JP2612966B2 - Amorphous uranium alloy, magneto-optical storage medium and magneto-optical storage system using the same - Google Patents
Amorphous uranium alloy, magneto-optical storage medium and magneto-optical storage system using the sameInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 [技術分野] 本発明は、高い光磁気特性を示す無定形ウラニウム合
金に関する。さらに、本発明は、記憶媒体、光変調器、
光絶縁体などの目的へのかかる無定形ウラニウム合金の
使用に関する。具体的には、本発明の無定形ウラニウム
合金は、アンチモンを含み、さらにマンガンやコバルト
などの補助合金を含むものである。本発明の無定形合金
は、ビーム・アドレス可能ファイル用の磁気記憶媒体と
して特に適している。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an amorphous uranium alloy exhibiting high magneto-optical properties. Further, the present invention provides a storage medium, an optical modulator,
The use of such amorphous uranium alloys for purposes such as optical insulators. Specifically, the amorphous uranium alloy of the present invention contains antimony and further contains an auxiliary alloy such as manganese or cobalt. The amorphous alloys of the present invention are particularly suitable as magnetic storage media for beam-addressable files.
[背景技術] 絶縁体の磁性薄膜を使用したビーム・アドレス可能フ
ァイルは、当技術分野で知られている。例えば、ガドリ
ニウム鉄ガーネットなどの素材が使用されてきた。また
MnBiなどの金属もビーム・アドレス可能ファイル中の記
憶媒体として使用されてきた。これらのファイル・シス
テムの一般的説明は、下記のものに出ている。BACKGROUND OF THE INVENTION Beam addressable files using insulating magnetic thin films are known in the art. For example, materials such as gadolinium iron garnet have been used. Also
Metals such as MnBi have also been used as storage media in beam addressable files. A general description of these file systems can be found below.
1.A.H.エッシェンフェルダー(Eschenfelder)、J.APP
L.PHYS.,41,1372(1970年) 2.J.A.ライヒマン(Rajchman)、J.APPL.PHYS.,41,137
6,(1970年) 3.R.E.マクドナルド(McDonald)等、J.APPL.PHYS.,40,
1429(1969年) 4.D.チェン(Chen)等、J.APPL.PHYS.,39,3916(1968
年) これらの素材の他に、化学量論的組成のMnAlGeが光磁
気の分野で適当な素材として提案されている。これは多
結晶膜である。1.AH Eschenfelder, J.APP
L.PHYS., 41,1372 (1970) 2.JA Reichman (Rajchman), J.APPL.PHYS., 41,137
6, (1970) 3. RE McDonald et al., J. APPL. PHYS., 40,
1429 (1969) 4. D. Chen et al., J. APPL. PHYS., 39, 3916 (1968)
In addition to these materials, a stoichiometric composition of MnAlGe has been proposed as a suitable material in the field of magneto-optics. This is a polycrystalline film.
米国特許第3530441号を参照するとわかるように、ビ
ーム・アドレス可能ファイルでは一部の非磁性無定形素
材が使用されてきた。これらの無定形素材は、磁気特性
を示さない「オーボニック型」材料であり、磁性膜中で
起こる切替えとは違って、ビーム・アドレス可能環境で
切り替わるとき、構造変化を受ける。構造変化(無定形
状態と結晶状態の間の遷移)は膜自体に対する破壊力が
ずっと大きいので、この種の環境では磁性膜の方が無定
形非磁性膜よりも何倍も多く切替えができる。As can be seen by reference to US Pat. No. 3,530,441, some non-magnetic amorphous materials have been used in beam addressable files. These amorphous materials are "ovonic" materials that exhibit no magnetic properties and, unlike switching that occurs in magnetic films, undergo structural changes when switching in a beam-addressable environment. Structural changes (transition between amorphous and crystalline states) are much more destructive to the film itself, so in this type of environment magnetic films can switch many times more than amorphous non-magnetic films.
無定形膜には、どんなタイプの基板上にも置け、かつ
幅広い組成をもたらすように調節できるという利点があ
る。さらに、結晶質のビーム・アドレス可能記憶素材に
は存在する、多結晶の粒度に関する要件がない。Amorphous films have the advantage that they can be placed on any type of substrate and can be adjusted to provide a wide range of compositions. In addition, there is no requirement for polycrystalline grain size that exists with crystalline beam-addressable storage material.
さらに最近には、ビーム・アドレス可能ファイル環境
などで磁気媒体として適当な無定形素材が、本発明の出
願人であるインターナショナル・ビジネス・マシーンズ
・コーポレーションに譲渡された、米国特許第3949387
号及び第3965463号に開示された。これらの開示を引用
により本明細書に合体する。More recently, amorphous materials suitable as magnetic media, such as in a beam-addressable file environment, have been assigned to International Business Machines Corporation, U.S. Pat.
No. 3,963,463. These disclosures are incorporated herein by reference.
しかし、米国特許第3949387号及び第3965463号で開示
された無定形素材は、その所望の用途に適した光磁気特
性を示すが、ある種の特性に関する改良には耐えられな
かった。例えば、ファイルからの読取りを容易にするに
は、ファラデー回転の度合が増すことが望ましいであろ
う。ビーム・アドレス可能システム中の磁気媒体として
ある素材が実用的となるために必要な他の特性として
は、原子磁気モーメント、スピン軌道結合、磁気秩序、
所望の波長での光磁気応答、正方形のヒステリシス・ル
ープなどの存在がある。従って、ビーム・アドレス可能
磁気記憶媒体に対する要件を満足することのできる素材
を見つけることが非常に難しいことは明らかである。However, while the amorphous materials disclosed in U.S. Pat. Nos. 3,949,487 and 3,965,463 exhibit magneto-optical properties suitable for their desired use, they did not withstand improvements in certain properties. For example, to facilitate reading from a file, it may be desirable to increase the degree of Faraday rotation. Other properties needed to make a material useful as a magnetic medium in a beam-addressable system include the atomic magnetic moment, spin-orbit coupling, magnetic order,
There is a magneto-optical response at the desired wavelength, a square hysteresis loop, and the like. Thus, it is clear that it is very difficult to find a material that can meet the requirements for beam addressable magnetic storage media.
[発明の開示] 本発明の目的は、磁気媒体として適し、従来の無定形
磁性材料に比べて大きな光磁気回転(ファラデー回転ま
たは光磁気カー回転)を示す素材を提供することであ
る。本発明のもう一つの目的は、磁気モーメント、スピ
ン軌道結合、磁気秩序を有し、光に応答し、正方形のヒ
ステリシス・ループを有する素材を提供することであ
る。DISCLOSURE OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a material that is suitable as a magnetic medium and that exhibits a large magneto-optical rotation (Faraday rotation or magneto-optical Kerr rotation) as compared with conventional amorphous magnetic materials. Another object of the present invention is to provide a material having a magnetic moment, spin orbit coupling, magnetic order, responsive to light, and having a square hysteresis loop.
具体的には、本発明は、少くとも0.9×106度/cmのフ
ァラデー回転あるいは少くとも約1度の光磁気カー回転
を有する光磁気回転を示す、ウラニウムを含む無定形合
金に関する。Specifically, the present invention relates to uranium-containing amorphous alloys exhibiting a magneto-optical rotation having a Faraday rotation of at least 0.9 × 10 6 degrees / cm or a magneto-optical Kerr rotation of at least about 1 degree.
本発明のもう一つの態様は、光磁気回転を示す、ウラ
ニウムとアンチモンとを含み、さらにマンガンやコバル
トなどの補助合金を含む、無定形ウラニウム合金であ
る。ウラニウムとアンチモンとの原子比は、望ましくは
60:40ないし40:60である。Another embodiment of the present invention is an amorphous uranium alloy that includes uranium and antimony and exhibits an auxiliary alloy, such as manganese or cobalt, that exhibits magneto-optical rotation. The atomic ratio of uranium to antimony is preferably
60:40 to 40:60.
