JP2654941B2 - How to make a hologram - Google Patents
How to make a hologramInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 ホログラム記録媒体上に対する光軸角度が異なる複数
の光波を使用してホログラム光学素子を作成する際に、
ホログラム媒体上に設定される光軸の照射位置に予めピ
ンホールが開けられたマスクを配置して、マスクのピン
ホールと、このピンホールに対応する光波の光軸とをそ
れぞれ位置合わせ調整することで、光軸の位置出しを正
確かつ容易に行えるようにするとともに、調整後は、各
光波を共にホログラム記録媒体に照射して各光波の干渉
により生ずる干渉縞を露光することによってホログラム
光学素子を作成することで、ホログラム光学素子を高精
度かつ簡単に作成できるようにする。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Summary] When producing a hologram optical element using a plurality of light waves having different optical axis angles with respect to a hologram recording medium,
Arranging a mask having a pinhole in advance at the irradiation position of the optical axis set on the hologram medium, and adjusting the position of the pinhole of the mask and the optical axis of the light wave corresponding to the pinhole. In addition to making the positioning of the optical axis accurate and easy, the hologram optical element is adjusted by irradiating the hologram recording medium with each light wave and exposing the interference fringes generated by the interference of each light wave. By making it, the hologram optical element can be made with high accuracy and easily.
レーザから出射した発散光をコリメートしたり、平行
光を収束したりするのに、従来の光学レンズに代わっ
て、小型、軽量で安価なホログラム光学素子が研究され
ている。本発明は、このようなホログラム光学素子を製
造する際に使用する複数の光波の、ホログラム記録媒体
上での各光軸の位置出しと、各光波(ホログラム作成
光)のホログラム記録媒体への照射方法に関する。In order to collimate divergent light emitted from a laser or converge parallel light, a hologram optical element that is small, light, and inexpensive has been studied instead of a conventional optical lens. According to the present invention, a plurality of light waves used for manufacturing such a hologram optical element are positioned on each optic axis on a hologram recording medium, and each light wave (hologram forming light) is irradiated onto the hologram recording medium. About the method.
第6図はホログラムを使用したレーザプリンタの斜視
図である。半導体レーザから発生したレーザ光1は、収
差補正用のホログラムレンズ2およびホログラムディス
ク3で、記録媒体4上に収束される。またホログラムデ
ィスク3の回転によって、記録媒体4の一端から他端に
向けて回折させることで、直線走査が行なわれる。そし
て走査のタイミングに同期して、レーザ光出力をオン・
オフ変調することで、記録媒体4上におけるドット印字
位置を選択し、ドットの組み合わせで、文字などの記録
を行なう。FIG. 6 is a perspective view of a laser printer using a hologram. A laser beam 1 generated from a semiconductor laser is converged on a recording medium 4 by a hologram lens 2 and a hologram disk 3 for aberration correction. In addition, linear scanning is performed by diffracting the hologram disk 3 from one end to the other end of the recording medium 4 by rotation. Then, the laser light output is turned on in synchronization with the scanning timing.
By performing off-modulation, a dot printing position on the recording medium 4 is selected, and characters and the like are recorded by combining dots.
ホログラムレンズ2を作成するには、参照波と物体波
をホログラム記録媒体に照射し、干渉縞を露光、現像す
る。ホログラムの再生に使用される半導体レーザを使用
して、ホログラムの作成を行なうことができればよい
が、再生用半導体レーザは、波長λ2が780〜800nmと長
いので、この波長帯で高い回折効率をもつホログラム記
録媒体の材料は一般にない。そのため、ホログラム記録
媒体としては、波長λ1が632.8nmのHe−Neレーザ光
や、488nmのArレーザ光に敏感に感光するホログラム記
録媒体が使用される。In order to form the hologram lens 2, a hologram recording medium is irradiated with a reference wave and an object wave, and the interference fringes are exposed and developed. It is only necessary to be able to create a hologram using a semiconductor laser used for reproducing a hologram, but the semiconductor laser for reproduction has a high diffraction efficiency in this wavelength band because the wavelength λ2 is as long as 780 to 800 nm. There is generally no material for the hologram recording medium. Therefore, as the hologram recording medium, a hologram recording medium sensitively sensitive to He-Ne laser light having a wavelength λ1 of 632.8 nm or Ar laser light of 488 nm is used.
