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JP2556862B2 - Process for producing bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone - Google Patents
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JP2556862B2 - Process for producing bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone - Google Patents

Process for producing bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone

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JP2556862B2 JP62173895A JP17389587A JP2556862B2 JP 2556862 B2 JP2556862 B2 JP 2556862B2 JP 62173895 A JP62173895 A JP 62173895A JP 17389587 A JP17389587 A JP 17389587A JP 2556862 B2 JP2556862 B2 JP 2556862B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホンの新規な製造方法に関するものである。さ
らに詳しくいえば、本発明は、例えば光学機器用素子の
材料として好適なポリカーボネートの原料に用いられる
ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ンを簡単なプロセスで収率よく製造する方法に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a novel method for producing bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone. More specifically, the present invention relates to a method for producing bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone, which is used as a raw material of polycarbonate suitable as a material for an optical device element, in a simple process in a high yield. Is.

[従来の技術] 従来、ポリカーボネートは透明性、耐熱性、機械的強
度などに優れていることから、エンジニアリングプラス
チックスとして多くの分野において幅広く用いられてお
り、また、近年、これらの性質を利用して、例えばレン
ズ、プリズム、オーディオディスク、光メモリーディス
ク、光ファイバーなどの光学機器用素子の材料として用
いられるようになってきた。
[Prior Art] Conventionally, polycarbonate has been widely used in many fields as engineering plastics because of its excellent transparency, heat resistance, mechanical strength, and the like, and in recent years, these properties have been utilized. For example, it has come to be used as a material for optical device elements such as lenses, prisms, audio disks, optical memory disks, and optical fibers.

ところで、光学機器用素子には、優れた光学特性が要
求され、このため、従来は、樹脂ガラスとも呼ばれるよ
うに、光透過率が極めて高く、かつ優れた成形性を有す
るアクリル系樹脂、特にポリメチルメタクリレートが主
として用いられてきた。しかしながら、このアクリル系
樹脂においては、耐熱性が必ずしも十分ではない上に、
耐湿性に劣り、そのため、このものを素材とする光学機
器用素子は、保存時に吸湿による性能低下を免れず、さ
らに、耐熱性が要求される用途には使用が困難であるな
どの欠点を有していた。
By the way, an optical device element is required to have excellent optical characteristics. Therefore, conventionally, an acrylic resin, which has an extremely high light transmittance and also has excellent moldability, is particularly preferable as a resin glass. Methyl methacrylate has been mainly used. However, this acrylic resin does not always have sufficient heat resistance, and
It is inferior in moisture resistance.Therefore, the optical device element made of this material suffers from performance deterioration due to moisture absorption during storage, and it is difficult to use in applications requiring heat resistance. Was.

そこで、耐熱性や耐湿性に優れ、かつ良好な透明性を
有するポリカーボネートを、光学機器用素子として用い
ることが試みられている。しかしながら、従来のポリカ
ーボネート樹脂は、主として2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン(通称ビスフェノールA)を出発
原料とするものであって、射出成形や圧縮成形などの成
形加工時に、分子鎖の配向や残留応力によって光学的異
方性が生じやすく、これに起因して複屈折が発生しやす
いという欠点を有している。したがって、精密度が要求
される光学機器用素子の材料としては適切でなく、用途
の制限を免れない。例えば、レーザービームを利用した
光による情報の読み取りや書き込みなどに用いられる光
ディスクにおいては、コンピューターなどのメモリーと
しては使用できず、オーディオ用のいわゆるコンパクト
ディスクとして使用されている。
Therefore, it has been attempted to use polycarbonate, which is excellent in heat resistance and moisture resistance and has good transparency, as an element for optical devices. However, the conventional polycarbonate resin mainly uses 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (commonly called bisphenol A) as a starting material, and has a molecular chain of a molecular chain at the time of molding such as injection molding or compression molding. Optical anisotropy is likely to occur due to orientation and residual stress, and birefringence is likely to occur due to this. Therefore, it is not suitable as a material for an optical device element that requires high precision, and it is inevitable that the application will be restricted. For example, an optical disc used for reading and writing information by light using a laser beam cannot be used as a memory of a computer or the like, and is used as a so-called compact disc for audio.

