JP2570290B2 - Mask upholstery - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、薄板に所定の切り抜きパターンを設けて
なるマスクを用い、ラビング、印刷、露光などの処理を
施すためのマスク張体に関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask covering for performing processing such as rubbing, printing, and exposure using a mask having a predetermined cutout pattern provided on a thin plate.
従来より、平行して配した2枚の透明な基板の間にネ
マティック液晶を封入してなる液晶表示素子(液晶セ
ル)において、その一部をツイストネマティック配列と
なるとともに、他部を所定のパターンで平行(ホモジニ
アス)配列とし、この液晶表示素子を偏光板間に配し、
前記パターンを、常時透光する窓とした液晶表示素子が
製造されている。この液晶表示素子の前記基板は、つぎ
の工程で製造される。2. Description of the Related Art Conventionally, in a liquid crystal display element (liquid crystal cell) in which a nematic liquid crystal is sealed between two transparent substrates arranged in parallel, a part of the liquid crystal display element has a twisted nematic arrangement, and the other part has a predetermined pattern. And a liquid crystal display element is arranged between polarizing plates.
A liquid crystal display device in which the pattern is a window that constantly transmits light is manufactured. The substrate of this liquid crystal display element is manufactured in the following steps.
(a)ガラス、プラスチックなどの透明基板の表面に、
真空蒸着、スプレイ、高周波スパッタなどの方法で、酸
化すず、酸化インジウムなどの透明で電気抵抗が小さい
金属酸化物の薄い導電層を形成する。この場合必要なら
前記透明基板からナトリウムなどが液晶中に溶け込んで
液晶が劣化するのを防ぐために、アンダーコーティング
として透明基板の表面に保護膜を付ける。(A) On the surface of a transparent substrate such as glass or plastic,
A thin conductive layer of a transparent and low-resistance metal oxide such as tin oxide or indium oxide is formed by a method such as vacuum deposition, spraying, or high-frequency sputtering. In this case, if necessary, a protective film is provided on the surface of the transparent substrate as an undercoating in order to prevent sodium or the like from dissolving into the liquid crystal from the transparent substrate and deteriorating the liquid crystal.
(b)つぎに液晶をディスプレイ素子として使用するた
め、前記導電層をフォト・エッチングして表示電極パタ
ーンを形成する。(B) Next, in order to use the liquid crystal as a display element, the conductive layer is photo-etched to form a display electrode pattern.
(c)液晶分子を基板に平行に配向させるため、基板表
面に溝状の構造を形成する。このためまず前記透明基板
の表面に、ポリビニルアルコールやポリイミドの溶液を
印刷または塗布して、薄い配向膜を形成する。つぎにこ
の配向膜の表面に一定方向にラビングを行う(配向処
理)。ラビングは、レーヨン、綿等の材質からなるラビ
ング布で一方向に擦る。(C) A groove-like structure is formed on the surface of the substrate to align the liquid crystal molecules parallel to the substrate. For this purpose, first, a solution of polyvinyl alcohol or polyimide is printed or applied on the surface of the transparent substrate to form a thin alignment film. Next, rubbing is performed on the surface of the alignment film in a certain direction (alignment treatment). Rubbing is rubbed in one direction with a rubbing cloth made of a material such as rayon or cotton.
(d)上記ラビングされた配向膜の表面に、所定のパタ
ーンの切り抜きを設けた薄い金属板(マスク)を重ね、
前記一方向に対し所定の角度偏った方向(たとえば直交
方向)にラビング(以下マスクラビングと称する)。(D) A thin metal plate (mask) provided with a cutout of a predetermined pattern is superimposed on the surface of the rubbed alignment film,
Rubbing (hereinafter referred to as mask rubbing) in a direction deviated by a predetermined angle with respect to the one direction (for example, orthogonal direction).
このマスクラビングは、その方向を正確に設定するた
め、前記研磨具を巻いたローラーなどの研磨手段により
行われる。またマスクラビングにおいては、上記パター
ンの精密な製品を製造するために、マスクの板厚が薄い
こと、ラビング中のマスクの平面性を高精度で確保する
こと、およびマスクの重ね位置を正確に設定することが
重要となってくる。This mask rubbing is performed by a polishing means such as a roller around which the polishing tool is wound in order to accurately set the direction. Also, in mask rubbing, in order to manufacture a precise product of the above pattern, the thickness of the mask must be thin, the flatness of the mask during rubbing must be ensured with high accuracy, and the mask overlapping position must be set accurately. It becomes important to do.
