JP2554599B2 - 高濃度の微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法 - Google Patents
高濃度の微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法Info
- Publication number
- JP2554599B2 JP2554599B2 JP29429493A JP29429493A JP2554599B2 JP 2554599 B2 JP2554599 B2 JP 2554599B2 JP 29429493 A JP29429493 A JP 29429493A JP 29429493 A JP29429493 A JP 29429493A JP 2554599 B2 JP2554599 B2 JP 2554599B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- fine particles
- metal
- composite
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高濃度の微粒子を分散さ
せた高分子複合物の製造方法に係り、詳しくは金属もし
くは金属酸化物からなる微粒子の濃度を高めてなる高濃
度の微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法に関す
る。
せた高分子複合物の製造方法に係り、詳しくは金属もし
くは金属酸化物からなる微粒子の濃度を高めてなる高濃
度の微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より実施されている微粒子分散複合
物の製造方法としては、気相中で実施する共蒸着法、共
スパッタ法、液相中で実施する共沈法、固相中で実施す
る析出法、イオン注入法等があるが、これらのいずれの
方法も原子あるいはイオン状態の金属を凝集させて微粒
子化し、さらに粒成長させず取扱い性を良くする目的で
金属微粒子を有機あるいは無機のマトリクスで被覆して
複合物を作製していた。また、最近では、熱力学的に不
安定な準安定状態の高分子層を作製し、この高分子層の
表面に金属層を密着した後、前記高分子を加熱して準安
定状態の高分子層を安定化させることで金属層の金属も
しくは金属酸化物を微粒子化させて高分子中に分散さる
方法も、特開平３−２７３０６０号公報に開示されてい
る。
物の製造方法としては、気相中で実施する共蒸着法、共
スパッタ法、液相中で実施する共沈法、固相中で実施す
る析出法、イオン注入法等があるが、これらのいずれの
方法も原子あるいはイオン状態の金属を凝集させて微粒
子化し、さらに粒成長させず取扱い性を良くする目的で
金属微粒子を有機あるいは無機のマトリクスで被覆して
複合物を作製していた。また、最近では、熱力学的に不
安定な準安定状態の高分子層を作製し、この高分子層の
表面に金属層を密着した後、前記高分子を加熱して準安
定状態の高分子層を安定化させることで金属層の金属も
しくは金属酸化物を微粒子化させて高分子中に分散さる
方法も、特開平３−２７３０６０号公報に開示されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、共蒸着法、共
スパッタ法、共沈法、析出法、あるいはイオン注入法に
共通した問題点は、金属微粒子が非常に凝集しやすいこ
とにあり、このため複合物中の金属微粒子の濃度を増加
させることが困難となり、更には生産性を非常に悪くし
ている。また、金属徴粒子の濃度が低いことは、複合物
としての物理特性に金属微粒子の寄与する割合が小さい
ことを示しており、複合物の用途を非常に狭くしてい
る。また、特開平３−２７３０６０号公報に開示された
方法も、金属蒸着時の放射熱による高分子の緩和によっ
て、これ以上金属を微粒子化することができなくなった
り、あるいは熱処理時に金属が微粒子化する前に高分子
の緩和が終了することがあり、試料温度を厳格に制御し
なければならなかった。本発明者らは、このような問題
点に着目し、金属もしくは金属酸化物からなる微粒子の
濃度を高めた高濃度の微粒子を分散させた高分子複合物
の製造方法を提供することを目的とする。
スパッタ法、共沈法、析出法、あるいはイオン注入法に
共通した問題点は、金属微粒子が非常に凝集しやすいこ
とにあり、このため複合物中の金属微粒子の濃度を増加
させることが困難となり、更には生産性を非常に悪くし
ている。また、金属徴粒子の濃度が低いことは、複合物
