JP2589486B2 - イソシアヌル酸誘導体及び該化合物からなる安定剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規シクロアルキル−ｐ−ヒドロキシベンジ
ルイソシアヌレート、有機材料を安定化するためのその
使用及びそれによって熱，酸化及び／又は化学線分解に
対して安定化された有機材料に関するものである。

〔従来の技術〕

ｐ−ヒドロキシベンジルイソシアヌレート、及び有機
材料を安定化するためのその使用は、例えばアメリカ合
衆国特許第3531483号及び第3669962号並びに西ドイツ国
特許公開第2445307号公報から公知である。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、次式I: （式中、 R¹は次式II: で表わされる基を表わし、 R²は次式III: で表わされる基を表わし、そして R³は次式IV: で表わされる基を表わし、 R⁴は炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、又は炭
素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭
素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表わし、 R⁵，R⁶，R⁷，R⁸及びR⁹は互いに独立して炭素原子数１
ないし18のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロ
アルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基によっ
て置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル
基、フェニル基、ベンジル基又はアリル基を表わす。）
で表わされる化合物を提供するものである。

未置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基によっ
て置換された炭素原子数５ないし７のシクロヘキシル基
であるR⁴ないしR⁹は、例えばシクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基又は１−メチルシクロヘ
キシル基を表わす。好ましいものはシクロヘキシル基で
ある。

炭素原子数１ないし18のアルキル基であるR⁵ないしR⁹
は直鎖又は枝分かれ鎖の基であることができる。個々の
例は：メチル基、エチル基、プロピル基，イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、ペン
チル基、第三ペンチル基、ヘキシル基、ノニル基、デシ
ル基、ドデシル基、テトラデシル基及びヘキサデシル基
である。好ましいものは炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、特にメチル基、第二ブチル基及び第三ブチル基で
ある。

基R¹，R²及びR³は同一又は異なる基を表わすことがで
きる。

好ましくはR¹，R²及びR³は同一の基を表わす。

特に好ましいものは式Ｉにおいて、R¹がR²とは異なる
基を表わし、そしてR²及びR³が同一の基を表わす化合物
である。

同様にR¹とR²が同一の基を表わしR²及びR³と異なる基
を表わす式Ｉの化合物も好ましい。

興味深いものは、式Ｉにおいて、R¹が式IIで表わされ
る基を表わし、R²が式IIIで表わされる基を表わし、そ
してR³が式IVで表わされる基を表わし、基R⁵ないしR⁹が
互いに独立して炭素原子数１ないし８のアルキル基、シ
クロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、フェニ
ル基又はアリル基を表わす化合物である。

また、式Ｉにおいて、R¹が式IIで表わされる基を表わ
し、R²が式IIIで表わされる基を表わし、そしてR³が式I
Vで表わされる基を表わし、R⁴がシクロヘキシル基又は
１−メチルシクロヘキシル基を表わす化合物が興味深
い。R⁴は好ましくはシクロヘキシル基である。

他の式Ｉで表わされる好ましい化合物の群はR¹が式II
で表わされる基を表わし、R²が式IIIで表わされる基を
表わし、そしてR³が式IVで表わされる基を表わし、R⁴が
シクロヘキシル基を表わし、そしてR⁵ないしR⁹が互いに
独立してメチル基、第三ブチル基、シクロヘキシル基又
はフェニル基を表わすものである。

特に好ましいものは、式Ｉにおいて、R¹が式IIで表わ
される基を表わし、R²が式IIIで表わされる基を表わ
し、そしてR³が式IVで表わされる基を表わし、R⁴，R⁶及
びR⁸がシクロヘキシル基を表わし、そしてR⁵，R⁷及びR⁹
が同一であってメチル基、第三ブチル基、シクロヘキシ
ル基又はフェニル基を表わす化合物である。

式Ｉにおいて、R¹が式IIで表わされる基を表わし、R²
が式IIIで表わされる基を表わし、そしてR³が式IVで表
わされる基を表わし、R⁵，R⁷及びR⁹が同一であって、メ
チル基又はシクロヘキシル基を表わす化合物が同様に興
味深い。

特に興味深いものは、式Ｉにおいて、R¹が式IIで表わ
される基を表わし、R²が式IIIで表わされる基を表わ
し、そしてR³が式IVで表わされる基を表わし、R⁴，R⁶及
びR⁸がシクロヘキシル基を表わし、そしてR⁵，R⁷及びR⁹
がメチル基を表わす化合物及びR⁴ないしR⁹が炭素原子数
５ないし７のシクロヘキシル基又はメチルシクロヘキシ
ル基、特にシクロヘキシル基を表わす化合物である。

式Ｉで表わされる化合物の例は： N,N′,N″−トリス〔3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒ
ドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′,N″−トリス〔３−シクロヘキシル−５−メチ
ル−４−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′,N″−トリス〔３−シクロヘキシル−５−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキ
シベンジル〕Ｎ″−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔３−シクロヘキシル−５−メチル−４
−ヒドロキシベンジル〕Ｎ″−（3,5−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔３−シクロヘキシル−５−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル〕Ｎ″−（3,5−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキ
シベンジル〕Ｎ″−（３−第三ブチル−５−メチル−４
−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔３−シクロヘキシル−５−メチル−４
−ヒドロキシベンジル〕Ｎ″−（３−第三ブチル−５−
メチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔３−シクロヘキシル−５−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル〕Ｎ″−（３−第三ブチル−
５−メチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、 N,N′−ビス〔3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキ
シベンジル〕Ｎ″−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔３−シクロヘキシル−５−メチル−４
−ヒドロキシベンジル〕Ｎ″−（3,5−ジメチル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔３−シクロヘキシル−５−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル〕Ｎ″−（3,5−ジメチル−
４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル〕Ｎ″−〔3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロ
キシベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル〕Ｎ″−〔３−シクロヘキシル−５−メチル−４
−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル〕Ｎ″−〔３−シクロヘキシル−５−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔３−第三ブチル−５−メチル−４−ヒ
ドロキシベンジル〕Ｎ″−〔3,5−シクロヘキシル−４
−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔３−第三ブチル−５−メチル−４−ヒ
ドロキシベンジル〕Ｎ″−〔３−シクロヘキシル−５−
メチル−４−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔３−第三ブチル−５−メチル−４−ヒ
ドロキシベンジル〕Ｎ″−〔３−シクロヘキシル−５−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレー
ト、 N,N′−ビス〔3,5−ジメチル−４−ヒドロキシベンジ
ル〕Ｎ″−〔3,5−シクロヘキシル−４−ヒドロキシベ
ンジル〕イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔3,5−ジメチル−４−ヒドロキシベンジ
ル〕Ｎ″−〔３−シクロヘキシル−５−メチル−４−ヒ
ドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔3,5−ジメチル−４−ヒドロキシベンジ
ル〕Ｎ″−〔３−シクロヘキシル−５−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 である。

