JP2636985B2 - 銅または銅合金溶湯の還元法 - Google Patents
銅または銅合金溶湯の還元法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は銅または銅合金溶湯の還
元法に関し、さらに詳しくは、銅および銅合金溶湯の還
元に際して、発生するＯ2ガスを溶湯中および溶湯表面
から可及的速やかに除去することが可能な銅または銅合
金溶湯の還元法に関するものである。
元法に関し、さらに詳しくは、銅および銅合金溶湯の還
元に際して、発生するＯ2ガスを溶湯中および溶湯表面
から可及的速やかに除去することが可能な銅または銅合
金溶湯の還元法に関するものである。
【０００２】
【従来技術】銅または銅合金は、優れた電気伝導性と熱
伝導性および優れた加工性を有しており、最近、とみに
熱交換器、電子・電気部品等の分野において需要が極め
て旺盛である。
伝導性および優れた加工性を有しており、最近、とみに
熱交換器、電子・電気部品等の分野において需要が極め
て旺盛である。
【０００３】しかし、このような優れた性質を有してい
る銅または銅合金は、含有されている酸素（以下、Ｏ2
ガスとして説明する。）の量により、銅または銅合金の
特性が著しく損なわれるため、銅または銅合金の製造工
程においてＯ2ガス量の調整が重要な作業となってい
る。このＯ2ガス含有量を低減すること、即ち、還元を
行うことは、その調整工程は溶湯状態においてのみ行わ
れる。
る銅または銅合金は、含有されている酸素（以下、Ｏ2
ガスとして説明する。）の量により、銅または銅合金の
特性が著しく損なわれるため、銅または銅合金の製造工
程においてＯ2ガス量の調整が重要な作業となってい
る。このＯ2ガス含有量を低減すること、即ち、還元を
行うことは、その調整工程は溶湯状態においてのみ行わ
れる。
【０００４】一般的に、溶湯中に含有されているＯ2ガ
スを脱酸により低減する場合、普通、木炭等の還元剤を
溶湯表面に散布して、溶湯中のＯ2ガスをＣＯガスまた
はＣＯ2ガス等のガスとして除去するのである。
スを脱酸により低減する場合、普通、木炭等の還元剤を
溶湯表面に散布して、溶湯中のＯ2ガスをＣＯガスまた
はＣＯ2ガス等のガスとして除去するのである。
【０００５】しかしながら、実際にこのような還元にお
いては、還元剤を使用しているにも拘わらず、予測に反
して溶湯中のＯ2ガス含有量が低減しないことが多く発
生しており、初期の目的としたＯ2ガス量とすることが
保証されないという問題がある。
いては、還元剤を使用しているにも拘わらず、予測に反
して溶湯中のＯ2ガス含有量が低減しないことが多く発
生しており、初期の目的としたＯ2ガス量とすることが
保証されないという問題がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記に説明し
た従来における銅および銅合金溶湯中のＯ2ガスの除去
の問題点に鑑み、本発明者が鋭意研究を行い、検討を重
ねた結果、比較的に簡単な手段により、銅または銅合金
溶湯中のＯ2ガス含有量を著しく低減することができる
還元法を開発したのである。
た従来における銅および銅合金溶湯中のＯ2ガスの除去
の問題点に鑑み、本発明者が鋭意研究を行い、検討を重
ねた結果、比較的に簡単な手段により、銅または銅合金
溶湯中のＯ2ガス含有量を著しく低減することができる
還元法を開発したのである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明に係る銅または
銅合金溶湯の還元法の特徴とするところは、銅または銅
合金溶湯の溶湯表面に固体還元剤を散布した後、溶湯中
のＯ ２ ガス分圧より低いＯ ２ ガス分圧の不活性ガスを銅
または銅合金溶湯中に吹き込み、および／または、溶湯