本発明のもう一つの態様は、記憶システム中の磁気記
憶媒体として上記の無定形合金を使用することである。
この記憶システムに含まれる記憶媒体を局部加熱するた
めに電磁ビームを当てて、記憶媒体に複数の情報ビット
を書き込み、あるいは記憶媒体に記憶されたビットに関
連する情報を、光ビームを利用して読み取る。Another aspect of the present invention is to use the above amorphous alloy as a magnetic storage medium in a storage system.
An electromagnetic beam is applied to locally heat a storage medium included in the storage system, and a plurality of information bits are written on the storage medium, or information related to the bits stored in the storage medium is transmitted using a light beam. read.
本発明のもう一つの態様は、上記のタイプの無定形合
金を含む磁気媒体と、磁気媒体の磁気状態を変化させる
書込み手段及び磁気媒体の磁気状態を検出する読取り手
段を備えた磁気システムである。書込み手段は、磁気媒
体に電磁エネルギーを当てるためのビーム発生手段と、
磁気媒体中に磁界を発生させるための磁界発生手段を備
える。Another aspect of the invention is a magnetic system comprising a magnetic medium comprising an amorphous alloy of the type described above, writing means for changing the magnetic state of the magnetic medium, and reading means for detecting the magnetic state of the magnetic medium. . Writing means, beam generating means for applying electromagnetic energy to the magnetic medium,
A magnetic field generating means for generating a magnetic field in the magnetic medium is provided.
本発明のもう一つの態様は、上記のタイプの無定形合
金を含む磁気媒体を備えたビーム・アドレス可能システ
ムを対象とする。ビーム・アドレス可能システムはま
た、磁気媒体の所望の位置で電磁エネルギー・ビームを
発生させて磁気媒体を加熱するためのビーム発生手段を
含む。ビーム・アドレス可能システムはまた、磁気媒体
中で磁界を発生させて所望の位置でその磁気状態を変化
させるための磁界発生手段を含む。所望の位置で磁気媒
体に当たった光ビームを検出して、その位置の磁気状態
を決定するための読取り手段も含まれている。Another aspect of the present invention is directed to a beam addressable system with a magnetic medium comprising an amorphous alloy of the type described above. The beam addressable system also includes beam generating means for generating a beam of electromagnetic energy at a desired location on the magnetic medium to heat the magnetic medium. The beam addressable system also includes magnetic field generating means for generating a magnetic field in the magnetic medium to change its magnetic state at a desired location. A reading means for detecting a light beam hitting the magnetic medium at a desired position and determining the magnetic state at that position is also included.
[図面の簡単な説明] 第1図は、無定形磁性膜を記憶媒体として使ったビー
ム・アドレス可能ファイル・システムを示す図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a diagram showing a beam addressable file system using an amorphous magnetic film as a storage medium.
第2図は、無定形磁性材料が可動ディスク上にあるビ
ーム・アドレス可能ファイル・システムを示す図であ
る。FIG. 2 shows a beam addressable file system with amorphous magnetic material on a moving disk.
第3図は、カー効果を利用して無定形磁性膜に記憶さ
れている情報を読み出す装置を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an apparatus for reading information stored in an amorphous magnetic film using the Kerr effect.
第4図は、この無定形磁性材料を光変調媒体として使
用した光磁気光変調器を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a magneto-optical light modulator using the amorphous magnetic material as a light modulation medium.
第5図は、本発明の無定形磁性材料を記録媒体として
使用したテープまたはディスク情報処理システムを示す
図である。FIG. 5 is a diagram showing a tape or disk information processing system using the amorphous magnetic material of the present invention as a recording medium.
第6図及び第7図は、固有ファラデー回転のエネルギ
ー依存性(106度/cm)を示すグラフである。FIG. 6 and FIG. 7 are graphs showing the energy dependence (10 6 degrees / cm) of the intrinsic Faraday rotation.
第8図及び第9図は、様々な温度でのファラデー・ヒ
ステリシス・ループを示すグラフである。FIGS. 8 and 9 are graphs showing Faraday hysteresis loops at various temperatures.
第10図は、1kOeの磁界でのファラデー回転の温度依存
性を示すグラフである。FIG. 10 is a graph showing the temperature dependence of Faraday rotation in a magnetic field of 1 kOe.
第11A図及び第11B図は、A)測定した4種の組成のフ
ァラデー回転ΘFの温度依存性、及びB)測定した5種
の組成のカー回転ΘKの温度依存性を示すグラフであ
る。The 11A view and a 11B Figure is a graph showing the temperature dependence of the Faraday rotation theta F of the four compositions were A) measured, and B) the temperature dependence of the Kerr rotation theta K of measured five compositions .
第12図は、温度10K、20K、50K、80Kでの組成物U0.48S
b0.52のファラデー回転ΘFの磁界依存性Hを示すグラ
フである。FIG. 12 shows the composition U 0.48 S at a temperature of 10 K, 20 K, 50 K, 80 K
is a graph showing the magnetic field dependence of H Faraday rotation theta F of b 0.52.
第13A図及び第13B図は、4種の組成のファラデー回転
ΘFのエネルギー依存性、及びB)4種の組成のカー回
転ΘKのエネルギー依存性を示すグラフである。FIG. 13A and FIG. 13B is a graph showing the energy dependence of the Faraday rotation theta F of the four compositions, and B) the energy dependence of the Kerr rotation theta K of the four compositions.
[発明の好ましい実施例] 第1図は、適当な基板12上に無定形磁性材料の膜10を
置いた、ビーム・アドレス可能ファイル・システムを示
す。基板12は、絶縁体でも導電体でもよく、また入力電
磁エネルギーを透過するものでも反射するものでもよ
い。適当な基板の例としては、ガラス、スピネル、石
英、サファイア、Al2O3、及びアルミニウムや銅などの
金属がある。エネルギー源14が設けてあるが、これは通
常は光源である。エネルギー源14は、単色の出力ビーム
を発生する、レーザ・アレイ上のレーザとすることが好
ましい。本発明では、無定形磁性膜10をその補償温度あ
るいはキュリー点Tc付近にまで加熱するのに十分な強さ
のエネルギーを供給できるものなら、どんな電磁エネル
ギー源でもまた他のどんなエネルギー源でも利用でき
る。すなわち、電子ビームを使って、書込み動作中及び
消去動作中に膜10の一部分を局所的に加熱することがで
きる。FIG. 1 shows a beam-addressable file system having a film 10 of amorphous magnetic material on a suitable substrate 12. Substrate 12 may be an insulator or a conductor, and may transmit or reflect input electromagnetic energy. Examples of suitable substrates, glass, spinel, quartz, sapphire, Al 2 O 3, and metal such as aluminum or copper. An energy source 14 is provided, which is typically a light source. Energy source 14 is preferably a laser on a laser array that produces a monochromatic output beam. The present invention utilizes any electromagnetic energy source or any other energy source that can supply energy of sufficient strength to heat the amorphous magnetic film 10 to its compensation temperature or near the Curie point Tc. it can. That is, a part of the film 10 can be locally heated during the writing operation and the erasing operation using the electron beam.
電磁エネルギー源14に、偏光子18と合焦レンズ20が付
随している。偏光子18は、当技術分野で周知の平面偏光
ビームをもたらすタイプのものである。An electromagnetic energy source 14 is associated with a polarizer 18 and a focusing lens 20. Polarizer 18 is of the type that provides a plane-polarized beam, as is well known in the art.