またスクリーン印刷やフォトエッチングのために用い
られるマスクにおいても、同様にマスクの平面性の確保
とマスク位置合わせの精度が製品の良否を決定する。Similarly, in a mask used for screen printing or photo-etching, the flatness of the mask and the accuracy of mask positioning similarly determine the quality of the product.
しかるに従来のマスクは、その平面性の維持のため充
分な配慮がなされておらず、とくにマスクラビングのご
とくマスクに摩擦力が加わるような使用においては、マ
スクを長期間高い精度の平面に保つことは困難であっ
た。また近年量産される液晶表示装置には、情報の表示
密度(集積度)を上げるため、上記パターンの形成位置
に極めて高い精度が要求されている。このためマスクの
平面性の維持の管理が重要な課題となっている。However, conventional masks do not take sufficient care to maintain their flatness, and in particular, where the frictional force is applied to the mask as in the case of mask rubbing, the mask must be kept on a highly accurate flat surface for a long time. Was difficult. In addition, in order to increase the display density (integration degree) of information, extremely high precision is required for the formation position of the pattern in a liquid crystal display device which is mass-produced in recent years. Therefore, management of maintaining the flatness of the mask is an important issue.
この発明の目的は、上記マスクラビングにおいて、マ
スクの平面度を長期間良好に維持でき、精密なマスクラ
ビングが可能となるマスク張体の提供にある。An object of the present invention is to provide a mask covering which can maintain a good flatness of a mask for a long period of time in the mask rubbing and enables precise mask rubbing.
上記の目的を達成するために、この発明のラビング用
マスク張体は、枠と、該枠内に配されたマスクと、該マ
スクの外周と前記枠との間に張られ、前記マスクを適当
な張力で引っ張る膜体とからなる構成を採用した。In order to achieve the above object, the rubbing mask upholstery of the present invention is provided with a frame, a mask disposed in the frame, and stretched between an outer periphery of the mask and the frame, and A structure composed of a film body that is pulled with an appropriate tension is adopted.
この膜体として、ステンレス製またはポリエステル製
のスクリーンメッシュまたはスクリーンクロスが使用さ
れる。As the film, a screen mesh or screen cloth made of stainless steel or polyester is used.
この発明のマスク張体は、マスクが膜体により全周囲
から適当な張力で引っ張られているので、マスクラビン
グなどマスクの使用時において、マスクの平面製が長期
間高い精度に保たれ、マスクに切り抜かれたパターンの
正確な投影図が被加工物に付与できる。In the mask covering of the present invention, since the mask is pulled from the entire periphery by the film body with an appropriate tension, when the mask is used such as mask rubbing, the flatness of the mask is maintained with high precision for a long time, and the mask An accurate projection of the cut-out pattern can be given to the workpiece.
つぎにこの発明を第1図および第2図に示す実施例と
ともに説明する。Next, the present invention will be described with reference to the embodiment shown in FIG. 1 and FIG.