他方、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン(ビ
スフェノールS)から得られるポリカーボネートが知ら
れているが、このものは耐熱性、機械的強度などに優れ
ているものの、光学的に不均一であり、その成形品は大
きな複屈折を示すために、光学機器用素子の材料として
は使用しにくいという欠点を有している。
On the other hand, a polycarbonate obtained from 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone (bisphenol S) is known, but this one is excellent in heat resistance and mechanical strength, but is optically non-uniform. Since the molded product exhibits large birefringence, it has a drawback that it is difficult to use as a material for an optical device element.

このような事情のもとで、本発明者らは、耐熱性や機
械的強度などに優れ、かつ光学的に均一で複屈折の小さ
なポリカーボネートについて研究を重ね、その結果ビス
(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)スルホンか
ら得られるポリカーボネートが、前記の特性を有し、光
学機器用素子の材料として有用であることを見い出し
た。
Under these circumstances, the inventors of the present invention have conducted repeated research on polycarbonate that is excellent in heat resistance, mechanical strength, etc., and is optically uniform and has a small birefringence. As a result, bis (3-phenyl-4) It has been found that a polycarbonate obtained from -hydroxyphenyl) sulfone has the above-mentioned properties and is useful as a material for an optical device element.

このビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)
スルホンは、従来、ポリアリ−レンエーテルスルホン、
ポリスルホン、ポリエステルなどの原料として、あるい
は感圧紙の顕色剤などとして有用であることが知られて
おり、その製造方法としては、例えばo−フェニルフェ
ノールとチオニルクロリドとから、ビス(3−フェニル
−4−ヒドロキシフェニル)スルホキシドを得たのち、
これに過酸化水素などの酸化剤を作用させて前記化合物
のスルホキシド基をスルホン基に酸化する方法、あるい
はo−フェニルフェノールとスルフルジクロリドとか
ら、ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)ス
ルフィドを得たのち、これに、前記と同様に過酸化水素
などの酸化剤を作用させて、該化合物のスルフィド基を
スルホン基に酸化する方法などが用いられている。
This bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl)
Sulfones have traditionally been polyarylene ether sulfones,
It is known to be useful as a raw material for polysulfone, polyester, etc., or as a color developing agent for pressure-sensitive paper. As a method for producing the same, for example, from o-phenylphenol and thionyl chloride, bis (3-phenyl- After obtaining 4-hydroxyphenyl) sulfoxide,
A bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfide is obtained by reacting an oxidizing agent such as hydrogen peroxide on the compound to oxidize the sulfoxide group of the compound into a sulfone group, or from o-phenylphenol and sulfurdichloride. Then, a method of reacting with an oxidizing agent such as hydrogen peroxide to oxidize the sulfide group of the compound into a sulfone group is used.

しかしながら、これらの方法においては、いずれも2
段階の工程を必要とするなど、プロセスが煩雑である上
に、収率がよくないという欠点がある。
However, in both of these methods, 2
In addition to the complicated process such as the need for steps, the yield is not good.

[発明が解決しようとする問題点] 本発明は光学機器用素子の材料として好適な、耐熱性
や機械的強度に優れ、かつ光学的に均一で複屈折の小さ
なポリカーボネートを与えうるビス(3−フェニル−4
−ヒドロキシフェニル)スルホンを、一段の反応の簡単
なプロセスで収率よく製造するための方法を提供するこ
とを目的としてなされたものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention provides a bis (3- Phenyl-4
The purpose of the present invention is to provide a method for producing -hydroxyphenyl) sulfone in a high yield by a simple one-step reaction process.