そこで、この波長比も考慮して、第7図に示すよう
に、ホログラムレンズ2の作成時に、逆方向の収差を有
する光L2を補助光学系5を利用して発生させ、参照波L3
と共にホログラム記録媒体2aに照射することで、収差補
正用のホログラムレンズ2を作成することが、本発明の
出願人により、特願昭60−168830号として提案されてい
る。こうして予め収差を与えたホログラムレンズ2を通
して、ホログラムディスク3に再生波を入射すると、両
ホログラム2、3で収差が打ち消され、記録媒体4上
に、細いビームが照射される。In consideration of this wavelength ratio, as shown in FIG. 7, when the hologram lens 2 is formed, light L2 having an aberration in the opposite direction is generated by using the auxiliary optical system 5, and the reference wave L3 is generated.
It is proposed by the applicant of the present invention as Japanese Patent Application No. 60-168830 that the hologram recording medium 2a is irradiated with the hologram recording medium 2a to form a hologram lens 2 for aberration correction. When a reproduction wave is incident on the hologram disk 3 through the hologram lens 2 which has been given an aberration in advance in this way, the aberration is canceled by the two holograms 2 and 3, and the recording medium 4 is irradiated with a thin beam.
ここで、ホログラムの作成時には、作成用レーザ光の
ホログラム記録媒体上での位置合わせを行う必要があ
る。Here, when creating a hologram, it is necessary to align the position of the creating laser light on the hologram recording medium.
また、上記のような収差補正用のホログラム2を作成
する際に、補助光学系5を用いて、入射光L1とは異なっ
た、収差を伴った物体波L2を発生させるが、このような
ホログラム作成時には特に補助光学系の位置合わせ調整
が困難である。When creating the hologram 2 for aberration correction as described above, the auxiliary optical system 5 is used to generate an object wave L2 with aberration different from the incident light L1. It is particularly difficult to adjust the position of the auxiliary optical system at the time of creation.
本発明の技術的課題は、ホログラム作成時におけるこ
のような問題を解消して、ホログラム作成用レーザ光の
ホログラム記録媒体上での位置合わせ並びに補助光学系
を用いる場合の各光学素子の位置合わせを、正確かつ容
易に行えるようにするとともに、各光波(ホログラム作
成光)のホログラム記録媒体への照射を高精度かつ簡単
に行えるようにすることにある。The technical problem of the present invention is to solve such a problem at the time of creating a hologram, and to align a hologram forming laser beam on a hologram recording medium and a position of each optical element when using an auxiliary optical system. Another object of the present invention is to make it possible to accurately and easily perform irradiation of each light wave (hologram forming light) on a hologram recording medium with high accuracy and ease.
第1図は本発明によるホログラム作成方法の基本原理
を説明する側面図である。6はマスクであり、予め複数
のピンホールA、B、Cが所定位置に開けられている。
例えば収差補正用のホログラムレンズを作成する場合で
あれば、中央のピンホールBは、参照波L3の光軸l3位置
に、片方のピンホールAは、収束球面波L1の光軸l1位置
に、また他方のピンホールCは、補助光学系の光軸l5位
置にそれぞれ開けられている。FIG. 1 is a side view for explaining the basic principle of the hologram producing method according to the present invention. Reference numeral 6 denotes a mask in which a plurality of pinholes A, B, and C are previously opened at predetermined positions.
For example, when creating a hologram lens for aberration correction, the center pinhole B is located at the optical axis l3 position of the reference wave L3, and one pinhole A is located at the optical axis l1 position of the convergent spherical wave L1. The other pinholes C are opened at the positions of the optical axis 15 of the auxiliary optical system.
