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JP2579346B2 - Semiconductor nonvolatile storage element - Google Patents
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JP2579346B2 - Semiconductor nonvolatile storage element - Google Patents

Semiconductor nonvolatile storage element

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JP2579346B2 JP14946188A JP14946188A JP2579346B2 JP 2579346 B2 JP2579346 B2 JP 2579346B2 JP 14946188 A JP14946188 A JP 14946188A JP 14946188 A JP14946188 A JP 14946188A JP 2579346 B2 JP2579346 B2 JP 2579346B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、プログラマブル・ロジック・デバイスに内
蔵されるプログラム・データの保持用記憶素子等として
使用され、LOW及びHIGHレベルのデジタル信号を小さい
面積で保持することができる半導体不揮発性記憶素子に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention is used as a storage element for holding program data incorporated in a programmable logic device, etc., and converts a LOW and HIGH level digital signal into a small area. The present invention relates to a semiconductor nonvolatile memory element that can be held by a non-volatile memory device.

[従来の技術] 従来より、ユーザがプログラミングにより所望の回路
を手元で高集積に実現する集積回路(IC)として、PLD
(プログラマブル・ロジック・デバイス)等が知られて
いる。これらのプログラマブルな集積回路では、プログ
ラム・データ等を保持する必要があるため、不揮発性記
憶素子としてEPROM(イレーザブル・プログラマブル・
リード・オンリ・メモリ)を用いた回路が内蔵されてい
る。その例としては、IEEE JOURNAL OF SOLID−STAT
E CIRCUITS,VOL.SC−21,NO.5,OCTOBER1986 P766〜P77
3に述べられている。
[Prior art] Conventionally, PLDs have been used as integrated circuits (ICs) that allow a user to realize a desired circuit at a high integration level by programming.
(Programmable logic devices) and the like are known. Since these programmable integrated circuits need to hold program data, etc., EPROM (erasable programmable
A circuit using read-only memory is built in. An example is IEEE JOURNAL OF SOLID-STAT
E CIRCUITS, VOL.SC-21, NO.5, OCTOBER1986 P766 ~ P77
3 stated.

第5図は、上記PLDで使用されるセレクタをプログラ
ムするためのデータを保持するEPROMの従来例の回路図
である。セレクタ1はプログラム端子2がLOWレベルの
場合は出力3として入力4aが選択され、プログラム端子
2がHIGHレベルの場合は出力3として入力4bが選択され
るようになっている。また、EPROMのセルであるフロー
ティングゲートとコントロールゲートを有する電界効果
トランジスタ13は、ワード線5及びビット線6に12V以
上の高電圧をかける(以下これを書き込みと称す)と非
能動状態になる。従って、電界効果トランジスタ13を書
き込むと、ワード線5がHIGHレベルになっても、プルダ
ウンの能力が強調されたインバータ14aとプルアップの
能力が強調されたインバータ14bの環状接続によりノー
ド16はLOWレベルの信号をデータとして保持する。上記
の書き込み状態は前記電界効果トランジスタ13に紫外線
を照射することにより書き込み前の状態に戻す(以下こ
れを消去と称す)ことができる。電界効果トランジスタ
13を書き込まなかったり消去すると、ワード線5がHIGH
ならばノード15は電界効果トランジスタ13によってプル
ダウンされるので、ノード16はHIGHレベルの信号をデー
タとして保持する。このノード16は、セレクタ1のプロ
グラム端子2に接続されているので、電界効果トランジ
スタ13の書き込みの有無によってセレクタをプログラム
することができる。
FIG. 5 is a circuit diagram of a conventional example of an EPROM holding data for programming a selector used in the PLD. In the selector 1, the input 4a is selected as the output 3 when the program terminal 2 is at the low level, and the input 4b is selected as the output 3 when the program terminal 2 is at the high level. The field effect transistor 13 having a floating gate and a control gate, which is a cell of the EPROM, becomes inactive when a high voltage of 12 V or more is applied to the word line 5 and the bit line 6 (hereinafter referred to as writing). Therefore, when the field effect transistor 13 is written, even if the word line 5 goes high, the node 16 goes low due to the circular connection of the inverter 14a with the enhanced pull-down capability and the inverter 14b with the enhanced pull-up capability. Is held as data. The above written state can be returned to the state before writing by irradiating the field effect transistor 13 with ultraviolet rays (this is hereinafter referred to as erasing). Field effect transistor
If 13 is not written or erased, word line 5 goes high.
Then, since the node 15 is pulled down by the field-effect transistor 13, the node 16 holds a HIGH-level signal as data. Since the node 16 is connected to the program terminal 2 of the selector 1, the selector can be programmed depending on whether or not the field effect transistor 13 is written.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記従来の技術におけるプログラム・
データの保持回路では、EPROMセルのトランジスタのほ
かに複数素子で構成される2個のインバータを使用して
いるので、その分多くの面積を必要とし、記憶素子ひい
てはそれを内蔵するPLD等の集積度を低下させてしまう
という問題点があった。
[Problem to be Solved by the Invention] However, the program / program in the above-described conventional technique is
Since the data holding circuit uses two inverters composed of multiple elements in addition to the EPROM cell transistor, it requires a large area for it, and the storage element and the integrated PLD etc. that contain it There is a problem that the degree is lowered.

