JP2593587B2 - プラズマイオン源極微量元素質量分析装置 - Google Patents
プラズマイオン源極微量元素質量分析装置Info
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- JP2593587B2 JP2593587B2 JP3046539A JP4653991A JP2593587B2 JP 2593587 B2 JP2593587 B2 JP 2593587B2 JP 3046539 A JP3046539 A JP 3046539A JP 4653991 A JP4653991 A JP 4653991A JP 2593587 B2 JP2593587 B2 JP 2593587B2
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- Japan
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- plasma
- vacuum
- ion
- vacuum chamber
- mass spectrometer
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/105—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation, Inductively Coupled Plasma [ICP]
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【産業上の利用分野】本発明はプラズマイオン源を用い
た微量元素質量分析計に係り、とくに質量分析感度を向
上するために、イオン取り出し位置とプラズマ位置を最
適化することのできるプラズマイオン源極微量元素質量
分析装置に関する。
た微量元素質量分析計に係り、とくに質量分析感度を向
上するために、イオン取り出し位置とプラズマ位置を最
適化することのできるプラズマイオン源極微量元素質量
分析装置に関する。
【０００１】
【従来の技術】従来の高感度極微量弦素質量分析法につ
いては、例えば１９８９年、米国、Blackies and Son L
td発行、A.R.Date他編のApplication of Inductively C
oupledPlasma Mass Spectrometryの第１６項および第１
７項にて、ＩＣＰ／ＭＳ法として紹介されており、これ
により大多数の元素においてＰＰＴレベル（10~12ｇ／
ｇ）の検出限界値が達成されており、他のいかなる元素
分析用検出器よりも高感度であると言われている。
いては、例えば１９８９年、米国、Blackies and Son L
td発行、A.R.Date他編のApplication of Inductively C
oupledPlasma Mass Spectrometryの第１６項および第１
７項にて、ＩＣＰ／ＭＳ法として紹介されており、これ
により大多数の元素においてＰＰＴレベル（10~12ｇ／
ｇ）の検出限界値が達成されており、他のいかなる元素
分析用検出器よりも高感度であると言われている。
【０００２】上記ＩＣＰ／ＭＳ法においては、ネブライ
ザ（霧吹き）により霧状とした被測定サンプルをＩＣＰ
プラズマの熱（約５０００℃〜６０００℃）により大気
中にてイオン状態に分解し、これをインターフェイスを
通して真空中に引き込んで質量分析計により元素毎に分
析する。上記各元素は真空中の探知器で検出し、検出パ
ルスを増幅して計数される。
ザ（霧吹き）により霧状とした被測定サンプルをＩＣＰ
プラズマの熱（約５０００℃〜６０００℃）により大気
中にてイオン状態に分解し、これをインターフェイスを
通して真空中に引き込んで質量分析計により元素毎に分
析する。上記各元素は真空中の探知器で検出し、検出パ
ルスを増幅して計数される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記ＩＣＰ／ＭＳ法
は、優れたイオン生成能力と質量選択能力を有するので
他の分析方法よりも高い元素検出能がえられるのである
が、検出デ−タが例えばイオンレンズ電圧、イオン検出
器感度、その他の要件に依存するので、装置の使用者に
よりデータがばらつき、調整に手間取るという問題があ
った。本発明の目的は、上記データ要因の中でもとくに
検出感度に大きな影響を与えるイオン取り出し効率を自
動的に最大にとなるようにすることのできるプラズマイ
オン源極微量元素質量分析装置を提供することにある。