そしてこのマスク6を、ホログラム作成位置に置い
て、該マスク6のそれぞれのピンホールA、B、Cに光
軸l1、l3、l5を位置合わせし、各ピンホールA、B、C
の通過後の光パワーが最大となる位置に光軸が来るよう
に、各光軸の位置を調整する。このとき、ピンホール
A、B、Cの背部にパワーメータ等を置いて、それぞれ
のピンホールA、B、Cの通過後の光パワーが最大とな
るように調整することで、各光軸を対応するピンホール
位置に容易に位置合わせできる。Then, this mask 6 is placed at the hologram forming position, and the optical axes l1, l3, and l5 are aligned with the pinholes A, B, and C of the mask 6, and the respective pinholes A, B, and C are aligned.
The position of each optical axis is adjusted so that the optical axis is located at a position where the optical power after passing through is maximized. At this time, a power meter or the like is placed at the back of the pinholes A, B, and C, and each optical axis is adjusted by adjusting the optical power after passing through each of the pinholes A, B, and C to a maximum. Easy alignment to the corresponding pinhole position.
総ての光軸位置調整を終えると、該マスク6を取外し
て、同じ位置にホログラム記録媒体を載置し、参照波と
物体波を照射し、露光・現像する。When all the optical axis position adjustments have been completed, the mask 6 is removed, the hologram recording medium is placed at the same position, a reference wave and an object wave are irradiated, and exposure and development are performed.
収差補正用のホログラムレンズを作成するに当って
は、物体波を、光軸l5の位置合わせを行った補助光学系
を通過させた光波とし、この光波と参照波を照射する。In creating a hologram lens for aberration correction, an object wave is a light wave that has passed through an auxiliary optical system in which the optical axis 15 has been aligned, and this light wave and a reference wave are irradiated.
ホログラム記録媒体の設置位置に、予め所定位置にピ
ンホールA、B、Cが開けられたマスク6を設置し、各
ピンホールA、B、Cを、対応する光軸l1、l3、l5が透
過するように、各光軸l1、l3、l5が位置合わせされる。
しかも、マスク6の各ピンホールA、B、Cの位置、す
なわちホログラム記録媒体上に光線が来る座標は、ホロ
グラムの設計に基づいて計算機シュミレーションにより
わかるので、これらのピンホールA、B、Cに各光の光
軸l1、l3、l5が位置合わせされることで、各光軸l1、l
3、l5が正確に所定位置に位置合わせされることにな
る。At the installation position of the hologram recording medium, a mask 6 in which pinholes A, B, and C are previously opened at a predetermined position is installed, and each of the pinholes A, B, and C is transmitted through the corresponding optical axis l1, l3, and l5. The optical axes l1, l3, and l5 are aligned as shown in FIG.
In addition, since the positions of the pinholes A, B, and C of the mask 6, that is, the coordinates at which the light beams come on the hologram recording medium, can be determined by computer simulation based on the design of the hologram, these pinholes A, B, and C are used. By aligning the optical axes l1, l3, l5 of each light, each optical axis l1, l
3, l5 will be accurately aligned to the predetermined position.
位置合わせ終了後、マスク6を除去して、同じ位置に
ホログラム記録媒体を設置し、前記の光軸l1、l3の位置
から、参照波と物体波を照射したり、光軸l5の位置合わ
せを行なった補助光学系を光軸l1上に配置することで、
設計どおりのホログラムが得られる。After the alignment is completed, the mask 6 is removed, the hologram recording medium is set at the same position, and a reference wave and an object wave are irradiated from the positions of the optical axes l1 and l3, and the alignment of the optical axis l5 is performed. By arranging the performed auxiliary optical system on the optical axis l1,
A hologram as designed is obtained.
