JP2723564B2 - Semiconductor laser module - Google Patents
Semiconductor laser moduleInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子冷却ユニットを備えた半導体レーザモジ
ュールに関し、特に伝送速度が1Gb/sを越える超高速光
通信システム用光源に有用な半導体レーザモジュールに
関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser module having an electronic cooling unit, and more particularly to a semiconductor laser module useful as a light source for an ultra-high-speed optical communication system having a transmission speed exceeding 1 Gb / s. About.
一般に半導体レーザは,閾値デバイスであるため,温
度上昇に伴ない光出力の低下及び劣化が加速される。一
方,周囲温度の変化は,発振特性の変化,例えばモード
ホッピング,あるいは中心波長シフトを引き起こす。こ
のため,半導体レーザを光通信用光源として使用する場
合,発振特性の変化あるいは光出力変化が,伝送特性の
劣化を引き起こす。In general, since a semiconductor laser is a threshold device, a decrease and deterioration of an optical output with an increase in temperature are accelerated. On the other hand, a change in ambient temperature causes a change in oscillation characteristics, for example, mode hopping or center wavelength shift. For this reason, when a semiconductor laser is used as a light source for optical communication, a change in oscillation characteristics or a change in optical output causes deterioration in transmission characteristics.
従来,この種の半導体レーザモジュールは−20〜70℃
程度の温度範囲で安定した動作を得るため,半導体レー
ザモジュール内部にペルチェ効果を有する電子冷却ユニ
ットを収納して,半導体レーザ素子及びレーザ光モニタ
素子を一定温度(例えば25℃)に制御している。Conventionally, this type of semiconductor laser module is -20 to 70 ° C
In order to obtain stable operation in a temperature range of about the same, an electronic cooling unit having a Peltier effect is housed inside the semiconductor laser module, and the semiconductor laser element and the laser light monitoring element are controlled at a constant temperature (for example, 25 ° C.). .
このような半導体レーザモジュールとして,例えば,
実願昭61−130321号明細書があり,その構造を第5図に
示す。As such a semiconductor laser module, for example,
There is Japanese Utility Model Application No. 61-130321, the structure of which is shown in FIG.
第5図を参照して,半導体レーザ素子51,レーザ光モ
ニタ素子52,と光ファイバ53,及びサーミスタ54がブロッ
ク55の所定の位置に配置,装着されている。ペルチェ素
子56を備える電子冷却ユニット57がブロック55の底面部
とパッケージ58のヒートシンク59との間に配置され,互
いに密着固定されている。半導体レーザ素子51及びレー
ザ光モニタ素子52は,パッケージ58に低融点ガラス60で
絶縁封止された中継端子61に対してワイヤボンディング
62等で配線されている。Referring to FIG. 5, a semiconductor laser element 51, a laser light monitoring element 52, an optical fiber 53, and a thermistor 54 are arranged and mounted at predetermined positions of a block 55. An electronic cooling unit 57 having a Peltier element 56 is disposed between the bottom surface of the block 55 and the heat sink 59 of the package 58, and is closely fixed to each other. The semiconductor laser element 51 and the laser light monitoring element 52 are wire-bonded to a relay terminal 61 insulated and sealed with a low melting glass 60 in a package 58.
Wired at 62 mag.
上記の半導体レーザモジュールに使用されている電子
冷却ユニット57は一般にビスマス・テルル化合物からな
るn型とp型のペルチェ素子56を2枚の印刷基板63及び
64で挾み込み,1対のリード線65を印刷基板64に半田付け
したものである。尚,印刷基板63,64は一般的にアルミ
ナ系(Al2O3)セラミック基板にペルチェ素子56の配線
パターンを形成したものである。The electronic cooling unit 57 used in the above-described semiconductor laser module generally includes an n-type and a p-type Peltier element 56 made of a bismuth tellurium compound and two printed substrates 63 and
A pair of lead wires 65 are soldered to a printed circuit board 64. The printed boards 63 and 64 are generally formed by forming a wiring pattern of a Peltier element 56 on an alumina (Al 2 O 3 ) ceramic substrate.
