of argon was 3 (mTorr).

次に、テルビウム:鉄:コバルトの組成比が22:70:8
(原子数の比)である磁性膜用のターゲットを用意し、
上述と同様なスパッタ条件により、保護膜13aの表面
に、約800(Å)の膜厚を以って磁性膜15を被着形成す
る。
Next, the composition ratio of terbium: iron: cobalt is 22: 70: 8.
Prepare the target for the magnetic film (the ratio of the number of atoms),
Under the same sputtering conditions as above, the magnetic film 15 is deposited on the surface of the protective film 13a with a thickness of about 800 (Å).

続いて、前述した保護膜13aと同一の条件によって、
上述した磁性膜15の表面に約1500(Å)の膜厚で保護膜
13bを被着する。
Then, under the same conditions as the protective film 13a described above,
A protective film with a thickness of about 1500 (Å) on the surface of the magnetic film 15 described above.
Put on 13b.

このようにして、前述の混合ガス雰囲気中で基板の表
面を逆スパッタした後、基板11の表面に、保護膜13a、
磁性膜15及び保護膜13bを順次被着して記録層17を形成
し、実施例に係る試料としての記録媒体を得た。
In this way, after the surface of the substrate is reverse-sputtered in the mixed gas atmosphere described above, the protective film 13a, on the surface of the substrate 11,
A magnetic layer 15 and a protective film 13b were sequentially deposited to form a recording layer 17, and a recording medium as a sample according to the example was obtained.

<密着性試験の説明> 次に、上述した実施例に係る記録媒体に対して行なっ
た密着性試験の手順と、試験結果とにつき説明する。
<Explanation of Adhesion Test> Next, the procedure of the adhesion test performed on the recording medium according to the above-described embodiment and the test results will be described.

従来、種々の密着性試験が知られているが、この実施
例では、「JIS C5024」に規定される『Z/ADサイクルテ
スト』に従って測定を行なった。以下、図面を参照し
て、密着性試験の手順につき説明する。
Conventionally, various adhesion tests are known, but in this example, the measurement was performed according to the "Z / AD cycle test" defined in "JIS C5024". Hereinafter, the procedure of the adhesion test will be described with reference to the drawings.

この実施例の密着性試験の手順につき説明すれば、第
2図(A)に示す温度条件と第2図(B)に示す湿度条
件との2つの条件下に試料を保持し、1(サイクル)が
40時間の試験を複数回に亙って行なった。尚、第2図
(A)は縦軸に温度(℃)を採り、横軸に保持時間(時
間)を採って示す説明図、第2図(B)は縦軸に相対湿
度(%)を採り、横軸に保持時間(時間)を採って示す
説明図である。
The procedure of the adhesion test of this example will be described. A sample was held under two conditions of a temperature condition shown in FIG. 2A and a humidity condition shown in FIG. )But
The 40-hour test was conducted multiple times. Incidentally, FIG. 2 (A) is an explanatory diagram showing temperature (° C.) on the vertical axis and holding time (hours) on the horizontal axis, and FIG. 2 (B) shows relative humidity (%) on the vertical axis. FIG. 3 is an explanatory diagram showing the holding time (hours) on the horizontal axis.