次に本発明によるホログラム作成方法が実際上どのよ
うに具体化されるかを実施例で説明する。第2図〜第4
図は、本発明の方法を、第7図の収差補正用のホログラ
ム作成法に実施した例である。第7図は、実際に作成光
が来る時の様子を示すものであり、2つの交点8、9を
もつ収差波L2を物体波とし、参照波L3と共に、基板2b上
のホログラム記録媒体2aに照射することで、収差補正用
のホログラムレンズ2がが得られる。このような物体波
L2を得るには、波長λ1の球面収束波L1を、凹レンズか
ら成る補助光学系5を透過させ、この物体波L2と参照波
L3をホログラム記録面に位置合わせして照射し、干渉縞
を形成する。Next, practical examples of how the hologram forming method according to the present invention is embodied will be described with reference to examples. FIG. 2 to FIG. 4
The figure shows an example in which the method of the present invention is applied to the hologram forming method for correcting aberration shown in FIG. FIG. 7 shows a state when the creation light actually arrives. The aberration wave L2 having the two intersections 8 and 9 is set as an object wave, and together with the reference wave L3, is recorded on the hologram recording medium 2a on the substrate 2b. By irradiation, the hologram lens 2 for aberration correction is obtained. Such an object wave
To obtain L2, the spherical convergent wave L1 having the wavelength λ1 is transmitted through the auxiliary optical system 5 composed of a concave lens, and the object wave L2 and the reference wave
L3 is positioned and irradiated on the hologram recording surface to form interference fringes.
このように収差を有する物体波でホログラムを作成す
るには、参照波L3の光軸l3と、収束球面波L1の光軸l1
と、収差を有する物体波L2の光軸l2と、補助光学系5の
光軸l5のそれぞれを、ホログラム記録媒体2a上の所定位
置に位置決めする必要がある。In order to create a hologram with an object wave having an aberration in this way, the optical axis l3 of the reference wave L3 and the optical axis l1 of the convergent spherical wave L1
It is necessary to position the optical axis l2 of the object wave L2 having the aberration and the optical axis l5 of the auxiliary optical system 5 at predetermined positions on the hologram recording medium 2a.
使用される作成波や、補助光学系5などによって、ホ
ログラム記録媒体2a上における各光軸l1、l3、l5の位置
は予め計算できるため、第2図〜第4図のように計算値
に従って所定位置に10〜100μm径の3つのピンホール
A、B、Cの開いたフォトマスク6aを用意する。基板6b
上のフォトマスク6aは、基板2b上のホログラム記録媒体
2aの面と同じ位置に来るような、基板厚となっている。The positions of the respective optical axes l1, l3, l5 on the hologram recording medium 2a can be calculated in advance by the creation wave to be used, the auxiliary optical system 5, etc., so that predetermined positions are calculated according to the calculated values as shown in FIGS. A photomask 6a having three pinholes A, B, and C having a diameter of 10 to 100 μm is prepared at a position. Substrate 6b
The upper photomask 6a is a hologram recording medium on the substrate 2b.
The substrate thickness is such that it comes to the same position as the surface of 2a.
第2図はホログラム作成装置の側面図であり、収束球
面波L1を得るために、波長の長い作成波を発生するレー
ザ10、コリメート用レンズ11および収束用レンズ12が配
設されている。そして更に補助光学系5を配設すること
で、第7図における収差波L2を得る。FIG. 2 is a side view of the hologram forming apparatus, in which a laser 10, a collimating lens 11, and a converging lens 12 for generating a long-wave forming wave are provided in order to obtain a convergent spherical wave L1. Further, by providing the auxiliary optical system 5, the aberration wave L2 in FIG. 7 is obtained.
次に本発明によるホログラムの作成方法を工程順に説
明する。Next, a method of producing a hologram according to the present invention will be described in the order of steps.
まずホログラム作成位置に、前記のピンホールA、
B、Cの開いたマスク6を配置し、参照波L3をピンホー
ルBに位置合わせする。そのために、コリメートレンズ
14を除去して、レーザ15から出射するビーム位置に、ピ
ンホールBが来るように、フォトマスク6を移動させ、
かつピンホールBの下に配置したパワーメータ7bで、光
出力が最大となるように、光軸l3を調整する。First, at the hologram creation position, the pinhole A,
The mask 6 with the openings B and C is arranged, and the reference wave L3 is aligned with the pinhole B. For that, a collimating lens
14 is removed, and the photomask 6 is moved so that the pinhole B comes to the beam position emitted from the laser 15,
The optical axis 13 is adjusted by the power meter 7b disposed below the pinhole B so that the optical output is maximized.