本発明は、上記問題点を解決するための創案されたも
ので、少ない素子数、従ってチップ上の小さい面積で実
現できる不揮発性記憶素子を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to provide a nonvolatile memory element which can be realized with a small number of elements and therefore with a small area on a chip.

[課題を解決するための手段] 上記の目的を達成するための本発明の不揮発性記憶素
子の構成は、 プログラマブル・ロジック・デバイスにおいて、フロ
ーティングゲートと第1のワード線に接続したコントロ
ールゲートを有し、ソースを接地した第1の電界効果ト
ランジスタと、 フローティングゲートと第2のワード線に接続したコ
ントロールゲートを有し、ソースをデータ書き込み時に
は接地に、データ読み出し時には電源電圧に切り換え可
能な回路に接続し、ドレインを前記第1の電界効果トラ
ンジスタのドレインに接続した前記第1の電界効果トラ
ンジスタと同種類の第2の電界効果トランジスタと、を
1ビットのデータを保持するメモリセルとし、 前記メモリセルのドレイン同士を接続したノードとビ
ット線との間に接続され、データ書き込み時にオンする
スイッチの役割を果たす回路を有し、 前記ノードを前記1ビットのデータ読み出すノードと
しプログラマブル・ロジック・デバイスのプログラミン
グ素子に接続することを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] To achieve the above object, a nonvolatile memory element according to the present invention comprises a programmable logic device having a floating gate and a control gate connected to a first word line. A first field-effect transistor having a source grounded, a control gate connected to a floating gate and a second word line, and having a source grounded for data writing and a power supply voltage switchable for data reading. A second field-effect transistor of the same type as the first field-effect transistor connected to the drain of the first field-effect transistor and having a drain connected to a drain of the first field-effect transistor; It is connected between the bit line and the node connecting the cell drains, A circuit serving as a switch that is turned on when data is written, wherein the node is a node from which the 1-bit data is read and connected to a programming element of a programmable logic device.