1はマスクラビングに用いるためのマスク張体であ
り、アルミニウム製で外側で寸法が縦40cm、横50cmの矩
形枠11に、スクリーンメッシュ12を張り、このスクリー
ンメッシュ12に所定のパターンの切り抜き13が設けられ
たマスク14を張って形成されている。スクリーンメッシ
ュ12はステンレス網でつくられた篩であり、作業用の平
面板として利用できる網織材である。このマスク張体1
は、枠11の全面に所定の張力を加えた状態の一枚のスク
リーンメッシュ12を接着剤で接着し、つぎに周囲に接着
剤を抜布したマスク14をスクリーンメッシュ12の所定位
置に接着し、しかるのちマスク14と重なった接着部でな
い部分のスクリーンメッシュを切断などにより除去して
形成される。この接着材としてエポキシ樹脂などの熱硬
化性接着材が好適に使用される。マスク14は0.05ミリメ
ートルから0.1ミリメートルまでの厚さのステンレス鋼
板が使用され、スクリーンメッシュ12により全周から適
当な分布の張力を受けて平面性の良好な状態で前記枠11
に保持される。このスクリーンメッシュ12による張力の
分布は、マスク14に設けられた切り抜き13のパターンに
応じて適切に設定されることがマスク14の平面性の確保
に重要であり、この張力分布の設定は計算または試行錯
誤によりなされる。Reference numeral 1 denotes a mask covering for use in mask rubbing. A screen mesh 12 is provided on a rectangular frame 11 made of aluminum and having an outer dimension of 40 cm in length and 50 cm in width. It is formed with a mask 14 provided. The screen mesh 12 is a sieve made of a stainless steel net, and is a net woven material that can be used as a flat work plate. This mask upholstery 1
A single screen mesh 12 with a predetermined tension applied to the entire surface of the frame 11 is bonded with an adhesive, and then a mask 14 around which the adhesive has been removed is bonded to a predetermined position of the screen mesh 12. Thereafter, the screen mesh in a portion other than the adhesive portion overlapping the mask 14 is removed by cutting or the like. As this adhesive, a thermosetting adhesive such as an epoxy resin is preferably used. The mask 14 is made of a stainless steel plate having a thickness of 0.05 mm to 0.1 mm. The mask 11 receives an appropriate distribution of tension from the entire periphery by the screen mesh 12 and has good flatness.
Is held. It is important that the distribution of the tension by the screen mesh 12 is appropriately set according to the pattern of the cutout 13 provided on the mask 14 in order to ensure the flatness of the mask 14, and the setting of this tension distribution is calculated or It is done by trial and error.
第3図ないし第6図は、前記マスク張体1を用いたマ
スクラビング工程を示す。3 to 6 show a mask rubbing process using the mask covering 1.
2はラビング処理を施した状態にある基板を示す。こ
の基板2は、フロートガラスなど平面性のよいガラス板
21に真空蒸着により透明電極層を付着させ、この透明電
極層をフォトエッチングにより所定のパターン電極22を
形成し、さらにこのパターン電極22が設けられたガラス
板21の上にポリイミド樹脂層23を印刷により形成し、さ
らにこのポリイミド樹脂層23の表面にラビング処理の施
して形成される。この基板2は、収納カセット20内に一
定枚数がセットされ、マスクラビング装置30の近傍に設
定される。Reference numeral 2 denotes a substrate in a rubbed state. This substrate 2 is a glass plate having good flatness such as float glass.
A transparent electrode layer is attached to 21 by vacuum evaporation, a predetermined pattern electrode 22 is formed by photoetching the transparent electrode layer, and a polyimide resin layer 23 is printed on a glass plate 21 on which the pattern electrode 22 is provided. And a rubbing treatment is performed on the surface of the polyimide resin layer 23. A certain number of the substrates 2 are set in the storage cassette 20 and set near the mask rubbing device 30.
マスクラビング装置30は、長方形の床板31と、その上
に長手方向に平行して敷設された一対のレール33と、該
レール上を移動自在に配され、水平方向に往復動する基
板セット装置40と、前記床板31の中央部に固定されてい
る長方体状固定枠組35と、該固定枠組35上に固定されて
いるラビング用ローラー装置50とからなる。The mask rubbing device 30 includes a rectangular floor plate 31, a pair of rails 33 laid thereon in parallel in the longitudinal direction, and a substrate setting device 40 that is movably arranged on the rails and reciprocates horizontally. And a cubic fixed frame set 35 fixed to the center of the floor plate 31, and a rubbing roller device 50 fixed on the fixed frame set 35.
基板セット装置40は、前記レール33上に架載された直
方体状の可動枠組41と、該可動枠組41の内部に取り付け
られ、前記基板2を吸着して固定させるワークテーブル
42および該ワークテーブル42の昇降装置43とを備える。
前記可動枠組41の上枠材は、前記ワークテーブル42の上
方に配されるとともに、前記マスク張体1を設置するた
めの枠台45となっており、前記ワークテーブル42が挿通
できる窓44が設けられている。The substrate setting device 40 has a rectangular parallelepiped movable frame 41 mounted on the rail 33 and a work table attached to the inside of the movable frame 41 for sucking and fixing the substrate 2.