[問題点を解決するための手段] 本発明者らは、ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)スルホンを簡単なプロセスで収率よく製造す
る方法を開発するために鋭意研究を重ねた結果、特定の
触媒の存在下、o−フェニルフェノールとスルホン化剤
とを所定の温度で反応させることにより、前記の目的を
達成しうることを見い出し、この知見に基づいて本発明
を完成するに至った。
[Means for Solving Problems] The present inventors have earnestly studied to develop a method for producing bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone by a simple process with high yield, and as a result, It was found that the above object can be achieved by reacting o-phenylphenol and a sulfonating agent at a predetermined temperature in the presence of a specific catalyst, and the present invention has been completed based on this finding. It was

すなわち、本発明は、芳香族スルホン酸触媒の存在
下、o−フェニルフェノールとスルホン化剤とを、100
〜200℃の温度において反応させることを特徴とするビ
ス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン
の製造方法を提供するものである。
That is, in the present invention, in the presence of an aromatic sulfonic acid catalyst, o-phenylphenol and a sulfonating agent are mixed with 100
The present invention provides a method for producing bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone, which comprises reacting at a temperature of ~ 200 ° C.

以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明方法において用いられるスルホン化剤について
は特に制限はなく、従来スルホン化剤として慣用されて
いるもの、例えば濃硫酸、無水硫酸、発煙硫酸、クロロ
スルホン酸などの中から任意のものを選択して用いるこ
とができる。
The sulfonating agent used in the method of the present invention is not particularly limited, and any one conventionally selected as a sulfonating agent, such as concentrated sulfuric acid, anhydrous sulfuric acid, fuming sulfuric acid, or chlorosulfonic acid, may be selected. Can be used.

これらのスルホン化剤の使用量は、通常o−フェニル
フェノール1モルに対し、0.1〜0.5モルの範囲で選ばれ
る。この量が0.1モル未満では未反応のo−フェニルフ
ェノールの量が多すぎて実用的でなく、一方、0.5モル
を超えるとスルホン酸の生成量が多くなるので好ましく
ない。
The amount of these sulfonating agents used is usually selected in the range of 0.1 to 0.5 mol per mol of o-phenylphenol. If this amount is less than 0.1 mol, the amount of unreacted o-phenylphenol is too large, which is not practical. On the other hand, if it exceeds 0.5 mol, the production amount of sulfonic acid increases, which is not preferable.

また、触媒として用いられる芳香族スルホン酸として
は、例えばベンゼンスルホン酸、クロロベンゼンスルホ
ン酸、ブロモベンゼンスルホン酸、フルオロベンゼンス
ルホン酸、ベンゼン−1,3−ジスルホン酸、クロロベン
ゼン−2,4−ジスルホン酸、トルエンスルホン酸、キシ
レンスルホン酸などを挙げることができる。これらの触
媒はそれぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合
わせて用いてもよく、その使用量は、通常スルホン化剤
に対して、0.5〜10モル%の範囲で選ばれる。
As the aromatic sulfonic acid used as a catalyst, for example, benzenesulfonic acid, chlorobenzenesulfonic acid, bromobenzenesulfonic acid, fluorobenzenesulfonic acid, benzene-1,3-disulfonic acid, chlorobenzene-2,4-disulfonic acid, Examples thereof include toluene sulfonic acid and xylene sulfonic acid. These catalysts may be used alone or in combination of two or more, and the amount used is usually selected in the range of 0.5 to 10 mol% based on the sulfonating agent.

本発明方法における反応温度は、100〜200℃、好まし
くは120〜180℃の範囲で選ばれる。この温度が100℃未
満では反応速度が遅すぎて実用的でなく、一方200℃を
超えると副生物の生成量が多くなったり、タール化する
などの傾向がでてくる。
The reaction temperature in the method of the present invention is selected in the range of 100 to 200 ° C, preferably 120 to 180 ° C. If this temperature is less than 100 ° C, the reaction rate is too slow to be practical, while if it exceeds 200 ° C, the amount of by-products produced increases, and tar formation tends to occur.