[作用] 本発明は、メモリセルを構成している第1の電界効果
トランジスタ(以下FETと記す)をプルダウン用のFETと
し、第2のFETをプルアップ用のFETとして、第1のワー
ド線または第2のワード線の指示によりいずれか一方の
FETに書き込みを行って、そのFETに非能動状態を保持さ
せる。このとき、プルダウン用の第1のFETを非能動状
態とすれば、読み出しのために第1および第2のワード
線の両方に指示を与えた場合、能動状態の第2のFETの
プルアップの作用によってHIGHレベル信号が読み出さ
れ、プルアップ用の第2のFETを非能動状態にすれば、
同様に第1のFETのプルダウンの作用によって、LOWレベ
ル信号が読み出せる。即ち、メモリセルは上記書き込み
によって1ビットのデータを保持する。スイッチの役割
を果たす回路は、書き込むのためのビット線とノードか
らの出力線とを分離して、メモリセルの出力を個別にPL
Dのプログラミング素子へ出力できるようにする。以上
により、PLDの不揮発性記憶素子の構成素子数を最小に
するとともに、第1のFET、第2のFETを同種類とするこ
とで、各FETを形成する際の素子分離に要する面積を最
小にすることにより、PLDの高集積化を可能にする。
[Operation] According to the present invention, a first field effect transistor (hereinafter referred to as an FET) constituting a memory cell is used as a pull-down FET and a second FET is used as a pull-up FET. Or one of them according to the instruction of the second word line.
Write to the FET to cause it to remain inactive. At this time, if the pull-down first FET is set to the inactive state, when an instruction is given to both the first and second word lines for reading, the pull-up of the active second FET is performed. When the HIGH level signal is read out by the action and the second FET for pull-up is made inactive,
Similarly, a LOW level signal can be read by the pull-down operation of the first FET. That is, the memory cell holds 1-bit data by the writing. The circuit serving as a switch separates the bit line for writing and the output line from the node, and individually outputs the output of the memory cell to the PL.
Output to the D programming element. As described above, the number of constituent elements of the PLD nonvolatile storage element is minimized, and the area required for element isolation when forming each FET is minimized by using the same type of the first FET and the second FET. By doing so, high integration of the PLD is enabled.

[実施例] 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示す回路図である。本実
施例は、ユーザがPLDで使用されるプログラム可能なセ
レクタをプログラムするためのデータを保持しているメ
モリセル1個を含む回路例を示している。ユーザがプロ
グラム可能なセレクタ1は、プログラム端子2がLOWレ
ベルの場合は出力3として入力4aが選択され、プログラ
ム端子2がHIGHレベルの場合は出力3として入力4bが選
択されるように構成されている。5aは第1のワード線、
5bは第2のワード線、6はビット線、7はデータ書き込
み時には接地側に書き込んだデータの読み出し時には電
源電圧に、切り換え可能な回路に接続された出力イネー
ブル線、8はデータ書き込み時に書き込み電圧となるラ
イトイネーブル線、9はデータ書き込み時には書き込み
電圧をメモリセルに与えるとともに通常は書き込んだデ
ータを読み出すためのノード、10はゲートをライトイネ
ーブル線8に接続したドレインをビット線6に接続しソ
ースをノード9に接続したNチャンネルMOSFETから成る
スイッチである。また、11aはフローティングゲートと
第1のワード線5aに接続したコントロールゲートを有し
ソースを接地したN型のMOSFET(以下FAMOSFETと記す)
である第1のFAMOSFET、11bはフローティングゲートと
第2のワード線5bに接続したコントロールゲートを有し
ソースを出力イネーブル線7に接続しドレインを第1の
FAMOSFETのドレインに接続した第2のN型のFAMOSFETで
あり、この2つの第1,第2のFAMOSFETが1ビットのデー
タを保持するメモリセル12を構成するとともに、両者の
ドレイン同士を接続したノードが前記のノード9となっ
ている。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the present invention. This embodiment shows an example of a circuit including one memory cell holding data for a user to program a programmable selector used in a PLD. The user-programmable selector 1 is configured such that when the program terminal 2 is at the low level, the input 4a is selected as the output 3 and when the program terminal 2 is at the high level, the input 4b is selected as the output 3. I have. 5a is the first word line,
5b is a second word line, 6 is a bit line, 7 is a power supply voltage when reading data written to the ground side when writing data, an output enable line connected to a switchable circuit, and 8 is a writing voltage when writing data. A write enable line 9 for applying a write voltage to a memory cell at the time of data writing and a node for normally reading out the written data; and 10, a drain having a gate connected to the write enable line 8 and a source connected to the bit line 6 for a source. Is a switch composed of an N-channel MOSFET connected to the node 9. An N-type MOSFET 11a has a floating gate and a control gate connected to the first word line 5a, and has a source grounded (hereinafter referred to as FAMOSFET).
The first FAMOSFET 11b has a floating gate and a control gate connected to the second word line 5b, has a source connected to the output enable line 7, and has a drain connected to the first enable line.
A second N-type FAMOSFET connected to the drain of the FAMOSFET. The two first and second FAMOSFETs constitute a memory cell 12 for holding 1-bit data, and a node connecting the two drains. Is the node 9 described above.