中のＯ ２ ガス分圧より低いＯ ２ ガス分圧の不活性ガスを
銅または銅合金溶湯表面に吹き付けることにより、溶湯
内および／または溶湯表面より還元により生成するＯ２
ガスを除去しながら銅または銅合金溶湯の還元を行うこ
とである。
銅合金溶湯の還元法の特徴とするところは、銅または銅
合金溶湯の溶湯表面に固体還元剤を散布した後、溶湯中
のＯ ２ ガス分圧より低いＯ ２ ガス分圧の不活性ガスを銅
または銅合金溶湯中に吹き込み、および／または、溶湯
中のＯ ２ ガス分圧より低いＯ ２ ガス分圧の不活性ガスを
銅または銅合金溶湯表面に吹き付けることにより、溶湯
内および／または溶湯表面より還元により生成するＯ２
ガスを除去しながら銅または銅合金溶湯の還元を行うこ
とである。
【０００８】本発明に係る銅または銅合金溶湯の還元法
について、以下詳細に説明する。
について、以下詳細に説明する。
【０００９】即ち、銅または銅合金溶湯の表面に、固体
還元剤として、例えば、木炭を満遍なく散布してから、
溶湯中にランスにより不活性ガス等の溶湯中のＯ2ガス
分圧より低いＯ2ガス分圧を有するガスを吹き込み、こ
の吹き込んだガス気泡中のＯ2ガス分圧と溶湯中のＯ2ガ
ス分圧との分圧差を利用して、溶湯中のＯ2ガスを吹き
込んだガス気泡中に拡散、捕集して溶湯中を浮上させ
て、溶湯表面から吹き込んだガスと共にＯ2ガスを放出
させるものである。
還元剤として、例えば、木炭を満遍なく散布してから、
溶湯中にランスにより不活性ガス等の溶湯中のＯ2ガス
分圧より低いＯ2ガス分圧を有するガスを吹き込み、こ
の吹き込んだガス気泡中のＯ2ガス分圧と溶湯中のＯ2ガ
ス分圧との分圧差を利用して、溶湯中のＯ2ガスを吹き
込んだガス気泡中に拡散、捕集して溶湯中を浮上させ
て、溶湯表面から吹き込んだガスと共にＯ2ガスを放出
させるものである。
【００１０】また、銅または銅合金溶湯の表面に、固体
還元剤として、例えば、木炭を満遍なく散布してから、
溶湯中にランスにより不活性ガス等の溶湯中のＯ2ガス
分圧より低いＯ2ガス分圧を有するガスを吹き込み、こ
の吹き込んだガス気泡中のＯ2ガス分圧と溶湯中のＯ2ガ
ス分圧との分圧差を利用して、溶湯中のＯ2ガスを吹き
込んだガス気泡中に拡散、捕集して溶湯中を浮上させ
て、溶湯表面から吹き込んだガスと共にＯ2ガスを放出
させ、そして、この放出されたＯ2ガスが再び溶湯中に
溶解しないように、不活性ガス等の溶湯表面のＯ2ガス
分圧（濃度）より低いＯ2ガス分圧を有するガスを、溶
湯表面に吹きけ、溶湯から放出されたＯ2ガスを除去、
即ち、還元を促進するのである。
還元剤として、例えば、木炭を満遍なく散布してから、
溶湯中にランスにより不活性ガス等の溶湯中のＯ2ガス
分圧より低いＯ2ガス分圧を有するガスを吹き込み、こ
の吹き込んだガス気泡中のＯ2ガス分圧と溶湯中のＯ2ガ
ス分圧との分圧差を利用して、溶湯中のＯ2ガスを吹き
込んだガス気泡中に拡散、捕集して溶湯中を浮上させ
て、溶湯表面から吹き込んだガスと共にＯ2ガスを放出
させ、そして、この放出されたＯ2ガスが再び溶湯中に
溶解しないように、不活性ガス等の溶湯表面のＯ2ガス
分圧（濃度）より低いＯ2ガス分圧を有するガスを、溶
湯表面に吹きけ、溶湯から放出されたＯ2ガスを除去、
即ち、還元を促進するのである。
【００１１】さらに、銅または銅合金溶湯の表面に、固
体還元剤として、例えば、木炭を満遍なく散布してか
ら、溶湯中にランスにより不活性ガス等の溶湯中のＯ2
ガス分圧より低いＯ2ガス分圧を有するガスを吹き込
み、同時に、溶湯表面に溶湯表面のＯ2ガス分圧より低
いＯ2ガス分圧を有するガスを吹き付けることにより、
この吹き込んだガス気泡中のＯ2ガス分圧と溶湯中のＯ2
ガス分圧との分圧差を利用して、溶湯中のＯ2ガスを吹
き込んだガス気泡中に拡散、捕集して溶湯中を浮上させ
て、溶湯表面から吹き込んだガスと共にＯ2ガスを放出