としての物理特性に金属微粒子の寄与する割合が小さい
ことを示しており、複合物の用途を非常に狭くしてい
る。また、特開平３−２７３０６０号公報に開示された
方法も、金属蒸着時の放射熱による高分子の緩和によっ
て、これ以上金属を微粒子化することができなくなった
り、あるいは熱処理時に金属が微粒子化する前に高分子
の緩和が終了することがあり、試料温度を厳格に制御し
なければならなかった。本発明者らは、このような問題
点に着目し、金属もしくは金属酸化物からなる微粒子の
濃度を高めた高濃度の微粒子を分散させた高分子複合物
の製造方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明の高濃度の
微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法において
は、熱力学的に不安定な準安定状態の高分子層を作製
し、この高分子層の表面に金属層を密着した後、前記高
分子を加熱して準安定状態の高分子層を安定化させるこ
とで金属層の金属を微粒子化させて高分子中に分散さ
せ、この高分子複合物を有機溶媒に溶解した微粒子分散
溶液を遠心分離することによって沈澱物を作製し、得ら
れた沈澱物から有機溶媒を除去することを特徴としてい
る。
微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法において
は、熱力学的に不安定な準安定状態の高分子層を作製
し、この高分子層の表面に金属層を密着した後、前記高
分子を加熱して準安定状態の高分子層を安定化させるこ
とで金属層の金属を微粒子化させて高分子中に分散さ
せ、この高分子複合物を有機溶媒に溶解した微粒子分散
溶液を遠心分離することによって沈澱物を作製し、得ら
れた沈澱物から有機溶媒を除去することを特徴としてい
る。
【０００５】本発明の製造方法の微粒子分散溶液では、
金属もしくは金属酸化物の微粒子が高分子と強く相互作
用しているため、溶液状態あるいは高分子の融点温度以
下では非常に安定して分散している。このために、微粒
子分散溶液を遠心分離することによって得られた沈澱物
では、金属もしくは金属酸化物の微粒子の凝集がなく、
微粒子の濃度を高めた高分子複合物を得ることができ
る。
金属もしくは金属酸化物の微粒子が高分子と強く相互作
用しているため、溶液状態あるいは高分子の融点温度以
下では非常に安定して分散している。このために、微粒
子分散溶液を遠心分離することによって得られた沈澱物
では、金属もしくは金属酸化物の微粒子の凝集がなく、
微粒子の濃度を高めた高分子複合物を得ることができ
る。
【０００６】即ち、本発明方法の工程を以下に詳細に説
明する。まず、高分子複合物を得る場合において、第１
に高分子層を熱力学的に不安定な状態に成形することで
ある。具体的には、これは高分子を真空中で加熱して融
解し蒸発させて基板の上に高分子層を固化する真空蒸着
方法、あるいは高分子を融解温度以上で融解し、この状
態のまま直ちに液体窒素等に投入して急冷し、基板の上
に高分子層を付着させる融解急冷固化方法などがある。
明する。まず、高分子複合物を得る場合において、第１
に高分子層を熱力学的に不安定な状態に成形することで
ある。具体的には、これは高分子を真空中で加熱して融
解し蒸発させて基板の上に高分子層を固化する真空蒸着
方法、あるいは高分子を融解温度以上で融解し、この状
態のまま直ちに液体窒素等に投入して急冷し、基板の上
に高分子層を付着させる融解急冷固化方法などがある。
【０００７】真空蒸着方法の場合には、通常の真空蒸着
装置を使用して１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒの真空度、蒸着
速度０．１〜１００μｍ／分、好ましくは０．５〜５μ
ｍ／分で、ガラス等の基板の上に高分子層を得ることが
できる。融解急冷固化方法では、高分子を融解し、該高
分子固有の臨界冷却速度以上の速度で冷却し、高分子層
を得る。得られた高分子層は熱力学的に不安定な準安定
状態におかれ、時間の経過につれて平衡状態へ移行す
る。
装置を使用して１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒの真空度、蒸着
速度０．１〜１００μｍ／分、好ましくは０．５〜５μ
ｍ／分で、ガラス等の基板の上に高分子層を得ることが
できる。融解急冷固化方法では、高分子を融解し、該高
分子固有の臨界冷却速度以上の速度で冷却し、高分子層
を得る。得られた高分子層は熱力学的に不安定な準安定
状態におかれ、時間の経過につれて平衡状態へ移行す
る。