光ビーム16の強度を変化させる光変調器22が設けられ
ている。この特殊機構は、後でもっとはっきりするであ
ろうが、膜10の選択された部分から情報を読み取るのに
使用される。光偏向板24は、光ビーム16を、膜10の選択
された個別部分に当たるように偏向させる。光偏向板14
は既知のタイプのものでよく、例えば偏向板14への電界
印加に応答して、ビーム16を膜10の選択された部分へ偏
向させる光電式偏向板でよい。音響偏向板も適してい
る。もちろん、電子ビーム入力の場合は、磁気素子また
は静電偏向素子を使って、電子ビームを膜10の選択され
た部分へ偏向させる。An optical modulator 22 for changing the intensity of the light beam 16 is provided. This special mechanism is used to read information from selected portions of the membrane 10, as will become more apparent later. Light deflector 24 deflects light beam 16 so that it impinges on selected discrete portions of film 10. Optical deflector 14
May be of a known type, for example a photoelectric deflector that deflects the beam 16 to a selected portion of the film 10 in response to the application of an electric field to the deflector 14. Acoustic deflectors are also suitable. Of course, in the case of an electron beam input, a magnetic element or an electrostatic deflection element is used to deflect the electron beam to a selected portion of the film 10.
膜10には、電流搬送コイル26が付随し、膜10中に磁界
を発生させるために使用される。この電界は、膜10に情
報を書き込むために使用されるものであるが、後で書込
み、読取り、消去動作について論じる際に詳しく説明す
る。Attached to the membrane 10 is a current carrying coil 26, which is used to generate a magnetic field in the membrane 10. This electric field is used to write information to the film 10 and will be described in detail when writing, reading and erasing operations are discussed later.
読み取りのためには、膜10と透明基板12を通過した光
ビーム16を合焦させるためにレンズ28を使用する。検光
子30が、光ビーム16の偏光ベクトルの回転度に応じて、
光ビーム16を選択的に通す。検出器32は、そこに入射し
た光ビームの強度に応答し、当技術分野で周知の方式で
電気信号を発生する。For reading, a lens 28 is used to focus the light beam 16 that has passed through the film 10 and the transparent substrate 12. The analyzer 30 determines the degree of rotation of the polarization vector of the light beam 16,
The light beam 16 is selectively passed. Detector 32 responds to the intensity of the light beam incident thereon and generates an electrical signal in a manner well known in the art.
例えば、検出器32は、光電管、フォトダイオード、あ
るいは電気出力を発生する他のどんな感光素子でもよ
い。一般には、検出器32は高周波応答検出器である。For example, detector 32 may be a phototube, photodiode, or any other photosensitive element that produces an electrical output. Generally, detector 32 is a high frequency response detector.
検出器32の電気出力は、増幅器34で増幅され、利用手
段36に印加される。利用手段36は、ビーム・アドレス可
能ファイル・システムの情報状態に応答するものなら、
他のどんな回路や装置でもよい。The electrical output of the detector 32 is amplified by an amplifier 34 and applied to a utilization means 36. Means 36 for responding to the information status of the beam addressable file system,
It can be any other circuit or device.
本発明に従って使用される無定形合金は、ウラニウム
を含み、光磁気回転を示す。典型的な場合、この合金
は、N、P、As、Sb、Bi、S、Se、Te、Poを含むことが
できるが、本発明のウラニウム合金は、Sbを含むもので
ある。合金中のウラニウムとアンチモンの原子比は、通
常約15:85ないし約85:15であり、約20:80ないし約80:20
とすることが好ましく、約60:40ないし約40:60が最も好
ましい。The amorphous alloy used according to the invention contains uranium and exhibits magneto-optical rotation. Typically, the alloy can include N, P, As, Sb, Bi, S, Se, Te, Po, while the uranium alloy of the present invention includes Sb. The atomic ratio of uranium to antimony in the alloy is usually from about 15:85 to about 85:15, and from about 20:80 to about 80:20.
Preferably, about 60:40 to about 40:60 is most preferred.
さらに、この無定形合金は、マンガンやコバルトなど
の補助合金を含む。また、上記の元素の混合物を任意で
含むこともできる。補助金属の量は、合金の約5〜40原
子%であり、約10〜20原子%が好ましい。Further, the amorphous alloy includes auxiliary alloys such as manganese and cobalt. Further, a mixture of the above elements can be optionally included. The amount of auxiliary metal is about 5 to 40 atomic% of the alloy, preferably about 10 to 20 atomic%.
さらに、上記の合金形成金属の代りに、あるいはそれ
に加えて、所望の光磁気特性が得られるならば、他の材
料をウラニウムと合金化させることができる。合金中の
ウラニウム原子が合金形成金属の原子の塊に取り囲まれ
て、ウラニウム原子同士が分離され、それによって磁気
モーメントが発生されるとき、上記の特性が得られるも
のと考えられている。In addition, other materials can be alloyed with uranium if the desired magneto-optical properties are obtained instead of or in addition to the alloying metals described above. It is believed that the above properties are obtained when the uranium atoms in the alloy are surrounded by a mass of atoms of the alloying metal, separating the uranium atoms and thereby generating a magnetic moment.
本発明の好ましい態様によれば、この無定形ウラニウ
ム合金は、少くとも約0.9×106度/cmのファラデー回転
を示し、少くとも約106度/cmのファラデー回転を示すこ
とがより好ましく、少くとも約2×106度/cmであること
が最も好ましい。それに対応して、無定形ウラニウム合
金のカー回転は、少くとも約1.6度であることが好まし
く、少くとも約3度が最も好ましい。According to a preferred embodiment of the present invention, the amorphous uranium alloy exhibits a Faraday rotation of at least about 0.9 × 10 6 degrees / cm, more preferably at least about 10 6 degrees / cm, Most preferably, it is at least about 2 × 10 6 degrees / cm. Correspondingly, the Kerr rotation of the amorphous uranium alloy is preferably at least about 1.6 degrees, and most preferably at least about 3 degrees.
本発明によって実現されるファラデー回転とカー回転
は、非常に驚くべきものである。従来知られていた無定
形磁性材料でそのように高い値をもつものはなかった。
具体的にいうと、これまでに報告された無定形合金にお
ける最大の回転は、ある種のNd合金で約0.5×106/cmで
あった。さらに、このように高い回転を示す結晶質材料
は、EuSやCeSbなど数種しかない。大きなカー回転をも
つ結晶質ウラニウム化合物が報告されてはいるが(例え
ば、W.ライム(Reim)、J.Magn.Magn.Mat.58,1(1986
年))、それらの材料は薄膜の形では得られず(上記の
ライム論文は、岩塩構造をもつUSbを含む開裂した鏡映
単結晶について論じている)、かつこの単結晶ウラニウ
ム化合物は、実際の磁界中で一定の結晶方向に沿ってし
か飽和できないほど大きな磁気結晶異方性をもつので、
磁気記憶媒体としては余り意味がない。すなわち、多結
晶膜は、大部分の結晶子がその磁化容易軸が光の伝播方
向になるように配向していないので、余り有用ではな
い。さらに、多数の無定形ウラニウム合金、特にウラニ
ウムと稀土類または遷移金属元素との無定形合金は磁性
体でないので、本発明の合金によって実現される光磁気
特性は全く驚くべきものである。UCo、UFe、UTb、UYb、
UGd、UNiなどの組合せも研究されたが、本発明の合金と
は違って、非磁性Uを含むことが判明している。これら
の合金中のウラニウムは磁気モーメントを持たず、高い
ファラデー回転を示さなかった。The Faraday rotation and Kerr rotation achieved by the present invention are very surprising. None of the conventionally known amorphous magnetic materials has such a high value.
