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JP2655664B2 - 結晶性セファドロキシル一水塩の製造方法 - Google Patents
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JP2655664B2 - 結晶性セファドロキシル一水塩の製造方法 - Google Patents

結晶性セファドロキシル一水塩の製造方法

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JP2655664B2 JP63024868A JP2486888A JP2655664B2 JP 2655664 B2 JP2655664 B2 JP 2655664B2 JP 63024868 A JP63024868 A JP 63024868A JP 2486888 A JP2486888 A JP 2486888A JP 2655664 B2 JP2655664 B2 JP 2655664B2
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    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/227-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached in position 3
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、結晶性セファドロキシル一水塩の効果的製
造方法に関する。
セファドロキシル(cefadroxil)は、抗細菌活性を有
する周知の抗生物質である。これは米国特許第3,489,75
2号明細書に開示されており、これによれば、D(−)
−α−p−ヒドロキシフェニルグリシンのアミノ基保護
誘導体で7−ADCAをアシル化して得られる。米国特許第
3,985,741号明細書は、D(−)−α−p−ヒドロキシ
フェニルグリシンの混合無水物で7−ADCAをアシル化す
るセファドロキシル化の製造を開示しており、前記D
(−)−α−p−ヒドロキシフェニルグリシンのα−ア
ミノ基はたとえばアセト酢酸メチルのようなβ−ケト化
合物で保護されている。反応混合物に先ず水を添加し、
次いでジメチルホルムアミドを添加して、3%以上の水
含有量を有するセファドロキシルの結晶溶媒和物を沈澱
させ、これを過した後に90%メタノール中にスラリー
化させる。この点に関し、得られたセファドロキシル結
晶は高いメタノール含有量を有し、これはこの種のアル
コールが毒性であるため医薬上許容しえないことに注目
すべきである。
米国特許第4,504,657号明細書は異なる形態のセファ
ドロキシルを記載しており、これは当該化合物を特徴化
する明確なX線回折パターンを有する結晶セファドロキ
シル一水塩(monohydrate)である。この結晶性セファ
ドロキシル一水塩は、D(−)−α−p−ヒドロキシフ
ェニルグリシンクロライド塩酸塩によりシリル化7−AD
CAをアシル化して得られる(米国再発行特許第31,730号
明細書参照)。この反応混合物に先ず水を添加し、次い
でジメチルホルムアミドを添加してジメチルホルムアミ
ド溶媒和物を沈澱させ、これを過した後に水または水
/溶媒混合物で処理して溶媒和物を開裂させ、所望の最
終化合物を沈澱させる。
7−ADCAをセファドロキシルを含有する上記水溶液に
変換する全ゆる公知の方法を使用しうるが、単離技術が
重要である。たとえば、セファドロキシル水溶液は、た
とえばヨーロッパ特許出願第001,133号の実施例XVI、或
いは英国特許出願第2,064,511号の実施例1および2、
或いは米国特許第4,234,721号の実施例1〜4に記載さ
れた方法にしたがい製造することができる。
米国再発行特許第31,730号および米国特許第4,234,72