式Ｉで表わされる特に好ましい化合物は： N,N′,N″−トリス〔3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒ
ドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′,N″−トリス〔３−シクロヘキシル−５−メチ
ル−４−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′,N″−トリス〔３−シクロヘキシル−５−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキ
シベンジル〕Ｎ″−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル〕Ｎ″−〔3,5ジシクロヘキシル−４−ヒドロキ
シベンジル〕イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔３−シクロヘキシル−５−メチル−４
−ヒドロキシベンジル〕Ｎ″−（3,5−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、 N,N′−ビス〔3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル〕Ｎ″−〔３−シクロヘキシル−５−メチル−４
−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレート、 である。

式Ｉの化合物は、例えばアメリカ合衆国特許第366996
1号及び第3669962号公報に記載されたような公知の方法
で、次式Ｖで表わされるフェノール又は次式V,VI及びVI
I: 〔式中、R⁴ないしR⁹は上記で定義した意味を表わす。）
で表わされるフェノールの混合物を、イソシアヌル酸及
びホルムアルデヒド又はホルムアルデヒドを遊離する化
合物と反応させることにより製造することができる。

試薬は好ましくは化学量論比で用いる。

反応は、窒素ガス又は希ガス、好ましくはアルゴン雰
囲気下で、70°ないし180℃の温度で行なうことが有利
である。特に，約130°ないし150℃の温度が好ましい。

適当なホルムアルデヒドを遊離する化合物は例えばホ
ルマリン溶解、パラホルムアルデヒド又はトリオキサン
である。

この反応は触媒なしに又は慣用の塩基触媒の存在下で
行なうことができる。適当な触媒は第二級及び第三級ア
ミン及びッポリアミン、例えばジエチルアミン、トリブ
チルアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン又はヘキサメチレンテトラミンである。

反応は反応温度より高い沸点を有する不活性有機溶媒
中で行うことが有利である。適当な溶媒は、例えばホル
ムアルデヒド、アセトアミド、ジエチルホルムアミド又
は好ましくはジメチルホルムアミド又はアセトリニトリ
ルである。

反応はまた、溶媒を用いずに、又は反応温度より低い
沸点を有する不活性溶媒若しくは溶媒混合物中で、この
場合加圧下で行なうこともできる。

更に、反応溶媒中に水が存在するなら有利である。

もし式V,VI及びVIIのフェノールの混合物を用いるな
らば、得られる生成物はイソシアヌレートの混合物であ
り、その分離は、例えばカラムクロマトグラフイ又は分
別再結晶による、慣用の方法で行なうことができる。

出発物質は公知（幾つかは市販品として入手可能）で
あり、そして公知方法によって製造できる。２−アルキ
ル−６−シクロヘキシルフェノール及び2,6−ジシクロ
ヘキシルフェノールの製造は例えばアメリカ合衆国特許
第3093587号公報に記載されている。

式Ｉで表わされる化合物及びその混合物は有機材料を
熱、酸化及び／又は化学線分解に対して安定化するため
に適当である。このような材料の例は： 1.モノ又はジオレフィンから誘導されるポリマー、例え
ばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソブレン又はポリ
ブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペン
テン又はノルボルネンのポリマー、場合により架橋して
いてもよいポリエチレン例えば高密度ポリエチレン（HD
PE）、低密度ポリエチレン（LDPE）及び直鎖低密度ポリ
エチレン（LLDPE）。

2.1）で示したポリマーの混合物、例えばポリプロピレ
ンのポリイソブチレンとの混合物、プリプロピレンのポ
リエチレンとの混合物（例えばPP/HDPE、PP/LDPE）及び
異なったタイプのポリエチレン（例えばLDPE/HDPE）。

3.モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビ
ニルモノマーとのコーポリマー、例えば、エチレン／ポ
ロピレンコーポリマー、直鎖低密度ポリエチレン（LLDP
E）及びその混合物の低密度ポリエチレン（LDPE）との
コーポリマー、プロピレン／ブテン−１コーポリマー，
エチレン／ヘキセンコーポリマー、エチレン／メチルペ
ンテンコーポリマー、エチレン／ヘプテンコーポリマ
ー、エチレン／オクテンコーポリマー、プロピレン／イ
ソブチレンコーポリマー、エチレン／ブテン−１コーポ
リマー、プロピレン／ブタジエンコーポリマー、イソブ
チレン／イソプレンコーポリマー、エチレン／アルキル
アクリレートコーポリマー、エチレン／アルキルメタク
リレートコーポリマー、エチレン／ビニルアセテートコ
ーポリマー又はエチレン／アクリル酸コーポリマー及び
それらの塩（イオノマー）並びにエチレンとプロピレン
及びジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエン
又はエチリデン−ノルボルネン、とのターポリマー、並
びにこのようなコーポリマーの混合物及びこれらの上記
１）に記載したポリマーとの混合物、例えばポリプロピ
レン／エチレン−プロピレン−コーポリマー、LDPE/EV
A、LDPE/EAA、LLDPE/EVA及びLLDPE/EAA。