は、優れたイオン生成能力と質量選択能力を有するので
他の分析方法よりも高い元素検出能がえられるのである
が、検出デ−タが例えばイオンレンズ電圧、イオン検出
器感度、その他の要件に依存するので、装置の使用者に
よりデータがばらつき、調整に手間取るという問題があ
った。本発明の目的は、上記データ要因の中でもとくに
検出感度に大きな影響を与えるイオン取り出し効率を自
動的に最大にとなるようにすることのできるプラズマイ
オン源極微量元素質量分析装置を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、プラズマにより試料イオンを生成するプラズマ生成
部と、上記プラズマ生成部が生成するプラズマをイオン
レンズ系、質量分析系およびイオン検出器系を収容する
真空室の開口部に導入するようにしたプラズマイオン源
極微量元素質量分析計において、前記開口部の真空室内
真空度を測定する真空計と、前記プラズマ生成部を前記
真空室の開口部方向に対して三次元の方向に移動させる
移動機構と、前記真空計と前記イオン検出器との出力に
より移動機構の移動量を制御する制御装置とを備え、上
記制御装置は、前記真空計の出力値と前記イオン検出器
の出力値の双方をモニタし、両者の出力値と、当該制御
装置に設定した検知器およびプラズマ位置の所定条件と
に基づき、前記移動機構を制御するように構成したこと
を特徴とするプラズマイオン源極微量元素質量分析計。
に、プラズマにより試料イオンを生成するプラズマ生成
部と、上記プラズマ生成部が生成するプラズマをイオン
レンズ系、質量分析系およびイオン検出器系を収容する
真空室の開口部に導入するようにしたプラズマイオン源
極微量元素質量分析計において、前記開口部の真空室内
真空度を測定する真空計と、前記プラズマ生成部を前記
真空室の開口部方向に対して三次元の方向に移動させる
移動機構と、前記真空計と前記イオン検出器との出力に
より移動機構の移動量を制御する制御装置とを備え、上
記制御装置は、前記真空計の出力値と前記イオン検出器
の出力値の双方をモニタし、両者の出力値と、当該制御
装置に設定した検知器およびプラズマ位置の所定条件と
に基づき、前記移動機構を制御するように構成したこと
を特徴とするプラズマイオン源極微量元素質量分析計。
【０００５】
【作用】本発明のプラズマイオン源極微量元素質量分析
装置は、上記真空計の出力、またはイオン検出器の出
力、または上記真空計とイオン検出器の出力の双方によ
り上記移動機構の移動を制御してプラズマ生成部が生成
する試料イオンが真空室内に最も多く取り込むように
し、質量分析の感度を最大に設定する。
装置は、上記真空計の出力、またはイオン検出器の出
力、または上記真空計とイオン検出器の出力の双方によ
り上記移動機構の移動を制御してプラズマ生成部が生成
する試料イオンが真空室内に最も多く取り込むように
し、質量分析の感度を最大に設定する。
【０００６】
【実施例】図１は本発明によるプラズマイオン源極微量
元素質量分析計実施例の構成図である。図１において、
上記質量分析計の真空系は、第１真空室７、第２真空室
１８、および第３真空室１９により構成され、それぞれ
の真空度はコンピュ−タ２０からの指令に基づいて駆動
される各真空ポンプ１０〜１２によりそれぞれ制御され
る。試料ガス生成部３０より得られる霧状化試料とキャ
リアガス生成部３１が発生する窒素等のキャリアガスは
混合されてプラズマ生成部１に導かれる。上記窒素等の
キャリアガスがプラズマ生成部１によりプラズマ化され
ると、これにより試料ガスが解離、原子化されてイオン
化される。
元素質量分析計実施例の構成図である。図１において、
上記質量分析計の真空系は、第１真空室７、第２真空室
１８、および第３真空室１９により構成され、それぞれ
の真空度はコンピュ−タ２０からの指令に基づいて駆動
される各真空ポンプ１０〜１２によりそれぞれ制御され
る。試料ガス生成部３０より得られる霧状化試料とキャ
リアガス生成部３１が発生する窒素等のキャリアガスは
混合されてプラズマ生成部１に導かれる。上記窒素等の
キャリアガスがプラズマ生成部１によりプラズマ化され
ると、これにより試料ガスが解離、原子化されてイオン
化される。
【０００７】マイクロ波電源３は上記キャリアガス３１
をマイクロウエ−ブ（例えば、２.４５ＧＨｚ）により
プラズマ化するＭＩＰ(Microwave Induced Plasma)用電
源であり、プラズマ生成条件を最適とするようにコンピ
ュータ２０により制御される。上記プラズマはＩＣＰ(I
nductively Coupled Plasma、周波数２７ＭＨｚ）によ