1号によれば、結晶性セファドロキシル一水塩は、セフ
ァドロキシルDMF溶媒和物を水または水/溶媒混合物で
スラリー化させて製造される。水のみを使用すれば、得
られる生成物は、再発行特許第31,730号の第8欄、第41
〜44行に記載されているように不純物を含有し、さらに
収率も低い。
したがって、米国再発行特許第31,730号明細書は、水
/有機溶媒(アルコールを含む)の混合物の使用が好適
であることを示唆している(第8欄、第41〜44行)。こ
の場合、好適な水/溶媒の比は1:3または1:1である(第
8欄、第48〜54行、実施例5および10,クレーム19参
照)。しかしながら、これらの条件下において所望の最
終化合物の実質的量は母液中に溶解したままであり、次
いでこれを米国特許第4,234,721号の第10欄、第3〜8
行および米国再発行第31,730号の第9欄、第62〜68行乃
至第10欄、第1〜4行に記載されているように回収せね
ばならない。
今回、驚くべきことに、セファドロキシル溶媒和物を
容量で6:94〜18:82の水とイソプロピルアルコールとの
混合物でスラリー化すれば、母液は極めて少量または全
くセファドロキシルを含有しないことが知見された。さ
らに、結晶性セファドロキシル一水塩は極めて純粋な形
態で沈澱し、これは極めて少量の水を使用したことに基
づくものと思われる。
他のアルコールを使用すべく試みたが、その結果は満
足しうるものではなかった。事実、エチルアルコールを
使用すればセファドロキシル分子が分解する。メタノー
ルを使用すれば、最終的セファドロキシルの分子は極め
て多量のメタノールを保有し、これはその毒性の結果許
容しえない。また他のアルコールも満足しえない結果を
与えている。
さらに、公知のセファドロキシルDMF溶剤和物の他
に、他の新規なセファドロキシル溶媒和物も使用しうる
ことが判明した。これらの溶媒和物はジメチルアセタミ
ド、N−メチル−2−ピロリドンおよびモノメチルホル
ムアミドのセファドロキシル溶媒和物である。
したがって、本発明は、セファドロキシル溶媒和物
を、6〜18w/w%の水を含有するイソプロピルアルコー
ルにより約45〜55℃の範囲の温度にて1〜2時間にわた
りスラリー化させ、次いで結晶セファドロキシル一水塩
を過により単離することを特徴とする、結晶性セファ
ドロキシル一水塩の製造方法に関するものである。
セファドロキシル溶媒和物はジメチルアセタミド、N
−メチル−2−ピロリドンおよびモノメチルホルムアミ
ドの溶媒和物とすることができ、これは7−ADCAから得
られたままのセファドロキシルの水溶液にジメチルアセ
タミド,N−メチル−2−ピロリドン,モノメチルホルム
アミドよりなる群から選択される溶媒を添加すると共に
この溶液のpHを5.5〜6の範囲に調節して対応のセファ
ドロキシル溶媒和物を生成させ、これを沈澱させて過
することにより製造することができる。
以下、実施例により本発明をさらに説明する。ここで
NMRスペクトルはバリアンXL−300型(Varian XL−300)
分光光度計によりD20溶液(15mg/ml)で記録した。
実施例1:セファドロキシルジメチルアセタミド溶媒和物 7−ADCA(45g)を塩化メチレン(700ml)へ室温にて
添加した。トリエチルアミン(35.5g)を、25℃未満の
温度にて撹拌しながら15分間かけて添加した。次いで、
トリメチルクロルシラン(43.2g)を30分間かけて滴加
した。この混合物を30℃にて90分間撹拌し、次いで−10
℃まで冷却した。
ジメチルアニリン(31g)とD(−)−p−ヒドロキ
シフェニルグリシルクロライド塩酸塩・ヘミジオキサン
溶媒和物(63g)を添加し、かつ混合物を−5℃/0℃に
て約90分間撹拌した。水(170ml)を添加し、そして反
応混合物を30分間撹拌した。水相をジメチルアセタミド
(350ml)で希釈し、かつジエチルアミンを25℃にて徐
々に添加することによりpHを6.0に調整した。この混合
物を20℃にて120分間撹拌した。セファドロキシルジメ