参照波L3および収束球面波L1の光軸の角度は予め設計
値にしたがって設定されている。そのため、参照波L3の
光軸l3位置に、ピンホールBが合うように、フォトマス
ク6a側を移動させることになる。The angles of the optical axes of the reference wave L3 and the convergent spherical wave L1 are set in advance according to design values. Therefore, the photomask 6a is moved so that the pinhole B is aligned with the position of the optical axis 13 of the reference wave L3.
補助光学径5の無い状態で、レンズ12から出射した収
束球面波L1の光軸l1をピンホールAに位置合わせする。
そのために、レンズ11、12も除去した状態で、短波長の
レーザ10のビームをピンホールAに照射し、背部のパワ
ーメータ7aで監視し、光出力が最大となるように、レー
ザ10からのビームをフォトマスク面と平行移動させる。With no auxiliary optical diameter 5, the optical axis 11 of the convergent spherical wave L1 emitted from the lens 12 is aligned with the pinhole A.
For this purpose, with the lenses 11 and 12 also removed, a short-wavelength laser 10 beam is applied to the pinhole A and monitored by the power meter 7a on the back, so that the light output from the laser 10 is maximized. The beam is translated in parallel with the photomask surface.
次いで、光軸l1上にレンズ11、12を挿入して収束球面
波L1とする。そしてレンズ12を光軸l1に沿って移動し、
収束点13とフォトマスク6a間の距離dが設計値になるよ
うに調整する。Next, the lenses 11 and 12 are inserted on the optical axis l1 to obtain a convergent spherical wave L1. Then, the lens 12 is moved along the optical axis l1,
The distance d between the convergence point 13 and the photomask 6a is adjusted to a design value.
収束球面波成形用レンズ11、12を除去し、収差発生用
の補助光学系5の光軸を出す。そのために、第3図のよ
うに、ホログラム作成波と異なるレーザ例えばHe−Neレ
ーザ16を用い、その光軸lが、設計値による角度θとな
るようにする。そして該レーザ16からのビームを、フォ
トマスク面と平行に移動させ、背部のパワーメータ7cの
出力が最大となるように、光軸l5をピンホールCに位置
合わせする。The convergent spherical wave shaping lenses 11 and 12 are removed, and the optical axis of the auxiliary optical system 5 for generating aberration is set out. For this purpose, as shown in FIG. 3, a laser different from the hologram forming wave, for example, a He-Ne laser 16 is used, and the optical axis 1 is set to an angle θ according to a design value. Then, the beam from the laser 16 is moved in parallel with the photomask surface, and the optical axis 15 is aligned with the pinhole C so that the output of the power meter 7c at the back becomes maximum.
光軸l5中に補助光学系5を挿入し、その光軸を前記レ
ーザ光の光軸l5に位置合わせする。The auxiliary optical system 5 is inserted into the optical axis 15 and its optical axis is aligned with the optical axis 15 of the laser beam.
補助光学系5の光軸がレーザ光のそれと一致した状態
で、第4図のように、補助光学系5を光軸l5に沿って移
動させ、補助光学系5を透過後の物体波光軸l2が中央の
ピンホールBに入射するように位置合わせする。これ
は、ピンホールBの背部のパワーメータ7bで監視しなが
ら、行なう。With the optical axis of the auxiliary optical system 5 coincident with that of the laser beam, the auxiliary optical system 5 is moved along the optical axis l5 as shown in FIG. Are positioned so as to enter the central pinhole B. This is performed while monitoring with the power meter 7b behind the pinhole B.