り生成するようにすることもできる。プラズマ２は上記
プラズマが大気中に放出されたものである。測定に先立
ち、真空ポンプ１０〜１２により各真空室の排気が行わ
れ、所定の真空度に到達したところでプラズマ２が生成
される。
をマイクロウエ−ブ（例えば、２.４５ＧＨｚ）により
プラズマ化するＭＩＰ(Microwave Induced Plasma)用電
源であり、プラズマ生成条件を最適とするようにコンピ
ュータ２０により制御される。上記プラズマはＩＣＰ(I
nductively Coupled Plasma、周波数２７ＭＨｚ）によ
り生成するようにすることもできる。プラズマ２は上記
プラズマが大気中に放出されたものである。測定に先立
ち、真空ポンプ１０〜１２により各真空室の排気が行わ
れ、所定の真空度に到達したところでプラズマ２が生成
される。
【０００８】上記プラズマ２は第１真空室７右端のサン
プリングコーン８の孔に対して正しく位置すると、第１
真空室内に取り込む試料イオン量が最も多くなり、最高
の質量分析感度を得ることができる。しかし、上記プラ
ズマ２の位置設定は微妙であり、通常は多くの試行を得
て決定されるので時間を要し、また、ある程度の誤差は
避けられなかった。そこで本発明では、上記第１真空室
内に取り込む試料イオン量が最も多ときに、第１真空室
内の真空度が最大になることに着目して、移動機構４に
よりプラズマ２を移動し、第１真空室内に設けた真空計
５の出力が最大となった位置で上記プラズマ２の移動を
停止するようにする。このため、真空計５の出力信号を
真空計測回路６を介してコンピュータに取り込んで移動
機構４を制御するようにする。この結果、プラズマ２の
位置は他の感度影響要因に無関係に自動的に最適に設定
することができるのである。
プリングコーン８の孔に対して正しく位置すると、第１
真空室内に取り込む試料イオン量が最も多くなり、最高
の質量分析感度を得ることができる。しかし、上記プラ
ズマ２の位置設定は微妙であり、通常は多くの試行を得
て決定されるので時間を要し、また、ある程度の誤差は
避けられなかった。そこで本発明では、上記第１真空室
内に取り込む試料イオン量が最も多ときに、第１真空室
内の真空度が最大になることに着目して、移動機構４に
よりプラズマ２を移動し、第１真空室内に設けた真空計
５の出力が最大となった位置で上記プラズマ２の移動を
停止するようにする。このため、真空計５の出力信号を
真空計測回路６を介してコンピュータに取り込んで移動
機構４を制御するようにする。この結果、プラズマ２の
位置は他の感度影響要因に無関係に自動的に最適に設定
することができるのである。
【０００９】なお、上記移動機構４を手動で移動できる
ようにして、真空計５の出力をモニタしながらプラズマ
２の位置を手動で最適位置に設定するようにすることも
できる。この場合も試料の質量分析前にプラズマ２の位
置を迅速に最適化することができる。また、上記真空計
５の最高値は通常見当がついているので、これより低い
真空値を予め設定して真空計５の出力がこのレベルを割
った場合に警告を表示するようにすると、プラズマ２の
位置調整をさらに容易にすることができる。
ようにして、真空計５の出力をモニタしながらプラズマ
２の位置を手動で最適位置に設定するようにすることも
できる。この場合も試料の質量分析前にプラズマ２の位
置を迅速に最適化することができる。また、上記真空計
５の最高値は通常見当がついているので、これより低い
真空値を予め設定して真空計５の出力がこのレベルを割
った場合に警告を表示するようにすると、プラズマ２の
位置調整をさらに容易にすることができる。
【００１０】上記第１真空室７に取り込まれた試料イオ
ンは測定中は開いているインターフェイスバルブ１５を
通って第２真空室１８内のイオンレンズ系２１により、
加速ならびに集束後、第３真空室１９内の質量分析部２
５により質量数に応じて偏向されてイオン検出器２８に
より順次検出され、各検出値は増幅器２９を介してコン
ピュータ２０に読み込まれ、データ処理後表示装置２７
に表示される。上記プラズマ２が上記最適位置になると
上記イオン検出器２８の出力も最大となるので、上記真
空計５の出力の代わりにイオン検出器２８の出力をモニ
タしてこれが最大となるようにプラズマ２の位置を制御
するようにしてもよい。なおこの時には、質量分析部２
５の質量走査動作を停止して特定の質量の元素に対する
出力に注目するようにする。
ンは測定中は開いているインターフェイスバルブ１５を
通って第２真空室１８内のイオンレンズ系２１により、