チルアセタミド溶媒和物を過により回収し、ジメチル
アセタミド/水2:1で洗浄し、次いでアセトンにより洗
浄して、40℃で乾燥した後に81.3gの標記化合物を得
た。
K.F.:0.51% HPLC分析:69.3%(乾燥基準) PMR:6.9−7.35δ(m,C6H4−); 5.59δ(d,C(7)−H); 5.15δ(s,C−CO); 4.98δ(d,C−S); 3.02−3.42δ(m,S−C ); 1.8δ(s,CH3); これらのピークはセファドロキシルに特徴的なもので
あり、次のピークは溶媒によるものである。
2.83−3.01δ(s,s,N(CH3); 2.04δ(d,COCH313 C−NMR:21.07δ(H3−C=); 30.93δ(H2−s); 58.78δ(H−NH2); 59.51δ(H−S); 61.16δ(NH−H−CO); 124.60δ(−CH3); 166.21δ(O,β−ラクタム); 172.37δ(OOH); 172.58δ(O−NH); 129.05δ,132.7δ,118.99δ,160.45δ(芳香族炭素原
子); これらのピークはセファドロキシルに特徴であり、次
のピークは溶媒によるものである。
23.15δ(CO−H3); 37.93δ(N−H3); 40.85δ(N−H3); 176.74δ(O). 実施例2:セファドロキシルジメチルアセタミド溶媒和物 D−(−)−p−ヒドロキシフェニルグリシンのカリ
ウムメチルDane塩(30.3g)をアセトン(170ml)に添加
し、かつ混合物を−40℃まで冷却した。
エチルクロルカーボネート(11.15g)とN−メチルモ
ルホリン(0.25ml)とを−40℃に添加した。温度を−35
℃に120分間保ち、次いで混合物を−55℃まで冷却し
た。
7−ADCA(21.5g)を+5℃にて水(50ml)に添加
し、かつジメチルスルホキシド(90ml)とトリエチルア
ミン(11.3g)とを添加した。得られた溶液を0℃まで
冷却し、かつ混合無水物懸濁物(−55℃)を7−ADCAの
溶液に添加した。
この混合物を−25℃にて60分間撹拌し、温度を0℃ま
で高めかつ37%HClを60分間にわたりpH1.8の一定になる
まで徐々に添加した。塩化メチレン(175ml)を添加
し、かつ混合物を15分間撹拌した。上層をジメチルアセ
タミド(170ml)およびアセトン(70ml)で希釈し、pH
をトリエチルアミンにより0℃にて6.5に調整した。こ
の混合物を0℃にて2時間撹拌した。溶媒和物をジメチ
ルアセタミド/水(2:1)で洗浄し、次いでアセトンに
より洗浄して40.5gの標記化合物を40℃での乾燥の後に
得た。
K.F.:0.63% HPLC分析:69.1%(乾燥基準) 実施例3:セファドロキシルモノメチルホルムアミド溶媒
和物 7−ADCA(30g)を塩化メチレン(450ml)に添加し、
トリメチルクロルシラン(28.8g)を添加し、かつ混合
物を10分間撹拌した。
次いで、トリエチルアミン(23.7g)を30分間かけて
滴下すると共に、温度を30℃にした。この混合物を30℃
にて2時間撹拌し、次いで−10℃まで冷却した。
ビス−トリメチル−シリル−尿素(21g)とD(−)
−p−ヒドロキシフェニルグリシルクロライド塩酸塩・
ヘミジオキサン溶媒和物(45g)とを添加し、かつ混合
物を−5℃にて90分間反応させた。さらに0℃にて30分
間撹拌した後、水(115ml)を添加した。
この反応混合物を30分間撹拌し、水層を5℃まで冷却
し、かつモノメチルホルムアミド(240ml)で希釈し
た。
トリエチルアミンを60分間かけて徐々に添加し、かつ
pHを20℃にて5.7に調節した。2時間撹拌した後、スラ
リーを過し、過ケーキをモノメチルホルムアミド/
水(2:1)で洗浄し、次いでアセトンにより洗浄して40
℃で乾燥した後に49gの標記化合物を得た: K.F.0.9% HPLC分析:79.8%(乾燥基準) PMR: 実施例1に示したセファドロキシルに特徴的なピーク