させ、そして、この放出されたＯ2ガスが再び溶湯中に
溶解しないように、上記したようなガスを溶湯表面にに
吹き付けることにより、溶湯から放出されたＯ2ガスを
除去することができ、即ち、還元が促進されるのであ
る。
体還元剤として、例えば、木炭を満遍なく散布してか
ら、溶湯中にランスにより不活性ガス等の溶湯中のＯ2
ガス分圧より低いＯ2ガス分圧を有するガスを吹き込
み、同時に、溶湯表面に溶湯表面のＯ2ガス分圧より低
いＯ2ガス分圧を有するガスを吹き付けることにより、
この吹き込んだガス気泡中のＯ2ガス分圧と溶湯中のＯ2
ガス分圧との分圧差を利用して、溶湯中のＯ2ガスを吹
き込んだガス気泡中に拡散、捕集して溶湯中を浮上させ
て、溶湯表面から吹き込んだガスと共にＯ2ガスを放出
させ、そして、この放出されたＯ2ガスが再び溶湯中に
溶解しないように、上記したようなガスを溶湯表面にに
吹き付けることにより、溶湯から放出されたＯ2ガスを
除去することができ、即ち、還元が促進されるのであ
る。
【００１２】本発明に係る銅または銅合金溶湯の還元法
は、上記の構成であるが、従来における銅または銅合金
溶湯の還元法では、通説として、溶湯中におけるＯ2ガ
スの含有されている状態としては、酸化物（Ｃｕ
2Ｏ）およびその他、および、溶湯中に溶解という２
種類があり、還元剤として、例えば、木炭が溶湯に添加
されると、下記の通り、（木炭はＣとして示す。） 酸化物として存在するＯ2ガスは、Ｃｕ2Ｏ＋Ｃ→Ｃｕ＋
ＣＯ↑ ガスとして溶湯に溶解しているＯ2ガスは、Ｏ2＋Ｃ→Ｃ
Ｏ↑ の反応式に示すように、溶湯中のＣｕ2ＯおよびＯ2ガス
が木炭のＣにより還元され、ＣＯガスとして放出されて
いる。
は、上記の構成であるが、従来における銅または銅合金
溶湯の還元法では、通説として、溶湯中におけるＯ2ガ
スの含有されている状態としては、酸化物（Ｃｕ
2Ｏ）およびその他、および、溶湯中に溶解という２
種類があり、還元剤として、例えば、木炭が溶湯に添加
されると、下記の通り、（木炭はＣとして示す。） 酸化物として存在するＯ2ガスは、Ｃｕ2Ｏ＋Ｃ→Ｃｕ＋
ＣＯ↑ ガスとして溶湯に溶解しているＯ2ガスは、Ｏ2＋Ｃ→Ｃ
Ｏ↑ の反応式に示すように、溶湯中のＣｕ2ＯおよびＯ2ガス
が木炭のＣにより還元され、ＣＯガスとして放出されて
いる。
【００１３】しかして、本発明に係る銅または銅合金溶
湯の還元法における溶湯中に溶解しているＯ2ガスの挙
動を実測することにより、従来とは異なった結果が得ら
れた。即ち、銅および銅合金溶湯中に含有されている溶
解したＯ2ガスを、分解平衡法を使用した測定法｛特願
昭 ６２−２７２３８０号（特開平０１−１１３６２５
号公報三省）｝参照により実測した。
湯の還元法における溶湯中に溶解しているＯ2ガスの挙
動を実測することにより、従来とは異なった結果が得ら
れた。即ち、銅および銅合金溶湯中に含有されている溶
解したＯ2ガスを、分解平衡法を使用した測定法｛特願
昭 ６２−２７２３８０号（特開平０１−１１３６２５
号公報三省）｝参照により実測した。
【００１４】この実測結果によると、還元反応前に溶湯
中に含有されているＯ2ガスは全て酸化物（ＣｕＯ、Ｃ
ｕ2Ｏその他）であり、溶湯中には溶解したＯ2ガスは含
有されていないことを確認した。
中に含有されているＯ2ガスは全て酸化物（ＣｕＯ、Ｃ
ｕ2Ｏその他）であり、溶湯中には溶解したＯ2ガスは含
有されていないことを確認した。
【００１５】従って、この実測値より、還元反応は以下
示す通りと予測され、即ち、溶湯表面に木炭等の還元剤
が散布されると、 Ｃｕ2Ｏ＋Ｃ→Ｃｕ＋Ｏ2↑ Ｃ＋Ｏ2→ＣＯ2↑ のように、主として溶湯中のＣｕＯ或いはＣｕ2ＯがＣ
（木炭）により還元される反応だけが生じ、この反応に
より生じたＯ2ガスやこのＯ2ガスがＣ（木炭）と反応し
たＣＯ2ガスとして存在することが考えられる。これを