加速ならびに集束後、第３真空室１９内の質量分析部２
５により質量数に応じて偏向されてイオン検出器２８に
より順次検出され、各検出値は増幅器２９を介してコン
ピュータ２０に読み込まれ、データ処理後表示装置２７
に表示される。上記プラズマ２が上記最適位置になると
上記イオン検出器２８の出力も最大となるので、上記真
空計５の出力の代わりにイオン検出器２８の出力をモニ
タしてこれが最大となるようにプラズマ２の位置を制御
するようにしてもよい。なおこの時には、質量分析部２
５の質量走査動作を停止して特定の質量の元素に対する
出力に注目するようにする。
【００１１】また、上記イオン検出器２８の出力に比例
してそのＳ／Ｎ（信号対雑音比）も向上するので、イオ
ン検出器２８出力のＳ／Ｎをモニタするようにしてもよ
い。また、上記真空計５の出力とイオン検出器２８の出
力の双方をモニタして両者の最大点の一致をとるように
するとプラズマ２の位置制御を確実化することができ
る。また、一般に測定すべき元素のイオン濃度が濃すぎ
るとカウンタ等の測定系が飽和したり、質量測定系に損
傷を与えたたりするので、上記第１真空室７内に取り込
めるイオン量には制限が存在する。このような場合には
上記真空計５またはイオン検出器２８等の出力レベルが
最大値より低い値の所にプラズマ２の位置を設定するよ
うにする。このような設定位置はコンピュ−タ２０に予
め設定することができる。
してそのＳ／Ｎ（信号対雑音比）も向上するので、イオ
ン検出器２８出力のＳ／Ｎをモニタするようにしてもよ
い。また、上記真空計５の出力とイオン検出器２８の出
力の双方をモニタして両者の最大点の一致をとるように
するとプラズマ２の位置制御を確実化することができ
る。また、一般に測定すべき元素のイオン濃度が濃すぎ
るとカウンタ等の測定系が飽和したり、質量測定系に損
傷を与えたたりするので、上記第１真空室７内に取り込
めるイオン量には制限が存在する。このような場合には
上記真空計５またはイオン検出器２８等の出力レベルが
最大値より低い値の所にプラズマ２の位置を設定するよ
うにする。このような設定位置はコンピュ−タ２０に予
め設定することができる。
【００１２】また、イオン検出器２８の感度はその動作
電圧（電源電圧）に比例するので、イオン検出器２８の
最大出力が動作範囲内の適正値になるように上記イオン
検出器２８の動作電圧を調整するようにしてもよい。な
お、制御コンピュータ２０は上記第１真空室７、第２真
空室１８、第３真空室１９等の真空制御の他に、イオン
レンズ系２１内の各レンズを駆動装置２２を介して制御
し、また、質量分析部２５を駆動装置２６を介して制御
する。また、電源遮断時にはゲートバルブ１６および１
７が閉じられ各真空室の真空状態を保持するようになっ
ている。
電圧（電源電圧）に比例するので、イオン検出器２８の
最大出力が動作範囲内の適正値になるように上記イオン
検出器２８の動作電圧を調整するようにしてもよい。な
お、制御コンピュータ２０は上記第１真空室７、第２真
空室１８、第３真空室１９等の真空制御の他に、イオン
レンズ系２１内の各レンズを駆動装置２２を介して制御
し、また、質量分析部２５を駆動装置２６を介して制御
する。また、電源遮断時にはゲートバルブ１６および１
７が閉じられ各真空室の真空状態を保持するようになっ
ている。
【００１３】図２は上記プラズマ生成部１の移動機構４
の側面図である。移動台４４上はＸ軸モ−タ４１と送り
ねじ４５とにより固定台４５上をＸ軸方向に移動され、
これによりサンプリングコーン８とプラズマ２間の間隔
が調整される。また、移動台４４にはＹ軸モ−タ４２と
Ｚ軸モ−タ４３が搭載され、プラズマ２の位置をサンプ
リングコーン８に対面する平面上の２軸方向に移動す
る。また、移動台４４はマグネトロン３２と同電源３を
搭載して移動し、キャリアガス供給孔３１０から供給さ
れるキャリアガスをプラズマ化して試料ガス供給孔３０
０から供給される試料ガスをイオン化する。
の側面図である。移動台４４上はＸ軸モ−タ４１と送り
ねじ４５とにより固定台４５上をＸ軸方向に移動され、
これによりサンプリングコーン８とプラズマ２間の間隔
が調整される。また、移動台４４にはＹ軸モ−タ４２と
Ｚ軸モ−タ４３が搭載され、プラズマ２の位置をサンプ
リングコーン８に対面する平面上の２軸方向に移動す
る。また、移動台４４はマグネトロン３２と同電源３を
搭載して移動し、キャリアガス供給孔３１０から供給さ
れるキャリアガスをプラズマ化して試料ガス供給孔３０
０から供給される試料ガスをイオン化する。
【００１４】図３および図４は、真空計５により計測さ