3a.炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）及び
それらの水素添加変性物（例えば粘着性付与剤）。

4.ポリスチレン及びポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポ
リ−（α−メチルスチレン）。

5.スチレン又はα−メチルスチレンのジエン又はアクリ
ル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエ
ン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキル
メタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物、スチレ
ン／ブタジエン／エチルアクリレート、スチレン／アク
リロニトリル／メタクリレート；スチレンコポリマーと
の他のポリマー、例えば、ポリアクリレート、ジエンポ
リマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマー
から得られる耐衝撃性樹脂混合物；及びスチレンのブロ
ックコーポリマー、例えば、スチレン／ブタジエン／ス
チレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／
エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン
／プロピレン／スチレン。

6.スチレン又はα−メチルスチレンのグラフトコーポリ
マー、例えば、スチレンの結合したポリブタジエン、ス
チレンの結合したポリブタジエン−スチレン又はポリブ
タジエン−アクリロニトリル；スチレン及びアクリロニ
トリル（又はメタクリロニトリル）の結合したポリブタ
ジエン；スチレン及びマレイン酸無水物又はマレイミド
の結合したポリブタジエン；スチレン、アクリロニトリ
ル及びマレイン酸無水物の結合したポリブタジエン；ス
チレン；アクリロニトリル及びメチルメタクリレートの
結合したポリブタジエン、スチレン及びアルキルアクリ
レート又はメタクリレートの結合したポリブタジエン；
スチレン及びアクリロニトリルの結合したエチレン／プ
ロピレン／ジエンターポリマー、スチレン及びアクリロ
ニトリルの結合したポリアルキルアクリレート又はポリ
アルキルメタクリレート又はスチレン及びアクリロニト
リルの結合したアクリレート／ブタジエンコーポリマ
ー、並びにこれらと５）に挙げたコーポリマーとの混合
物、例えば、ABS,MBS,ASA又はAESポリマーとして知られ
るコーポリマー混合物。

7.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩
素化ゴム、塩素化若しくはクロロスルホン化ポリエチレ
ン及びエピクロロヒドリンのホモ及びコーポリマー、ハ
ロゲン含有ビニル化合物から得られるポリマー、例え
ば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン；並びにこれらのコーポ
リマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニ
ル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコーポ
リマー。

8.α，β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されるポリ
マー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。

9.8）に挙げたモノマーどうしのコーポリマー又は８）
に挙げたモノマーと他の不飽和モノマーとのコーポリマ
ー、例えば、アクリロニトリル／ブタジエンコーポリマ
ー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコーポリ
マー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレ
ートコーポリマー又はアクリロニトリル／ハロゲン化ビ
ニルコーポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタ
クリレート／ブタジエンターポリマー。

10.不飽和アルコール及びアミン又はそれらのアシル誘
導体又はアセタールから誘導されるポリマー、例えばポ
リビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステアリン
酸ビニル、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエ
ート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又
はポリアリルメラミン；並びにこれらの上記１）で挙げ
たオレフィンとこのコーポリマー。

11.環状エーテルのホモポリマー及びコーポリマー、例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシド又はこれらのビスグリシジ
ルエーテルとのコーポリマー。

12.ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、並び
にコーモノマーとして例えばエチレンオキシドを含有す
るポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリ
レート又はMSBで変性したポリアセタール。

13.ポリフェニレンオキシド及びポリフェニレンスルフ
ィド、並びにそれらのいずれかのポリスチレン又はポリ
アミドとの混合物。

14.一方の末端に水酸基を有し、他方の末端に脂肪族又
は芳香族ポリインシアネートを有するポリエーテル、ポ
リエステル又はポリブタジエンから誘導されるポリウレ
タン、並びにそれらの前駆物質。

15.ジアミン及びジカルボン酸から、及び／又はアミノ
カルボン酸若しくは相当するラクタムから誘導されるポ
リアミド及びコーポリアミド、例えばポリアミド４、ポ
リアミド６、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、6/9、6/
12及び4/6、ポリアミド11、ポリアミド12;m−キシレ
ン、ジアミン及びアジピン酸の縮合によって得られる芳
香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミン及びイソフタ
ル酸及び／又はテレフタル酸及び場合により変性剤とし
てのエラストマー、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘ
キサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレ
ンイソフタルアミド。更に、前記ポリアミドの、ポリオ
レフィン、オレフィンコーポリマー、イオノマー又は化
学的に結合した若しくはグラフトしたエラストマー；又
はポリエーテル、例えば、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコ
ールとのコーポリマー。更に、EPDM又はABSで変性した
ポリアミド又はコーポリアミド；並びに加工中に縮合し
たポリアミド（RIM−ポリアミド系）。

16.ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド及びポ
リベンズイミダゾール。

17.ジカルボン酸及びジアルコールから、及び／又はヒ
ドロキシカルボン酸又は相当するラクトンから誘導され
るポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチ
ロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロキシ
ベンゾエート、並びに末端水酸基を有するポリエーテル
から誘導されるブロックコーポリエーテル−エステル；
更にポリカーボネート又はMBS変性ポリエステルとのブ
ロックコーポリエーテル。

18.ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。

19.ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエー
テルケトン。

20.アルデヒドと、フェノール、尿素又はメラミンとか
ら誘導される架橋ポリマー、例えば、フェノール／ホル
ムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメ
ラミン／ホルムアルデヒド樹脂。

