JP2576667B2 - 無電解ニッケル膜へのめっきの下地調整方法 - Google Patents
無電解ニッケル膜へのめっきの下地調整方法Info
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- JP2576667B2 JP2576667B2 JP2147691A JP14769190A JP2576667B2 JP 2576667 B2 JP2576667 B2 JP 2576667B2 JP 2147691 A JP2147691 A JP 2147691A JP 14769190 A JP14769190 A JP 14769190A JP 2576667 B2 JP2576667 B2 JP 2576667B2
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は金属またはプラスチックを含む非金属に施
した無電解ニッケルの密着性の向上や無電解ニッケルめ
っきの硬度を上げるために施した熱処理の加工履歴に対
する表面処理の下地調整法に関するものである。
した無電解ニッケルの密着性の向上や無電解ニッケルめ
っきの硬度を上げるために施した熱処理の加工履歴に対
する表面処理の下地調整法に関するものである。
［従来の技術］ 硫酸浴で電流密度が2A/dm2ないし〜3A/dm2,15秒ない
し〜60秒陽極処理を行った後２秒ないし３秒間陰極電解
を施し，更に塩化ニッケル−塩酸浴で2A/DM2ないし〜6A
/dm2,1分ないし６分めっきを施すことで乾燥した無電解
ニッケルめっき上への下地調整としていた。
し〜60秒陽極処理を行った後２秒ないし３秒間陰極電解
を施し，更に塩化ニッケル−塩酸浴で2A/DM2ないし〜6A
/dm2,1分ないし６分めっきを施すことで乾燥した無電解
ニッケルめっき上への下地調整としていた。
［発明が解決しようとする課題］ 乾燥したニッケルめっき上へのめっきは，極めて困難
であり乾燥を避けられるものなら避けることが密着性の
良いめっきを得るための最良の方法とされていた。
であり乾燥を避けられるものなら避けることが密着性の
良いめっきを得るための最良の方法とされていた。
乾燥を避けることが出来ない場合，従来方法に拠って
いたが密着性の良いめっきを得ることは出来なかった。
いたが密着性の良いめっきを得ることは出来なかった。
［課題を解決するための手段］ この発明に係る熱処理をした無電解ニッケルめっき上
の下地調整法と下地調整液を以下に示す。
の下地調整法と下地調整液を以下に示す。
熱処理を施した無電解ニッケルめっきの下地調整法は
0.003モルないし0.007モルのシアン化金カリを加えた液
中で白金電極を陽極，被処理物を陰極として３ボルトで
電気分解を行うことによって得られた厚さが0.1μｍな
いし0.5μｍの金の膜のコーティングによって密着性の
良いめっきを得ようとするものである。
0.003モルないし0.007モルのシアン化金カリを加えた液
中で白金電極を陽極，被処理物を陰極として３ボルトで
電気分解を行うことによって得られた厚さが0.1μｍな
いし0.5μｍの金の膜のコーティングによって密着性の
良いめっきを得ようとするものである。
熱処理を施した無電解ニッケルめっき上の下地調整液
は第一の液と第二の液からなり第一の洗浄は1.50モルな
いし1.90モルの濃度範囲内の塩酸水溶液に2.55モルない
し2.95モルの濃度範囲の硫酸を加えた後に30〜40℃に加
温し洗浄するものである。第二の洗浄は10.0モルないし
12.0モルの濃度範囲内の燐酸水溶液に3.10モルないし3.
50モルの濃度範囲の硝酸を加えた後に30〜40℃に加温し
洗浄するものである。
は第一の液と第二の液からなり第一の洗浄は1.50モルな
いし1.90モルの濃度範囲内の塩酸水溶液に2.55モルない
し2.95モルの濃度範囲の硫酸を加えた後に30〜40℃に加
温し洗浄するものである。第二の洗浄は10.0モルないし
12.0モルの濃度範囲内の燐酸水溶液に3.10モルないし3.