以上のように構成した実施例の作用を述べる。 The operation of the embodiment configured as described above will be described.

第2図は、メモリセルにHIGHレベルのデータを書き込
む場合に必要な信号のタイミング図である。第1図のメ
モリセル12にHIGHレベルのデータを書き込む場合には、
まず、ライトイネーブル線8に書き込み電圧Vppを与
え、スイッチ(NチャンネルMOSFET)10をオンさせる。
次に、第1のワード線5a及びビット線6に書き込み電圧
Vppを与えると、第1のFAMOSFET11aのフローティングゲ
ートには、ホットエレクトロンが注入され、それが保持
されて、第1のFAMOSFET11aは非能動状態となる。もち
ろん、書き込みを行う前には、紫外線の照射等によって
第1,第2のFAMOSFET11a,11bのフローティングゲートの
電荷を光電流として除去し、能動状態にしておく(消
去)必要があり、上記書き込み時において第2のワード
線5bには書き込み電圧を与えず、出力イネーブル線7は
接地側(OV)にしておく。従って第2のFAMOSFET11bは
上記書き込み後においても能動状態のままである。
FIG. 2 is a timing chart of signals necessary for writing high-level data to a memory cell. When writing high-level data to the memory cell 12 in FIG. 1,
First, a write voltage Vpp is applied to the write enable line 8, and a switch (N-channel MOSFET) 10 is turned on.
Next, the write voltage is applied to the first word line 5a and the bit line 6.
When Vpp is applied, hot electrons are injected into the floating gate of the first FAMOSFET 11a, the hot electrons are retained, and the first FAMOSFET 11a becomes inactive. Needless to say, before writing, it is necessary to remove the charge of the floating gates of the first and second FAMOSFETs 11a and 11b as a photocurrent by irradiating ultraviolet rays or the like and keep the active state (erase). In this case, the write voltage is not applied to the second word line 5b, and the output enable line 7 is set to the ground side (OV). Therefore, the second FAMOSFET 11b remains in an active state even after the writing.

第3図は、メモリセルにLOWレベルを書き込む場合に
必要な信号のタイミング図である。今度は上記とは逆
に、第1図のメモリセル12にLOWレベルのデータを書き
込む場合には、まず、ライトイネーブル線8に書き込み
電圧Vppを与え、スイッチ(NチャンネルMOSFET)10を
オンさせる。次に、第2のワード線5b及びビット線6に
書き込み電圧Vppを与え、出力イネーブル線7には接地
側のOVを与えてFAMOSFET11bを非能動状態にする。この
とき、第1のワード線5aには、書き込み電圧を与えな
い。従って第1のFAMOSFET11aは、上記書き込み後も能
動状態のままである。
FIG. 3 is a timing chart of signals necessary for writing a LOW level to a memory cell. To write LOW level data in the memory cell 12 of FIG. 1 in the opposite manner, first, a write voltage Vpp is applied to the write enable line 8, and the switch (N-channel MOSFET) 10 is turned on. Next, the write voltage Vpp is applied to the second word line 5b and the bit line 6, and OV on the ground side is applied to the output enable line 7 to make the FAMOSFET 11b inactive. At this time, no write voltage is applied to the first word line 5a. Therefore, the first FAMOSFET 11a remains in the active state even after the writing.