21.乾性及び不乾性アルキッド樹脂。

22.飽和及び不飽和ジカルボン酸の多価アルコールと
の、ビニル化合物を架橋剤とする、コーポリエステルか
ら誘導される、不飽和ポリエステル樹脂、並びにそのハ
ロゲン原子を含む難燃性変性樹脂。

23.置換アクリル酸エステル、例えば、エポキシアクリ
レート、ウレタン−アクリレート又はポリエステル−ア
クリレートから誘導される架橋性アクリル樹脂。

24.架橋剤としてメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリインシ
アネート又はエポキシ樹脂を混合したアルキッド樹脂、
ポリエステル樹脂又はアクリレート樹脂。

25.ポリエポキシド、例えば、ビス−グリシジルエーテ
ル又は脂環式ジエポキシドから誘導される架橋エポキシ
樹脂。

26.天然のポリマー、例えば、セルロース、天然ゴム、
ゼラチン及びそれらを重合同族体として化学変性した誘
導体、例えば、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、セルロースブチレート又はセルロースエーテル、例
えばメチルセルロース；ロジン及びその誘導体。

27.上記のポリマーの混合物、例えばPP/EPDM,ポリアミ
ド6/EPDM若しくはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、PC
/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アク
リレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PUR、POM/ア
クリレート、POM/MBS、PPE/HIPS、PPO/PA66及びコーポ
リマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO。

28.純単量体化合物又はその混合物からなる天然及び合
成有機材料、例えば、鉱油、動物若しくは植物脂肪、オ
イル及びワックス又は合成エステル（例えば、フタレー
ト、アジペート、ホスフェート又はトリメリテート）を
ベースとした上記オイル、ワックス及び脂肪、並びに合
成エステルの適当な重量比で混合された鉱油との混合物
で、その材料はポリマーのための可塑剤又は繊維紡績油
として並びにこのような材料の水性エマルジョンとして
使用されうる。

29.天然又は合成ゴムの水性エマルジョン、例えば、天
然ゴムラテックス又はカルボキシル化スチレン／ブタジ
エンコーポリマーのラテックス。

したがって、本発明はまた、少なくとも一種の式Ｉで
表わされる化合物からなる有機材料用安定剤にも関す
る。

有機材料は好ましくは合成ポリマー、天然若しくは合
成エラストマー又は天然若しくは合成機能油、特に、熱
酸化及び／又は光誘起分解に敏感な合成ポリマーであ
る。ポリオレフィン、例えばポリプロピレン及びポリエ
チレンは特に好ましい有機材料である。

機能油は例えば作動油、潤滑剤、潤滑油などである。

一般に、本発明の化合物は、安定すべき材料の全重量
に基づいて0.01ないし10％、好ましくは0.05ないし５
％、特に0.05ないし0.5％の量で安定化すべき有機材料
に加える。また、この安定化のためには、得られる式Ｉ
の化合物の混合物のどれでも、全く分離する必要なく、
使用することができる。これは、特に、R¹ないしR³が同
一ではなく、そして一般に混合物の形で製造工程から得
られるこれらの化合物に適用する。

したがって、本発明は、更に、少なくとも二種の式Ｉ
の化合物を含む物理的混合物をも提供するものである。

これらの混合物は、また、純成分を混合することによ
り得ることもできる。

有機材料の安定化のために、本発明の化合物をいわゆ
るチオ相乗剤とともに用いることは有利であることがで
きる。チオ相乗剤は第２次的な酸化防止剤又は過酸化物
分解剤としての使用が知られており、なかでも下記の物
質群に属する： メルカプタン、チオエーテル、ジスルフィド、ジチオ
カルバメート及び複素環チオ化合物。チオ相乗剤の例は
下記の化合物である： ペンタエリトリトールテトラキス〔（β−アルキルメ
ルカプト）プロピオネート〕、例えばペンタエリトリト
ールテトラキス〔（β−ドデシルメルカプト）プロピオ
ーネート〕；ペンタエリトリトールテトラキス（メルカ
プトアセテート）、1,1,1−トリメチロールエタントリ
ス（メルカプトアセテート）、1,1,1−トリメチロール
プロパントリス（メルカプトアセテート）、ジオレイル
3,3′−チオジプロピオネート、ジラウリル3,3′−チオ
ジプロピオネート、ジトリデシル3,3′−チオジプロピ
オネート、ジミリスチル3,3′−チオジプロピオネー
ト、ジステアリル3,3′−チオプロピオネート、ジシク
ロヘキシル3,3′−チオジプロピオネート、ジセチル3,
3′−チオジプロピオネート、ジオクチル3,3′−チオジ
プロピオネート、ジベンジル3,3′−チオジプロピオネ
ート、ラウリルミリスチル3,3′−チオジプロピオネー
ト、ジフェニル3,3′−チオジプロピオネート、ジ−ｐ
−メトキシフェニル3,3′−チオジプロピオネート、ジ
デシル3,3′−チオジプロピオネート、ジベンジル3,3′
−チオジプロピオネート、ジエチル3,3′−チオジプロ
ピオネート、ラウリル３−メチルメルカプトプロピオネ
ート、ラウリル３−ブチルメルカプトプロピオネート、
ラウリル３−ラウリルメルカプトプロピオネート、フェ
ニル３−オクチルメルカプトプロピオネート、ラウリル
３−フェニルメルカプトプロピオネート、ラウリル３−
ベンジルメルカプトプロピオネート、ラウリル３−（ｐ
−メトキシ）フェニルメルカプトプロピオネート、ラウ
リル３−シクロヘキシルメルカプトプロピオネート、ラ
ウリル３−ヒドロキシメチルメルカプトプロピオネー
ト、ミリスチル３−ヒドロキシエチルメルカプトプロピ
オネート、オクチル３−メトキシメチルメルカプトプロ
ピオネート、ラウリル３−ヒドロキシメチルメルカプト
プロピオネート、ミリスチル３−ヒドロキシエチルメル
カプトプロピオネート、オクチル３−メトキシメチルメ
ルカプトプロピオネート、ジラウリル３−カルボキシメ
チルメルカプトプロピオネート、ジラウリル３−カルボ
キシプロピルメルカプトプロピオネート、ジラウリル4,
7−ジチオセバケート、ジラウリル4,7,8,11−テトラチ
オテトラデカンジオエート、ジミリスチル4,11−ジチオ
テトラデカンジオエート、ラウリル３−ベンズチアジル
メルカプトプロピオネート；ジアルキルジスルフィド、
例えばジオクチルジスルフィド、ジドデシルジスルフィ
ド、ジオクタデシルジスルフィド；ジアルキルスルフィ
ド、例えばジドデシルスルフィド、ジオクタデシルスル
フィド；アルキルチオプロピオン酸及びその塩、例えば
３−ラウリルメルカプトプロピオン酸及びそのカルシウ
ム塩又は日本国特許出願公開昭47−13533号、昭47−240
04号、昭47−24541号及び昭47−24005号に記載された硫
黄含有化合物。