Specifically, the maximum rotation for amorphous alloys reported to date has been about 0.5 × 10 6 / cm for certain Nd alloys. Furthermore, there are only a few crystalline materials that exhibit such high rotation, such as EuS and CeSb. Although crystalline uranium compounds with large Kerr rotations have been reported (eg, W. Reim, J. Magn. Magn. Mat. 58, 1 (1986)
)), The materials are not available in thin film form (the Lime article above discusses a cleaved mirrored single crystal containing USb with a rock salt structure), and this single crystal uranium compound is Has a magnetic crystal anisotropy large enough to saturate only along a certain crystal direction in a magnetic field of
It has no meaning as a magnetic storage medium. That is, the polycrystalline film is not very useful because most crystallites are not oriented so that the axis of easy magnetization is in the direction of light propagation. In addition, the magneto-optical properties achieved by the alloys of the present invention are quite surprising, since many amorphous uranium alloys, especially amorphous alloys of uranium with rare earth or transition metal elements, are not magnetic. UCo, UFe, UTb, UYb,
Combinations such as UGd, UNi have also been studied, but have been found to contain non-magnetic U, unlike the alloys of the present invention. Uranium in these alloys had no magnetic moment and did not show high Faraday rotation.
本発明の無定形ウラニウム合金は、少くとも約100emu
/cm3、好ましくは約170〜240emu/cm3の磁化(M)を示
し、約175〜190emu/cm3であることが最も好ましい。The amorphous uranium alloy of the present invention has at least about 100 emu
/ cm 3, preferably an magnetization about 170~240emu / cm 3 (M), and most preferably about 175~190emu / cm 3.
さらに、本発明の無定形ウラニウム合金は、正方形の
ヒステリシス・ループを示し、従って、磁化された後も
磁性体のままであり、大きな磁気共鳴を有する。この正
方形のループ特性によって長期間の安定性が保証され
る。Furthermore, the amorphous uranium alloys of the present invention exhibit a square hysteresis loop, and therefore remain magnetic after being magnetized and have large magnetic resonance. This square loop characteristic guarantees long-term stability.
本発明の無定形ウラニウム合金は、少くとも約5kOe、
好ましくは約10〜20kOeの保磁力(Hc)を示す。磁性体
の保磁力は、材料中に情報を記憶するのに使用される磁
区の安定性を決定する際に第一義的な要因である。The amorphous uranium alloy of the present invention has at least about 5 kOe,
It preferably exhibits a coercive force (Hc) of about 10-20 kOe. The coercivity of a magnetic material is a primary factor in determining the stability of magnetic domains used to store information in a material.
これらの材料中では、膜表面に平行または垂直な磁界
を印加したとき、高い保持力が得られることに留意され
たい。It should be noted that in these materials, a high coercive force is obtained when a magnetic field parallel or perpendicular to the film surface is applied.
本発明の無定形ウラニウム合金は、少くとも約70゜K、
典型的には約135゜Kのキュリー温度(Tc)を示す。The amorphous uranium alloy of the present invention has at least about 70K,
It typically exhibits a Curie temperature (Tc) of about 135 ° K.
さらに、本発明の無定形ウラニウム合金は、少くとも
約4度、好ましくは約10〜17度のホール角(ΘH)を有
し、典型的な値は約13度である。Furthermore, amorphous uranium alloy of the present invention is about 4 degrees least, preferably has a hole angle of about 10 to 17 degrees (theta H), typical value is about 13 degrees.
さらに、この無定形ウラニウム合金は、少くとも約20
0μohm・cm、好ましくは約300〜500μohm・cmという比
較的大きな抵抗率(ρ)を示し、少くとも約40μohm・c
m、好ましくは約80〜160μohm・cmのホール抵抗率(ρ
H)を示す。In addition, this amorphous uranium alloy contains at least about 20
It exhibits a relatively large resistivity (ρ) of 0 μohm · cm, preferably about 300 to 500 μohm · cm, and at least about 40 μohm · c.
m, preferably a Hall resistivity (ρ
H ).
本発明の無定形ウラニウム合金は光に応答し、特に可
視光領域の光に応答する。The amorphous uranium alloy of the present invention is responsive to light, especially to light in the visible light range.
本発明に従って使用する無定形磁性材料は、バルク形
で、また好ましくは薄膜として製造できる。一般に、ス
パッタリングや蒸着を含めて、既知のどんな膜付着技術
も利用できる。The amorphous magnetic material used according to the invention can be manufactured in bulk form and preferably as a thin film. Generally, any known film deposition technique can be used, including sputtering and evaporation.
バルク形の無定形磁性材料を作成するには、スプラッ
ト冷却が有用な技法である。この方法では、膜組成物の
温液を冷却面に当てると、組成物が固化して無定形バル
ク膜を形成する。こうすると、液相からの急冷ができ
る。Splat cooling is a useful technique for making bulk amorphous magnetic materials. In this method, when a hot liquid of the film composition is applied to a cooling surface, the composition solidifies to form an amorphous bulk film. This allows rapid cooling from the liquid phase.
好ましい技法では、ガラスなどの基板を回転させなが
らその上にマグネトロン・スパッタリングを行うことに
より、無定形膜を作成する。スパッタリングは、スパッ
タード・フィルムズ(Sputtered Films)社からリサー
チSガン(Research S-gun)の商名で市販されているも
のなどのマグネトロン・スパッタリング・ガンを2台
(各ターゲットごとに1台ずつ)使って、ウラニウム・
ターゲットと合金形成金属(例えばSb)から別々に行
う。ターゲットは、通常約3ミリトルのアルゴン雰囲気
中に置く。基準圧は少くとも約10-8トルであり、典型的
な場合は約7×10-8トルである。アルゴンは約30sccmの
流量で導入する。回転する基板をターゲットの上方に置
いて、スパッタリングをガンから約7.6〜10cm離れた所
から上向きに室温で行う。ウラニウムと合金形成金属
(例えばSb)を順に付着させると、基板上に均質な合金
が形成される。典型的な例では、基板の回転は毎分17回
転で、ウラニウムは毎分約300オングストローム付着
し、例えばアンチモンは毎分約500オングストローム付
着する。付着の前に、基板を例えば典型的な洗剤中で洗
浄し次いで脱イオン水で水洗して清浄化することができ
る。この無定形合金をSiO2、ZrO2、TiO2、Si3N4または
他の透明コーティングで被覆して、酸化から保護するこ
とができる。In a preferred technique, an amorphous film is created by spinning a substrate, such as glass, and performing magnetron sputtering thereon. Sputtering uses two magnetron sputtering guns (one for each target), such as those marketed under the trade name Research S-gun by Sputtered Films. Uranium
This is performed separately from the target and an alloy-forming metal (eg, Sb). The target is typically placed in an atmosphere of about 3 millitorr of argon. The reference pressure is at least about 10 -8 torr, typically about 7 x 10 -8 torr. Argon is introduced at a flow rate of about 30 sccm. With the rotating substrate placed above the target, sputtering is performed at room temperature upwards from about 7.6-10 cm from the gun. When uranium and an alloy-forming metal (eg, Sb) are sequentially deposited, a homogeneous alloy is formed on the substrate. In a typical example, the substrate spins at 17 revolutions per minute, with uranium depositing about 300 angstroms per minute, for example, antimony depositing about 500 angstroms per minute. Prior to deposition, the substrate can be cleaned, for example, by washing in a typical detergent and then with deionized water. The amorphous alloy is coated with SiO 2, ZrO 2, TiO 2 , Si 3 N 4 or other transparent coatings can be protected from oxidation.
第1図のシステムの動作 キュリー点書込みまたは補償点書込みを使って、記憶
膜10に情報を書き込む。カー効果またはファラデー効果
を使って読出しを行う。個々の位置の消去またはシート
10全体のブロック消去が容易に行える。Operation of the System of FIG. 1 Information is written to the storage film 10 using Curie point writing or compensation point writing. Reading is performed using the Kerr effect or the Faraday effect. Clear individual positions or sheets
Block erasure of the entire 10 can be performed easily.