反応溶媒は用いなくてもよいが、例えばスルホン化剤
として濃硫酸などを用いた場合には、反応で生成する水
を系外へ留去させるために、共沸溶媒を用いるのが有利
である。この共沸溶媒としては、反応に不活性で水と共
沸しうるもの、例えばクロロベンゼンなどが好ましく用
いられる。
Although a reaction solvent may not be used, for example, when concentrated sulfuric acid or the like is used as a sulfonating agent, it is advantageous to use an azeotropic solvent in order to distill off water generated in the reaction out of the system. . As the azeotropic solvent, a solvent which is inert to the reaction and is azeotropic with water, such as chlorobenzene, is preferably used.

この反応は例えばスルホン化剤として硫酸を用いる場
合には、反応式 で表わすことができるが、反応の中間過程では で示される反応が起こっているものと思われる。
This reaction is carried out by the reaction formula when sulfuric acid is used as the sulfonating agent. Can be expressed as It seems that the reaction indicated by is occurring.

また、スルホン化剤としてクロロスルホン酸を用いる
場合には、反応式 で表わすことができるが、反応の中間過程では で示される反応が起こっているものと思われる。
When chlorosulfonic acid is used as the sulfonating agent, the reaction formula is Can be expressed as It seems that the reaction indicated by is occurring.

このようにして得られたビス(3−フェニル−4−ヒ
ドロキシフェニル)スルホンを用いて、ポリカーボネー
トを製造する方法については特に制限はなく、従来公知
の方法、例えば該スルホンとホスゲンとの界面重縮合
法、該スルホンと、例えばジフェニルカーボネート、ジ
−p−トリルカーボネート、フェニル−p−トリルカー
ボネート、ジ−p−クロロフェニルカーボネート、ジナ
フチルカーボネートなどのジアリールカーボネートとの
エステル交換反応による方法、該スルホンと、ジメチル
カーボネートやジエチルカーボネートなどのジアルキル
カーボネートとのエステル交換反応による方法、該スル
ホンの樹脂族エステルと前記ジアルキルカーボネートと
のエステル交換反応による方法、該スルホンをパラジウ
ムなどの貴金属触媒の存在下、一酸化炭素及び塩素と反
応させてポリカーボネートを製造する直接法など、いず
れの方法も用いることができる。
The method for producing a polycarbonate using the bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone thus obtained is not particularly limited, and a conventionally known method such as interfacial polycondensation between the sulfone and phosgene can be used. Legitimate, a method by transesterification reaction of the sulfone with a diaryl carbonate such as diphenyl carbonate, di-p-tolyl carbonate, phenyl-p-tolyl carbonate, di-p-chlorophenyl carbonate, dinaphthyl carbonate, the sulfone, A method by a transesterification reaction with a dialkyl carbonate such as dimethyl carbonate or diethyl carbonate, a method by a transesterification reaction between a resin group ester of the sulfone and the dialkyl carbonate, a sulfone of a noble metal catalyst such as palladium. Standing down and reacted with carbon monoxide and chlorine, such as direct method for producing a polycarbonate, it can be used any method.

さらに、該ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェ
ニル)スルホンと他のビスフェノール類、例えば2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノ
ールA)などと併用し、前記の方法に従ってポリカーボ
ネート共重合体を製造することもできる。
Further, the bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone and other bisphenols such as 2,2-
It is also possible to produce a polycarbonate copolymer according to the above-mentioned method in combination with bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A) or the like.