好ましくは、式Ｉの化合物はβ−チオジプロピオン酸
のラウリル又はステアリルエステルとともに用いる。

したがって、本発明は、また、少なくとも１種の式Ｉ
の化合物とチオ相乗剤を含む有機材料に関する。

チオ相乗剤と本発明の安定剤との重量比は例えば1:1
ないし20:1、好ましくは2:1ないし10:1、特に好ましく
は3:1ないし7:1であることができる。

本発明の安定化ポリマー組成物は、また、更に、例え
ば下記のような種々の慣用の添加剤を有することができ
る。

1. 酸化防止剤 1.1 アルキル化１価フェノール 例えば、2,6−ジ第三ブチル−４−メチルフェノー
ル、２−第三ブチル−4,6ジメチルフェノール、2,6−ジ
第三ブチル−４−エチルフェノール、2,6−ジ第三ブチ
ル−４−ｎ−ブチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−
４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシ
ル）−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル
−４−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシル
フェノール、2,6−ジ第三ブチル−４−メトキシメチル
フェノール、2,6−ジノニル−４−メチルフェノール。

1.2 アルキル化ヒドロキノン 例えば、2,6−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノー
ル、2,5−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第三アミ
ルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−４−オクタデシル
オキシフェノール。

1.3 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 例えば、2,2′−チオビス（６−第三ブチル−４−メ
チルフェノール）、2,2′−チオビス（４−オクチルフ
ェノール）、4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３−
メチルフェノール）及び4,4′−チオビス（６−第三ブ
チル−２−メチルフェノール）。

1.4 アルキリデンビスフェノール 例えば、2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）、2,2′−メチレンビス（６−第
三ブチル−４−エチルフェノール）、2,2′−メチレン
ビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）
フェノール〕、2,2′−メチレンビス−（４−メチル−
６−シクロヘキシルフェノール）、2,2′−メチレンビ
ス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、2,2′−メ
チレンビス（4,6−ジ第三ブチルフェノール）、2,2′−
エチリデンビス（4,6−ジ第三ブチルフェノール）、2,
2′−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチ
ルフェノール）、2,2′−メチレンビス〔６−（α−メ
チルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、2,2′−メ
チレンビス〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−
ノニルフェノール〕、4,4′メチレンビス（2,6−ジ第三
ブチルフェノール）、4,4′メチレンビス（６−第三ブ
チル−２−メチルフェノール）、1,1−ビス（５−第三
ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−ブタ
ン、2,6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒ
ドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、1,1,3−
トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ブタン、1,1−ビス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシル
メルカプトブタン、エチレングリコールビス〔3,3−ビ
ス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブ
チレート〕、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２
−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕
テレフタレート。

1.5 ベンジル化合物 例えば、1,3,5−トリス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−2,4,6−トリメチルベンゼン、ビ
ス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ス
ルフィド、3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルメルカプト酢酸イソオクチルエステル、ビス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル）
−ジチオ−ルテレフタレート、1,3,5−トリス（3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、1,3,5−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ
−2,6−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジオク
タデシルエステル、3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム
塩、1,3,5−トリス（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）イソシアヌレート。

1.6 アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキシラウリル酸アニリド、４−ヒ
ドロキシステアリン酸アニリド、2,4−ビス（オクチル
メルカプト）−６−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシアニリノ）−ｓ−トリアジン、オクチル Ｎ−（3,
5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメ
ート。

1.7 β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸の１価又は多価アルコールとのエステ
ル 例えばメタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエ
チル）イソジアヌレート、N,N′−ビス（ヒドロキシエ
チル）シュウ酸ジアミドとのエステル。

1.8 β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メ
チルフェニル）プロピオン酸の１価又は多価アルコール
とのエステル 例えばメタノール、ジエチレングリコール、オクタデ
カノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサンジ
オール、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグリコー
ル、トリス（ヒドロキシ）エチルイソシアヌレート、チ
オジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒドロキシエ
チル）シュウ酸ジアミドとのエステル。

1.9 β−（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸の１価又は多価アルコールとのエ
ステル 例えばメタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレン
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、N,N′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジア
ミドとのエステル。

1.10β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸のアミド 例えばN,N′−ビス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
N,N′−ビス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、N,N′−ビ
ス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヒドラジン。

2. 紫外線吸収剤及び光安定剤 2.1 2−（２′ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ルの誘導体 例えば５′−メチル−、３′,5′−ジ第三ブチル、
５′−第三ブチル−、５′−（1,1,3,3−テトラメチル
ブチル）−、５−クロロ−３′,5′−ジ第三ブチル−、
５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル−、３′
第二ブチル−５′−第三ブチル−、４′オクトキシ−、
３′,5′−ジ第三アミル−、３′,5′−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）−誘導体。