従って,前記のブロック55を電子冷却ユニット57に搭
載した場合,印刷基板63,64によってブロック55はパッ
ケージ58と電気的に絶縁されしまうことになる。このた
め,ブロック55をパッケージ58に短絡させるには,第5
図に示すようにブロック55とパッケージ58に固着された
アース用中継端子66とをワイヤボンディング62等で配線
する必要がある。Therefore, when the block 55 is mounted on the electronic cooling unit 57, the block 55 is electrically insulated from the package 58 by the printed boards 63 and 64. Therefore, to short-circuit the block 55 to the package 58,
As shown in the figure, it is necessary to wire the block 55 and the earth relay terminal 66 fixed to the package 58 by wire bonding 62 or the like.
ところで,上述のような短絡構造で,ブロック55の接
地と半導体レーザ素子51のアノードとを兼用させた場
合,ブロック55は仮想接地点となる。これを電気的な等
化回路で表わすと,第6図のように表わされる。第6図
において一点鎖線内は,半導体レーザ素子51の等化回
路,破線内はブロック55を含めたパッケージ58内の等化
回路,破線外はパッケージ58全体を含めた等化回路を示
す。By the way, when the ground of the block 55 and the anode of the semiconductor laser element 51 are also used in the short circuit structure as described above, the block 55 becomes a virtual ground point. If this is represented by an electric equalizing circuit, it is represented as shown in FIG. In FIG. 6, the dashed line indicates the equalizing circuit of the semiconductor laser element 51, the broken line indicates the equalizing circuit in the package 58 including the block 55, and the outside of the broken line indicates the equalizing circuit including the entire package 58.
また、第6図において、Ll2は半導体レーザモジュー
ルのカソードリード端子の寄生インダクタンス、Cp2は
半導体レーザモジュールのカソードリード端子の寄生容
量、LW2は半導体レーザモジュールのカソードリード端
子の寄生インダクタンス(パッケージ内部)、CSSは半
導体レーザモジュールのカソードリード端子の寄生容量
(パッケージ内部)、Chは半導体レーザ素子のヒートシ
ンクの寄生容量、LW1は半導体レーザモジュールのアー
ド端子の寄生インダクタンス(パッケージ内部)、Ll1
は半導体レーザモジュールのアノード端子の寄生インダ
クタンス(パッケージ外部)、RLDは半導体レーザの抵
抗(微分抵抗)成分、CLDは半導体レーザの容量成分、
Lb1及びLb2はそれぞれ半導体レーザのアノード及びカソ
ードのボンディングワイヤのインダクタンス、Cp1はア
ノード端子に寄生する寄生容量を表す。In FIG. 6, Ll2 is the parasitic inductance of the cathode lead terminal of the semiconductor laser module, Cp2 is the parasitic capacitance of the cathode lead terminal of the semiconductor laser module, LW2 is the parasitic inductance of the cathode lead terminal of the semiconductor laser module (inside the package), CSS is the parasitic capacitance of the cathode lead terminal of the semiconductor laser module (inside the package), Ch is the parasitic capacitance of the heat sink of the semiconductor laser element, LW1 is the parasitic inductance of the add terminal of the semiconductor laser module (inside the package), Ll1
Is the parasitic inductance of the anode terminal of the semiconductor laser module (outside the package), RLD is the resistance (differential resistance) component of the semiconductor laser, CLD is the capacitance component of the semiconductor laser,
Lb1 and Lb2 represent the inductances of the bonding wires of the anode and the cathode of the semiconductor laser, respectively, and Cp1 represents the parasitic capacitance parasitic on the anode terminal.
半導体レーザ素子51のアノードはボンディングワイヤ
62の寄生インダクタンスLb1,Lw1及びアース用中継端子6
6のインダクタンスLl1を介して電気的に接地される。同
様にブロック55の仮想接地点は,電子冷却ユニット57の
インピーダンスZpを介してパッケージ58に接地される。
又,電子冷却ユニット57のインピーダンスは第7図のよ
うに表すことができ(第7図において、C1はホット面基
板の寄生容量、R1はメタライズ及びペルチェ素子の抵抗
値、C2はクール面基板の寄生容量を表す),周波数3〜
4GHz程度の範囲では容量C1及びC2が支配的になる。容量
C1あるいはC2は電子冷却ユニット57の大きさによる相違
はあるが,6mm×6mm角程度のアルミナ系の印刷基板63,64
の場合,約4〜5pF程度の寄生容量をもつ。一方ボンデ
ィングワイヤ62(約1.5mm)とアース用中継端子(約6m
m)のインダクタンスは5〜6nH程度になる。従来の半導
体レーザモジュールの場合,半導体レーザ素子51を搭載
したブロック55の接地すなわち半導体レーザ素子51のア
ノードの接地が,電子冷却ユニット57に寄生する寄生容
量C1,C2と,ボンディングワイヤ62とアース用中継端子6
6に寄生する寄生インダクタンスとの並列回路によって
電気的に接地されるため,上記のC1,C2とLw1+Ll1の並
列回路の並列共振周波数r において,第4図に示すように小信号周波数特性が著し
く劣化するという問題点がある。The anode of the semiconductor laser element 51 is a bonding wire
62 parasitic inductances L b1 , L w1 and earth relay terminal 6
It is electrically grounded through an inductance L11 of 6. Virtual ground point of the same block 55 is grounded to the package 58 via an impedance Z p of the electronic cooling unit 57.