書込み動作 無定形磁性シート10の選択された領域に情報を生成す
るのに必要なステップは、キュリー点書込みと補償点書
込みのどちらを使っても同じである。書込みは、液体窒
素温度で容易に行える。これは、レーザ・ジャイロ用の
アイソレータや高性能光磁気ディスク用の媒体などの応
用例で受け入れられる。補償点とは、特定の組成につい
て、その組成物の各成分の反対の極性の原子的磁気モー
メントが相殺されて、ゼロ磁化を示す温度である。Write Operation The steps required to generate information in a selected area of the amorphous magnetic sheet 10 are the same whether using Curie point writing or compensation point writing. Writing can be easily performed at liquid nitrogen temperature. This is acceptable in applications such as isolators for laser gyros and media for high performance magneto-optical disks. The compensation point is the temperature at which, for a particular composition, the opposite polarity atomic magnetic moment of each component of the composition cancels out and exhibits zero magnetization.
キュリー点書込みでも補償点書込みでも、書込み動作
は下記の通りである。The writing operation in either the Curie point writing or the compensation point writing is as follows.
1.記憶膜10は、最初、磁化が反対方向に向き膜平面に対
して垂直である磁区の数がほぼ等しい、消磁状態にあ
る。次に記憶膜10に、膜平面に垂直な飽和バイアス磁界
をかけて、すべての磁区を一方向に磁化させる。これ
は、コイル26に電流を通すことによって容易に行える。1. The storage film 10 is initially in a demagnetized state in which the number of magnetic domains whose magnetization is in the opposite direction and perpendicular to the film plane is approximately equal. Next, a saturation bias magnetic field perpendicular to the film plane is applied to the storage film 10 to magnetize all magnetic domains in one direction. This is easily accomplished by passing a current through the coil 26.
2.その後、膜10の平面に垂直な飽和磁界とは反対方向の
小さなバイアス磁界を膜全体にかける。この小さな磁界
も、コイル26に電流を通して行うのが好都合である。希
望するなら、膜を永久磁石で走査して、大きな飽和バイ
アス磁界を発生させることができる。2. Thereafter, a small bias magnetic field in a direction opposite to a saturation magnetic field perpendicular to the plane of the film 10 is applied to the entire film. This small magnetic field is also advantageously provided by passing a current through the coil 26. If desired, the film can be scanned with a permanent magnet to generate a large saturation bias field.
3.次に膜10の選択された位置にレーザ・ビーム16を当て
て、膜を補償温度より高い温度(補償点書込み)または
キュリー点Tc近くの温度(キュリー点書込み)まで局所
加熱させる。小さな磁界は磁性膜10にかかったままであ
る。レーザ・パルスを取り除いた時、膜10のレーザ・ビ
ームが当たった部分が、小さな磁界の存在下で冷却し、
その部分の磁化がその方向に切り替わる。3. The laser beam 16 is then applied to the selected location of the film 10 to locally heat the film to a temperature above the compensation temperature (compensation point writing) or near the Curie point Tc (Curie point writing). A small magnetic field remains on the magnetic film 10. When the laser pulse is removed, the portion of the film 10 that is struck by the laser beam cools in the presence of a small magnetic field,
The magnetization of that part switches in that direction.
場合によっては、逆磁化を起こすのに十分な磁気開経
路(減磁界)が膜10内に存在するならば、膜の局所領域
の冷却中に小さな磁界が存在する必要のないこともあ
る。In some cases, if sufficient magnetic open paths (demagnetization fields) exist in the film 10 to cause reverse magnetization, a small magnetic field need not be present during cooling of a localized area of the film.
キュリー点書込みも補償点書込みも、膜の局所領域を
逆磁化状態にするのに使用される。Both Curie point writing and compensation point writing are used to bring local regions of the film into a reverse magnetization state.
読取り動作 膜10の記録スポット(例えば38)に含まれる情報を読
み取るには、光磁気カー効果またはファラデー効果を利
用するのが好都合である。この目的で、書込みに使用し
たものと同じ光ビーム16が使用できる。ただし、記憶媒
体10に入射ビームが当たった時、はっきりわかるほどの
温度上昇が起こらないように、光ビームの強度を書込み
に使用する時の約1/10に減少させる。Reading Operation To read the information contained in the recording spot (eg, 38) of the film 10, it is convenient to use the magneto-optical Kerr effect or the Faraday effect. For this purpose, the same light beam 16 used for writing can be used. However, when the incident beam hits the storage medium 10, the intensity of the light beam is reduced to about one-tenth of that used for writing so that no appreciable temperature rise occurs.
書込み動作中には、変調器22は、ビーム16を妨げなし
に膜のスポット38まで進ませた。そのため、膜はキュリ
ー点または補償点に近い温度まで速やかに加熱された。
しかし、読取り動作中には、変調器22は、スポット38を
読み取るビーム16の強度を書込みに使用する時の約1/10
に減少させる。During a write operation, modulator 22 advanced beam 16 unimpeded to spot 38 of the film. Therefore, the film was quickly heated to a temperature near the Curie point or compensation point.
However, during a read operation, the modulator 22 causes the intensity of the beam 16 that reads the spot 38 to be about one-tenth of that used for writing.
To reduce.
読取りビーム16が記録スポット38に当たった時、透過
光ビームの偏光平面が、記録スポットの磁気ベクトルの
配向に応じて回転する。本明細書では、ビームの偏光方
向が反平行磁気ベクトルの整合に対応する方向に回転し
た時、検光子30は光ビームを通過させ、その偏光方向が
平行磁気ベクトルの整合に対応する方向に回転した時は
光ビームを遮ぎるものと仮定する。従って、検出器32に
よって生成される信号の強さが、読取り中の記録スポッ
ト38の磁化方向を示すことになる。When the read beam 16 hits the recording spot 38, the plane of polarization of the transmitted light beam rotates according to the orientation of the magnetic vector of the recording spot. As used herein, when the polarization direction of the beam rotates in a direction corresponding to the alignment of the antiparallel magnetic vectors, the analyzer 30 allows the light beam to pass and the polarization direction rotates in a direction corresponding to the alignment of the parallel magnetic vectors. It is assumed that the light beam is interrupted when this is done. Therefore, the strength of the signal generated by the detector 32 will indicate the magnetization direction of the recording spot 38 during reading.
消去 消去は、局所的にまたは記録媒体10の全体にわたって
行える。局所消去は、膜10の離散部分38に新しい情報が
書き込まれている時に行われる。さらに、局所スポット
にレーザ・ビーム16を当て、次いで最初にかけた飽和磁
界の方向に小さな磁界が存在する中で冷却させた時、局
所消去が行われる。従って、その動作は、小さな磁界に
よって局所スポットをその最初の磁化方向に戻らせる
(または留まらせる)点以外は、書込み動作と類似して
いる。Erasing Erasing can be performed locally or over the entire recording medium 10. Local erasure occurs when new information is being written to discrete portions 38 of film 10. Furthermore, local erasure occurs when the local spot is irradiated with the laser beam 16 and then cooled in the presence of a small magnetic field in the direction of the initially applied saturation field. Thus, its operation is similar to a write operation, except that a small magnetic field causes the local spot to return (or stay) to its original magnetization direction.
ブロック消去は、元の飽和磁界の方向に大きなバイア
ス磁界をかけることによって行われる。ブロック消去に
は、レーザ・ビームは不要である。Block erasure is performed by applying a large bias magnetic field in the direction of the original saturation magnetic field. No laser beam is required for block erasure.
第2図 第2図は、記憶膜10がディスク形基板12の上にある、
ビーム・アドレス可能ファイルの実施例を示す。説明し
やすいように、可能な場合は同じ参照番号を使用する。
レーザ・アレイ14または個々のレーザを使って、無定形
磁性膜10の選択された部分38に情報を読み書きするため
の光ビーム16を供給する。第1図と同様に、偏光子18は
平面偏光の光ビームを発生させ、検光子30は、読取り動
作中に選択された偏光方向の光を通過または遮断するた
めに使用する。検出器32はそれに当たった光に応答し、
選択された部分38に情報状態の電気信号を発生させるた
めに使用される。FIG. 2 shows that the storage film 10 is on the disk-shaped substrate 12,
4 shows an embodiment of a beam addressable file. For ease of explanation, use the same reference numbers where possible.