裏付けるために溶湯を上記の方法により改めて測定を行
った結果、従来において通説とされていたＣＯガスに代
わり、Ｏ2ガスおよびＣＯ2ガスが認められた。また、こ
の状態は溶湯表面においても同様であった。
示す通りと予測され、即ち、溶湯表面に木炭等の還元剤
が散布されると、 Ｃｕ2Ｏ＋Ｃ→Ｃｕ＋Ｏ2↑ Ｃ＋Ｏ2→ＣＯ2↑ のように、主として溶湯中のＣｕＯ或いはＣｕ2ＯがＣ
（木炭）により還元される反応だけが生じ、この反応に
より生じたＯ2ガスやこのＯ2ガスがＣ（木炭）と反応し
たＣＯ2ガスとして存在することが考えられる。これを
裏付けるために溶湯を上記の方法により改めて測定を行
った結果、従来において通説とされていたＣＯガスに代
わり、Ｏ2ガスおよびＣＯ2ガスが認められた。また、こ
の状態は溶湯表面においても同様であった。
【００１６】このことから、銅および銅合金溶湯の還元
を行う場合、所期の目的とする効果が得られない主な原
因は、還元反応において新たに発生したＯ2ガスが溶湯
内または溶湯表面直上に残存するために、丁度Ｏ2ガス
が溶湯を被覆するような状態となり、新たに発生したＯ
2ガス等のガスを放出するのを妨害するためである。
を行う場合、所期の目的とする効果が得られない主な原
因は、還元反応において新たに発生したＯ2ガスが溶湯
内または溶湯表面直上に残存するために、丁度Ｏ2ガス
が溶湯を被覆するような状態となり、新たに発生したＯ
2ガス等のガスを放出するのを妨害するためである。
【００１７】この場合の変化を図１、図２、図３および
図４により説明すると、図１においては、ガスクロマト
グラフによる溶湯表面直上のガス濃度の変化を示してお
り、木炭（Ｃ）を溶湯表面に添加した時は、Ｏ2ガスお
よびＣＯ2ガスが急激に発生し、時間が経過したも略こ
れらのガスの発生量の変化はなく、ＣＯガスは木炭添加
後殆ど発生しておらず、時間が経過しても発生量は変わ
らない。
図４により説明すると、図１においては、ガスクロマト
グラフによる溶湯表面直上のガス濃度の変化を示してお
り、木炭（Ｃ）を溶湯表面に添加した時は、Ｏ2ガスお
よびＣＯ2ガスが急激に発生し、時間が経過したも略こ
れらのガスの発生量の変化はなく、ＣＯガスは木炭添加
後殆ど発生しておらず、時間が経過しても発生量は変わ
らない。
【００１８】図２は分圧平衡法による溶湯中のガス濃度
変化を示しており、木炭（Ｃ）添加後、急激にＯ2ガス
およびＣＯ2ガスの発生し、時間が経過してもこれらガ
ス濃度にはあまり変化はなく、ＣＯガスは木炭添加後に
おいても、殆ど発生しておらず、時間が経過しても発生
量は全然変わっていない。
変化を示しており、木炭（Ｃ）添加後、急激にＯ2ガス
およびＣＯ2ガスの発生し、時間が経過してもこれらガ
ス濃度にはあまり変化はなく、ＣＯガスは木炭添加後に
おいても、殆ど発生しておらず、時間が経過しても発生
量は全然変わっていない。
【００１９】図３は溶湯表面に木炭（Ｃ）の散布を行う
前においては、溶湯表面にはＯ2ガスとＮ2ガスが存在し
ており、溶湯中にはＣｕ2Ｏ等の酸化物が多量に存在し
ている。しかし、図４においては、溶湯表面に木炭
（Ｃ）を散布・被覆した場合であり、溶湯表面にはＯ2
ガスおよびＣＯ2ガス濃度が大であり、また、溶湯内に
おける溶湯表面近傍においても、Ｏ2ガスおよびＣＯ2ガ
スの溶解量が大であることがわかる。そして、溶湯内に
はＣｕ2Ｏ等の酸化物の量は少なくなっていることがわ
かる。
前においては、溶湯表面にはＯ2ガスとＮ2ガスが存在し
ており、溶湯中にはＣｕ2Ｏ等の酸化物が多量に存在し
ている。しかし、図４においては、溶湯表面に木炭
（Ｃ）を散布・被覆した場合であり、溶湯表面にはＯ2
ガスおよびＣＯ2ガス濃度が大であり、また、溶湯内に
おける溶湯表面近傍においても、Ｏ2ガスおよびＣＯ2ガ
スの溶解量が大であることがわかる。そして、溶湯内に