の他に、次のピークが溶媒に基づいて得られた: 7.98δ(s,HCO); 2.71δcis(s,NHCH313 C−NMR: 実施例1に示したセファドロキシルに特徴的なピーク
の他に、次のピークが溶媒に基づい得られた: 27.07δ(H3); 167.6δ(H−O) 実施例4:セファドロキシル1−メチル−2−ピロリドン
溶媒和物 7−ADCA(30g)を実施例1に記載した手順にしたが
い、ジメチルアセタミドの代りに1−メチル−2−ピロ
リドンを用いて反応させた。
収 量:52g K.F.:0.85% HPLC分析:68.7%(乾燥基準) PMR: 実施例1に示したセファドロキシルに特徴的なピーク
の他に、溶媒に基づく次のピークが得られた: 3.45δ(t,CH2(5)); 2.36δ(t,CH2(3)); 1.98δ(q,CH2(4)); 2.84δ(s,N−CH3) C13−NMR: 実施例1に示したセファドロキシルに特徴的なピーク
の他に、溶媒に基づく次のピークが得られた: 19.71δ(H2(4)); 32.27δ(N,H3); 33.45δ(H2(3)); 52.97δ(H2(5)); 180.84δ(O(2)) 実施例5:結晶性セファドロキシル一水塩 実施例1にしたがって調製したセファドロキシルジメ
チルアセタミド溶媒和物(40g)を、13w/w%の水を含有
する水性イソプロピルアルコール(200ml)に50℃にて9
0分間スラリー化させた。この混合物を5℃まで冷却
し、かつセファドロキシル一水塩を回収して、結晶性セ
ファドロキシル一水塩の標準試料と同じX線回折パター
ンを示す28.5gの生成物を得た: K.F.:4.7% HPLC分析:98.4%(乾燥基準) 実施例6:結晶性セファドロキシル一水塩 実施例4にしたがって調製したセファドロキシル1−
メチル−2−ピロリドン溶媒和物(30g)を、10mlの水
を含有する水性イソピロピルアルコール(150ml)に50
〜52℃にて120分間スラリー化させた。この混合物を5
℃まで冷却し、次いで過した。
結晶セファドロキシル一水塩を回収して20.9gを得
た。
K.F.:4.9% HPLC分析:98.1%(乾燥基準)。
実施例7:結晶性セファドロキシル一水塩 実施例3にしたがって調製し、かつK.F.1.4%を有す
るセファドロキシルモノメチルホルムアミド溶媒和物
(50g)を、40mlの水を含有する水性イソプロピルアル
コール(250ml)に48℃にて150分間スラリー化させた。
この混合物を2℃まで冷却し、かつ結晶セファドロキシ
ル一水塩を回収した: 収 量:40.8g K.F.:5.2% HPLC分析:99.2%(乾燥基準)。
上記の手順にしたがい、モノメチルホルムアミド溶媒
和物代りにセファドロキシルジメチルホルムアミド溶媒
和物を用いても、同じ最終化合物が得られた。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】セファドロキシル溶媒和物を、6〜18w/w
    %の水を含有するイソプロピルアルコールにより45〜55
    ℃の範囲の温度にて1〜2時間にわたりスラリー化さ
    せ、次いで結晶性セファドロキシル一水塩を過により
    単離することを特徴とする結晶性セファドロキシル一水
    塩の製造方法。
  2. 【請求項2】セファドロキシル溶媒和物がジメチルアセ
    タミド、N−メチル−2−ピロリドンまたはモノメチル
    ホルムアミドの溶媒和物であって、公知技術にしたがっ
    て7−ADCAから得られたままのセファドロキシルの水溶
    液へ、ジメチルアセタミド,N−メチル−2−ピロリド
    ン,モノメチルホルムアミドよりなる群から選択される
    溶媒を添加し、この溶液のpHを5.5〜6の範囲に調節し
    て対応のセファドロキシル溶媒和物を生成させ、これを
    沈澱させかつ過することによって製造する請求項1記
    載の方法。
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