れる第１真空室のサンプリングコーン８開口部付近の真
空度をプラズマ２の位置を変えながら測定した測定結果
の一例である。図３は、プラズマ２をサンプリングコー
ン８の孔の中心部においてサンプリングコーン８とプラ
ズマ２間の間隔Ｘを変えた場合であり、Ｘの最適値を０
としている。これより上記真空度はＸに対しては最適値
が存在するものの比較的鈍感であることがわかる。図４
はＺ方向（上下方向）の距離に対する上記真空度の測定
結果であり、サンプリングコーン８の孔の中心部（Ｚ＝
０）から数ｍｍ離れると真空度が著しく劣化することが
わかる。
れる第１真空室のサンプリングコーン８開口部付近の真
空度をプラズマ２の位置を変えながら測定した測定結果
の一例である。図３は、プラズマ２をサンプリングコー
ン８の孔の中心部においてサンプリングコーン８とプラ
ズマ２間の間隔Ｘを変えた場合であり、Ｘの最適値を０
としている。これより上記真空度はＸに対しては最適値
が存在するものの比較的鈍感であることがわかる。図４
はＺ方向（上下方向）の距離に対する上記真空度の測定
結果であり、サンプリングコーン８の孔の中心部（Ｚ＝
０）から数ｍｍ離れると真空度が著しく劣化することが
わかる。
【００１５】図５は図４に対応する試料ガスの質量分析
結果の一例であり、縦軸はイオン検出器２８によるＩｎ
イオンの検出電流、横軸は上記Ｚである。これよりイオ
ン検出電流は上記Ｚの変化に対して敏感に変化するの
で、最大の検出感度を得るためにはＺを０±１ｍｍの範
囲内に設定する必要があることがわかる。Ｙ方向に対し
ても同様である。本発明では上記のように、第１真空室
の真空度、イオン検出器出力等を検出して、プラズマ２
の位置を自動的に最適に設定することができるのであ
る。
結果の一例であり、縦軸はイオン検出器２８によるＩｎ
イオンの検出電流、横軸は上記Ｚである。これよりイオ
ン検出電流は上記Ｚの変化に対して敏感に変化するの
で、最大の検出感度を得るためにはＺを０±１ｍｍの範
囲内に設定する必要があることがわかる。Ｙ方向に対し
ても同様である。本発明では上記のように、第１真空室
の真空度、イオン検出器出力等を検出して、プラズマ２
の位置を自動的に最適に設定することができるのであ
る。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、第１真空室の真空度、
またはイオン検出器の出力の最大値を検出して、試料プ
ラズマの位置を最適、かつ自動的に設定できるので、プ
ラズマイオン源極微量元素質量分析装置の感度を、例え
ばイオンレンズ系の電圧、質量分析部の分解能、あるい
はイオン検出器等の印加電圧（感度）などに影響される
ことなく、また、測定者によるバラツキもなく、迅速に
最大値に設定したり、最適値に設定したりすることがで
きる。
またはイオン検出器の出力の最大値を検出して、試料プ
ラズマの位置を最適、かつ自動的に設定できるので、プ
ラズマイオン源極微量元素質量分析装置の感度を、例え
ばイオンレンズ系の電圧、質量分析部の分解能、あるい
はイオン検出器等の印加電圧（感度）などに影響される
ことなく、また、測定者によるバラツキもなく、迅速に
最大値に設定したり、最適値に設定したりすることがで
きる。
【図１】本発明実施例の構成図である。
【図２】本発明によるプラズマ生成部の移動機構の側面
図である。
図である。
【図３】第１真空室内のサンプリングコーン孔付近の真
空度測定結果の一例を示す図である。
空度測定結果の一例を示す図である。
【図４】第１真空室内のサンプリングコーン孔付近の真
空度測定結果の一例を示す図である。
空度測定結果の一例を示す図である。
【図５】本発明の効果を示すイオン電流測定結果の一例
を示す図である。
を示す図である。
１ プラズマ生成部 ２ プラズマ ３ マイクロ波電源 ４ 移動機構 ５ 真空計 ６ 真空計測回路 ７ 第１真空室 ８ サンプリングコーン １０ 真空ポンプ １５ インタフェイスバルブ １８ 第２真空室 １９ 第３真空室 ２０ コンピュータ ２１ イオンレンズ系 ２５ 質量分析部 ２７ 表示装置 ２８イオン検出器 ３０ 試料ガス生成部 ３１ キャリアガス生成部 ３２ マグネトロン ４１ Ｘ軸モ−タ ４２ Ｙ軸モ−タ ４３ Ｚ軸モ−タ ４４ 移動台 ４５ 固定台 ４６ 移動台 ３００ キャリアガス供給孔 ３１０ 試料ガス供給孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｇ０１Ｎ 27/62 Ｇ０１Ｎ 27/62 Ｇ (72)発明者 小野 貴通 茨城県勝田市大字市毛882番地 株式会 社日立製作所那珂工場内 (72)発明者 新田 哲也 茨城県勝田市大字市毛882番地 日立計 測エンジニアリング株式会社内 (56)参考文献 特開 昭64−57558（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−130461（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】 「プラズマにより試料イオンを生成する