50モルの濃度範囲の硝酸を加えた後に30〜40℃に加温し
洗浄するものである。
［作用］ この発明においては，めっき前の脱脂を行った後，第
一の洗浄液で熱処理による無電解ニッケル膜の酸化膜を
取り除き，第二の洗浄液で無電解ニッケル膜の活性化を
行い更にシアン化浴による電解金ストライクを行うこと
により乾燥した無電解ニッケルめっき上に密着性のよい
めっき膜を得ることが出来る。
一の洗浄液で熱処理による無電解ニッケル膜の酸化膜を
取り除き，第二の洗浄液で無電解ニッケル膜の活性化を
行い更にシアン化浴による電解金ストライクを行うこと
により乾燥した無電解ニッケルめっき上に密着性のよい
めっき膜を得ることが出来る。
［実施例］ 以下において実施例を掲げこの発明を更に詳しく説明
する。
する。
熱処理等によって酸化した無電解ニッケル膜のための
めっき調整法は,0.30モルないし0.54モルの濃度範囲内
のシアン化カリ水溶液に0.003モルないし0.007モルのシ
アン化金カリを加えた液中で白金を陽極，被処理物を陰
極として３ボルトで電気分解を行って得られる0.1UMな
いし0.5UMの金ストライクめっきの下地処理を行うもの
である。
めっき調整法は,0.30モルないし0.54モルの濃度範囲内
のシアン化カリ水溶液に0.003モルないし0.007モルのシ
アン化金カリを加えた液中で白金を陽極，被処理物を陰
極として３ボルトで電気分解を行って得られる0.1UMな
いし0.5UMの金ストライクめっきの下地処理を行うもの
である。
シアン化カリ・シアン化金カリにそれぞれ範囲を設け
たのは，金ストライクの膜として，光沢のあるものを得
るためである。
たのは，金ストライクの膜として，光沢のあるものを得
るためである。
上記の熱処理等による酸化膜の除去は,1.50モルない
し1.90モルの濃度範囲内の塩酸水溶液に2.55モルないし
2.95モルの濃度範囲の硫酸を加えた後に30〜40℃の範囲
に加温し洗浄するものである。
し1.90モルの濃度範囲内の塩酸水溶液に2.55モルないし
2.95モルの濃度範囲の硫酸を加えた後に30〜40℃の範囲
に加温し洗浄するものである。
なお各成分濃度と温度に上限と下限を設けたのは，次
の理由による。
の理由による。
第一の洗浄液の塩酸・硫酸は無電解ニッケルとの化学
反応を起こすと共に無電解ニッケル処理後に熱処理等で
生じた硫化膜を取り除くものであるがこの時，塩酸・硫
酸の濃度がそれぞれ1.90モル,2.95モルを超えたり温度
が40℃を越えたりすると無電解ニッケルが過度にエッチ
ングされ面粗度を損なう。
反応を起こすと共に無電解ニッケル処理後に熱処理等で
生じた硫化膜を取り除くものであるがこの時，塩酸・硫
酸の濃度がそれぞれ1.90モル,2.95モルを超えたり温度
が40℃を越えたりすると無電解ニッケルが過度にエッチ
ングされ面粗度を損なう。
塩酸・硫酸の濃度がそれぞれ1.50モル,2.55モルを下
回ったり，温度が30℃を下回ったりすると酸化膜の除去
が不完全なため無電解ニッケル上へのめっきの密着性が
損なわれる。
回ったり，温度が30℃を下回ったりすると酸化膜の除去
が不完全なため無電解ニッケル上へのめっきの密着性が
損なわれる。
無電解ニッケル上への素地調整を目的とした第二の洗
浄液は10.0モルないし12.0モルの濃度範囲内の燐酸水溶
液に3.10モルないし3.50モルの濃度範囲の硫酸を加えた
後に30〜40℃に加温して洗浄するものである。
浄液は10.0モルないし12.0モルの濃度範囲内の燐酸水溶
液に3.10モルないし3.50モルの濃度範囲の硫酸を加えた
後に30〜40℃に加温して洗浄するものである。
なお各成分の濃度と温度に範囲を設けたのは，次の理
由による。
由による。
第二の洗浄液の燐酸・硝酸は，同一の洗浄液と同様に
無電解ニッケルと反応しながら第一の洗浄液の使用で生
じた未反応物質を取り除くことにあるため，第二の洗浄
液の燐酸・硝酸の濃度がそれぞれ12.0モル,3.50モルを
越えたり温度が40℃を越えたりすると無電解ニッケルを
過度にエッチングし面粗度を損なったりする。
無電解ニッケルと反応しながら第一の洗浄液の使用で生
じた未反応物質を取り除くことにあるため，第二の洗浄
液の燐酸・硝酸の濃度がそれぞれ12.0モル,3.50モルを
越えたり温度が40℃を越えたりすると無電解ニッケルを
過度にエッチングし面粗度を損なったりする。
また燐酸・硝酸の濃度がそれぞれ10.0モル,3.10モル
を下回ったり，温度が30℃を下回ったりすると第一の洗