And a lifting device 43 for the worktable.
The upper frame material of the movable frame 41 is disposed above the work table 42, and serves as a frame 45 for installing the mask covering 1, and a window 44 through which the work table 42 can be inserted is provided. Is provided.
マスク張体1は、第6図に示す如く、この枠台45の上
面に載置され、クランプ46により該枠台45に固定され、
さらに枠台45に取り付けられているダイヤルゲージ47に
より矩形枠11の外側の位置を正確に管理されている。こ
のように枠11に対してマスク14の相対位置を正確に設定
することにより、枠台45に対する枠11の位置を管理すれ
ば前記パターンの位置は精密に設定できる。As shown in FIG. 6, the mask upholstery 1 is placed on the upper surface of the frame 45, and is fixed to the frame 45 by a clamp 46.
Further, the position outside the rectangular frame 11 is accurately managed by a dial gauge 47 attached to the frame base 45. By accurately setting the relative position of the mask 14 with respect to the frame 11 as described above, if the position of the frame 11 with respect to the frame base 45 is managed, the position of the pattern can be set precisely.
ローラー装置50は、前記固定枠組35上に取りつけられ
たモーター基台51と、該モーター基台51上に固着された
モーター52とを備える。モーター基台51の下面両側に
は、対向してローラー支持壁53が突設され、このローラ
ー支持壁53にはローラー軸54が回転自在に支持されてい
る。このローラー軸54にはローラー55が同軸的に取りつ
けられ、該ローラー55の外周には綿布56が巻設されてい
る。また前記ローラー軸54とモーター52との間はベルト
式伝動装置57により伝動される。The roller device 50 includes a motor base 51 mounted on the fixed framework 35, and a motor 52 fixed on the motor base 51. On both lower surfaces of the motor base 51, roller support walls 53 are provided so as to face each other, and a roller shaft 54 is rotatably supported on the roller support walls 53. A roller 55 is coaxially mounted on the roller shaft 54, and a cotton cloth 56 is wound around the outer periphery of the roller 55. A belt-type transmission 57 transmits power between the roller shaft 54 and the motor 52.
つぎにこのマスクラビング装置30の作用を説明する。 Next, the operation of the mask rubbing device 30 will be described.
(イ)第3図に示す一方向にラビングされた基板2を所
定数セットした未処理基板の収納カセット20をマスクラ
ビング装置30の近傍に設置する。(A) A cassette 20 for storing unprocessed substrates, in which a predetermined number of substrates 2 rubbed in one direction shown in FIG. 3 are set, is placed near the mask rubbing device 30.
(ロ)前記収納カセツト20から基板2を取り出し、ワー
クテーブル42の定位置に設置するとともに、真空吸引装
置で吸着する。(B) The substrate 2 is taken out from the storage cassette 20, is set at a fixed position on the work table 42, and is sucked by a vacuum suction device.
(ハ)昇降装置43により、ワークテーブル42を基板2が
マスク14の下面に接触するよう上昇させる。(C) The work table 42 is raised by the elevating device 43 so that the substrate 2 contacts the lower surface of the mask 14.
(ニ)ローラー装置50を作動させるとともに、駆動装置
(図示せず)により、基板セット装置40を、ローラー装
置50の下を潜り抜けさせて第5図に示す一点鎖線の位置
に移動させる。このとき基板2は、マスクの切り抜き13
に対応している部分のポリイミド樹脂層23の表面がロー
ラーの綿布により前記一方向に対し直交方向にラビング
(マスクラビング)される。このマスクラビング終了後
ワークテーブル42を降下させ、マスクラビング処理後の
基板2を基板収納カセット20に収納する。(D) While the roller device 50 is operated, the driving device (not shown) moves the substrate setting device 40 under the roller device 50 and moves it to the position indicated by the dashed line in FIG. At this time, the substrate 2 has a cutout 13 of the mask.
Is rubbed (mask rubbed) by a cotton cloth of a roller in a direction perpendicular to the one direction. After completion of the mask rubbing, the work table 42 is lowered, and the substrate 2 after the mask rubbing process is stored in the substrate storage cassette 20.
なおこの基板を用いた液晶表示素子はつぎの工程で製
造される。A liquid crystal display device using this substrate is manufactured in the following steps.