A laser array 14 or individual lasers are used to provide a light beam 16 for reading and writing information to selected portions 38 of the amorphous magnetic film 10. As in FIG. 1, polarizer 18 produces a plane-polarized light beam, and analyzer 30 is used to pass or block light of the selected polarization direction during a read operation. Detector 32 responds to the light striking it,
It is used to generate an information state electrical signal at a selected portion 38.
レーザ・アレイ14には、レーザ・ビーム16の強度を変
調するために、あるいは読取り動作及び書込み動作の際
に使用される、強度制御回路40が付随している。強度制
御回路40は、例えばアレイ中の注入レーザへのバイアス
電流を減少させる回路、あるいはレーザ・キャビティ自
体の内部にある変調器とすることができる。ディスク駆
動手段42は、膜10と基板12を含むディスクを矢印44の方
向に回転させるために使用される。従って、静止したレ
ーザまたはレーザ・アレイを使って入力ビーム16を発生
させることにより、膜10の選択された部分がアドレスさ
れる。前の場合と同様に、エネルギー源14は、電子ビー
ムなど、別の電磁エネルギー源とすることができる。書
込み用エネルギー源とは無関係に、読出しの目的には一
般に光源が使用される。Laser array 14 has an associated intensity control circuit 40 that is used to modulate the intensity of laser beam 16 or during read and write operations. The intensity control circuit 40 can be, for example, a circuit that reduces the bias current to the injection lasers in the array, or a modulator within the laser cavity itself. The disk drive means 42 is used to rotate the disk containing the film 10 and the substrate 12 in the direction of arrow 44. Thus, by generating the input beam 16 using a stationary laser or laser array, selected portions of the membrane 10 are addressed. As before, the energy source 14 can be another source of electromagnetic energy, such as an electron beam. Regardless of the writing energy source, a light source is generally used for reading purposes.
第2図の実施例の動作は、第1図のそれと同じなの
で、これ以上は説明しない。The operation of the embodiment of FIG. 2 is the same as that of FIG. 1, and will not be described further.
第3図 第3図は、第1図及び第2図の実施例に関して図示し
たファラデー効果ではなくて、カー効果を利用して、記
憶膜10に情報を書き込み、この膜の選択された部分から
情報を読み取るための実施例を示す。この実施例では、
レーザ・アレイ14から出たビーム16が平面偏向素子18を
通過した後、記憶媒体10に当たる。ビーム16は基板12で
反射されて、検光子30を通過し検出器32に当たる。第2
図の場合と同様に、ビーム16の振幅を変化させるための
強度制御回路40が設けられている。FIG. 3 FIG. 3 uses the Kerr effect to write information to the storage film 10 rather than the Faraday effect illustrated with respect to the embodiment of FIGS. 5 shows an embodiment for reading information. In this example,
Beam 16 emerging from laser array 14 impinges on storage medium 10 after passing through a plane deflection element 18. Beam 16 is reflected from substrate 12, passes through analyzer 30 and strikes detector 32. Second
As in the case of the figure, an intensity control circuit 40 for changing the amplitude of the beam 16 is provided.
第3図の装置の動作は、第1図及び第2図のそれと同
じである。唯一の違いは、ビーム16が、基板12を通過し
てから検出器32に当たるのではなくて、膜10を通過した
後で基板12から反射されることである。この種の読出し
はカー効果を利用しており、光ビーム16が基板12を通過
する場合と全く同様にして情報を供給する。The operation of the device of FIG. 3 is the same as that of FIGS. 1 and 2. The only difference is that the beam 16 is reflected from the substrate 12 after passing through the membrane 10 rather than hitting the detector 32 after passing through the substrate 12. This type of readout utilizes the Kerr effect to provide information in exactly the same way as when the light beam 16 passes through the substrate 12.
第4図 第4図は、レーザ70で発生した光ビームが偏向素子72
に達した後、無定形磁性材料74に当たる、光変調器を示
す。膜に近接して電磁石26がある。電磁石26によって発
生する磁界によってシート74中の磁化の方向を変えるこ
とができる。無定形シート74を通過する光の偏光度は、
シート74の磁化の符号と絶対値に依存する。検光子82を
通過する光の強度は、無定形シートを通過する光の偏光
状態によって決まる。無定形シート74を通過した後、光
ビームは検光子82に当たり、その後光電管84によって検
出される。FIG. 4 shows that the light beam generated by the laser 70 is
Shows the light modulator hitting the amorphous magnetic material 74 after reaching. There is an electromagnet 26 near the membrane. The direction of the magnetization in the sheet 74 can be changed by the magnetic field generated by the electromagnet 26. The degree of polarization of light passing through the amorphous sheet 74 is
It depends on the sign and the absolute value of the magnetization of the sheet 74. The intensity of the light passing through the analyzer 82 is determined by the polarization state of the light passing through the amorphous sheet. After passing through the amorphous sheet 74, the light beam strikes the analyzer 82 and is subsequently detected by the phototube 84.
光ビームが無定形シート74に当たる場所に磁区78が存
在するかしないかに応じて、光ビームの偏光は異なる方
向に回転する。ある偏光回転では、光ビームは検光子82
を通過して光電管84に当たり、抵抗R中に電流を発生さ
せることができる。もう一方の場合、光ビームの偏光回
転は、ビームが検光子82を通過せず、抵抗Rの両端間で
電圧が検出されないものとなる。従って、その中に磁区
を有する無定形磁性材料の適当なシートによって、光強
度変調器が提供される。Depending on the presence or absence of magnetic domains 78 where the light beam strikes amorphous sheet 74, the polarization of the light beam rotates in different directions. At some polarization rotation, the light beam is
Through the phototube 84 to generate a current in the resistor R. In the other case, the polarization rotation of the light beam is such that the beam does not pass through the analyzer 82 and no voltage is detected across the resistor R. Thus, a suitable sheet of amorphous magnetic material having magnetic domains therein provides a light intensity modulator.
第4図で、光が無定形シート74中を伝播するのではな
く、そこから光を反射させることもできることを理解さ
れたい。どちらの場合も効果は同じであり、光ビームの
入射位置における磁区の磁化方向に応じて光の偏光は異
なる影響を受ける。In FIG. 4, it should be understood that rather than propagating through the amorphous sheet 74, light may be reflected therefrom. In both cases, the effect is the same, and the polarization of light is affected differently depending on the magnetization direction of the magnetic domain at the incident position of the light beam.
記録サブシステム この無定形磁性材料を、半導体、絶縁体、金属などの
基板上に記録媒体として付着させることが可能である。
基板はテープまたはディスクとすることができる。さら
に、この無定形磁性材料は、どんな種類の基板上でも使
用できる、接着剤(通常の樹脂タイプの接着剤など)に
混合した磁性粒子として調製することもできる。Recording Subsystem The amorphous magnetic material can be deposited as a recording medium on a substrate such as a semiconductor, an insulator, or a metal.
The substrate can be a tape or a disk. Further, the amorphous magnetic material can be prepared as magnetic particles mixed with an adhesive (such as a normal resin type adhesive) that can be used on any kind of substrate.
第5図は、本発明による無定形磁性膜を含むテープま
たはディスク記録媒体94を示す。その上方に読み書きヘ
ッド96がある。変換器96は、周知の方法で、テープまた
はディスク94中の磁区に情報を記録し、またそこに記憶
された情報を読み取るのに使用される。この目的のた
め、記録媒体94から電気信号を読み取って、センス増幅
器98に送り、そこから利用回路100に送る。利用回路100
は、通常のコンピュータ技術で使用されるどんなタイプ
の回路でもよい。FIG. 5 shows a tape or disk recording medium 94 containing an amorphous magnetic film according to the present invention. Above it is a read / write head 96. Transducer 96 is used to record information in magnetic domains in tape or disk 94 and read information stored therein, in well-known fashion. For this purpose, an electrical signal is read from the recording medium 94 and sent to the sense amplifier 98 and from there to the utilization circuit 100. Usage circuit 100
May be any type of circuit used in ordinary computer technology.