はＣｕ2Ｏ等の酸化物の量は少なくなっていることがわ
かる。
【００２０】従って、上記に説明したように、銅または
銅合金溶湯の還元を行う場合、還元反応により発生した
Ｏ2ガスおよびＣＯ2ガスを溶湯内および溶湯表面直上か
ら、速やかに系外に放出する必要があり、この放出手段
としては、不活性ガス等の溶湯中に新たに発生したＯ2
ガス分圧より低いＯ2ガス分圧のガスを吹き込み、この
分圧差により吹き込んだガス中に溶湯中のＯ2ガスを拡
散・捕集し、系外に放出するのである。
銅合金溶湯の還元を行う場合、還元反応により発生した
Ｏ2ガスおよびＣＯ2ガスを溶湯内および溶湯表面直上か
ら、速やかに系外に放出する必要があり、この放出手段
としては、不活性ガス等の溶湯中に新たに発生したＯ2
ガス分圧より低いＯ2ガス分圧のガスを吹き込み、この
分圧差により吹き込んだガス中に溶湯中のＯ2ガスを拡
散・捕集し、系外に放出するのである。
【００２１】そして、銅溶湯の場合に、この新たに発生
したＯ2ガスの放出について説明すると、電気銅地金１
００％を１トン溶解炉により１２００℃±２０℃の温度
で溶解を行い、次いで、この銅溶湯重量の１％の木炭を
溶湯表面に散布して被覆を行った後、不活性ガスを溶湯
内に３分φ径のランスにより３０Ｎｌ／分の割合で吹き
込むと同時に溶湯表面に３０Ｎｌ／分の割合で不活性ガ
スの吹き付けを行い、その後、鋳造してから加工を行っ
た。
したＯ2ガスの放出について説明すると、電気銅地金１
００％を１トン溶解炉により１２００℃±２０℃の温度
で溶解を行い、次いで、この銅溶湯重量の１％の木炭を
溶湯表面に散布して被覆を行った後、不活性ガスを溶湯
内に３分φ径のランスにより３０Ｎｌ／分の割合で吹き
込むと同時に溶湯表面に３０Ｎｌ／分の割合で不活性ガ
スの吹き付けを行い、その後、鋳造してから加工を行っ
た。
【００２２】この場合の溶湯中のＯ2ガス濃度（ガス±
酸化物合計）と時間との関係を図５に示すが、Ａｒ処理
を行わない場合には、Ｏ2ガス濃度は時間が経過しても
変化がなく、また、Ａｒガスを溶湯中に吹き込んだ場合
および溶湯表面に吹き付けた場合は共に時間の経過と共
にＯ2ガス濃度は低くなっており、さらに、Ａｒガスを
溶湯内吹き込みと溶湯表面に吹き付けた場合には、格段
にＯ2ガス濃度は低くなっていることがわかる。
酸化物合計）と時間との関係を図５に示すが、Ａｒ処理
を行わない場合には、Ｏ2ガス濃度は時間が経過しても
変化がなく、また、Ａｒガスを溶湯中に吹き込んだ場合
および溶湯表面に吹き付けた場合は共に時間の経過と共
にＯ2ガス濃度は低くなっており、さらに、Ａｒガスを
溶湯内吹き込みと溶湯表面に吹き付けた場合には、格段
にＯ2ガス濃度は低くなっていることがわかる。
【００２３】また、銅合金溶湯の場合に、新たに発生し
たＯ2ガスの放出について説明すると、Ｃｕ−Ｆｅ系合
金屑（ＫＬＦ−１９４）１００％を１トン溶解炉におい
て１２００℃±２０℃の温度で溶解を行い、溶解後溶湯
重量の１％の木炭を溶湯表面に散布して被覆し、次い
で、溶湯中に径３分φのランスにより３０Ｎｌ／分の割
合で不活性ガスを吹き込むと同時に溶湯表面に３０Ｎｌ
／分の割合で不活性ガスの吹き付けを行い、鋳造後加工
を行った。
たＯ2ガスの放出について説明すると、Ｃｕ−Ｆｅ系合
金屑（ＫＬＦ−１９４）１００％を１トン溶解炉におい
て１２００℃±２０℃の温度で溶解を行い、溶解後溶湯
重量の１％の木炭を溶湯表面に散布して被覆し、次い
で、溶湯中に径３分φのランスにより３０Ｎｌ／分の割
合で不活性ガスを吹き込むと同時に溶湯表面に３０Ｎｌ
／分の割合で不活性ガスの吹き付けを行い、鋳造後加工
を行った。
【００２４】この場合の溶湯中のＯ2ガス濃度（ガス＋
酸化物合計）と時間との関係を図６に示すが、Ａｒ処理
を行わない場合には、Ｏ2ガス濃度は時間が経過しても