前記一方向にのみラビングした基板と、マスクラビン
グした基板とを、これらラビング面が対抗するように枠
状のスペーサを介して液密状に重ね、その間隙にネマテ
ィック液晶を充填する。これにより2枚の基板間におい
て、ラビング方向が直交している部分はネマティック液
晶がホモジニアス配列で且つ基板間方向には90度捩れた
ツイスト配列、ラビング方向が平行している部分は全体
が同一方向に平行した通常のホモジニアス配列となって
いる、部分的ツイストネマティック液晶セルが製造でき
る。つぎに前記液晶セルの両面に偏光板を重ねる。The substrate rubbed only in one direction and the mask rubbed substrate are liquid-tightly stacked via a frame-shaped spacer such that the rubbing surfaces are opposed to each other, and the gap is filled with nematic liquid crystal. As a result, between the two substrates, the portion where the rubbing directions are orthogonal to each other is in a homogeneous arrangement of nematic liquid crystal and twisted by 90 degrees in the direction between the substrates. In this case, a partially twisted nematic liquid crystal cell having a normal homogeneous alignment parallel to the above can be manufactured. Next, polarizing plates are stacked on both sides of the liquid crystal cell.
本発明のマスク張体は、マスクの外周縁をスクリーン
メッシュに接着してから、スクリーンメッシュに適切な
引張力を付与しながら枠に固着する方法により製造され
ても良い。この場合スクリーンメッシュとマスクとの接
着部以外の重なり部分の除去は両者の接着以前であって
も以後であっても良い。The mask covering of the present invention may be manufactured by a method in which the outer peripheral edge of the mask is bonded to a screen mesh and then fixed to a frame while applying an appropriate tensile force to the screen mesh. In this case, the removal of the overlapping portion other than the bonding portion between the screen mesh and the mask may be performed before or after the bonding of the two.
第1図は本発明のマスク張体の正面図、第2図はそのA
−B断面図、第3図は基板の要部拡大図、第4図はマス
クラビング装置の正面概略図、第5図はその右側面図、
第6図は基板セット装置の平面図を示す。 図中 1……マスク張体、2……基板、11……枠、12
……スクリーンメッシュ(膜体)、13……切り抜き、14
……マスク、30……マスクラビング装置、40……基板セ
ット装置、50……ローラー装置FIG. 1 is a front view of a mask upholstery of the present invention, and FIG.
-B sectional view, FIG. 3 is an enlarged view of a main part of the substrate, FIG. 4 is a schematic front view of a mask rubbing apparatus, FIG. 5 is a right side view thereof,
FIG. 6 shows a plan view of the substrate setting device. In the figure, 1 ... mask covering, 2 ... substrate, 11 ... frame, 12
…… Screen mesh (membrane), 13… Cutout, 14
… Mask, 30… Mask rubbing device, 40… Substrate setting device, 50… Roller device
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭54−40652(JP,A) 特開 昭62−164316(JP,A) 特開 昭62−110924(JP,A) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) References JP-A-54-40652 (JP, A) JP-A-62-164316 (JP, A) JP-A-62-110924 (JP, A)
Claims (1)
クの外周と前記枠との間に張られ、前記マスクを適切な
張力で引っ張る膜体とからなるラビング用マスク張体。1. A rubbing mask stretcher comprising a frame, a mask disposed in the frame, and a film stretched between an outer periphery of the mask and the frame and pulling the mask with an appropriate tension. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12316487A JP2570290B2 (en) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | Mask upholstery |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12316487A JP2570290B2 (en) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | Mask upholstery |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63287822A JPS63287822A (en) | 1988-11-24 |
| JP2570290B2 true JP2570290B2 (en) | 1997-01-08 |
Family
ID=14853767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12316487A Expired - Lifetime JP2570290B2 (en) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | Mask upholstery |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2570290B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101489321B1 (en) | 2014-04-29 | 2015-02-04 | (주) 유피테크 | Mesh cutting device for metal mask |
-
1987
- 1987-05-20 JP JP12316487A patent/JP2570290B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101489321B1 (en) | 2014-04-29 | 2015-02-04 | (주) 유피테크 | Mesh cutting device for metal mask |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63287822A (en) | 1988-11-24 |
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