これら図を参照して1(サイクル)の密着性試験につ
き、各時間区間に対応して温度条件と湿度条件とを説明
すれば、 保持時間0〜2(時間) 温度25(℃)及び相対湿度90(%)を維持 保持時間2〜5(時間) 相対湿度90(%)を保ち、かつ25(℃)から65(℃)に
まで、3時間に亙って昇温 保持時間5〜8(時間) 温度65(℃)及び相対湿度90(%)を維持 保持時間8〜10(時間) 相対湿度90(%)を保ち、かつ65(℃)から25(℃)に
まで、2時間に亙って降温 保持時間10〜12(時間) 相対湿度90(%)を保ち、かつ25(℃)から65(℃)に
まで、2時間に亙って昇温 保持時間12〜15(時間) 温度65(℃)及び相対湿度90(%)を維持 保持時間15〜18(時間) 相対湿度90(%)を保ち、かつ65(℃)から25(℃)に
まで、3時間に亙って降温 保持時間18〜19.5(時間) 温度25(℃)及び相対湿度90(%)を維持 保持時間19.5〜20(時間) 相対湿度を90(%)から0(%)まで、及び温度を25
(℃)から−10(℃)にまで、0.5時間に亙って降下 保持時間20〜22(時間) 温度−10(℃)及び相対湿度0(%)を維持 保持時間22〜22.5(時間) 相対湿度を0(%)から90(%)まで、及び温度を−10
(℃)から25(℃)にまで、0.5時間に亙って上昇 保持時間22.5〜24(時間) 温度25(℃)及び相対湿度90(%)を維持 保持時間24〜27(時間) 相対湿度90(%)を保ち、かつ25(℃)から65(℃)に
まで、3時間に亙って昇温 保持時間27〜30(時間) 温度65(℃)及び相対湿度90(%)を維持 保持時間30〜32(時間) 相対湿度90(%)を保ち、かつ65(℃)から25(℃)に
まで、2時間に亙って降温 保持時間32〜34(時間) 相対湿度90(%)を保ち、かつ25(℃)から65(℃)に
まで、2時間に亙って昇温 保持時間34〜37(時間) 温度65(℃)及び相対湿度90(%)を維持 保持時間37〜39(時間) 相対湿度90(%)を保ち、かつ65(℃)から25(℃)に
まで、2時間に亙って降温 保持時間39〜40(時間) 温度25(℃)及び相対湿度90(%)を維持 とした。
With reference to these figures, regarding the adhesion test of 1 (cycle), the temperature condition and the humidity condition will be explained in correspondence with each time section. Holding time 0 to 2 (hour) Temperature 25 (° C) and relative humidity Maintain 90 (%) Hold time 2-5 (hours) Maintain relative humidity 90 (%) and raise temperature from 25 (° C) to 65 (° C) over 3 hours Hold time 5-8 ( Time) Temperature 65 (℃) and relative humidity 90 (%) are maintained Hold time 8 to 10 (hours) Relative humidity 90 (%) is maintained and 65 (℃) to 25 (℃) is maintained for 2 hours. Decrease temperature Hold time 10 to 12 (hours) Maintain relative humidity 90 (%) and raise temperature from 25 (℃) to 65 (℃) over 2 hours Hold time 12 to 15 (hours) Temperature Maintains 65 (℃) and relative humidity of 90 (%) Hold time 15 to 18 (hours) Maintains relative humidity of 90 (%) and cools from 65 (℃) to 25 (℃) over 3 hours Protection Time from 18 to 19.5 (time) Temperature 25 (° C.) and relative humidity of 90% to maintain the retention time from 19.5 to 20 (hours) Relative humidity 90% to 0%, and temperature 25
From (℃) to -10 (℃) over 0.5 hours, holding time 20 to 22 (hours) Temperature -10 (℃) and relative humidity 0 (%) holding time 22 to 22.5 (hours) Relative humidity from 0 (%) to 90 (%) and temperature -10
Increases from (℃) to 25 (℃) over 0.5 hours Holding time 22.5 to 24 (hours) Temperature 25 (℃) and relative humidity 90 (%) Holding time 24 to 27 (hours) Relative humidity Maintain 90 (%) and increase temperature from 25 (℃) to 65 (℃) over 3 hours Hold time 27 to 30 (hours) Maintain temperature 65 (℃) and relative humidity 90 (%) Hold time 30 to 32 (hours) Relative humidity 90 (%) is maintained, and temperature is lowered from 65 (℃) to 25 (℃) over 2 hours Hold time 32 to 34 (hours) Relative humidity 90 (%) ) Is maintained and the temperature is raised from 25 (℃) to 65 (℃) over 2 hours. Holding time 34 to 37 (hours) Maintaining temperature 65 (℃) and relative humidity 90 (%) Holding time 37 ~ 39 (hours) Relative humidity 90 (%) is maintained, and temperature is lowered from 65 (℃) to 25 (℃) over 2 hours Hold time 39 to 40 (hours) Temperature 25 (℃) and relative humidity 90 (%) was maintained.

また、この密着性試験の評価に当っては、上述した1
(サイクル)の保持操作を行なう毎に、試料表面を肉眼
で観察し、試料表面のクラック発生の有無を調べた。
Moreover, in the evaluation of this adhesion test, 1
Each time the (cycle) holding operation was performed, the sample surface was observed with the naked eye, and the presence or absence of cracks on the sample surface was examined.