【０００８】本発明で使用する高分子は、例えばナイロ
ン６、ナイロン６６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナ
イロン６９、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、
ポリビニルアルコール、ポリフェニレンスルフィド（Ｐ
ＰＳ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート等であり、分子凝集エネルギー
として２０００ｃａｌ／ｍｏｌ以上有するものが好まし
い。この高分子は、通常言われている結晶性高分子や非
晶性高分子も含む。尚、分子凝集エネルギーについて
は、日本化学会編 化学便覧応用編（１９７４年発行）
の第８９０頁に詳細に定義されている。
ン６、ナイロン６６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナ
イロン６９、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、
ポリビニルアルコール、ポリフェニレンスルフィド（Ｐ
ＰＳ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート等であり、分子凝集エネルギー
として２０００ｃａｌ／ｍｏｌ以上有するものが好まし
い。この高分子は、通常言われている結晶性高分子や非
晶性高分子も含む。尚、分子凝集エネルギーについて
は、日本化学会編 化学便覧応用編（１９７４年発行）
の第８９０頁に詳細に定義されている。
【０００９】続いて、前記熱力学的に不安定にある準安
定状態の高分子層は、その表面に金属層を密着させる工
程へと移される。この工程では真空蒸着装置によって金
属を高分子層に蒸着させるか、もしくは金属箔、金属板
を直接高分子層に密着させる等の方法で金属層を高分子
層に積層させる。その金属としてはＡｕ，Ａｇ，Ｃｕ，
Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ｙ，
Ｗ，Ｓｎ，Ｇｅ，Ｉｎ，Ｇａがあり、特に限定されな
い。
定状態の高分子層は、その表面に金属層を密着させる工
程へと移される。この工程では真空蒸着装置によって金
属を高分子層に蒸着させるか、もしくは金属箔、金属板
を直接高分子層に密着させる等の方法で金属層を高分子
層に積層させる。その金属としてはＡｕ，Ａｇ，Ｃｕ，
Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ｙ，
Ｗ，Ｓｎ，Ｇｅ，Ｉｎ，Ｇａがあり、特に限定されな
い。
【００１０】上記金属層と高分子層とが密着した複合物
を、高分子のガラス転移点以上、融点以下の温度で加熱
して高分子層を安定状態へ移行させる。その結果、金属
層の金属は、１００ｎｍ以下で、１〜１０ｎｍの領域に
粒子径分布の最大をもつ金属あるいはＣｕ2 Ｏ、Ｆｅ3
Ｏ4 、ＺｎＯ、Ｙ2 Ｏ3 等の金属酸化物の微粒子となっ
て高分子層内へ拡散浸透し、この状態は高分子層が完全
に緩和するまで続き、高分子層に付着している金属層は
その厚さも減少して最終的に無くなる。上記微粒子は凝
集することなく高分子層内に分布している。
を、高分子のガラス転移点以上、融点以下の温度で加熱
して高分子層を安定状態へ移行させる。その結果、金属
層の金属は、１００ｎｍ以下で、１〜１０ｎｍの領域に
粒子径分布の最大をもつ金属あるいはＣｕ2 Ｏ、Ｆｅ3
Ｏ4 、ＺｎＯ、Ｙ2 Ｏ3 等の金属酸化物の微粒子となっ
て高分子層内へ拡散浸透し、この状態は高分子層が完全
に緩和するまで続き、高分子層に付着している金属層は
その厚さも減少して最終的に無くなる。上記微粒子は凝
集することなく高分子層内に分布している。
【００１１】尚、本発明では、高分子複合物の製造方法
は上記の方法だけでなく、例えば溶融気化法に属する気
相法、沈殿法に属する液相法、固相法、分散法で金属超
微粒子を作製し、この超微粒子を溶液あるいは融液から
なる高分子と機械的に混合する方法、あるいは高分子と
金属とを同時に蒸発させ、気相中で混合する方法等があ
る。
は上記の方法だけでなく、例えば溶融気化法に属する気
相法、沈殿法に属する液相法、固相法、分散法で金属超
微粒子を作製し、この超微粒子を溶液あるいは融液から
なる高分子と機械的に混合する方法、あるいは高分子と
金属とを同時に蒸発させ、気相中で混合する方法等があ
る。
【００１２】得られた高分子複合物は、メタクレゾー
ル、ジメチルホルムアミド、ジクロロエタン、クロロプ
ロパノール等の有機溶剤からなる溶媒に混合し溶解さ