2.2 2−ヒドロキシベンゾフェノンの誘導体 例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オク
トキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキ
シ−及び２′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ−誘導
体。

2.3 置換及び非置換安息香酸エステル 例えば４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェ
ニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジ
ベンゾイルレンゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベ
ンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレンゾルシノー
ル、3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸2,4−
ジ第三ブチルフェニルエステル及び3,5−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル。

2.4 アクリレート 例えばα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エ
チルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメ
トキシシンナミル酸メチルエステル、α−シアノ−β−
メチル−ｐ−メトキシ−シンナミル酸メチルエステル又
はブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
−シンナミル酸メチルエステル及びＮ−（β−カルボメ
トキシ−β−シアノビニル）−２−メチル−インドリ
ン。

2.5 ニッケル化合物 例えば2,2′−チオビス〔４−（1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル）フェノール〕の、所望によりｎ−ブチルアミ
ン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエ
タノールアミンのような他の配位子を含んでいてもよい
1:1錯体又は1:2錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメ
ート、４−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルホ
スホン酸のモノアルキルエステル例えばメチル又はエチ
ルエステルのニッケル塩、ケトオキシムのニッケル錯体
例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシ
ルケトオキシムのニッケル錯体、所望により他の配位子
を含んでいてもよい１−フェニル−４−ラウロイル−５
−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体。

2.6 立体障害アミン 例えばビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）セ
バケート、ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル）セバケート、ｎ−ブチル−3,5−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス−（1,2,2,6,6−ペ
ンタメチルピペリジル）エステル、１−ヒドロキシエチ
ル−2,2,6,6−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジ
ンとコハク酸との縮合生成物、N,N′−（2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミン
及び４−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−
ｓ−トリアジンとの縮合生成物、トリス（2,2,6,6−テ
トラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,
1′（1,2−エタンジイル）−ビス（3,3,5,5−テトラメ
チルピペラジノン）。

2.7 シュウ酸ジアミド 例えば4,4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,
2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ第三ブチルオキサニ
リド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ第三ブチ
ルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニ
リド、N,N′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）シ
ュウ酸アミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′エ
チルオキサニリド及びこれと２−エトキシ−２′−エチ
ル−5,4′−ジ第三ブチルオキサニリドとの混合物及び
オルト−及びパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの混
合物並びにオルト−及びパラ−エトキシ−二置換オキサ
ニリドの混合物。

3. 金属不活性化剤 例えばN,N′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サ
リチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビ
スサリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス（3,5−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラ
ジン、３−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾー
ル、ビスベンジリデンシュウ酸ジヒドラジド。

4. ホスフィット及びホスホニット 例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リルぺンタエリトリトールジホスフィット、トリス（2,
4−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（2,4−
ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフ
ィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィッ
ト、テトラキス−（2,4−ジ第三ブチルフェニル）−4,
4′−ビフェニレンジホスホニット、3,9−ビス（2,4−
ジ第三ブチルフェノキシ）−2,4,8,10−テトラオキサ−
3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウンデカン。

5. 過酸化物掃去剤 例えばβ−チオジプロピオン酸のエステル、例として
はラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエ
ステル、メルカプトベンズイミダゾール、又は２−メル
カプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカ
ルバミン酸亜塩、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタ
エリトリトールテトラキス−（β−ドデシルメルカプ
ト）プロピオネート。

6. ポリアミド安定剤 例えばヨウ化物及び／又は燐化合物と共に用いる銅塩
及び２価マンガンの塩。

7. 塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例え
ばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステア
リル酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム及びパル
ミチン酸カリウム、ピロカテコールアンチモン又はピロ
カテコール亜塩。

8. 造核剤 例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸及びジフ
ェニル酢酸。

9. 充填剤及び補強剤 例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、石綿、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及
び金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。

10.他の添加剤 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、螢光増白剤、
防炎加工剤、静電防止剤、発泡剤。

本発明の安定剤と慣用の添加剤との重量比は、例えば
1:0.5ないし1:5であることができる。

有機材料中への安定剤の混入は公知の方法で行う。こ
の計り込みは成形前のどの加工段階中でも行うことがで
きる。

本発明は、また、熱、酸化及び／又は化学線分解に対
して有機材料、好ましくは上記した有機材料を安定化す
るために、式Ｉの化合物を用いることに関するものであ
る。

〔実施例〕

本発明を次の実施例により更に詳細に説明する。な
お、パーセントは、特記しない限り、重量に基づく。

実施例1:N,N′,N″−トリス〔3,5−ジシクロヘキシル−
４−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレートの製造 Ａ）プロペラ攪拌機、内部温度計、還流冷却器及び窒素
ガス導入管を取り付けたスルホン化フラスコ（2.5l）か
らなる装置に室温で、 シアヌル酸135.5g（1.05モル）、 2,6−ジシクロヘキシルフェノール853.5g（3.3モル）、 パラホルムアルデヒド114g（3.8モル）、 ヘキサメチレンテトラミン1.76g（0.0126モル）、 ジメチルホルムアミド1176g（16モル） 及び 水31.5g（1.75モル） を入れる。

この懸濁液を窒素雰囲気中で十分に攪拌しながら約11
6℃に加熱し、次いで還流下で24時間煮沸する。反応混
合物中の2,6−ジシクロヘキシルフェノールが２％以下
になったら（薄層クロマトグラフィによって決定）、反
応が終了したとみなす。

現在の赤い、透明な溶液を室温に冷却し、そして種結
晶を入れ、結晶化が始まるまでゆっくりかき混ぜる。次
いで懸濁液を更に10時間かそこらかき混ぜ、次いで２時
間かけて０ないし５℃に冷却し、続いてその温度で更に
１時間かき混ぜる。生成物をガラス吸引ろ過器でろ過
し、メタノール1000gで洗い。そして20mbarの真空オー
ブン中で40℃で乾燥する。