Also, the impedance of the electronic cooling unit 57 can be expressed as shown in FIG. 7 (in FIG. 7, C1 is the parasitic capacitance of the hot surface substrate, R1 is the resistance value of the metallization and Peltier element, and C2 is the cooling surface substrate). Parasitic capacitance), frequency 3 ~
Capacitance C 1 and C 2 is dominant in the range of about 4 GHz. capacity
C 1 or C 2 is albeit different due to the size of the electronic cooling unit 57, printed substrate 63, 64 of 6 mm × 6 mm square approximately alumina
Has a parasitic capacitance of about 4 to 5 pF. On the other hand, a bonding wire 62 (about 1.5 mm) and a relay terminal for ground (about 6 m
m) has an inductance of about 5 to 6 nH. In the case of the conventional semiconductor laser module, the grounding of the block 55 on which the semiconductor laser element 51 is mounted, that is, the grounding of the anode of the semiconductor laser element 51, causes the parasitic capacitances C 1 and C 2 parasitic on the electronic cooling unit 57, the bonding wire 62, Relay terminal 6 for ground
6 is electrically grounded by a parallel circuit with a parasitic inductance that is parasitic on 6, so that the parallel resonance frequency r of the parallel circuit of C 1 , C 2 and L w1 + L l1 described above is obtained. In this case, as shown in FIG. 4, there is a problem that the small signal frequency characteristics are significantly deteriorated.
また上述の半導体レーザモジュールを光通信システム
用光源として使用する場合は,レーザ駆動信号の信号ス
ペクトラムの欠落が生ずるため変調された光出力波形の
立上り,立下り部分のジッタが非常に多くなり,r以
下の伝送速度でないと,実用にならないという問題点が
ある。このため,1Gb/s以上の超高速光通信システムへの
適用が極めて困難となる。In the case of using the above-described semiconductor laser module as an optical communication system for light source, the rise of the modulated optical output waveform for lack of signal spectrum of the laser driving signal is generated, the jitter of the falling portion becomes very large, r Unless the transmission speed is below, there is a problem that it is not practical. For this reason, it becomes extremely difficult to apply it to an ultra-high-speed optical communication system of 1 Gb / s or more.
一方,実願昭61−130321号明細書に示すように金属箔
を用いて寄生インダクタンスを抑えた場合,容量が一定
でかつ電子冷却ユニットの熱交換効率を減少させないと
いう条件のもとでは共振周波数rの改善効果は となるため十分な改善効果が得られない。このように,
ワイヤボンディング等の寄生インダクタンスの改善だけ
では十分な共振周波数の改善ができず電子冷却ユニット
自体の寄生容量の改善が必要となる。On the other hand, as shown in the specification of Japanese Utility Model Application No. 61-130321, when the parasitic inductance is suppressed by using a metal foil, the resonance frequency is maintained under the condition that the capacity is constant and the heat exchange efficiency of the electronic cooling unit is not reduced. The improvement effect of r Therefore, a sufficient improvement effect cannot be obtained. in this way,
Only by improving the parasitic inductance such as wire bonding, the resonance frequency cannot be sufficiently improved, and the parasitic capacitance of the electronic cooling unit itself needs to be improved.
(問題点を解決するための手段) 本発明では,半導体レーザモジュールの電子冷却ユニ
ットの印刷基板の材質を酸化ベリリュウム(BeO)を含
有する炭化ケイ素(SiC)系セラミックス基板としたこ
とを特徴としている。(Means for Solving the Problems) The present invention is characterized in that the material of the printed substrate of the electronic cooling unit of the semiconductor laser module is a silicon carbide (SiC) -based ceramic substrate containing beryllium oxide (BeO). .