このようにして得られたポリカーボネート又はポリカ
ーボネート共重合体は、耐熱性や機械的強度などに優れ
る上に、光学的に均一で複屈折が少なく、光学機器用素
子の材料として有用である。該光学機器用素子として
は、例えばスチールカメラ用、ビデオカメラ用、望遠鏡
用、眼鏡用、コンタクトレンズ用、太陽光集光用などの
いわゆるレンズ類、ペンタプリズムなどのプリズム類、
凹面鏡、ポリゴンなどの鏡類、オプティカルファイバー
光導波路などの光導性素子類、ビデオディスク、オーデ
ィオディスク、光メモリ−ディスクなどのディスク類な
ど、光を透過又は反射することによって機能を発揮しう
る素子を挙げることができる。
The polycarbonate or polycarbonate copolymer thus obtained is excellent in heat resistance, mechanical strength, etc., and is optically uniform and has little birefringence, and is useful as a material for an element for optical devices. Examples of the optical device element include so-called lenses for steel cameras, video cameras, telescopes, eyeglasses, contact lenses, sunlight concentrators, prisms such as pentaprisms,
Concave mirrors, mirrors such as polygons, optical elements such as optical fiber optical waveguides, video discs, audio discs, discs such as optical memory discs, and other elements that can exert their functions by transmitting or reflecting light. be able to.

本発明方法で得られるビス(3−フェニル−4−ヒド
ロキシフェニル)スルホンは、前記の光学機器用素子の
材料として用いられるポリカーボネートの原料以外に、
例えばポリアリーレンエーテルスルホン、ポリスルホ
ン、ポリエステルなどの原料や、感圧紙の顕色剤などと
しても有用である。
The bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone obtained by the method of the present invention is, in addition to the polycarbonate raw material used as the material for the optical device element,
For example, it is also useful as a raw material for polyarylene ether sulfone, polysulfone, polyester, etc., or as a developer for pressure-sensitive paper.

[発明の効果] 本発明方法によると、ビス(3−フェニル−4−ヒド
ロキシフェニル)スルホンが、一段の反応の簡単なプロ
セスで、収率よく製造することができ、このものは、光
学機器用素子の材料として有用なポリカーボネートの原
料をはじめ、種々の用途に好適に用いられる。
[Effects of the Invention] According to the method of the present invention, bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone can be produced in a high yield by a simple one-step reaction process. It is preferably used for various purposes including a raw material of polycarbonate which is useful as a material for an element.

[実施例] 次に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
The present invention is not limited in any way by these examples.

実施例 o−フェニルフェノール391g(2.3モル)、98%硫酸1
00g(1.00モル)、クロロベンゼン100g及びベンゼンス
ルホン酸9.5g(0.05モル)を反応器に仕込み、かきまぜ
ながら加熱した。135℃付近でクロロベンゼンと共に生
成水が共沸して留出してきた。留出物は、凝縮させて2
相に分離し、有機相は連続的に反応器に戻しながら反応
を続行した。
Example o-Phenylphenol 391 g (2.3 mol), 98% sulfuric acid 1
00 g (1.00 mol), 100 g of chlorobenzene and 9.5 g (0.05 mol) of benzenesulfonic acid were charged into the reactor and heated with stirring. At around 135 ° C, the produced water azeotropically distilled with chlorobenzene. Distillate is condensed to 2
The phases were separated, and the organic phase was continuously returned to the reactor to continue the reaction.

留出開始より10時間後に、内温が165℃になり、留出
水は36mlに達した。これにキシレン500mlを加え、冷却
して結晶を析出させたのち、この結晶をろ別し、さらに
キシレンより再結晶し、融点251〜252℃の結晶340gを得
た。収率は85%(対H2SO4)であった。
Ten hours after the start of distillation, the internal temperature reached 165 ° C and the amount of distilled water reached 36 ml. To this, 500 ml of xylene was added, and the mixture was cooled to precipitate crystals, which crystals were separated by filtration and recrystallized from xylene to obtain 340 g of crystals having a melting point of 251-252 ° C. The yield was 85% (vs. H 2 SO 4 ).

このものの分子量(m+)は402であり、また1H−NMR
(アセトンd6)δppmは、7.16(2H、d)、7.31〜7.47
(6H、m)、7.58(4H、d)、7.83(2H、dd)、7.91
(2H、d)であった。
Its molecular weight (m + ) is 402, and 1 H-NMR
(Acetone d6) δppm is 7.16 (2H, d), 7.31 to 7.47
(6H, m), 7.58 (4H, d), 7.83 (2H, dd), 7.91
(2H, d).