以上で各光軸の位置合わせが終了するので、第2図の
ように、収束球面波形成用のレンズ11、12を光軸l1上に
戻し、収束球面波L1を形成する。また光軸l3上にコリメ
ートレンズ14を挿入して参照波L3を形成することで、第
7図のように、ホログラム作成可能状態となる。Since the alignment of each optical axis is completed as described above, as shown in FIG. 2, the convergent spherical wave forming lenses 11, 12 are returned on the optical axis l1, and a convergent spherical wave L1 is formed. Further, by inserting the collimating lens 14 on the optical axis l3 to form the reference wave L3, the hologram can be created as shown in FIG.
マスク6を除去し、代わりにホログラム記録媒体2aを
設置し、収差をもった物体波L2と参照波L3を照射するこ
とで、収差補正用のホログラム2が得られる。The hologram 2 for aberration correction can be obtained by removing the mask 6, replacing the hologram recording medium 2a, and irradiating the object wave L2 and the reference wave L3 having aberrations.
ピンホールA、B、Cが形成されたフォトマスク6aに
代えて、ピンホールが開けられた薄板を使用してもよ
い。Instead of the photomask 6a in which the pinholes A, B and C are formed, a thin plate having pinholes may be used.
また、光軸位置合わせ用のレーザビームが太い場合
は、第5図のように、正確に光軸を合わせたレンズ17、
18を挿入して、ビームを絞ると、より正確に位置合わせ
できる。When the laser beam for aligning the optical axis is thick, as shown in FIG.
Insert 18 and narrow the beam for more accurate alignment.
以上のように本発明によれば、予め計算でわかってい
るホログラム記録媒体面上の光軸位置にピンホールを設
けておき、マスクのピンホールと光軸を一致させること
で、光軸の位置合わせを行っている。そのため、ホログ
ラム作成時の作成光の光抽の位置合わせを正確かつ容易
に行うことができる。As described above, according to the present invention, a pinhole is provided at the optical axis position on the hologram recording medium surface known in advance by calculation, and the optical axis is aligned with the pinhole of the mask and the optical axis. We are adjusting. Therefore, it is possible to accurately and easily perform the position alignment of the light extraction of the forming light at the time of forming the hologram.
また、複数の光軸角度が異なる光波のうち第1の光波
の光路上に該光波に所定の収差を発生させる補助光学系
を配置し、第1の光波および第2の光波をホログラム記
録媒体に照射してホログラム光学素子を作成するに当っ
て、ホログラムが作成される位置における第2の光波の
光軸と補助光学系を通過した状態の第1の光波の光軸と
が照射されるべき位置と、補助光学系を通過していない
状態の第1の光波の光軸が照射されるべき位置とのそれ
ぞれに予めピンホールが開けられたマスクを、ホログラ
ム作成位置に配置し、マスクの各ピンホールと、これら
各ピンホールに対応する各光波の光軸とをそれぞれ位置
合わせ調整した後、マスクを取り外し、ホログラム作成
位置にホログラム記録媒体を配置して、第1の光波を補
助光学系を通過させた光波と、第2の光波とを共にホロ
グラム記録媒体に照射し、各光波の干渉により生ずる干
渉縞を露光させるようにしたので、収差補正用の補助光
学系を用いてホログラム光学素子(HOE)を作成するに
際し、光抽が複雑に入り組んでいても光軸位置合わせが
容易となり、ホログラム光学素子を高精度かつ簡単に作
成することができる。Further, an auxiliary optical system for generating a predetermined aberration in the first light wave among the plurality of light waves having different optical axis angles is disposed on the optical path of the first light wave, and the first light wave and the second light wave are transferred to the hologram recording medium. In producing the hologram optical element by irradiating, the position to be irradiated with the optical axis of the second light wave at the position where the hologram is formed and the optical axis of the first light wave passing through the auxiliary optical system And a mask in which pinholes are formed in advance at positions where the optical axis of the first light wave not passing through the auxiliary optical system is to be irradiated, respectively, are arranged at the hologram forming position, and each pin of the mask is After aligning and adjusting the hole and the optical axis of each light wave corresponding to each of these pinholes, remove the mask, place the hologram recording medium at the hologram creation position, and pass the first light wave through the auxiliary optical system. Let The light wave and the second light wave are both irradiated on the hologram recording medium to expose the interference fringes generated by the interference of the light waves, so that the hologram optical element (HOE) is formed by using an auxiliary optical system for aberration correction. In the production, even if the light extraction is complicated, the alignment of the optical axis becomes easy, and the hologram optical element can be produced with high accuracy and easily.