収量は610g（理論値の65％）。

生成物は247℃の融点を有する。

元素分析： 計算値:C76.6％、H8.7％、N4.5％、O10.2％ 実測値:C76.7％、H8.8％、N4.7％、O10.2％ Ｂ）装置はスチール製のふたを有する500mlジャッケッ
ト付フラスコ及びコックタップ、安全弁、熱電対及び圧
力ゲージを有する蒸気管からなる。

この500mlフラスコに シアヌル酸38.7g（0.3モル）、 2,6−ジシクロヘキシルフェノール244.1g（0.946モ
ル）、 100％（工業用）パラホルムアルデヒド31.3g（0.99モ
ル）、 ヘキサメチレンテトラミン0.5g（0.0036モル）、 ジメチルホルムアミド150g及び 水9ml を連続して入れる。

かき混ぜながら、フラスコを室温で100mbarまで排気
し、そしてアルゴンで圧抜きする。これを続けて更に20
ないし30mbarまで排気し、そしてフラスコをコックタッ
プによって密閉する。次いで反応混合物を密閉フラスコ
中で90分の間に130℃まで加熱するのがその間に約120℃
及び約800mbarの圧力で白色の懸濁液が完全に溶解す
る。次いで現在透明で、金茶色の溶液を130℃で２ない
し３時間かき混ぜ、その間圧力が約1800mbarに上昇す
る。2,6−ジシクロヘキシルフェノールの２％以下を薄
層クロマトグラムで検出したとき、反応が終了したとみ
なす。

現在赤茶色の溶液を約100℃に冷却し、そしてフラス
コを、コックタップ及び蒸気管によって大気圧に解放す
る。130℃に加熱し、そして200mbarまでの真空にするこ
とによって、ジメチルホルムアミド／水混合物を留去す
る（留出液約40gは50〜60％の水分含量を有する）。現
在実質的に水分のない溶液を1500mlスルホン化フラスコ
中に注ぐ。内部温度約110℃で、還流下、メタノール200
mlを、すすぎながら加え、その後更に、メタノール150m
lを滴下する。添加の間に内部温度が約70℃に下がる。
該溶液に種結晶を入れる。続いて急速に結晶化する溶液
を70ないし72℃で約１時間かき混ぜる。結晶の黄色のか
たまりを約４ないし５時間かけて室温に冷却し、続いて
更に氷で０ないし５℃に冷却する。０ないし５℃で約１
時間かき混ぜることにより冷却を続け、次いで生成物を
吸引フィルターでろ過する。フィルターケーキを無色に
なるまで冷メタノール100mlで３回洗う。次いで吸引
し、そして真空オーブン中で70ないし80℃で乾燥する。

収量は263g（理論値の93％）。

白色粉末の形で存在する生成物は243〜250℃の融点を
有する。

実施例2:N,N′,N″−トリス〔３−シクロヘキシル−４
−ヒドロキシ−５−メチルベンジル〕イソシアヌレート
の製造 プロペラ攪拌機、温度計及び還流冷却器を取り付けた
スルホン化フラスコに、 シアヌル酸3.23g（25ミリモル）、 ２−シクロヘキシル−６−メチルフェノール14.70g（77
ミリモル）、 パラホルムアルデヒド2.50g（83ミリモル） ヘキサメチレンテトラミン0.30g（21ミリモル）及び ジメチルホルムアミド47.50g（50ミリモル） を入れる。

懸濁液をゆっくりかき混ぜながら窒素雰囲気下で110
℃まで加熱し、そして48時間還流する。次いで反応混合
物を室温まで冷却し、150mlの氷水に注ぎ、そしてかき
混ぜる。白色生成物をろ過し、水で繰り返し洗い、ジエ
チルエーテル中に溶かし、そして水で抽出する。エーテ
ルを減圧下で除去することにより黄色のフォームの形の
生成物を得、それを水性エタノールから再結晶する。

収量は14.5g（理論値の78％）。

無色の結晶の形で存在する生成物は212〜218℃の融点
を有する。

元素分析： 分析値:N5.71％ 計算値:N5.31％ 実施例3:N,N′,N″−トリス〔３−第三ブチル−５−シ
クロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレ
ートの製造 ２−シクロヘキシル−６−メチルフェノールを２−第
三ブチル−６−シクロヘキシルフェノールの相当する量
と置き換えることを除いて実施例２を繰り返し、熱ヘキ
サンで洗浄後、220℃の融点を有する白色粉末33.24g
（理論値の77％）を得る。

元素分析 計算値:N4.87％ 実測値:N5.05％ 実施例4: 実施例２で記載したのと同じ装置に、 シアヌル酸6.45g（50ミリモル）、 2,6−ジ−第三ブチルフェノール10.73g（52ミリモ
ル）、 2.6−ジシクロヘキシルフェノール26.70g（103ミリモ
ル）、 36％ホルマリン溶液16.3g（195ミリモル）、 ヘキサメチレンテトラミン0.50g（４ミリモル）及び ジメチルホルムアミド71.3g（75ミリモル）を入れる。

懸濁液をゆっくりかき混ぜながら約110℃まで窒素ガ
ス雰囲気下で加熱し、そして42時間還流する。室温に冷
却したのち、反応混合物を250mlの水に注ぎ、そして十
分にかき混ぜる。反応生成物をろ過する。30〜60℃の石
油エーテル200mlを用いて実施例３と同様に処理する。
得られるものはゴムのような生成物であり、石油エーテ
ル200mlで再結晶したのち、127〜131℃の融点を有する
粉末が得られる。