変化がなく、また、Ａｒガスを溶湯中に吹き込んだ場合
および溶湯表面に吹き付けた場合は共に時間の経過と共
にＯ2ガス濃度は低くなっており、さらに、Ａｒガスを
溶湯内吹き込みと溶湯表面に吹き付けた場合には、格段
にＯ2ガス濃度は低くなっていることがわかる。
酸化物合計）と時間との関係を図６に示すが、Ａｒ処理
を行わない場合には、Ｏ2ガス濃度は時間が経過しても
変化がなく、また、Ａｒガスを溶湯中に吹き込んだ場合
および溶湯表面に吹き付けた場合は共に時間の経過と共
にＯ2ガス濃度は低くなっており、さらに、Ａｒガスを
溶湯内吹き込みと溶湯表面に吹き付けた場合には、格段
にＯ2ガス濃度は低くなっていることがわかる。
【００２５】
【実 施 例】本発明に係る銅または銅合金溶湯の還元
法について、以下実施例を説明する。
法について、以下実施例を説明する。
【００２６】
【実 施 例】以下の条件により銅溶湯の還元を行った。 銅溶湯量 ２５０ｋｇ 溶解温度 １２５０℃ 木炭量 ５ｋｇ 不活性ガス量 １０〜１３ｌ／分（アルゴンガス・バ
ブラー吹き込み） 銅溶湯酸素量調整＝大気溶解＋ＣｕＯ添加
ブラー吹き込み） 銅溶湯酸素量調整＝大気溶解＋ＣｕＯ添加
【００２７】図７に還元後の結果を示す。即ち、還元初
期においては酸素量が５２００ｐｐｍであったものが、
上記条件により還元を行ったところ、脱酸速度２５２ｐ
ｐｍ／分の割合で２０分後には酸素量は１５５ｐｐｍに
低下し、さらに、４０分後には１９ｐｐｍにまで極めて
低濃度にまで低下していることがわかる。しかし、その
後時間が経過すると、６０分後には２０ｐｐｍ、９０分
後には２７ｐｐｍとＯ2ガス濃度が増加する傾向にあ
る。従って、酸素量が最低になる時間において還元を停
止することがよい。また、図８に銅合金における溶湯中
の酸素量と処理時間との関係を示す。この場合、上記に
説明した銅溶湯と同じ条件により還元を行った。この図
８から、還元初期においては、酸素量が８０００ｐｐｍ
であったものが、２０分後には略２５０ｐｐｍ程度にま
で低下しており、４０分後以降は酸素量は略零にまで低
下していることがわかる。
期においては酸素量が５２００ｐｐｍであったものが、
上記条件により還元を行ったところ、脱酸速度２５２ｐ
ｐｍ／分の割合で２０分後には酸素量は１５５ｐｐｍに
低下し、さらに、４０分後には１９ｐｐｍにまで極めて
低濃度にまで低下していることがわかる。しかし、その
後時間が経過すると、６０分後には２０ｐｐｍ、９０分
後には２７ｐｐｍとＯ2ガス濃度が増加する傾向にあ
る。従って、酸素量が最低になる時間において還元を停
止することがよい。また、図８に銅合金における溶湯中
の酸素量と処理時間との関係を示す。この場合、上記に
説明した銅溶湯と同じ条件により還元を行った。この図
８から、還元初期においては、酸素量が８０００ｐｐｍ
であったものが、２０分後には略２５０ｐｐｍ程度にま
で低下しており、４０分後以降は酸素量は略零にまで低
下していることがわかる。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る銅ま
たは銅合金溶湯の還元法は上記の構成であるから、溶湯
表面に木炭（Ｃ）を散布・被覆した後に、溶湯中のＯ2
ガス分圧より低いＯ2ガス分圧の不活性ガスを溶湯内に
吹き込むか、または、溶湯表面に吹き付けるか、さら
に、溶湯内および溶湯表面に同時に行うことによって、
溶湯内の還元により発生したＯ2ガス濃度（ガス＋酸化
物合計）は極めて低くなるという優れた効果を有するも
のである。
たは銅合金溶湯の還元法は上記の構成であるから、溶湯
表面に木炭（Ｃ）を散布・被覆した後に、溶湯中のＯ2
ガス分圧より低いＯ2ガス分圧の不活性ガスを溶湯内に
吹き込むか、または、溶湯表面に吹き付けるか、さら
に、溶湯内および溶湯表面に同時に行うことによって、