第1図は本発明によるホログラムの作成方法の基本原理
を説明する側面図、 第2図〜第4図は本発明方法の実施例を示す図で、第2
図はホログラム作成装置の側面図、 第3図は参照波、物体波および補助光学系の光軸合わせ
工程を示す側面図、 第4図は収差波の光軸合わせ工程を示す側面図、 第5図は光軸の位置合わせ精度を上げるための実施例を
示す側面図、 第6図は収差補正用のホログラムを使用したレーザプリ
ンタを示す斜視図、 第7図は収差補正用ホログラムの作成方法を示す側面図
である。 図において、LDは再生用の半導体レーザ、2は収差補正
用ホログラム(レンズ)、5は補助光学系(凹レン
ズ)、6はマスク、6aはフォトマスク、A、B、Cはピ
ンホール、L1は収束球面波、l1は収束球面波の光軸、L2
は収差波、l2は収差波の光軸、L3は参照波、l3は参照波
の光軸、l5は補助光学系の光軸、7a、7b、7cはパワーメ
ータをそれぞれ示す。FIG. 1 is a side view for explaining the basic principle of the method for producing a hologram according to the present invention, and FIGS. 2 to 4 are views showing an embodiment of the method of the present invention.
FIG. 3 is a side view of a hologram forming apparatus, FIG. 3 is a side view showing an optical axis alignment step of a reference wave, an object wave, and an auxiliary optical system, FIG. The figure is a side view showing an embodiment for improving the alignment accuracy of the optical axis, FIG. 6 is a perspective view showing a laser printer using a hologram for aberration correction, and FIG. 7 is a method for producing a hologram for aberration correction. FIG. In the figure, LD is a semiconductor laser for reproduction, 2 is a hologram (lens) for aberration correction, 5 is an auxiliary optical system (concave lens), 6 is a mask, 6a is a photomask, A, B, and C are pinholes, and L1 is Convergent spherical wave, l1 is optical axis of convergent spherical wave, L2
Is an aberration wave, l2 is the optical axis of the aberration wave, L3 is the reference wave, l3 is the optical axis of the reference wave, 15 is the optical axis of the auxiliary optical system, and 7a, 7b, and 7c are power meters.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 尼子 淳 川崎市中原区上小田中1015番地 富士通 株式会社内 (72)発明者 加藤 雅之 川崎市中原区上小田中1015番地 富士通 株式会社内 (72)発明者 前田 智司 川崎市中原区上小田中1015番地 富士通 株式会社内 (72)発明者 山岸 文雄 川崎市中原区上小田中1015番地 富士通 株式会社内 (72)発明者 池田 弘之 川崎市中原区上小田中1015番地 富士通 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭55−133566(JP,A) 特開 昭54−139461(JP,A) 実開 昭56−134013(JP,U) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Jun Amako 1015 Uedanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Masayuki Kato 1015 Kamikodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City Fujitsu Limited (72) Inventor Satoshi Maeda 1015 Uedanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City Fujitsu Limited (72) Inventor Fumio Yamagishi 1015, Uedanaka, Nakahara-ku, Kawasaki Fujitsu Limited (72) Inventor Hiroyuki Ikeda 1015, Uedakanaka, Nakahara-ku, Kawasaki Fujitsu Limited In-house (56) References JP-A-55-133566 (JP, A) JP-A-54-139461 (JP, A) Jpn.