第5図に基づく無定形膜を使用すると、多数の利点が
ある。ディスクまたはテープの基板は、柔軟基板でも剛
体基板でもよい。従って、どんなタイプの情報処理シス
テムにでも使用できる。さらに、この無定形材料は、ど
んなタイプの基板にも均一に付着させることが容易であ
り、至る所で均一な磁気特性をもたらす。Using an amorphous membrane according to FIG. 5 has a number of advantages. The disk or tape substrate may be a flexible substrate or a rigid substrate. Therefore, it can be used for any type of information processing system. In addition, the amorphous material is easy to adhere uniformly to any type of substrate, resulting in uniform magnetic properties everywhere.
本発明をさらに例示するため、以下に非限定的な例を
示す。The following non-limiting examples are provided to further illustrate the present invention.
UとSb及び任意選択としてCoまたはMnの各ターゲット
からマグネトロン・スパッタリングを行うことにより、
回転するガラス基板上に300KでUSb膜を付着させる。8
×10-5ミリトルの基準圧から出発して、Ar圧力3ミリト
ル、Ar流量30sccmでスパッタリングを実施する。ファラ
デー測定用の膜は厚さ800Å、抵抗率、磁気、カー回転
の測定用の膜は厚さ2000Åであった。すべてのサンプル
は、酸化防止のため400ÅのSiO2で被覆した。膜厚はプ
ロフィルメータで測定し、膜の組成は結晶付着メータ、
ラザフォード後方散乱、及び誘導結合プラズマ原子発光
スペクトル分析を使って決定した。無定形性は、X線回
折で確認した。By magnetron sputtering from U and Sb and optionally Co or Mn targets,
A USb film is deposited at 300K on a rotating glass substrate. 8
Starting from a reference pressure of × 10 −5 mTorr, sputtering is performed at an Ar pressure of 3 mTorr and an Ar flow rate of 30 sccm. The film for Faraday measurement was 800 mm thick, and the film for measurement of resistivity, magnetism and Kerr rotation was 2000 mm thick. All samples were coated with 400 ° of SiO 2 to prevent oxidation. The film thickness was measured with a profile meter, and the film composition was
Determined using Rutherford backscattering and inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy. The amorphousness was confirmed by X-ray diffraction.
磁気測定は、超電導量子干渉装置(SQUID)磁力計を
使って、膜平面に平行及び垂直な最大40kOeの磁界Hを
かけて行った。抵抗率ρとホール抵抗率ρHは、ファン
=デル=パウ法を使って、17kOeの磁界中で膜平面に垂
直に磁界をかけて求めた。ρとρHの値から、ΘH=ar
ctan(ρH/ρ)を用いてホール角を計算した。測定し
たすべてのU-Sb組成物で、ΘHは正の値である。ファラ
デー回転ΘF及び光磁気カー回転ΘKは、オックスフォ
ード光学ジュワーを使って、最大40kOeまでの磁界中で
膜平面に垂直に磁界をかけて測定した。ファラデー効果
の測定に十分な光の透過を得るため、膜厚は800Å未満
とする。1.55〜2.76eVの範囲のエネルギーEで、H=±
40kOeで、ΘF及びΘKのエネルギー依存性を測定し、
E=2.25eV(波長500nm)で温度及び磁界依存性を測定
した。測定したすべてのU-Sb組成物について、ΘFの値
は正、ΘKの値は負であった。The magnetic measurement was performed using a superconducting quantum interference device (SQUID) magnetometer while applying a magnetic field H of 40 kOe at the maximum parallel and perpendicular to the film plane. Resistivity [rho and the Hall resistivity [rho H, using the fan = der = Pauw method, was determined by applying a magnetic field perpendicular to the film plane in a magnetic field of 17KOe. From the values of ρ and ρ H , Θ H = ar
It was calculated hole angle using the ctan (ρ H / ρ). In all U-Sb composition was measured, theta H is a positive value. Faraday rotation F and magneto-optical Kerr rotation K were measured using an Oxford optical dewar in a magnetic field of up to 40 kOe with a magnetic field perpendicular to the film plane. In order to obtain sufficient light transmission for the measurement of the Faraday effect, the film thickness is less than 800 mm. With energy E in the range of 1.55 to 2.76 eV, H = ±
In 40 kOe, to measure the energy dependence of theta F and theta K,
Temperature and magnetic field dependence were measured at E = 2.25 eV (wavelength 500 nm). For all U-Sb composition was measured, the value of theta F is positive, the value of theta K was negative.
様々な合金の結果を第1表に示す。 Table 1 shows the results for the various alloys.
約48:52の合金の光磁気データを第6図ないし第9図
に示す。 Magneto-optical data of the alloy at about 48:52 are shown in FIGS.
第6図は、10Kでのファラデー回転のエネルギー依存
性を示す。このデータは、+40kOeと−40kOeで得たデー
タを平均して得たものである。1.8eVでの回転は2.2×10
6度/cmを上回ることに留意されたい。第7図は、100Kで
得た同様のデータを示す。回転は、調査した波長範囲の
大部分で1.5×106度/cmを上回る。80Kでの−40kOeから
+40kOeまでのファラデー・ループを第8図に示す。技
術的飽和は5kOeで起こるが、完全な飽和は40kOeより上
と思われる。この種の高磁界磁化率は、大きなランダム
な異方性をもつ材料の特徴である。Uの含有量が多い合
金ほど高磁界領域での磁化率が高くなる。第9図の10K
でのループは、23kOeという非常に大きな保磁力を示
す。残留回転は40kOeでの値の約81%である。60:40合金
は、10Kでずっと小さな正方形ループを示す。一方、80K
では40:60合金は、48:52合金(約2%、第8図参照)よ
りも高い残留回転(15%)を持つ。FIG. 6 shows the energy dependence of Faraday rotation at 10K. This data is obtained by averaging data obtained at +40 kOe and -40 kOe. Rotation at 1.8 eV is 2.2 × 10
Note that it exceeds 6 degrees / cm. FIG. 7 shows similar data obtained at 100K. The rotation is greater than 1.5 × 10 6 degrees / cm for most of the investigated wavelength range. The Faraday loop from −40 kOe to +40 kOe at 80 K is shown in FIG. Technical saturation occurs at 5 kOe, but full saturation appears to be above 40 kOe. This type of high magnetic field susceptibility is characteristic of materials with large random anisotropy. An alloy having a higher U content has a higher magnetic susceptibility in a high magnetic field region. 9K in Fig. 9
The loop in shows a very large coercive force of 23 kOe. The residual rotation is about 81% of the value at 40 kOe. The 60:40 alloy shows a much smaller square loop at 10K. Meanwhile, 80K
The 40:60 alloy has a higher residual rotation (15%) than the 48:52 alloy (about 2%, see FIG. 8).
第10図に、U0.51Sb0.49の厚さ800Åの膜の1kOeでのΘ
をプロットしたグラフを示す。この図は、印加磁界(F
C)でサンプルを冷却するのではなく、最初0(ゼロ)
磁界でサンプルを冷却し、次いで磁界(ZFC)を印加し
て測定を行ったときに観察された差を示す。ZFCサンプ
ルでは、M(T)は温度上昇につれて単調に増加する。
ホール抵抗率ρH(T)は、M(T)と同様の温度依存
性を示す。上記の第1表に、平面Mに共に平行な磁界を
使って測定した磁化の値が出ている。4Kから300Kまでの
抵抗率ρ(T)の温度依存性測定で、ρ(T)はほぼ温
度独立であり、U0.8Sb0.2の135μΩcmからU0.3Sb0.7の5
58μΩcmまで単調に変化することがわかる。FIG. 10 shows the results at 1 kOe of an 800-μm thick film of U 0.51 Sb 0.49 .