溶湯内の還元により発生したＯ2ガス濃度（ガス＋酸化
物合計）は極めて低くなるという優れた効果を有するも
のである。
【図１】溶湯表面直上のガス濃度と時間との関係を示す
図である。
図である。
【図２】溶湯中のガス濃度と時間との関係を示す図であ
る。
る。
【図３】溶湯表面に木炭を散布・被覆する前の溶湯内と
溶湯表面の状態を示す模式図である。
溶湯表面の状態を示す模式図である。
【図４】溶湯表面に木炭を散布・被覆した後の溶湯内と
溶湯表面のガスの分布状態を示す図である。
溶湯表面のガスの分布状態を示す図である。
【図５】銅溶湯の還元について、不活性ガス処理の有
無、溶湯内に吹き込んだ場合、溶湯表面に吹き付けた場
合およびこの両方を行った場合のＯ2ガス濃度（ガス＋
酸化物合計）と時間との関係を示す図である。
無、溶湯内に吹き込んだ場合、溶湯表面に吹き付けた場
合およびこの両方を行った場合のＯ2ガス濃度（ガス＋
酸化物合計）と時間との関係を示す図である。
【図６】銅合金溶湯の還元について、不活性ガス処理の
有無、溶湯内に吹き込んだ場合、 溶湯表面に吹き付け
た場合およびこの両方を行った場合のＯ2ガス濃度（ガ
ス ＋酸化物合計）と時間との関係を示す図である。
有無、溶湯内に吹き込んだ場合、 溶湯表面に吹き付け
た場合およびこの両方を行った場合のＯ2ガス濃度（ガ
ス ＋酸化物合計）と時間との関係を示す図である。
【図７】実施例における還元の場合の、銅溶湯中の酸素
量と処理時間との関係を示す図である。
量と処理時間との関係を示す図である。
【図８】銅合金溶湯中の酸素量と処理時間との関係を示
す図である。
す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡 田 裕 文 山口県下関市長府紺屋町１−32 (72)発明者 浜 中 龍 介 山口県下関市長府黒門東町３番Ｆ303 (56)参考文献 特開 昭51−99620（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−177422（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−205428（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】 銅または銅合金溶湯の溶湯表面に固体還
元剤を散布した後、溶湯中のＯ ２ ガス分圧より低いＯ ２
ガス分圧の不活性ガスを銅または銅合金溶湯中に吹き込
み、および／または、溶湯中のＯ ２ ガス分圧より低いＯ
２ ガス分圧の不活性ガスを銅または銅合金溶湯表面に吹
き付けることにより、溶湯内および／または溶湯表面よ
り還元により生成するＯ２ガスを除去しながら銅または
銅合金溶湯の還元を行うことを特徴とする銅または銅合
金溶湯の還元法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19998591A JP2636985B2 (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | 銅または銅合金溶湯の還元法 |
| PCT/JP1992/000358 WO1993002219A1 (en) | 1991-07-15 | 1992-03-25 | Process for purifying raw material of copper or its alloy |
| CA002091677A CA2091677C (en) | 1991-07-15 | 1992-03-25 | Process for refining crude material for copper or copper alloy |