以上から、該結晶は で示される構造を有するビス(3−フェニル−4−ヒド
ロキシフェニル)スルホンであることが確認された。
From the above, the crystal is It was confirmed to be bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone having a structure shown by.

参考例 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビ
スフェノールA)90.0gを、6重量% NaOH水溶液650ml
に溶解し、塩化メチレン300mlを加え、激しくかきまぜ
ながら、ホスゲンカスを1000ml/分の割合でpHが10にな
るまで吹き込んだ。その後静置分離し、クロロホーメイ
ト末端を有する重合度2〜3のポリカーボネート前駆体
を得た。
Reference example 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A) 90.0 g, 6 wt% NaOH aqueous solution 650 ml
Was dissolved in, and 300 ml of methylene chloride was added, and phosgenecus was blown at a rate of 1000 ml / min until the pH reached 10 with vigorous stirring. Then, the mixture was allowed to stand and separate to obtain a polycarbonate precursor having a chloroformate terminal and a polymerization degree of 2 to 3.

次に、この前駆体300mlを塩化メチレンで450mlに希釈
し、これにp−t−ブチルフェノール1.0gを加え、さら
に、実施例で得たビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)スルホン35gを2N NaOH水溶液150mlに溶解し
たものを加えたのち、激しくかきまぜながら、触媒とし
てトリエチルアミン0.5M水溶液1.0mlを添加して、1時
間反応を行った。
Next, 300 ml of this precursor was diluted to 450 ml with methylene chloride, 1.0 g of pt-butylphenol was added thereto, and 35 g of bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone obtained in Example was added to 2N. After adding a solution dissolved in 150 ml of an aqueous NaOH solution, 1.0 ml of a 0.5 M aqueous solution of triethylamine as a catalyst was added with vigorous stirring and the reaction was carried out for 1 hour.

反応終了後、塩化メチレン1で希釈し、水、0.01N
NaOH水溶液、水、0.01N HCl水溶液、水の順に洗浄した
のち、この塩化メチレン溶液をメタノール5中に注入
し、白色のポリカーボネート共重合体を得た。
After completion of the reaction, dilute with methylene chloride 1 and water, 0.01N
After washing with an aqueous solution of NaOH, water, an aqueous solution of 0.01N HCl, and water in this order, this methylene chloride solution was poured into methanol 5 to obtain a white polycarbonate copolymer.

このポリカーボネートの還元粘度は0.69dl/gであり、
また示差走査熱量計で測定したガラス転移温度は158℃
であった。また、屈折率は1.6030 20℃)であり、バー
フロー成形品の複屈折は光路差で130nmであった。なお
ビスフェノールAを原料とするポリカーボネートの複屈
折は400nmと大きい。
The reduced viscosity of this polycarbonate is 0.69 dl / g,
The glass transition temperature measured with a differential scanning calorimeter is 158 ° C.
Met. Further, the refractive index was 1.6030 20 ° C.), and the birefringence of the bar flow molded product was 130 nm in terms of optical path difference. The birefringence of polycarbonate made from bisphenol A is as large as 400 nm.

該ポリカーボネート共重合体の組成は、NMR測定よ
り、次のとおりである。
The composition of the polycarbonate copolymer is as follows from the NMR measurement.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】芳香族スルホン酸触媒の存在下、o−フェ
ニルフェノールとスルホン化剤とを、100〜200℃の温度
において反応させることを特徴とするビス(3−フェニ
ル−4−ヒドロキシフェニル)スルホンの製造方法。
1. Bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl), characterized in that o-phenylphenol and a sulfonating agent are reacted at a temperature of 100 to 200 ° C. in the presence of an aromatic sulfonic acid catalyst. Method for producing sulfone.
JP62173895A 1987-07-14 1987-07-14 Process for producing bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone Expired - Fee Related JP2556862B2 (en)

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