第1図は、実施例に係る複数の試料に関し、クラック
が認められるまで行なったZ/ADサイクルテストの試行回
数(サイクル)を縦軸に採り、横軸には上述した窒素ガ
スの含有量(mol%)を採って示す特性曲線図である。
尚、この実施例では、上述した密着性試験を最大10(サ
イクル)迄行なった。従って、同図中、最大試行回数で
ある10(サイクル)においてもクラック発生が認められ
なかった場合の測定結果を「●」でプロットし、各試行
回数に対応してクラック発生が認められた結果は「○」
でプロットしてある。
FIG. 1 shows the number of trials (cycles) of the Z / AD cycle test performed until cracks were observed for a plurality of samples according to the example on the vertical axis, and the above-mentioned nitrogen gas content (cycle) on the horizontal axis. It is a characteristic curve figure which takes and shows.
In this example, the above-mentioned adhesion test was conducted up to 10 (cycles). Therefore, in the figure, when the crack occurrence was not observed even at the maximum number of trials of 10 (cycles), the measurement results are plotted with "●", and the crack occurrence is confirmed corresponding to each trial number. Is "○"
Is plotted at.

この第1図からも理解できるように、窒素ガスの含有
量を2(mol%)とした場合には3(サイクル)でクラ
ック発生が認められた。一方、窒素ガスの含有量を2
(mol%)から次第に増加させ、3(mol%)、4(mol
%)及び5(mol%)として得られた実施例に係る試料
では、各々、5(サイクル)、7(サイクル)または9
(サイクル)と、当該含有量に応じて、密着性向上の度
合が大きく成った。さらに、この窒素ガス含有量を10
(mol%)〜60(mol%)とした場合には、上述した密着
性試験を10(サイクル)繰り返した場合であっても、ク
ラック発生が認められなかった。
As can be understood from FIG. 1, when the content of nitrogen gas was 2 (mol%), cracking was observed at 3 (cycles). On the other hand, the nitrogen gas content should be 2
Gradually increase from (mol%), 3 (mol%), 4 (mol
%) And 5 (mol%) for the samples according to the examples, 5 (cycle), 7 (cycle) or 9 respectively.
Depending on the (cycle) and the content, the degree of improvement in adhesiveness became large. Furthermore, the nitrogen gas content is set to 10
In the case of (mol%) to 60 (mol%), no crack was observed even when the above-mentioned adhesion test was repeated 10 (cycles).

また、比較のため、前述した製造手順のうち、逆スパ
ッタを行なわなかったことを除いては、実施例に係る試
料と同一の条件で比較例1に係る試料を作製し、上述と
同様にZ/ADサイクルテストを行なった。
For comparison, a sample according to Comparative Example 1 was prepared under the same conditions as the sample according to the example except that the reverse sputtering was not performed in the manufacturing procedure described above, and the Z / AD cycle test was done.

また、さらに比較のため、前述した製造手順のうち、
逆スパッタをアルゴンガス雰囲気中で行なったことを除
いては、実施例に係る試料と同一の条件で比較例2に係
る試料を作製し、上述と同様にZ/ADサイクルテストを行
なった。
In addition, for further comparison, among the manufacturing procedures described above,
A sample according to Comparative Example 2 was prepared under the same conditions as the sample according to the example except that reverse sputtering was performed in an argon gas atmosphere, and a Z / AD cycle test was performed in the same manner as described above.

その結果、比較例1に係る試料では、1(サイクル)
の暴露操作を行なった後に、クラック発生が認められ
た。また、比較例2に係る試料では、3(サイクル)の
保持走査の後に、クラック発生が認められた。
As a result, in the sample according to Comparative Example 1, 1 (cycle)
After performing the exposure operation of No. 3, cracking was observed. Further, in the sample according to Comparative Example 2, crack generation was observed after 3 (cycle) holding scans.