| US07/988,960 US5364449A (en) | 1991-07-15 | 1992-03-25 | Process for refining crude material for copper or copper alloy |
| EP92907624A EP0548363B1 (en) | 1991-07-15 | 1992-03-25 | Process for refining raw material for copper or its alloys |
| DE69229387T DE69229387T2 (de) | 1991-07-15 | 1992-03-25 | Verfahren zum reinigen von kupferrohmaterial für kupfer oder seine legierungen |
| FI931112A FI104268B (fi) | 1991-07-15 | 1993-03-12 | Menetelmä kuparin tai kuparilejeeringin raakamateriaalin puhdistamiseksi |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19998591A JP2636985B2 (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | 銅または銅合金溶湯の還元法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0525559A JPH0525559A (ja) | 1993-02-02 |
| JP2636985B2 true JP2636985B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=16416875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19998591A Expired - Lifetime JP2636985B2 (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | 銅または銅合金溶湯の還元法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2636985B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7570033B2 (ja) * | 2021-03-29 | 2024-10-21 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 掃除機 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5199620A (ja) * | 1975-02-28 | 1976-09-02 | Furukawa Electric Co Ltd | Ronaifunikiseigyohoho |
| JPS58177422A (ja) * | 1982-04-13 | 1983-10-18 | Mitsubishi Metal Corp | 溶銅の精製方法 |
| JPS59205428A (ja) * | 1983-05-02 | 1984-11-21 | Nippon Mining Co Ltd | 粗銅の還元精製方法 |
-
1991
- 1991-07-15 JP JP19998591A patent/JP2636985B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0525559A (ja) | 1993-02-02 |
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