収量は35.4g（理論値の80％）。

元素分析： 計算値:N4.73％ 実測値:N4.51％ 実施例5: シアヌル酸6.45g（50ミリモル）、 2,6−ジ第三ブチルフェノール21.25g（103ミリモル）、 2,6−ジシクロヘキシルフェノール13.44g（52ミリモ
ル）、 36％ホルマリン溶液16.3g（195ミリモル）、 ヘキサメチレンテトラミン0.50g（４ミリモル）及び ジメチルホルムアミド71.3g（75ml） を反応させて実施例４を繰り返えす。

生成物は、ジエチルエーテを用いて、実施例４に記載
したように処理する。122℃の融点を有する粉末が得ら
れる。

収量は23g（理論値の54％）。

元素分析： 計算値:N5.03％ 実施値:N5.13％ 実施例6: シアヌル酸6.45g（50ミリモル）、 2,6−ジ第三ブチルフェノール10.73g（52ミリモル）、 ２−シクロヘキシル−６−メチルフェノール19.60g（10
3ミリモル）、 36％ホルマリン溶液16.3g（195ミリモル）、 ヘキサメチレンテトラミン0.50g（４ミリモル）及び ジメチルホルムアミド71.3g（75ml） を反応させて、実施例４を繰り返す。

反応混合物を冷却し、250mlの水に注ぎ、そして十分
にかき混ぜる。生成物をろ過し、そして更に、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィにより精製することができ
る。得られる生成物は114〜120℃の融点を有する鮮横色
粉末である。

収量は22.97g（理論値の79％）。

元素分析： 計算値:N5.49％ 実施値:N5.30％ 実施例7: シアヌル酸6.45g（50ミリモル）、 2,6−ジ第三ブチルフェノール21.25g（103ミリモル）、 ２−シクロヘキシル−６−メチルフェノール9.90g（52
ミリモル）、 36％ホルマリン溶液16.3g（195ミリモル）、 ヘキサメチレンテトラミン0.50g（４ミリモル）及び ジメチルホルムアミド71.3g（75ミリモル） を反応させて、実施例４を繰り返えす。

後処理を実施例３に記載したように実施してゴム状生
成物を得、更にヘキサンから再結晶した後、110〜120℃
の融点を有する粉末となる。

収量は21.60g（理論値の56％） 元素分析： 計算値:N5.47％ 実施値:N5.75％ 実施例8: ステアリン酸カルシウム0.1％を含むポリプロピレン
粉末（230℃及び2.16Kpの試験力におけるメルトインデ
ックス:2.3g/10分）を下記の表１に記載の添加剤と混合
し、続いてブラベンドプラストグラフ中で200℃で10分
間混練する。このようにして、得られた材料を260℃の
表面温度を有するプレス機で1mmの厚さのシートに圧縮
し、このシートから、幅1cm、長さ8.5cmのストリップを
切りとる。各々のシートからの数個のこのようなストリ
ップを149℃に加熱した空気循環オーブン中につるし、
一定時間毎に観察する。これらのストリップの酸化分解
は円の形で始まる黄色化により明らかに示される。この
試料の安定性の尺度は分解までの時間である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハンス−ルドルフ マイヤー スイス国，1723 マルリ，ルート ドゥ コンフェン 54 (72)発明者 パウル ドゥブス スイス国，1723 マルリ，ルート デプ ラレッテ 25

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】次式I: （式中、 R¹は次式II: で表わされる基を表わし、 R²は次式III: で表わされる基を表わし、そして R³は次式IV: で表わされる基を表わし、 R⁴は炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、又は炭
   素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭
   素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表わし、 R⁵，R⁶，R⁷，R⁸及びR⁹は互いに独立して炭素原子数１な
   いし18のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロア
   ルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基によって
   置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、
   フェニル基、ベンジル基又はアリル基を表わす。）で表
   わされる化合物。
2. 【請求項２】R⁵ないしR⁹が互いに独立して炭素原子数１
   ないし８のアルキル基、シクロヘキシル基、１−メチル
   シクロヘキシル基、フェニル基又はアリル基を表わす特
   許請求の範囲第１項記載の化合物。
3. 【請求項３】R⁴がシクロヘキシル基又は１−メチルシク
   ロヘキシル基を表わす特許請求の範囲第１項記載の化合
   物。
4. 【請求項４】R⁴がシクロヘキシル基を表わし、そしてR⁵
   ないしR⁹が互いに独立してメチル基、第三ブチル基、シ
   クロヘキシル基又はフェニル基を表わす特許請求の範囲
   第１項記載の化合物。
5. 【請求項５】R¹ないしR³が同一の基を表わす特許請求の
   範囲第１項記載の化合物。
6. 【請求項６】R⁴，R⁶及びR⁸がシクロヘキシル基を表わ
   し、そしてR⁵，R⁷及びR⁹が同一であってメチル基、第三
   ブチル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表わす特
   許請求の範囲第５項記載の化合物。
7. 【請求項７】少なくとも１種の次式I: （式中、 R¹は次式II: で表わされる基を表わし、 R²は次式III: で表わされる基を表わし、そして R³は次式IV: で表わされる基を表わし、 R⁴は炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、又は炭
   素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭
   素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表わし、 R⁵，R⁶，R⁷，R⁸及びR⁹は互いに独立して炭素原子数１な
   いし18のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロア
   ルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基によって
   置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、
   フェニル基、ベンジル基又はアリル基を表わす。）で表
   わされる化合物からなる有機材料用安定剤。
8. 【請求項８】有機材料が合成ポリマー、天然若しくは合
   成エラストマー又は天然若しくは合成機能油である特許
   請求の範囲第７項記載の安定剤。
9. 【請求項９】他の成分としてチオ相乗剤を含む特許請求
   の範囲第７項記載の安定剤。
10. 【請求項１０】有機材料が熱、酸化及び／又は化学線分
    解しやすい合成ポリマーである特許請求の範囲第７項記
    載の安定剤。