この実施例に係る試験結果および比較結果から理解出
来るように、アルゴンガスと窒素ガスとの混合ガス(窒
素ガスの含有量は3mol%以上(ただし、100mol%は含ま
ず)である。)雰囲気中で、合成樹脂から成る基板の表
面を逆スパッタした後、記録層を形成する、この発明の
方法では、従来の技術に比べて密着性の向上を図ること
ができた。すなわち、上述した混合ガス雰囲気中で逆ス
パッタを行なった場合には、不活性ガス単体で逆スパッ
タを行なった場合に比べて、より密着性向上を図ること
ができた。また、前述した保護膜13aが窒素を含む材料
で構成されたため、密着性向上をさらに高めたものと考
えられる。
As can be understood from the test results and comparative results according to this example, in a mixed gas of argon gas and nitrogen gas (the content of nitrogen gas is 3 mol% or more (however, 100 mol% is not included)) atmosphere. In the method of the present invention, in which the surface of the substrate made of synthetic resin is reverse-sputtered and then the recording layer is formed, the adhesion can be improved as compared with the conventional technique. That is, when the reverse sputtering is performed in the mixed gas atmosphere described above, the adhesion can be further improved as compared with the case where the reverse sputtering is performed using only the inert gas. Further, since the protective film 13a described above is made of a material containing nitrogen, it is considered that the adhesion is further improved.

以上、この発明の実施例につき詳細に説明したが、こ
の発明の方法は、上述した実施例の条件にのみ限定され
るものではないこと明らかである。
Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, it is clear that the method of the present invention is not limited to the conditions of the above-described embodiments.

例えば、上述した実施例では、合成樹脂から成る基板
として、ポリカーボネート基板を例示し、当該基板に接
し、しかも記録層を構成する構成成分として、AlSiNか
ら成る保護膜を例示して説明した。
For example, in the above-described embodiments, a polycarbonate substrate is exemplified as the substrate made of synthetic resin, and a protective film made of AlSiN is illustrated as an example of a constituent component which is in contact with the substrate and constitutes the recording layer.

しかしながら、前述の混合ガス雰囲気中で逆スパッタ
を行なって記録媒体を作製するに当っては、基板に接す
る構成成分の材質に限定されることなく、上述した実施
例と同様の効果を期待し得る。
However, in producing a recording medium by performing reverse sputtering in the above-mentioned mixed gas atmosphere, the same effects as those of the above-described embodiment can be expected without being limited to the materials of the constituent components in contact with the substrate. .

さらに、この発明では、基板表面を逆スパッタするに
当って、不活性ガスと窒素ガスとの混合ガスを用い、か
つ、この基板に接する材料が窒素を含む構成とするのが
好適であるが、この基板に接する材料が窒素を含まない
材料の場合についても有効である。
Further, in the present invention, it is preferable to use a mixed gas of an inert gas and a nitrogen gas in reverse sputtering the surface of the substrate, and to make the material in contact with the substrate contain nitrogen. This is also effective when the material in contact with the substrate is a material containing no nitrogen.

また、この混合ガスを用いて逆スパッタする場合、保
護膜として上述のAlSiNの代わりに、AlN、Si3N4またはA
lSiONのように、窒素を含む材料を用いても良い。
When reverse sputtering is performed using this mixed gas, AlN, Si 3 N 4 or A instead of AlSiN described above is used as a protective film.
A material containing nitrogen such as lSiON may be used.

また、この発明の方法は、第3図に示す構成の記録媒
体に限定してのみ効果が得られるものではなく、反射膜
を含む記録層を具えた記録媒体、またはその他、種々の
積層関係を有する記録媒体に適用した場合であっても、
上述の実施例と同様な効果を期待できる。
Further, the method of the present invention is not limited to the recording medium having the structure shown in FIG. 3, and the effect can be obtained, and a recording medium having a recording layer including a reflective film, or other various lamination relationships can be used. Even when applied to a recording medium that has
The same effect as that of the above-described embodiment can be expected.

これら材料、配置関係、数値的条件及びその他、上述
した特定の条件は、この発明の目的の範囲内で、任意好
適な設計の変更及び変形を行ない得ること明らかであ
る。
It is obvious that these materials, arrangement relations, numerical conditions and other specific conditions described above can be changed and modified in any suitable design within the scope of the object of the present invention.