第4図は、以上によってメモリセルに書き込まれたデ
ータの読み出しのタイミング図である。第1図におい
て、ライトイネーブル線8にOV(接地側)を与えてスイ
ッチ(NチャンネルMOSFET)10をオフさせ、第1のワー
ド線5a,第2のワード線5bおよび出力イネーブル線7の
それぞれに電源電圧Vddを与えると、前記メモリセル12
にHIGHレベルのデータ書き込みを行っていれば、FAMOSF
ET11aが非能動状態かつFAMOSFET11bが能動状態なので、
ノード9はFAMOSFET11bによってプルアップされてプロ
グラム可能なセレクタ1のプログラム端子2にHIGHレベ
ルの信号を与える。また、前記メモリセル12にLOWレベ
ルのデータを書き込みを行っていれば、FAMOSFET11bが
非能動状態かつFAMOSFET11aが能動状態なので、ノード
9はFAMOSFET11aによってプルダウンされてプログラム
可能なセレクタ1のプログラム端子2にLOWレベルの信
号を与える。
FIG. 4 is a timing chart of reading data written in the memory cell as described above. In FIG. 1, OV (ground side) is applied to a write enable line 8 to turn off a switch (N-channel MOSFET) 10, and a first word line 5a, a second word line 5b, and an output enable line 7 are applied to each of the first and second word lines 5a, 5b. When the power supply voltage Vdd is applied, the memory cell 12
If high level data is written to
Since ET11a is inactive and FAMOSFET11b is active,
Node 9 is pulled up by FAMOSFET 11b to provide a high level signal to program terminal 2 of programmable selector 1. If the LOW level data is written in the memory cell 12, the FAMOSFET 11b is inactive and the FAMOSFET 11a is active. Therefore, the node 9 is pulled down by the FAMOSFET 11a and the LOW is applied to the program terminal 2 of the programmable selector 1. Give a level signal.

以上のように、本実施例のメモリセルはHIGHレベルま
たはLOWレベルのデータ、即ち1ビットのデータを保持
することができる。しかも、その回路はメモリセルを構
成する2個のFAMOSFETと1個のスイッチ用MOSFETと極め
て少ない素子数で構成することができ、集積化した場合
にチップ上の面積を小さくすることができ高集積化が可
能となる。ここで、本実施例では、メモリセルを構成す
る2個のFAMOSFETを同種類としているため、同一基板に
異なる種類(N型とP型)のFAMOSFETを形成する場合の
素子分離に要する余分な面積が不要になり、さらに高集
積化が可能となる。
As described above, the memory cell of this embodiment can hold high-level data or low-level data, that is, 1-bit data. Moreover, the circuit can be composed of two FAMOSFETs and one switching MOSFET, which constitute a memory cell, and an extremely small number of elements. Is possible. Here, in this embodiment, since two FAMOSFETs constituting the memory cell are of the same type, an extra area required for element isolation when forming different types (N-type and P-type) of FAMOSFETs on the same substrate. Becomes unnecessary, and higher integration is possible.

なお、上記実施例ではコントロールゲート等の電圧を
正にして構成しやすくするためにN型のFAMOSFETを使用
したが、P型のFAMOSFETによっても構成可能であること
は明らかである。また、複数個のメモリセルを備え、複
数のビット線のそれぞれにスイッチを介して複数のメモ
リセルを接続するとともに、複数の第1,第2のワード線
方向にもそれぞれ複数のメモリセルを接続してアレイ状
に形成することも可能である。このように、本発明はそ
の主旨に沿って種々に応用され、種々の実施態様を取り
得るものある。
In the above-described embodiment, an N-type FAMOSFET is used in order to make the voltage of the control gate and the like positive and easy to configure. However, it is obvious that a P-type FAMOSFET can also be used. In addition, a plurality of memory cells are provided, and a plurality of memory cells are connected to each of a plurality of bit lines via a switch, and a plurality of memory cells are also connected to a plurality of first and second word lines, respectively. It is also possible to form an array. As described above, the present invention can be applied variously according to the gist thereof and can take various embodiments.