プラズマ生成部と、上記プラズマ生成部が生成するプラ
ズマをイオンレンズ系、質量分析系およびイオン検出器
系を収容する真空室の開口部に導入するようにしたプラ
ズマイオン源極微量元素質量分析計において、 前記開口部の真空室内真空度を測定する真空計と、前記
プラズマ生成部を前記真空室の開口部方向に対して三次
元の方向に移動させる移動機構と、前記真空計と前記イ
オン検出器との出力により移動機構の移動量を制御する
制御装置とを備え、 上記制御装置は、前記真空計の出力値と前記イオン検出
器の出力値の双方をモニタし、両者の出力値と、当該制
御装置に設定した検知器およびプラズマ位置の所定条件
とに基づき、前記移動機構を制御するように構成したこ
とを特徴とするプラズマイオン源極微量元素質量分析
計。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3046539A JP2593587B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | プラズマイオン源極微量元素質量分析装置 |
| US07/848,932 US5185523A (en) | 1991-03-12 | 1992-03-10 | Mass spectrometer for analyzing ultra trace element using plasma ion source |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3046539A JP2593587B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | プラズマイオン源極微量元素質量分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05101805A JPH05101805A (ja) | 1993-04-23 |
| JP2593587B2 true JP2593587B2 (ja) | 1997-03-26 |
Family
ID=12750102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3046539A Expired - Lifetime JP2593587B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | プラズマイオン源極微量元素質量分析装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5185523A (ja) |
| JP (1) | JP2593587B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2116821C (en) * | 1993-03-05 | 2003-12-23 | Stephen Esler Anderson | Improvements in plasma mass spectrometry |
| DE4333469A1 (de) * | 1993-10-01 | 1995-04-06 | Finnigan Mat Gmbh | Massenspektrometer mit ICP-Quelle |
| US5495107A (en) * | 1994-04-06 | 1996-02-27 | Thermo Jarrell Ash Corporation | Analysis |
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| US6265717B1 (en) * | 1998-07-15 | 2001-07-24 | Agilent Technologies | Inductively coupled plasma mass spectrometer and method |
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