本発明では,電子冷却ユニットの印刷基板の材質とし
て酸化ベリリュウム(BeO)を含有する炭化ケイ素(Si
C)系のセラミックス基板を用いていることによって,
電子冷却ユニットの寄生容量を大きくして,インピーダ
ンスを低減する。これによって,熱交換効率を低減させ
ることなく,半導体レーザモジュールの並列共振周波数
rを使用範囲外の低周波領域へシフトさせる。In the present invention, silicon carbide (SiC) containing beryllium oxide (BeO) is used as the material of the printed circuit board of the electronic cooling unit.
By using C) -based ceramics substrate,
The parasitic capacitance of the electronic cooling unit is increased to reduce the impedance. This allows the parallel resonance frequency of the semiconductor laser module to be reduced without reducing the heat exchange efficiency.
r is shifted to a low frequency region outside the range of use.
以下本発明について実施例によって説明する。尚、こ
の実施例における電子冷却ユニットの構造は従来の電子
冷却ユニットと同等である。Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples. The structure of the electronic cooling unit in this embodiment is equivalent to that of the conventional electronic cooling unit.
第1図及び第2図を参照して,電子冷却ユニット1は
n型とp型のペルチェ素子2を2枚の印刷基板3及び4
の間に挾んで組立てた構造である。印刷基板3及び4に
はペルチェ素子2を電気的に直列に,熱的に並列に組立
てるための配線パターン5が印刷されており,半田によ
って一対のリード線6とともに固着されている。Referring to FIG. 1 and FIG. 2, an electronic cooling unit 1 includes an n-type and a p-type Peltier element 2 and two printed substrates 3 and 4.
It is a structure assembled between them. A wiring pattern 5 for assembling the Peltier elements 2 electrically in series and thermally in parallel is printed on the printed boards 3 and 4, and is fixed together with a pair of lead wires 6 by soldering.
この電子冷却ユニット1のリード線6の一方から電流
を流すと上方が吸熱,下方が発熱する現象が起こる。
又,逆に流すと吸熱,発熱側が逆になる。半導体レーザ
モジュールに内蔵された電子冷却ユニットは,この現象
を利用して半導体レーザ素子を冷却又は加熱するもので
ある。一方,電子冷却ユニット1の印刷基板3及び4の
材質は,従来酸化アルミナ(Al2O3)系セラミックスで
成形されていたが,本実施例では,この材質を酸化ベリ
リウム(BeO)を少量添加した炭化ケイ素(SiC)系セラ
ミックスとして,SiC系セラミックスで成形した基板に,
配線パターン5を印刷したものである。この酸化ベリリ
ウム(BeO)を含有した炭化ケイ素(SiC)系セラミック
スの特徴は,アルミナ系に比べて,熱伝導率が15倍大き
く,誘電率も最大で約12倍も大きい。又,機械的強度は
アルミナ系並みに強く,基板の成形も容易という特徴を
有している。この点については文献で「材料フォーラ
ム」(産業調査会発行)1986年9月,No.10,21〜24ペー
ジ,38〜41ページに記載されている。このような基板は
別名「ヒタセラム」(商品名)とも呼ばれている。電子
冷却ユニット1,つまり,印刷基板3及び4の寄生容量C1
とC2を大きくするには高誘電体材料にすることであり,
本実施例の如く酸化ベリリュウムを含有した炭化ケイ素
系セラミックスとすることにより寄生容量を約60pFとす
ることができる。ここで、第6図及び第7図を参照し
て、従来の半導体レーザモジュールにおいて問題となる
並列共振は半導体レーザのアノード側の接地インダクタ
ンス(Lb1、Lw1、Ll1)とインピーダンスZpとによって
決定される。第6図において、Cp1は0.1〜0.2pF程度で
あるから、無視できる。また、Lb1は(Lw1+Ll1)に比
べて極めて小さく(ほとんどリードに寄生するインダク
タンスで共振周波数で決まる)から無視してもほとんど
影響がない。いま、C=1/{(1/C1)+(1/C2)}とす
ると、並列共振時におけるインピーダンスZ1は近似的に と表わせる。この式から明らかなように寄生容量を大き
くすることによって並列共振時のインピーダンスZ1を低
減することが可能であり,本実施例の場合従来の約1/12
に改善される。When a current flows from one of the lead wires 6 of the electronic cooling unit 1, a phenomenon occurs in which heat is absorbed in the upper part and heat is generated in the lower part.