Claims (2)
なる複数の光波をホログラム記録媒体に照射するホログ
ラム光学素子の作成方法において、 ホログラム記録媒体上に設定される光軸の照射位置に予
めピンホールが開けられたマスクを、ホログラム作成位
置に配置する工程と、 マスクのピンホールと、ピンホールに対応する各光波の
光軸とを位置合わせ調整する工程と、 マスクを取外し、ホログラム作成位置にホログラム記録
媒体を配置する工程と、各光波を共にホログラム記録媒
体に照射し、各光波の干渉により生ずる干渉縞を露光さ
せる工程とを有することを特徴とするホログラム光学素
子の作成方法。1. A method for producing a hologram optical element for irradiating a hologram recording medium with a plurality of light waves having different optical axis angles with respect to the hologram recording medium, wherein a pinhole is previously formed at an irradiation position of the optical axis set on the hologram recording medium. Positioning the opened mask at the hologram creation position, adjusting the pinholes of the mask and the optical axes of the light waves corresponding to the pinholes, removing the mask, and recording holograms at the hologram creation position A method for producing a hologram optical element, comprising: a step of arranging a medium; and a step of irradiating both light waves to a hologram recording medium and exposing interference fringes generated by interference of the light waves.
光波の光路上に該光波に所定の収差を発生させる補助光
学系を配置し、第1の光波および第2の光波をホログラ
ム記録媒体に照射してホログラム光学素子を作成するホ
ログラム光学素子の作成方法において、 前記ホログラムが作成される位置における第2の光波の
光軸と前記補助光学系を通過した状態の前記第1の光波
の光軸とが照射されるべき位置と、前記補助光学系を通
過していない状態の前記第1の光波の光軸が照射される
べき位置とのそれぞれに予めピンホールが開けられたマ
スクを、ホログラム作成位置に配置する工程と、 マスクの各ピンホールと、これら各ピンホールに対応す
る各光波の光軸とをそれぞれ位置合わせ調整する工程
と、 マスクを取り外し、ホログラム作成位置にホログラム記
録媒体を配置する工程と、 前記第1の光波を補助光学系を通過させた光波と、前記
第2の光波とを共にホログラム記録媒体に照射し、各光
波の干渉により生ずる干渉縞を露光させる工程とを有す
ることを特徴とするホログラム光学素子の作成方法。2. An auxiliary optical system for generating a predetermined aberration in a first light wave among a plurality of light waves having different optical axis angles on a light path of the first light wave, and a hologram for the first light wave and the second light wave. A method for producing a hologram optical element by irradiating a recording medium to produce a hologram optical element, wherein the first light wave passing through the auxiliary optical system and an optical axis of a second light wave at a position where the hologram is produced A mask in which pinholes are previously formed at a position where the optical axis of the first light wave is to be irradiated and a position where the optical axis of the first light wave not passing through the auxiliary optical system is to be irradiated. Positioning the hologram at the hologram creation position, aligning and adjusting each pinhole of the mask and the optical axis of each lightwave corresponding to each pinhole, removing the mask and creating the hologram Arranging a hologram recording medium on the hologram recording medium; irradiating the hologram recording medium with the light wave obtained by passing the first light wave through the auxiliary optical system and the second light wave together; And a step of exposing the hologram optical element.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60294778A JP2654941B2 (en) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | How to make a hologram |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60294778A JP2654941B2 (en) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | How to make a hologram |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62150378A JPS62150378A (en) | 1987-07-04 |
| JP2654941B2 true JP2654941B2 (en) | 1997-09-17 |
Family
ID=17812164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60294778A Expired - Lifetime JP2654941B2 (en) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | How to make a hologram |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2654941B2 (en) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54139461A (en) * | 1978-04-21 | 1979-10-29 | Toshiba Corp | Positioning device for electron gun |
| JPS55133566A (en) * | 1979-04-03 | 1980-10-17 | Nec Corp | Semiconductor device |
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-
1985
- 1985-12-25 JP JP60294778A patent/JP2654941B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62150378A (en) | 1987-07-04 |
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