せ、微粒子を分散させた微粒子分散溶液にする。微粒子
は粒径が小さく高分子との相互作用が存在するために溶
液中で高分子との分離、沈澱および微粒子同志の凝集が
生じない。この場合、微粒子の含有量は０．０１〜６０
重量％である。
ル、ジメチルホルムアミド、ジクロロエタン、クロロプ
ロパノール等の有機溶剤からなる溶媒に混合し溶解さ
せ、微粒子を分散させた微粒子分散溶液にする。微粒子
は粒径が小さく高分子との相互作用が存在するために溶
液中で高分子との分離、沈澱および微粒子同志の凝集が
生じない。この場合、微粒子の含有量は０．０１〜６０
重量％である。
【００１３】上記微粒子分散溶液を遠心分離機によって
沈澱物と上澄液とに分離し、上澄み液を除去して沈澱物
を取り出す。該沈澱物はペースト状であり、凝集せず分
散した金属あるいは金属酸化物の微粒子を含んでいる。
この沈澱物をガラス等の基材の上に塗布して、乾燥させ
て有機溶剤を除去して目的物である少なくとも７０重量
％の高濃度の微粒子を分散させた高分子複合物を得るこ
とができる。
沈澱物と上澄液とに分離し、上澄み液を除去して沈澱物
を取り出す。該沈澱物はペースト状であり、凝集せず分
散した金属あるいは金属酸化物の微粒子を含んでいる。
この沈澱物をガラス等の基材の上に塗布して、乾燥させ
て有機溶剤を除去して目的物である少なくとも７０重量
％の高濃度の微粒子を分散させた高分子複合物を得るこ
とができる。
【００１４】
【実施例】次に、本発明を具体的な実施例により更に詳
細に説明する。 実施例１ 真空蒸着装置を用いて、ナイロン１１のポリマーペレッ
ト５ｇをタングステンボード中に入れ、１０-6Ｔｏｒｒ
に減圧する。次いで、電圧を印加してタングステンボー
ドを真空中で加熱してポリマーを融解させ、蒸着源の上
部に設置した基板（ガラス板）上に、１０-4〜１０-6Ｔ
ｏｒｒの真空度で約１μｍ／分の速度で厚さ約５μｍの
蒸着膜の高分子層を得た。この高分子層の分子量は前記
ポリマーペレットの１／２〜１／１０程度になってい
る。更に、金あるいは銅の金属チップをタングステンボ
ード中に入れて加熱融解して１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒの
真空度で蒸着を行って高分子層の上に銅蒸着膜を付着さ
せた。これを真空蒸着装置から取り出し、１２０°Ｃに
保持した恒温槽中に１０分間放置して複合物を得た。
細に説明する。 実施例１ 真空蒸着装置を用いて、ナイロン１１のポリマーペレッ
ト５ｇをタングステンボード中に入れ、１０-6Ｔｏｒｒ
に減圧する。次いで、電圧を印加してタングステンボー
ドを真空中で加熱してポリマーを融解させ、蒸着源の上
部に設置した基板（ガラス板）上に、１０-4〜１０-6Ｔ
ｏｒｒの真空度で約１μｍ／分の速度で厚さ約５μｍの
蒸着膜の高分子層を得た。この高分子層の分子量は前記
ポリマーペレットの１／２〜１／１０程度になってい
る。更に、金あるいは銅の金属チップをタングステンボ
ード中に入れて加熱融解して１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒの
真空度で蒸着を行って高分子層の上に銅蒸着膜を付着さ
せた。これを真空蒸着装置から取り出し、１２０°Ｃに
保持した恒温槽中に１０分間放置して複合物を得た。
【００１５】得られた複合物をメタクレゾールに溶解さ
せて良く攪拌して微粒子分散溶液とし、これを遠心分離
機に設置し分速１５０００回転で１時間遠心分離を行っ
た。遠心分離後の沈澱物と上澄み液とをガラス上に塗布
した後、１２０°Ｃで３０分間乾燥してメタクレゾール
を除去してフィルム状の複合物を作製した。複合物の金
属含有量は灰分測定法により求め、また微粒子サイズは
Ｘ線回折法により半値幅を求め、シェラーの式から結晶
体のサイズを計算して求めた。また、複合物の色調は肉
眼で観測した。その結果を表１に示す。
せて良く攪拌して微粒子分散溶液とし、これを遠心分離
機に設置し分速１５０００回転で１時間遠心分離を行っ
た。遠心分離後の沈澱物と上澄み液とをガラス上に塗布
した後、１２０°Ｃで３０分間乾燥してメタクレゾール
を除去してフィルム状の複合物を作製した。複合物の金
属含有量は灰分測定法により求め、また微粒子サイズは
Ｘ線回折法により半値幅を求め、シェラーの式から結晶
体のサイズを計算して求めた。また、複合物の色調は肉
眼で観測した。その結果を表１に示す。
【００１６】
【表１】
【００１７】この結果、得られた複合物は、遠心分離に
よって高濃度の微粒子を有することが明らかとなり、ま
た沈澱物の透過色は上澄み液と同様、微粒子のプラズモ