When the flow is reversed, the heat absorption and heat generation sides are reversed. The electronic cooling unit built in the semiconductor laser module uses this phenomenon to cool or heat the semiconductor laser element. On the other hand, the material of the printed circuit boards 3 and 4 of the electronic cooling unit 1 is conventionally formed of alumina oxide (Al 2 O 3 ) -based ceramics. In this embodiment, however, a small amount of beryllium oxide (BeO) is added to this material. Silicon carbide (SiC) -based ceramics
The wiring pattern 5 is printed. The characteristics of silicon carbide (SiC) ceramics containing beryllium oxide (BeO) are that the thermal conductivity is 15 times larger and the dielectric constant is up to 12 times larger than that of alumina. In addition, the mechanical strength is as high as that of the alumina type, and the substrate is easily formed. This point is described in the literature in "Material Forum" (published by the Industrial Research Council), September 1986, No. 10, pages 21 to 24, pages 38 to 41. Such a substrate is also called “Hitaceram” (trade name). The electronic cooling unit 1, that is, the parasitic capacitance C 1 of the printed circuit boards 3 and 4
To increase the C 2 and is to a high dielectric material,
By using a silicon carbide ceramic containing beryllium oxide as in this embodiment, the parasitic capacitance can be reduced to about 60 pF. Here, referring to FIGS. 6 and 7, the parallel resonance which is a problem in the conventional semiconductor laser module is determined by the ground inductance (Lb1, Lw1, Ll1) and the impedance Zp on the anode side of the semiconductor laser. . In FIG. 6, since Cp1 is about 0.1 to 0.2 pF, it can be ignored. In addition, Lb1 is extremely small compared to (Lw1 + Ll1) (mostly determined by the resonance frequency due to the parasitic inductance of the lead), and thus has almost no effect even if ignored. Now, C = 1 / {(1 / C1) + (1 / C2)} When the impedance Z 1 is approximately in parallel resonance Can be expressed as It is possible to reduce the impedance Z 1 of the parallel resonance by increasing the parasitic capacitance As is apparent from this equation, of about 1/12 the conventional embodiment
To be improved.
尚材料の静電容量をより大きくした方がより効果的で
ある。例えばコンデンサ材料に使われるチタン酸バリウ
ム(BaTiO3)とすればインピーダンスZ1は数百分の1に
低減される。しかしこの材料はアルミナ系より熱伝導率
が約1/15と小さいため,電子冷却ユニットの熱交換効率
は悪い。It is more effective to increase the capacitance of the material. For example, if barium titanate (BaTiO 3 ) is used for the capacitor material, the impedance Z 1 is reduced to several hundredths. However, the thermal conductivity of this material is about 1/15 smaller than that of alumina, so the heat exchange efficiency of the electronic cooling unit is poor.
このように,印刷基板の材質を熱伝導率が大きく且つ
誘電率も大きな材料である酸化ベリリュウム(BeO)を
含有した炭化ケイ素(SiC)系セラミックスとすると,
第3図に示すように小信号周波数特性の共振点を低周波
領域へシフトすることができ,又,ノッチ量(へこみ)
も減少させることができる。特に超高速光通信システム
での変調特性に有害な1GHz以上に発生していたノッチを
無害な低周波領域にシフトさせることができる。又,よ
り低周波側にシフトされるには,寄生容量を大きくすれ
ばよく材料の配合比を工夫する等で誘電率を大きくすれ
ば良く,又,困難であれば,印刷基板の面積を大きくし
たり厚さを薄くすることで可能である。この場合1Gb/s
以下の光通信システムにも適用可能となる。Thus, if the material of the printed circuit board is silicon carbide (SiC) ceramic containing beryllium oxide (BeO), which is a material with high thermal conductivity and high dielectric constant,
As shown in FIG. 3, the resonance point of the small signal frequency characteristic can be shifted to the low frequency region, and the notch amount (dent)
Can also be reduced. In particular, a notch generated at 1 GHz or more that is harmful to modulation characteristics in an ultra-high-speed optical communication system can be shifted to a harmless low-frequency region. In order to shift to a lower frequency side, it is sufficient to increase the parasitic capacitance by increasing the parasitic capacitance and to increase the dielectric constant by devising the mixing ratio of the materials. This can be achieved by reducing the thickness or the thickness. In this case 1Gb / s
It can be applied to the following optical communication systems.