Is a graph in which is plotted. This figure shows the applied magnetic field (F
Instead of cooling the sample in C), start with 0 (zero)
The difference observed when cooling the sample with a magnetic field and then applying a magnetic field (ZFC) to measure is shown. In the ZFC sample, M (T) increases monotonically with increasing temperature.
Hall resistivity ρ H (T) shows the same temperature dependence as M (T). In Table 1 above, the values of the magnetization measured using a magnetic field parallel to the plane M are given. In the temperature dependence measurement of resistivity ρ (T) from 4K to 300K, ρ (T) is almost temperature independent, from 135μΩcm of U 0.8 Sb 0.2 to 5 of U 0.3 Sb 0.7
It can be seen that it changes monotonically up to 58 μΩcm.
固有ファラデー回転ΘF(度/cm)を、10K≦T≦200
K、H=±40kOeで温度の関数として測定した。第11a図
に、固有ファラデー回転ΘFに変換した、正と負の磁界
中での回転の差の平均値の温度依存性をプロットしたグ
ラフを示す。この図は、磁化で見られる挙動と基本的に
同じ挙動を示す。U0.48Sb0.52以外のすべての系は、高
い温度テールを示すが、これは一般にゆらぎまたは近距
離磁気オーダーによるものと考えられる。H=40kOe、
T=10KでのΘFの値は、U0.85Sb0.15の0.3×106度/cm
からU0.48Sb0.52の2.2×106度/cmまでの範囲に及ぶこと
がわかる。第12図に、Hが+40kOeから−40kOeの間で、
温度10K、25K、50K、80KでΘFを磁界の関数としてプロ
ットしたグラフを示す。その結果、大きな保磁力Hcが得
られ、この保磁力は、TbFe2など他の無定形金属系で観
測された挙動と矛盾しない。TbFe2の場合、大きなHcは
単一イオン異方性の存在によるものと考えられている。Unique Faraday rotation Θ F (degrees / cm), 10K ≦ T ≦ 200
Measured as a function of temperature, K, H = ± 40 kOe. To the 11a diagram showing a specific Faraday rotation Θ is converted into F, a plot of temperature dependence of the average value of the difference in rotation in positive and in negative magnetic field. This figure shows basically the same behavior as that seen in magnetization. All systems except U 0.48 Sb 0.52 show a high temperature tail, which is generally thought to be due to fluctuations or short-range magnetic order. H = 40kOe,
T = the value of theta F at 10K is, U 0.85 Sb 0.15 of 0.3 × 10 6 ° / cm
From U 0.48 Sb 0.52 to 2.2 × 10 6 degrees / cm. In FIG. 12, when H is between +40 kOe and -40 kOe,
Temperature 10K, 25K, 50K, a plot of theta F as a function of magnetic field at 80K shown. As a result, a large coercive force H c is obtained, the coercive force is consistent with the observed behavior at the other amorphous metallic like TbFe 2. For TbFe 2, large H c is believed to be due to the presence of the single-ion anisotropy.
カー回転ΘKを、10K≦T≦200K、H=±40kOeで温度
の関数として測定した。第11b図に、正と負の磁界中で
の回転の差の平均としての温度依存性をプロットしたグ
ラフを示す。5つの系すべてでΘKの温度依存性は、M
(T)及びΘF(T)で観測された挙動と基本的に同じ
挙動を示す。H=40kOe、T=10KでのΘKの値は、U
0.15Sb0.85の−0.25度からU0.51Sb0.49の−3.2度までの
範囲に及ぶことがわかる。The Kerr rotation Θ K, 10K ≦ T ≦ 200K , was measured as a function of temperature at H = ± 40 kOe. FIG. 11b shows a graph plotting the temperature dependence as the average of the difference in rotation in positive and negative magnetic fields. Temperature dependence of the five systems all at Θ K is, M
(T) and F F (T) show basically the same behavior as the behavior observed. H = 40 kOe, the value of theta K at T = 10K is, U
It can be seen that the range extends from -0.25 degrees of 0.15 Sb 0.85 to -3.2 degrees of U 0.51 Sb 0.49 .
様々な組成でのΘFのエネルギー依存性を、光子エネ
ルギーEが1.77〜2.76eVの場合についてプロットしたグ
ラフを第13a図に示す。Eが1.55〜2.76eVの場合のΘK
の同様のグラフを第13b図に示す。どちらの場合も、分
散の証拠はほとんどなく、組成に伴うスペクトルの変化
が著しく小さい。さらに、ΘFでもΘKでも温度の関数
としての分数の変化は基本的にゼロである。The energy dependence of theta F in various compositions are shown in Figure 13a the plot for the case the photon energy E is 1.77~2.76EV. K K when E is 1.55 to 2.76 eV
13b is shown in FIG. 13b. In both cases, there is little evidence of dispersion and the spectral change with composition is significantly smaller. Furthermore, the fractional change as a function of temperature for both で もF and KK is essentially zero.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マッガッレー、トーマス、ロチェ アメリカ合衆国ニューヨーク州ヨークタ ウン・ハイツ、マジソン・コート620番 地 (72)発明者 プラスケット、トーマス、スタンレイ アメリカ合衆国ニューヨーク州カトナ ー、ホリー・ヒル・レーン、アール・エ フ・デイ5番地 (56)参考文献 特開 昭61−121404(JP,A) 特開 昭63−136344(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor McGallare, Thomas, Roche, 620 Madison Court, Yorktown Heights, New York, USA (72) Inventor Plasket, Thomas, Stanley Holly, Kattonah, NY Hill Lane, R.F. 5 (56) References JP-A-61-121404 (JP, A) JP-A-63-136344 (JP, A)
Claims (3)
いし40:60の成分比で含み、さらにMn、Coまたはその両
者を10ないし20原子%含む、光磁気回転を示す無定形合
金。1. An amorphous alloy exhibiting magneto-optical rotation comprising uranium and antimony in a component ratio of 60:40 to 40:60 and further containing 10 to 20 atomic% of Mn, Co or both.
いし40:60の成分比で含み、さらにMn、Coまたはその両
者を10ないし20原子%含む無定形合金よりなる光磁気記
憶媒体。2. A magneto-optical storage medium comprising an amorphous alloy containing uranium and antimony in a component ratio of 60:40 to 40:60, and further containing 10 to 20 atomic% of Mn, Co, or both.
いし40:60の成分比で含み、さらにMn、Coまたはその両
者を10ないし20原子%含む無定形合金よりなる光磁気記
憶媒体と、 上記記憶媒体の選択された領域を局部的に加熱するため
の加熱手段と、上記選択された領域での上記記憶媒体の
磁気状態を変化させるために上記選択された領域で磁界
を発生する磁界発生手段とを含む、上記記憶媒体の複数
の選択された領域の磁気状態を変化させるための書き込
み手段と、 上記記憶媒体の上記選択された領域に偏光した光ビーム
を向ける光学手段と、上記選択された領域の磁気状態に
応じて回転した上記光ビームの偏光の回転度を検出する
ための検出手段とを含む、上記記憶媒体の上記選択され
た領域の磁気状態を検知するための読み取り手段と、 を有する、光磁気記憶システム。3. A magneto-optical storage medium comprising an amorphous alloy containing uranium and antimony in a component ratio of 60:40 to 40:60 and further containing 10 to 20 atomic% of Mn, Co or both. Heating means for locally heating a selected area of the storage medium, and magnetic field generation for generating a magnetic field in the selected area to change a magnetic state of the storage medium in the selected area Means for changing the magnetic state of a plurality of selected areas of the storage medium, and optical means for directing a polarized light beam to the selected areas of the storage medium; Detecting means for detecting the degree of rotation of the polarization of the light beam rotated according to the magnetic state of the area, read means for detecting the magnetic state of the selected area of the storage medium, With That, magneto-optical storage system.
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