ン共鳴吸収により所定の色を示すが、反射光は特異な光
学特性を有している。
よって高濃度の微粒子を有することが明らかとなり、ま
た沈澱物の透過色は上澄み液と同様、微粒子のプラズモ
ン共鳴吸収により所定の色を示すが、反射光は特異な光
学特性を有している。
【００１８】また、フィルム状の複合物の厚み方向に金
で電極を設置し、一定電圧印加時における電流値の時間
変化を測定した。その結果を図１〜図６に示す。金微粒
子濃度が２７重量％と低い従来の場合、マトリクスであ
るナイロンの電気的挙動を強く示すが、金微粒子濃度が
７９重量％と高い本実施例の場合、印加電圧の増加とと
もに電流値が増加し、複合物独特の特性を示しているこ
とが判る。
で電極を設置し、一定電圧印加時における電流値の時間
変化を測定した。その結果を図１〜図６に示す。金微粒
子濃度が２７重量％と低い従来の場合、マトリクスであ
るナイロンの電気的挙動を強く示すが、金微粒子濃度が
７９重量％と高い本実施例の場合、印加電圧の増加とと
もに電流値が増加し、複合物独特の特性を示しているこ
とが判る。
【００１９】
【発明の効果】以上のように本発明の高濃度の微粒子を
分散させた高分子複合物の製造方法では、微粒子分散溶
液中の金属もしくは金属酸化物の微粒子が高分子と強く
相互作用しているため、この微粒子分散溶液を遠心分離
することによって沈澱物を作製しても、微粒子の凝集が
なく、微粒子の濃度を高めた特異の特性を有する高分子
複合物を得ることができる。
分散させた高分子複合物の製造方法では、微粒子分散溶
液中の金属もしくは金属酸化物の微粒子が高分子と強く
相互作用しているため、この微粒子分散溶液を遠心分離
することによって沈澱物を作製しても、微粒子の凝集が
なく、微粒子の濃度を高めた特異の特性を有する高分子
複合物を得ることができる。
【図１】金微粒子濃度が２７重量％の低い従来の高分子
複合物に１Ｖを印加した時の電流値の変化を示す図であ
る。
複合物に１Ｖを印加した時の電流値の変化を示す図であ
る。
【図２】図１で使用した高分子複合物に１０Ｖを印加し
た時の電流値の変化を示す図である。
た時の電流値の変化を示す図である。
【図３】図１で使用した高分子複合物に１００Ｖを印加
した時の電流値の変化を示す図である。
した時の電流値の変化を示す図である。
【図４】金微粒子濃度が７９重量％と高い本実施例の高
分子複合物に１０ｍＶを印加した時の電流値の変化を示
す図である。
分子複合物に１０ｍＶを印加した時の電流値の変化を示
す図である。
【図５】図４で使用した高分子複合物に５０ｍＶを印加
した時の電流値の変化を示す図である。
した時の電流値の変化を示す図である。
【図６】図４で使用した高分子複合物に２００ｍＶを印
加した時の電流値の変化を示す図である。
加した時の電流値の変化を示す図である。
Claims (1)
- 【請求項１】 熱力学的に不安定な準安定状態の高分子
層を作製し、この高分子層の表面に金属層を密着した
後、前記高分子を加熱して準安定状態の高分子層を安定
化させることで金属層の金属を微粒子化させて高分子中
に分散させ、この高分子複合物を有機溶媒に溶解した微
粒子分散溶液を遠心分離することによって沈澱物を作製
し、得られた沈澱物から有機溶媒を除去してなることを
特徴とする高濃度の微粒子を分散させた高分子複合物の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29429493A JP2554599B2 (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 高濃度の微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29429493A JP2554599B2 (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 高濃度の微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07126402A JPH07126402A (ja) | 1995-05-16 |
| JP2554599B2 true JP2554599B2 (ja) | 1996-11-13 |
Family
ID=17805840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29429493A Expired - Lifetime JP2554599B2 (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 高濃度の微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2554599B2 (ja) |