(発明の効果) 上述した説明からも明らかなように、この発明の光磁
気記録媒体の製造方法によれば、アルゴンガスと窒素ガ
スとの混合ガス(窒素ガスの含有量は3mol%以上(ただ
し、100mol%は含まず)である。)雰囲気中で、合成樹
脂から成る基板の表面を逆スパッタした後、この表面に
記録層を形成する構成と成している。これがため、上述
したガスによって物理的変化や化学的変化を生じせしめ
ることにより、基板と記録層との間の密着性向上を達成
することができる。
(Effect of the Invention) As is clear from the above description, according to the method for manufacturing a magneto-optical recording medium of the present invention, a mixed gas of argon gas and nitrogen gas (content of nitrogen gas is 3 mol% or more (however, , 100 mol% are not included.)) In the atmosphere, the surface of the substrate made of synthetic resin is reverse-sputtered, and then the recording layer is formed on this surface. For this reason, by causing a physical change or a chemical change by the above-mentioned gas, it is possible to improve the adhesion between the substrate and the recording layer.

従って、この発明の方法を適用することにより、機械
的強度に優れしかも安価である合成樹脂から成る基板
と、記録層との間の密着性向上を図ることができ、延い
ては、優れた特性を長期間に亙って安定に発揮し得る光
磁気記録媒体を提供することが期待できる。
Therefore, by applying the method of the present invention, it is possible to improve the adhesiveness between the recording layer and the substrate made of a synthetic resin which is excellent in mechanical strength and is inexpensive, and in turn, has excellent characteristics. It can be expected to provide a magneto-optical recording medium capable of stably exhibiting the above characteristics over a long period of time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、この発明の実施例を説明するため、密着性試
験の測定結果を示す特性曲線図、 第2図(A)及び(B)は、実施例で行なった密着性試
験の条件を説明するため、1(サイクル)における温度
条件または湿度条件を、各々、保持時間に対応させて示
す説明図、 第3図は、この発明の実施例で作製した試料の構成と、
従来技術とを説明するため、概略的な基板断面により示
す説明図、 第4図(A)及び(B)は、従来技術を説明するため、
第3図と同様にして示す説明図である。 11……基板、13a,13b……保護膜、 15……磁性膜、17,23,27……記録層 19,25,29……光磁気記録媒体、21……反射膜。
FIG. 1 is a characteristic curve diagram showing the measurement results of the adhesion test for explaining the embodiments of the present invention, and FIGS. 2 (A) and 2 (B) show the conditions of the adhesion test performed in the examples. For the purpose of explanation, an explanatory view showing the temperature condition or the humidity condition in 1 (cycle) in correspondence with the holding time, and FIG. 3 shows the structure of the sample prepared in the example of the present invention
In order to explain the prior art, an explanatory view shown by a schematic substrate cross section, and FIGS. 4 (A) and 4 (B) are for explaining the prior art.
It is explanatory drawing shown similarly to FIG. 11 ... Substrate, 13a, 13b ... Protective film, 15 ... Magnetic film, 17,23, 27 ... Recording layer 19, 25, 29 ... Magneto-optical recording medium, 21 ... Reflective film.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−229642(JP,A) 特開 昭63−217546(JP,A) 特開 昭60−191451(JP,A) 特開 昭63−306553(JP,A) 特開 昭63−70946(JP,A) 特開 平1−107340(JP,A)Continuation of the front page (56) Reference JP 63-229642 (JP, A) JP 63-217546 (JP, A) JP 60-191451 (JP, A) JP 63-306553 (JP , A) JP 63-70946 (JP, A) JP 1-107340 (JP, A)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】合成樹脂から成る基板の表面を逆スパッタ
した後、該基板の表面に記録層を形成する光磁気記録媒
体の製造方法において、 前記逆スパッタを、窒素ガスの含有量が3mol%以上(た
だし、100mol%は含まず)であるアルゴンガスと窒素ガ
スとの混合ガス雰囲気中で行なうことを特徴とする光磁
気記録媒体の製造方法。
1. A method of manufacturing a magneto-optical recording medium, comprising forming a recording layer on the surface of a substrate after the surface of the substrate made of synthetic resin is reverse-sputtered, wherein the reverse sputtering is performed with a nitrogen gas content of 3 mol%. A method for manufacturing a magneto-optical recording medium, which is performed in a mixed gas atmosphere of argon gas and nitrogen gas as described above (however, not including 100 mol%).
【請求項2】請求項1に記載の光磁気記録媒体の製造方
法において、前記記録層の形成を、前記基板の表面に接
して窒素を含む保護膜を被着させて行なうことを特徴と
する光磁気記録媒体の製造方法。
2. The method for manufacturing a magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer is formed by contacting the surface of the substrate with a protective film containing nitrogen. Manufacturing method of magneto-optical recording medium.
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