[発明の効果] 以上の説明で明らかなように、本発明の不揮発性記憶
素子によれば、従来のPLD等に使用される不揮発性記憶
素子と同じ機能をもちながら、インバータを用いること
なしに2個のFAMOSFETで構成されるメモリセルとスイッ
チの役割を果たす回路とで一つの不揮発性記憶素子を構
成できるのでその分面積を節約することができ、また、
その2個のFAMOSFETが同種類のため素子分離に要する面
積を小さくすることができ、高集積化が可能になる。
[Effects of the Invention] As is apparent from the above description, according to the nonvolatile memory element of the present invention, the nonvolatile memory element has the same function as the nonvolatile memory element used in the conventional PLD and the like, without using an inverter. A memory cell composed of two FAMOSFETs and a circuit serving as a switch can constitute one non-volatile memory element, so that the area can be saved by that much.
Since the two FAMOSFETs are of the same type, the area required for element isolation can be reduced, and high integration can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の不揮発性記憶素子の一実施例を示す回
路図、第2図はHIGHレベルのデータ書き込みの場合のタ
イミング図、第3図はLOWレベルのデータ書き込みの場
合のタイミング図、第4図はデータ読み出しのタイミン
グ図、第5図は従来の不揮発性記憶素子であるEPROMの
回路図である。 5a……第1のワード線、5b……第2のワード線、6……
ビット線、7……出力イネーブル線、8……ライトイネ
ーブル線、9……ノード、10……スイッチ、11a……第
1のFAMOSFET、11b……第2のFAMOSFET、12……メモリ
セル。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a nonvolatile memory element according to the present invention, FIG. 2 is a timing chart for writing high-level data, FIG. 3 is a timing chart for writing low-level data, FIG. 4 is a timing diagram of data reading, and FIG. 5 is a circuit diagram of an EPROM which is a conventional nonvolatile memory element. 5a ... first word line, 5b ... second word line, 6 ...
Bit line, 7 ... output enable line, 8 ... write enable line, 9 ... node, 10 ... switch, 11a ... first FAMOSFET, 11b ... second FAMOSFET, 12 ... memory cell.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】プログラマブル・ロジック・デバイスにお
いて、 フローティングゲートと第1のワード線に接続したコン
トロールゲートを有し、ソースを接地した第1の電界効
果トランジスタと、 フローティングゲートと第2のワード線に接続したコン
トロールゲートを有し、ソースをデータ書き込み時には
接地に,データ読み出し時には電源電圧に切り換え可能
な回路に接続し、ドレインを前記第1の電界効果トラン
ジスタのドレインに接続した前記第1の電界効果トラン
ジスタと同種類の第2の電界効果トランジスタと、 を1ビットのデータを保持するメモリセルとし、 前記メモリセルのドレイン同士を接続したノードとビッ
ト線との間に接続され、データ書き込み時にオンするス
イッチの役割を果たす回路を有し、 前記ノードを前記1ビットのデータ読み出すノードとし
プログラマブル・ロジック・デバイスのプログラミング
素子に接続することを特徴とする半導体不揮発性記憶素
子。
1. A programmable logic device, comprising: a first field-effect transistor having a floating gate and a control gate connected to a first word line and having a source grounded; and a floating gate and a second word line connected to a first word line. A first field-effect transistor having a control gate connected thereto, a source connected to a circuit which can be switched to a ground when writing data, and a power supply voltage when reading data, and a drain connected to a drain of the first field-effect transistor; A second field-effect transistor of the same type as the transistor; and a memory cell that holds 1-bit data. The memory cell is connected between a node connecting the drains of the memory cell and a bit line, and is turned on when writing data. A circuit serving as a switch; The semiconductor nonvolatile memory device characterized by connecting the programming device of a programmable logic device as bits of data read out node.
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