-
1993
- 1993-10-28 JP JP29429493A patent/JP2554599B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07126402A (ja) | 1995-05-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Mattox | Thin film metallization of oxides in microelectronics | |
| TWI303281B (zh) | 相變化型記憶體用濺鍍靶及其製造方法 | |
| WO2005056848A1 (ja) | 反射膜用の銀合金 | |
| Saltzmann et al. | Shape without structure: an intriguing formation mechanism in the solvothermal synthesis of the phase‐change material Sb2Te3 | |
| JP2554599B2 (ja) | 高濃度の微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法 | |
| US20030019327A1 (en) | Ultrafine particles and method and apparatus for producing the same | |
| EP0188100B1 (en) | Optical recording medium formed of chalcogen oxide and method for producing same | |
| JP2623421B2 (ja) | 金属硫化物の微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法 | |
| JP2535303B2 (ja) | 超微粒子分散ガラス状物とその製造方法 | |
| JP2678336B2 (ja) | 超微粒子分散ガラス状物の製造方法 | |
| JPH02168698A (ja) | 導電性樹脂膜およびその製造方法 | |
| KR900001141B1 (ko) | 자기 기록매체 및 그 제조방법 | |
| US6712915B2 (en) | Formation and applications of AlCuFe quasicrystalline thin films | |
| JPS61272302A (ja) | カルコゲンまたはカルコゲナイド合金のコロイド状分散体の製造方法 | |
| EP0187169B1 (en) | Process of manufacturing magnetic recording media and the media | |
| JPH09302285A (ja) | 高分子膜成形用組成物の製造方法 | |
| EP0241876A2 (en) | Substrates coated with solvated clusters of metal particles | |
| JP2563066B2 (ja) | 超微粒子分散ガラス状物とその製造方法 | |
| Nadzri et al. | Development of iron thin films by electron beam physical vapour deposition (EBPVD): A Review | |
| JPS6326302A (ja) | 超微細金属粉の製造方法 | |
| JP2798335B2 (ja) | 光学フィルター用ペーストの製造方法 | |
| JPH05112658A (ja) | 高分子複合薄膜の製造方法 | |
| JP2611888B2 (ja) | 微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法 | |
| FR2522188A1 (fr) | Materiau magnetique amorphe par procede de pulverisation et procede pour sa fabrication | |
| Biswas et al. | Nanocomposites of vapour phase deposited Teflon AF containing Ni clusters |