以上説明したように本発明では,印刷基板の材質を酸
化ベリリュウム(BeO)を含有した炭化ケイ素(SiC)系
セラミックスとすることによって小信号周波数特性の共
振点を低周波領域へシフトすることができ,さらにノッ
チ量を減少させることができる。As described above, in the present invention, the resonance point of the small signal frequency characteristic can be shifted to the low frequency region by using a silicon carbide (SiC) ceramic containing beryllium oxide (BeO) as the material of the printed substrate. , The notch amount can be further reduced.
第1図は本発明の電子冷却ユニットを説明するための側
断面図,第2図は電子冷却ユニットの外観斜視図,第3
図は本発明の電子冷却ユニットを使用した場合の半導体
レーザモジュールの小信号周波数特性を示す図,第4図
は従来の電子冷却ユニットでの半導体レーザモジュール
の小信号周波数特性を示す図,第5図は電子冷却ユニッ
トを半導体レーザモジュールに実装した一例を示す内部
構造図,第6図は半導体レーザモジュールの電気的な等
化回路を示す図,第7図は電子冷却ユニットの電気的等
化回路を示す図である。 1……電子冷却ユニット,2……ペルチェ素子,3……印刷
基板,4……印刷基板,5……配線パターン,6……リード
線,51……半導体レーザ素子,52……レーザ光モニタ素
子,53……光ファイバ,54……サーミスタ,55……ブロッ
ク,56……ペルチェ素子,57……電子冷却ユニット,58…
…パッケージ,59……ヒートシンク,60……低融点ガラ
ス,61……中継端子,62……ワイヤボンディング,63……
印刷基板,64……印刷基板,65……リード線,66……アー
ス用中継端子。FIG. 1 is a side sectional view for explaining an electronic cooling unit of the present invention, FIG. 2 is an external perspective view of the electronic cooling unit, and FIG.
FIG. 4 is a diagram showing a small signal frequency characteristic of a semiconductor laser module using the electronic cooling unit of the present invention. FIG. 4 is a diagram showing a small signal frequency characteristic of the semiconductor laser module in the conventional electronic cooling unit. The figure shows the internal structure of an example in which an electronic cooling unit is mounted on a semiconductor laser module, FIG. 6 shows an electrical equalizing circuit of the semiconductor laser module, and FIG. 7 shows the electrical equalizing circuit of the electronic cooling unit FIG. 1 ... Electronic cooling unit, 2 ... Peltier element, 3 ... Printed board, 4 ... Printed board, 5 ... Wiring pattern, 6 ... Lead wire, 51 ... Semiconductor laser element, 52 ... Laser light monitor Element, 53… Optical fiber, 54… Thermistor, 55… Block, 56… Peltier element, 57… Electronic cooling unit, 58…
... Package, 59 ... Heat sink, 60 ... Low melting point glass, 61 ... Relay terminal, 62 ... Wire bonding, 63 ...
Printed circuit board, 64 Printed circuit board, 65 Lead wire, 66 Relay terminal for grounding
Claims (1)
パッケージ内に収納された半導体レーザ素子と、前記ブ
ロックを前記パッケージと短絡させる短絡部材と前記半
導体レーザ素子を冷却するための電子冷却ユニットとを
備える半導体レーザモジュールにおいて、前記パッケー
ジに収納され前記ブロックを支持する第1の印刷基板
と、前記パッケージに収納され前記第1の配線基板を冷
却素子を介して支持する第2の印刷基板とを有し、前記
第1及び前記第2の印刷基板の材質は酸化ベリリウム
(BeO)を含有した炭化ケイ素(SiC)系セラミックスで
あることを特徴とする半導体レーザモジュール。A package, a semiconductor laser element supported by a block and housed in the package, a short-circuit member for short-circuiting the block to the package, and an electronic cooling unit for cooling the semiconductor laser element. The semiconductor laser module includes a first printed circuit board housed in the package and supporting the block, and a second printed circuit board housed in the package and supporting the first wiring board via a cooling element. The first and second printed circuit boards are made of silicon carbide (SiC) -based ceramics containing beryllium oxide (BeO).
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|---|---|---|---|
| JP63283969A JP2723564B2 (en) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | Semiconductor laser module |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS60154150A (en) * | 1984-01-25 | 1985-08-13 | Hitachi Ltd | Electrophoresis device |
-
1988
- 1988-11-11 JP JP63283969A patent/JP2723564B2/en not_active Expired - Lifetime
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