浄液で生じた未反応物質を完全に取り除く事ができない
ために範囲を設けた。
を下回ったり，温度が30℃を下回ったりすると第一の洗
浄液で生じた未反応物質を完全に取り除く事ができない
ために範囲を設けた。
［発明の効果］ 以上のように，この発明の下地処理方法および下地処
理液によって熱処理適用後の無電解ニッケルめっき上に
密着のよいめっきを施すことが出来る。
理液によって熱処理適用後の無電解ニッケルめっき上に
密着のよいめっきを施すことが出来る。
チタニウムおよびチタニウム合金に施した無電解ニッ
ケルは，熱拡散法に拠ってめっきの密着性の改善が図ら
れているが，この発明はこのような履歴をもつ被処理物
に効果的である。
ケルは，熱拡散法に拠ってめっきの密着性の改善が図ら
れているが，この発明はこのような履歴をもつ被処理物
に効果的である。
Claims (1)
- 【請求項１】熱処理を施した無電解ニッケル膜へのめっ
きの下地調整方法において、上記無電解ニッケル膜を、
1.50モルないし1.90モルの濃度範囲内の塩酸水溶液に2.
55モルないし2.95モルの濃度範囲の硫酸を加えた後に30
℃〜40℃の範囲に加温してなる第一の洗浄液で洗浄し、
さらに10.0モルないし12.0モルの濃度範囲内の燐酸水溶
液に3.10モルないし3.50モルの濃度範囲の硝酸を加えた
後に30℃〜40℃に加温してなる第二の洗浄液により洗浄
した後0.3モルないし0.54モルの濃度範囲内のシアン化
カリ水溶液に0.003モルないし0.007モルのシアン化金カ
リウムを加えた液中で白金電極を陽極、被処理物を陰極
として３ボルトで電気分解を行うことによって得た0.1
μｍないし、0.5μｍの厚さの金めっきを下地とするこ
とを特徴とする無電解ニッケル膜へのめっきの下地調整
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2147691A JP2576667B2 (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | 無電解ニッケル膜へのめっきの下地調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2147691A JP2576667B2 (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | 無電解ニッケル膜へのめっきの下地調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04173993A JPH04173993A (ja) | 1992-06-22 |
| JP2576667B2 true JP2576667B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=15436095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2147691A Expired - Fee Related JP2576667B2 (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | 無電解ニッケル膜へのめっきの下地調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2576667B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2560893B1 (fr) * | 1984-03-09 | 1986-09-12 | Snecma | Bain de decapage chimique pour pieces en alliage resistant a chaud |
| JPS62124290A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-05 | Citizen Watch Co Ltd | チタン表面へのメツキ方法 |
-
1990
- 1990-06-06 JP JP2147691A patent/JP2576667B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04173993A (ja) | 1992-06-22 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |