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JP2732855B2 - Electrostatic camera with voice information input function - Google Patents
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JP2732855B2 - Electrostatic camera with voice information input function - Google Patents

Electrostatic camera with voice information input function

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JP2732855B2
JP2732855B2 JP63123602A JP12360288A JP2732855B2 JP 2732855 B2 JP2732855 B2 JP 2732855B2 JP 63123602 A JP63123602 A JP 63123602A JP 12360288 A JP12360288 A JP 12360288A JP 2732855 B2 JP2732855 B2 JP 2732855B2
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  • Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電荷保持媒体を使用した静電カメラに係り、
特に静止画像情報と共に音声情報も同時記録することが
できるようにした音声情報入力機能を備えた静電カメラ
に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electrostatic camera using a charge holding medium,
In particular, the present invention relates to an electrostatic camera having an audio information input function capable of simultaneously recording audio information together with still image information.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、静止画の撮影・保存用として銀塩写真法が用い
られ、音声情報の記録用としてはレコード、カセットテ
ープ等が使用されている。また画像情報と音声情報の記
録用としてはビデオテープ、コンパクトディスク、光デ
ィスク等が使用されるようになっている。
Conventionally, silver halide photography has been used for photographing and storing still images, and records, cassette tapes, and the like have been used for recording audio information. For recording image information and audio information, video tapes, compact discs, optical discs and the like are used.

〔発明が解決すべき課題〕[Problems to be solved by the invention]

ところで、銀塩写真法は静止画を保存する手段として
優れているが、銀塩像を形成させるために現像工程を必
要とし、像再現においてはハードコピー、ソフトコピー
(CRT出力)等に至る複雑な光学的、電気的、または化
学的処理が必要である。また、レコード、カセットテー
プ等は音声の記録用としては非常に簡便な手段である
が、メモリ容量が少ないために画像情報の記録を行うこ
とはできず、またビデオテープの記録は撮像管で撮影
し、光半導体を利用して得た画像情報を電気信号として
取り出して記録するもので、線順次走査が必要となると
共に、解像性は走査線数に依存するため銀塩写真のよう
に面状アナログ記録に比して著しく劣化し、コンパクト
ディスク、光ディスク等においても本質的に同様であ
る。これらの技術の内蔵する問題点は画像記録が高品
質、高解像であれば処理工程が複雑であり、工程が簡便
であれば記憶機能の欠如、あるいは画質の基本的劣化等
があった。
By the way, silver halide photography is excellent as a means for preserving still images, but it requires a development process to form a silver halide image, and in image reproduction, it involves complicated processes such as hard copy and soft copy (CRT output). Optical, electrical, or chemical treatments are required. Records, cassette tapes, etc. are very simple means for recording audio, but they cannot record image information due to the small memory capacity. However, image information obtained by using an optical semiconductor is extracted and recorded as an electric signal. Line-sequential scanning is required, and the resolution depends on the number of scanning lines. It deteriorates remarkably compared to the analog recording, and is essentially the same for compact discs and optical discs. The problems built into these technologies are that if the image recording is of high quality and high resolution, the processing steps are complicated, and if the steps are simple, there is a lack of storage function or a basic deterioration of image quality.

本発明は上記問題点を解決するためのもので、高品
質、高解像であると共に、処理工程が簡便で、長時間の
記憶が可能で、質の良い画像と共に音声情報の記録が可
能な音声情報入力機能を備えた静電カメラを提供するこ
とを目的とする。
The present invention is intended to solve the above problems, and has high quality, high resolution, simple processing steps, long-term storage, and recording of audio information together with high-quality images. An object of the present invention is to provide an electrostatic camera having a voice information input function.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

第1図は本発明の静電画像記録再生方法における記録
方法を説明するための図で、図中、1は感光体、3は電
荷保持媒体、5は光導電層支持体、7は感光体電極、9
は光導電層、11は絶縁層、13は電荷保持媒体電極、15は
絶縁層支持体、17は電源である。
FIG. 1 is a view for explaining a recording method in the electrostatic image recording / reproducing method of the present invention, wherein 1 is a photosensitive member, 3 is a charge holding medium, 5 is a photoconductive layer support, and 7 is a photosensitive member. Electrode, 9
Denotes a photoconductive layer, 11 denotes an insulating layer, 13 denotes a charge holding medium electrode, 15 denotes an insulating layer support, and 17 denotes a power supply.

第1図においては、感光体1側から露光を行う態様で
あり、まず1mm厚のガラスからなる光導電層支持体5上
に1000Å厚のITOからなる透明な感光体電極7を形成
し、この上に10μm程度の光導電層9を形成して感光体
1を構成している。この感光体1に対して、10μm程度
の空隙を介して電荷保持媒体3が配置される。電荷保持
媒体3は1mm厚のガラスからなる絶縁層支持体15上に100
0Å厚のAl電極13を蒸着により形成し、この電極13上に1
0μm厚の絶縁層11を形成したものである。
FIG. 1 shows an embodiment in which exposure is performed from the photoreceptor 1 side. First, a transparent photoreceptor electrode 7 made of ITO having a thickness of 1000 mm is formed on a photoconductive layer support 5 made of 1 mm thick glass. The photoconductor 1 is formed by forming a photoconductive layer 9 of about 10 μm thereon. The charge holding medium 3 is arranged on the photoconductor 1 with a gap of about 10 μm. The charge holding medium 3 is placed on an insulating layer support 15 made of glass having a thickness of 1 mm.
An Al electrode 13 having a thickness of 0 mm is formed by evaporation, and
In this case, an insulating layer 11 having a thickness of 0 μm is formed.

先ず、第1図(イ)に示すように感光体1に対して、
10μm程度の空隙を介して電荷保持媒体3をセットし、
第1図(ロ)に示すように電源17により電極7、13間に
電圧を印加する。暗所であれば光導電層9は高抵抗体で
あるため、電極間には何の変化も生じない。感光体1側
より光が入射すると、光が入射した部分の光導電層9は
導電性を示し、絶縁層11との間に放電が生じ、絶縁層11
に電荷が蓄積される。
First, as shown in FIG.
The charge holding medium 3 is set through a gap of about 10 μm,
As shown in FIG. 1 (b), a voltage is applied between the electrodes 7 and 13 by the power supply 17. In a dark place, since the photoconductive layer 9 is a high-resistance body, no change occurs between the electrodes. When light is incident from the photoreceptor 1 side, the photoconductive layer 9 in the portion where the light is incident shows conductivity, and a discharge occurs between the photoconductive layer 9 and the insulating layer 11.
The electric charge is accumulated.

露光が終了したら、第1図(ハ)に示すように電圧を
OFFにし、次いで、第1図(ニ)に示すように電荷保持
媒体3を取り出すことにより静電潜像の形成が終了す
る。
When the exposure is completed, a voltage is applied as shown in FIG.
Turn off, and then take out the charge holding medium 3 as shown in FIG. 1 (d) to complete the formation of the electrostatic latent image.

なお、感光体1と電荷保持媒体3とは上記のように非
接触でなく接触式でもよく、接触式の場合には、感光体
電極7側から光導電層9の露光部に正または負の電荷が
注入され、この電荷は電荷保持媒体3側の電極13に引か
れて光導電層9を通過し、絶縁層11面に達した所で電荷
移動が停止し、その部位に注入電荷が蓄積される。そし
て、感光体1と電荷保持媒体3とを分離すると、絶縁層
11は電荷を蓄積したままの状態で分離される。
The photoconductor 1 and the charge holding medium 3 may be of a contact type instead of a non-contact type as described above. In the case of the contact type, a positive or negative charge is applied to the exposed portion of the photoconductive layer 9 from the photoconductor electrode 7 side. Charges are injected, and the charges are drawn by the electrode 13 on the charge holding medium 3 side, pass through the photoconductive layer 9, and stop moving when reaching the surface of the insulating layer 11. Is done. Then, when the photoconductor 1 and the charge holding medium 3 are separated, the insulating layer
11 are separated while keeping the charge.

この記録方法は面状アナログ記録とした場合、銀塩写
真法と同様に高解像度が得られ、また形成される絶縁層
11上の表面電荷は空気環境に曝されるが、空気は良好な
絶縁性能を持っているので、明所、暗所に関係なく放電
せず長期間保存される。
When this recording method is a planar analog recording, high resolution can be obtained in the same manner as the silver halide photography, and an insulating layer to be formed is formed.
Although the surface charge on 11 is exposed to the air environment, the air has a good insulating performance, so it is stored for a long time without discharging regardless of the light place and the dark place.

この絶縁層11上の電荷保存期間は、絶縁体の性質によ
って定まり、空気の絶縁性以外に絶縁体の電荷捕捉特性
が影響する。前述の説明では電荷は表面電荷として説明
しているが、注入電荷は単に表面に蓄積させる場合もあ
り、また微視的には絶縁体表面付近内部に侵入し、その
物質の構造内に電子またはホールがトラップされる場合
もあるので長期間の保存が行われる。また電荷保持媒体
の物理的損傷や湿度が高い場合の放電等を防ぐために絶
縁層11の表面を絶縁性フィルム等で覆って保存するよう
にしてもよい。
The charge storage period on the insulating layer 11 is determined by the properties of the insulator, and is affected by the charge trapping characteristics of the insulator in addition to the insulating properties of air. In the above description, charges are described as surface charges.Injected charges may simply accumulate on the surface, and microscopically penetrate into the vicinity of the insulator surface, and electrons or electrons enter the structure of the substance. Since the holes may be trapped, long-term storage is performed. Further, the surface of the insulating layer 11 may be covered with an insulating film or the like and stored in order to prevent physical damage to the charge holding medium or discharge when the humidity is high.

以下、本願発明に用いられる感光体、および電荷保持
媒体の構成材料について説明する。
Hereinafter, constituent materials of the photoreceptor and the charge holding medium used in the present invention will be described.

光導電層支持体5としては、感光体を支持することが
できるある程度の強度を有していれば、その材質、厚み
は特に制限がなく、例えば可撓性のあるプラスチックフ
ィルム、金属箔、紙、或いは硝子、プラスチックシー
ト、金属板(電極を兼ねることもできる)等の剛体が使
用される。但し、感光体側から光を入射して情報を記録
する装置に用いられる場合には、当然その光を透過させ
る特性が必要となり、例えば自然光を入射光とし、感光
体側から入射するカメラに用いられる場合には、厚み1m
m程度の透明なガラス板、或いはプラスチックのフィル
ム、シートが使用される。
The material and thickness of the photoconductive layer support 5 are not particularly limited as long as the photoconductive layer support 5 has a certain strength capable of supporting the photoreceptor. For example, a flexible plastic film, metal foil, paper, or the like may be used. Alternatively, a rigid body such as a glass, a plastic sheet, or a metal plate (which can also serve as an electrode) is used. However, when used in a device that records information by irradiating light from the photoconductor side, it is naturally necessary to have the property of transmitting that light.For example, when using natural light as incident light and using it in a camera that enters from the photoconductor side Has a thickness of 1m
A transparent glass plate of about m or a plastic film or sheet is used.

感光体電極7は、光導電層支持体5に金属のものが使
用される場合を除いて光導電層支持体5に形成され、そ
の材質は比抵抗値が106Ω・cm以下であれば限定されな
く、無機金属導電膜、無機金属酸化物導電膜等である。
このような感光体電極7は、光導電層支持体5上に、蒸
着、スパッタリング、CVD、コーティング、メッキ、デ
ィッピング、電解重合等により形成される。またその厚
みは、感光体電極7を構成する材質の電気特性、および
情報の記録の際の印加電圧により変化させる必要がある
が、例えばアルミニウムであれば、100〜3000Å程度で
ある。この感光体電極7も光導電層支持体5と同様に、
情報光を入射させる必要がある場合には、上述した光学
特性が要求され、例えば情報光が可視光(400〜700nm)
であれば、ITO(In2O3−SnO2)、SnO2等をスパッタリン
グ、蒸着、またはそれらの微粉末をバインダーと共にイ
ンキ化してコーティングしたような透明電極や、Au、A
l、Ag、Ni、Cr等を蒸着、またはスパッタリングで作製
する半透明電極、テトラシアノキノジメタン(TCNQ)、
ポリアセチレン等のコーティングによる有機透明電極等
が使用される。
The photoreceptor electrode 7 is formed on the photoconductive layer support 5 except when a metal is used for the photoconductive layer support 5, and the material thereof is as long as the specific resistance value is 10 6 Ω · cm or less. There is no limitation, and an inorganic metal conductive film, an inorganic metal oxide conductive film, or the like can be used.
Such a photoconductor electrode 7 is formed on the photoconductive layer support 5 by vapor deposition, sputtering, CVD, coating, plating, dipping, electrolytic polymerization, or the like. The thickness of the electrode must be changed depending on the electrical characteristics of the material constituting the photoreceptor electrode 7 and the applied voltage when recording information. For example, in the case of aluminum, the thickness is about 100 to 3000 °. This photoconductor electrode 7 is also similar to the photoconductive layer support 5,
When the information light needs to be incident, the above-mentioned optical characteristics are required, and for example, the information light is a visible light (400 to 700 nm).
A transparent electrode such as ITO (In 2 O 3 —SnO 2 ), SnO 2 , or the like, which is formed by sputtering, vapor deposition, or coating a fine powder thereof by ink with a binder, Au, A
Translucent electrode made of l, Ag, Ni, Cr, etc. by evaporation or sputtering, tetracyanoquinodimethane (TCNQ),
An organic transparent electrode or the like with a coating of polyacetylene or the like is used.

また情報光が赤外(700nm以上)光の場合も上記電極
材料が使用できるが、場合によっては可視光をカットす
るために、着色された可視光吸収電極も使用できる。
When the information light is infrared (700 nm or more) light, the above electrode material can be used. In some cases, a colored visible light absorbing electrode can also be used to cut off visible light.

更に、情報光が紫外(400nm以下)光の場合も、上記
電極材料を基本的には使用できるが、電極基板材料が紫
外光を吸収するもの(有機高分子材料、ソーダガラス
等)は好ましくなく、石英ガラスのような紫外光を透過
する材料が好ましい。
Further, when the information light is ultraviolet light (400 nm or less), the above-mentioned electrode materials can be basically used, but those in which the electrode substrate material absorbs ultraviolet light (organic polymer materials, soda glass, etc.) are not preferable. A material that transmits ultraviolet light, such as quartz glass, is preferable.

光導電層9は、光が照射されると照射部分で光キャリ
ア(電子、正孔)が発生し、それらのキャリアが層幅を
移動することができる導電性層であり、特に電界が存在
する場合にその効果が顕著である層である。材料は無機
光導電材料、有機光導電材料、有機無機複合型光導電材
料等で構成される。
The photoconductive layer 9 is a conductive layer in which photocarriers (electrons and holes) are generated in the irradiated portion when light is irradiated, and the carriers can move in a layer width. In particular, an electric field exists. In this case, the effect is remarkable. The material is composed of an inorganic photoconductive material, an organic photoconductive material, an organic-inorganic hybrid type photoconductive material, or the like.

以下、これら光導電材料、および光導電層の形成方法
について説明する。
Hereinafter, a method for forming the photoconductive material and the photoconductive layer will be described.

(A)無機感光体(光導電体) 無機感光体材料としてはアモルファスシリコン、アモ
ルファスセレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等がある。
(A) Inorganic Photoreceptor (Photoconductor) Examples of inorganic photoreceptor materials include amorphous silicon, amorphous selenium, cadmium sulfide, and zinc oxide.

(イ)アモルファスシリコン感光体 アモルファスシリコン感光体としては 水素化アモルファスシリコン(a−Si:H) フッ素化アモルファスシリコン(a−Si:F) ・これらに対して不純物をドーピングしないもの、 ・B、Al、Ga、In、Tl等をドーピングによりP型(ホー
ル輸送型)にしたもの、 ・P、Ag、Sb、Bi等をドーピングによりN型(電子輸送
型)にしたもの、 がある。
(A) Amorphous silicon photoreceptor As an amorphous silicon photoreceptor, hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H) fluorinated amorphous silicon (a-Si: F) ・ Those not doped with impurities, ・ B, Al , Ga, In, Tl, etc. are made P-type (hole transport type) by doping; and P, Ag, Sb, Bi, etc. are made N-type (electron transport type) by doping.

感光体層の形成方法としては、シランガス、不純物ガ
スを水素ガスなどと共に低真空中に導入し(10-2〜1Tor
r)、グロー放電により加熱、或いは加熱しない電極基
板上に准積して成膜するか、単に加熱した電極基板上に
熱化学的に反応形成するか、或いは固体原料を蒸着、ス
パッター法により成膜し、単層、或いは積層で使用す
る。膜厚は1〜50μmである。
As a method of forming the photoreceptor layer, a silane gas and an impurity gas are introduced into a low vacuum together with a hydrogen gas (10 -2 to 1 Torr).
r), a film is formed by pre-stacking on an electrode substrate heated or not heated by glow discharge, or a thermochemical reaction is formed on a heated electrode substrate, or a solid material is formed by vapor deposition and sputtering. Used as a film, a single layer or a laminate. The film thickness is 1 to 50 μm.

また、透明電極7から電荷が注入され、露光してない
のにもかかわらず恰も露光したような帯電を防止するた
めに、感光体電極7の表面に電荷注入防止層を設けるこ
とができる。この電荷注入防止層として、電極基板上と
感光体最上層(表面層)の一方或いは両方に、グロー放
電、蒸着、スパッター法等によりa−SiN層、a−SiC
層、SiO2層、Al2O3層等の絶縁層を設けるとよい。この
絶縁層を余り厚くしすぎると露光したとき電流が流れな
いので、少なくとも1000Å以下とする必要があり、作製
し易さ等を考慮すると400〜500Å程度が望ましい。
Further, a charge injection preventing layer can be provided on the surface of the photoreceptor electrode 7 in order to prevent charge from being injected from the transparent electrode 7 and being exposed as if it were not exposed. As the charge injection preventing layer, an a-SiN layer, a-SiC layer is formed on one or both of the electrode substrate and the uppermost layer (surface layer) of the photoreceptor by glow discharge, vapor deposition, sputtering or the like.
It is preferable to provide an insulating layer such as a layer, a SiO 2 layer, and an Al 2 O 3 layer. If the insulating layer is too thick, no current will flow when exposed, so it must be at least 1000 ° or less, and preferably about 400-500 ° in consideration of ease of fabrication.

また、電荷注入防止層として、整流効果を利用して電
極基板上に電極基板における剛性と逆極性の電荷輸送能
を有する電荷輸送層を設けるとよく、電極がマイナスの
場合はホール輸送層、電極がプラスの場合は電子輸送層
を設ける。例えば、Siにボロンをドープしたa−Si:H
(n+)は、ホールの輸送特性が上がって整流効果が得ら
れ、電荷注入防止層として機能する。
Further, as the charge injection preventing layer, it is preferable to provide a charge transporting layer having a charge transporting ability of a polarity opposite to the rigidity of the electrode substrate on the electrode substrate by utilizing a rectifying effect. Is positive, an electron transport layer is provided. For example, a-Si: H in which boron is doped in Si
(N + ) enhances the hole transporting property, provides a rectifying effect, and functions as a charge injection preventing layer.

(ロ)アモルファスセレン感光体 アモルファスセレン感光体としては、 アモルファスセレン(a−Se) アモルファスセレンテルル(a−Se−Te) アモルファスひ素セレン化合物(a−As2Se3) アモルファスひ素セレン化合物+Te がある。The (b) amorphous selenium photoreceptor amorphous selenium photosensitive member, there is amorphous selenium (a-Se) amorphous selenium tellurium (a-Se-Te) amorphous arsenic selenium compound (a-As 2 Se 3) amorphous arsenic selenium compound + Te .

この感光体は蒸着、スパッター法により作製し、また
電荷注入阻止層としてSiO2、Al2O3、SiC、SiN層を蒸
着、スパッター、グロー放電法等により電極基板上に設
けられる。また上記〜を組み合わせ、積層型感光体
としてもよい。感光体層の膜厚はアモルファスシリコン
感光体と同様である。
This photoreceptor is prepared by vapor deposition and sputtering, and a SiO 2 , Al 2 O 3 , SiC, SiN layer as a charge injection blocking layer is provided on the electrode substrate by vapor deposition, sputtering, glow discharge or the like. Further, the above-mentioned may be combined to form a laminated photoreceptor. The thickness of the photoconductor layer is the same as that of the amorphous silicon photoconductor.

(ハ)硫化カドミウム(CdS) この感光体は、コーティング、蒸着、スパッタリング
法により作製する。蒸着の場合はCdSの固体粒をタング
ステンボードにのせ、抵抗加熱により蒸着するか、EB
(エレクトロンビーム)蒸着により行う。またスパッタ
リングの場合はCdSターゲットを用いてアルゴンプラズ
マ中で基板上に堆積させる。この場合、通常はアモルフ
ァス状態でCdSが堆積されるが、スパッタリング条件を
選択することにより結晶性の配向膜(膜厚方向に配向)
を得ることもできる。コーティングの場合は、CdS粒子
(粒径1〜100μm)をバインダー中に分散させ、溶媒
を添加して基板上にコーティングするとよい。。
(C) Cadmium sulfide (CdS) This photoreceptor is prepared by coating, vapor deposition, and sputtering. In the case of vapor deposition, solid particles of CdS are placed on a tungsten board and vapor-deposited by resistance heating, or EB
(Electron beam) This is performed by vapor deposition. In the case of sputtering, deposition is performed on a substrate in argon plasma using a CdS target. In this case, CdS is usually deposited in an amorphous state, but a crystalline alignment film (oriented in the film thickness direction) can be obtained by selecting sputtering conditions.
You can also get In the case of coating, CdS particles (particle diameter: 1 to 100 μm) may be dispersed in a binder, and a solvent may be added to coat on a substrate. .

(ニ)酸化亜鉛(ZnO) この感光体はコーティング法、或いはCVD法で作製さ
れる。コーティング法としては、ZnS粒子(粒径1〜100
μm)をバインダー中に分散させ、溶媒を添加して基板
上にコーティングを行って得られる。またCVD法として
は、ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛等の有機金属と酸素ガ
スを低真空中(10-2〜1Torr)で混合し、加熱した電極
基板(150〜400℃)上で化学反応させ、酸化亜鉛膜とし
て堆積させる。この場合も膜厚方向に配向した膜が得ら
れる。
(D) Zinc oxide (ZnO) This photoreceptor is manufactured by a coating method or a CVD method. As the coating method, ZnS particles (particle size 1 to 100
μm) is dispersed in a binder, a solvent is added, and coating is performed on a substrate. In the CVD method, an organic metal such as diethyl zinc or dimethyl zinc and oxygen gas are mixed in a low vacuum (10 -2 to 1 Torr), and a chemical reaction is performed on a heated electrode substrate (150 to 400 ° C.) to oxidize. Deposited as a zinc film. Also in this case, a film oriented in the film thickness direction can be obtained.

(B)有機感光体 有機感光体としては、単層系感光体、機能分離型感光
体とがある。
(B) Organic Photoreceptor The organic photoreceptor includes a single-layer type photoreceptor and a function-separated type photoreceptor.

(イ)単層系感光体 単層系感光体は電荷発生物質と電荷輸送物質の混合物
からなっている。
(A) Single-layer photoconductor The single-layer photoconductor is composed of a mixture of a charge generating substance and a charge transport substance.

〈電荷発生物質系〉 光を吸収して電荷を生じ易い物質であり、例えば、ア
ゾ系顔料、ジスアゾ系顔料、トリスアゾ系顔料、フタロ
シアニン系顔料、ペリレン系顔料、ピリリウム染料系、
シアニン染料系、メチン染料系が使用される。
<Charge-generating substance type> It is a substance that absorbs light and easily generates an electric charge.For example, azo pigments, disazo pigments, trisazo pigments, phthalocyanine pigments, perylene pigments, pyrylium dyes,
Cyanine dyes and methine dyes are used.

〈電荷輸送物質系〉 電離した電荷の輸送特性がよい物質であり、例えばヒ
ドラゾン系、ピラゾリン系、ポリビニルカルバゾール
系、カルバゾール系、スチルベン系、アントラセン系、
ナフタレン系、トリジフェニルメタン系、アジン系、ア
ミン系、芳香族アミン系等がある。
<Charge transporting substance system> A substance having a good ionized charge transporting property, for example, hydrazone type, pyrazoline type, polyvinyl carbazole type, carbazole type, stilbene type, anthracene type,
There are naphthalene type, tridiphenylmethane type, azine type, amine type, aromatic amine type and the like.

また、電荷発生系物質と電荷輸送系物質により錯体を
形成させ、電荷移動錯体としてもよい。
Further, a charge transfer complex may be formed by forming a complex between the charge generation material and the charge transport material.

通常、感光体は電荷発生物質の光吸収特性で決まる感
光特性を有するが、電荷発生物質と電荷輸送物質との混
ぜて錯体をつくると、光吸収特性が変わり、例えばポリ
ビニルカルバゾール(PVK)は紫外域でしか感ぜず、ト
リニトロフルオレノン(TNF)は400nm波長近傍しか感じ
ないが、PVK−TNF錯体は650nm波長域まで感じるように
なる。
Normally, a photoreceptor has photosensitivity determined by the light absorption characteristics of a charge generating substance. However, when a charge generating substance and a charge transporting substance are mixed to form a complex, the light absorption properties change. For example, polyvinyl carbazole (PVK) is an ultraviolet light. Only in the region, trinitrofluorenone (TNF) only feels around 400 nm wavelength, while the PVK-TNF complex feels up to 650 nm wavelength region.

このような単層系感光体の膜厚は、10〜50μmが好ま
しい。
The thickness of such a single-layer type photoreceptor is preferably 10 to 50 μm.

(ロ)機能分離型感光体 電荷発生物質は光を吸収し易いが、光をトラップする
性質があり、電荷輸送物質は電荷の輸送特性はよいが、
光吸収特性はよくない。そのため両者を分離し、それぞ
れの特性を十分に発揮させようとするものであり、電荷
発生層と電荷輸送層を積層したタイプである。
(B) Function-separated type photoreceptor Although the charge generating material easily absorbs light, it has the property of trapping light, and the charge transporting material has good charge transporting properties.
Light absorption characteristics are not good. Therefore, the two are separated so as to sufficiently exhibit their respective characteristics, and the charge generation layer and the charge transport layer are stacked.

〈電荷発生層〉 電荷発生層を形成する物質としては、例えばアゾ系、
ジスアゾ系、トリスアゾ系、フタロシアニン系、酸性ザ
ンセン染料系、シアニン系、スチリル色素系、ピリリウ
ム色素系、ペリレン系、メチン系、a−Se、a−Si、ア
ズレニウム塩系、スクアリウム塩系等がある。
<Charge Generating Layer> Examples of the material for forming the charge generating layer include azo-based materials,
There are disazo type, trisazo type, phthalocyanine type, acid xansen dye type, cyanine type, styryl dye type, pyrylium dye type, perylene type, methine type, a-Se, a-Si, azulenium salt type, squarium salt type and the like.

〈電荷輸送層〉 電荷輸送層を形成する物質としては、例えばヒドラゾ
ン系、ピラゾリン系、PVK系、カルバゾール系、オキサ
ゾール系、トリアゾール系、芳香族アミン系、アミン
系、トリフェニルメタン系、多環芳香族化合物系等があ
る。
<Charge transport layer> Examples of the material forming the charge transport layer include hydrazone, pyrazoline, PVK, carbazole, oxazole, triazole, aromatic amine, amine, triphenylmethane, and polycyclic aromatic compounds. Group compounds.

機能分離型感光体の作製方法としては、まず電荷発生
物質を溶剤に溶かして、電極上に塗布し、次に電荷輸送
層を溶剤に溶かして電荷輸送層に塗布し、電荷発生層を
0.1〜10μm、電荷輸送層を10〜50μmの膜厚とすると
よい。
As a method for producing a function-separated type photoreceptor, a charge generating substance is first dissolved in a solvent and applied on an electrode, and then the charge transport layer is dissolved in a solvent and applied to the charge transport layer.
It is preferable that the thickness of the charge transport layer be 0.1 to 10 μm and the thickness of the charge transport layer be 10 to 50 μm.

なお、単層系感光体、機能分離型感光体の何れの場合
にも、バインダーとしてシリコーン樹脂、スチレン−ブ
タジエン共重合体樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、
飽和又は不飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリビニルアセタール樹脂、フェノール樹脂、ポリ
メチルメタアクリレート(PMMA)樹脂、メラミン樹脂、
ポリイミド樹脂等を電荷発生材料と電荷輸送材料各1部
に対し、0.1〜10部添加して付着し易いようにする。コ
ーティング法としては、ディッピング法、蒸着法、スパ
ッター法等を使用することができる。
In addition, in any case of the single-layer type photoreceptor and the function separation type photoreceptor, as a binder, a silicone resin, a styrene-butadiene copolymer resin, an epoxy resin, an acrylic resin,
Saturated or unsaturated polyester resin, polycarbonate resin, polyvinyl acetal resin, phenol resin, polymethyl methacrylate (PMMA) resin, melamine resin,
0.1 to 10 parts of a polyimide resin or the like is added to 1 part of each of the charge generating material and the charge transport material so that the resin can be easily attached. As a coating method, a dipping method, an evaporation method, a sputtering method, or the like can be used.

次ぎに、電荷注入防止層について詳述する。 Next, the charge injection preventing layer will be described in detail.

電荷注入防止層は、光導電層9の両表面の少なくとも
一方か、両方の面に、光導電層9の電圧印加時の暗電流
(電極からの電荷注入)、すなわち露光していないにも
かからず恰も露光したように感光層中を電荷を移動する
現象を防止するために設けることができるものである。
The charge injection preventing layer is provided on at least one of the two surfaces of the photoconductive layer 9 or on both surfaces, when a voltage is applied to the photoconductive layer 9 when a voltage is applied (charge injection from the electrode), that is, when the photoconductive layer 9 is not exposed. It can be provided to prevent a phenomenon in which charges move in the photosensitive layer as if exposed as if exposed.

この電荷注入防止層は、いわゆるトンネリング効果を
利用した層と整流効果を利用した層との二種類のものが
ある。まず、いわゆるトンネリング効果を利用したもの
は、電圧印加のみではこの電圧注入防止層により、光導
電層、あるいは絶縁層表面まで電流が流れないが、光を
注射した場合には、入射部分に相当する電荷注入防止層
には光導電層で発生した電荷の一方(電子、またはホー
ル)が存在するため高電界が加わり、トンネル効果を起
こして、電荷注入防止層を通過して電流が流れるもので
ある。このような電荷注入防止層は無機絶縁性膜、有機
絶縁性高分子膜、絶縁性単分子膜等の単層、あるいはこ
れらを積層して形成され、無機絶縁性膜としては、例え
ばAs2O3、B2O3、Bi2O3、CdS、CaO、CeO2、Cr2O3、CoO、
GeO2、HfO2、Fe2O3、La2O3、MgO、MnO2、Nd2O、Nb2O5
PbO、Sb2O3、SiO2、SeO2、Ta2O5、TiO2、WO3、V2O5、Y2
O5、Y2O3、ZrO2、BaTiO3、Al2O3、Bi2TiO5、CaO−SrO、
CaO−Y2O3、Cr−SiO、LiTaO3、PbTiO3、PbZrO3、ZrO2
Co、ZrO2−SiO2、AlN、BN、NbN、Si3N4、TaN、TiN、V
N、ZrN、SiC、TiC、WC、Al4C3等をグロー放電、蒸着、
スパッタリング等により形成される。尚、この層の膜厚
は電荷の注入を防止する絶縁性と、トンネル効果の点を
考慮して使用される材質ごとに決められる。次ぎに整流
効果を利用した電荷注入防止層は、整流効果を利用して
電極基板の極性と逆極性の電荷輸送能を有する電荷輸送
層を設ける。即ち、このような電荷注入防止層は無機光
導電層、有機光導電層、有機無機複合型光導電層で形成
され、その膜厚は0.1〜10μm程度である。具体的に
は、電極がマイナスの場合はB、Al、Ga、In等をドープ
したアモルファスシリコン光導電層、アモルファスセレ
ン、またはオキサジアゾール、ピラゾリン、ポリビニル
カルバゾール、スチルベン、アントラセン、ナフタレ
ン、トリジフェニルメタン、トリフェニルメタン、アジ
ン、アミン、芳香族アミン等を樹脂中に分散して形成し
た有機光導電層、電極がプラスの場合は、P、N、As、
Sb、Bi等をドープしたアモルファスシリコン光導電層、
ZnO光導電層等をグロー放電、蒸着、スパッタリング、C
VD、コーティング等の方法により形成される。
The charge injection preventing layer includes two types, a layer using a so-called tunneling effect and a layer using a rectifying effect. First, in the case of utilizing the so-called tunneling effect, the current does not flow to the photoconductive layer or the insulating layer surface by the voltage injection preventing layer only by applying a voltage, but when light is injected, it corresponds to the incident portion. In the charge injection preventing layer, a high electric field is applied due to the presence of one of the charges (electrons or holes) generated in the photoconductive layer, causing a tunnel effect and causing a current to flow through the charge injection preventing layer. . Such a charge injection prevention layer is formed of a single layer of an inorganic insulating film, an organic insulating polymer film, an insulating monomolecular film, or the like, or is formed by laminating them. As the inorganic insulating film, for example, As 2 O 3, B 2 O 3, Bi 2 O 3, CdS, CaO, CeO 2, Cr 2 O 3, CoO,
GeO 2 , HfO 2 , Fe 2 O 3 , La 2 O 3 , MgO, MnO 2 , Nd 2 O, Nb 2 O 5 ,
PbO, Sb 2 O 3, SiO 2, SeO 2, Ta 2 O 5, TiO 2, WO 3, V 2 O 5, Y 2
O 5, Y 2 O 3, ZrO 2, BaTiO 3, Al 2 O 3, Bi 2 TiO 5, CaO-SrO,
CaO-Y 2 O 3, Cr -SiO, LiTaO 3, PbTiO 3, PbZrO 3, ZrO 2 -
Co, ZrO 2 -SiO 2 , AlN, BN, NbN, Si 3 N 4 , TaN, TiN, V
Glow discharge, deposition, N, ZrN, SiC, TiC, WC, Al 4 C 3 etc.
It is formed by sputtering or the like. The thickness of this layer is determined for each material used in consideration of the insulating property for preventing charge injection and the tunnel effect. Next, as the charge injection preventing layer utilizing the rectifying effect, a charge transporting layer having a charge transporting ability having a polarity opposite to the polarity of the electrode substrate is provided using the rectifying effect. That is, such a charge injection preventing layer is formed of an inorganic photoconductive layer, an organic photoconductive layer, and an organic-inorganic hybrid type photoconductive layer, and has a thickness of about 0.1 to 10 μm. Specifically, when the electrode is negative, B, Al, Ga, amorphous silicon photoconductive layer doped with In, etc., amorphous selenium, or oxadiazole, pyrazoline, polyvinylcarbazole, stilbene, anthracene, naphthalene, tridiphenylmethane, Organic photoconductive layer formed by dispersing triphenylmethane, azine, amine, aromatic amine, etc. in a resin. If the electrode is positive, P, N, As,
Amorphous silicon photoconductive layer doped with Sb, Bi, etc.,
Glow discharge, vapor deposition, sputtering, C
It is formed by a method such as VD or coating.

次ぎに、電荷保持媒体材料、および電荷保持媒体の作
製方法について説明する。
Next, a charge holding medium material and a method for manufacturing the charge holding medium will be described.

電荷保持媒体3は感光体1と共に用いられて、電荷保
持媒体3を構成する絶縁層11の表面、もしくはその内部
に情報を静電荷の分布として記録するものであるから、
電荷保持媒体自体が記録媒体として使用されるものであ
る。従って記録される情報、あるいは記録の方法により
この電荷保持媒体の形状は種々の形状をとることができ
る。例えば静電カメラ(同一出願人による同日出願)に
用いられる場合には、一般のフィルム(単コマ、連続コ
マ用)形状、あるいはディスク状となり、レーザー等に
よりデジタル情報、またはアナログ情報を記録する場合
には、テープ形状、ディスク形状、或いはカード形状と
なる。
The charge holding medium 3 is used together with the photoreceptor 1 to record information as a distribution of electrostatic charges on the surface of the insulating layer 11 constituting the charge holding medium 3 or inside thereof.
The charge holding medium itself is used as a recording medium. Therefore, the shape of the charge holding medium can take various shapes depending on the information to be recorded or the recording method. For example, when used for an electrostatic camera (filed on the same date by the same applicant), it takes the form of a general film (for single frame or continuous frame) or disk shape, and records digital information or analog information using a laser or the like. Takes a tape shape, a disk shape, or a card shape.

絶縁層支持体15は、上記のような電荷保持媒体3を強
度的に支持するものであるが、基本的には光導電層支持
体5と同様な材質で構成され、光透過性も同様に要求さ
れる場合がある。具体的には、電荷保持媒体3がフレキ
シブルなフィルム、テープ、ディスク形状をとる場合に
は、フレキシブル性のあるプラスチックフィルムが使用
され、強度が要求される場合には剛性のあるシート、ガ
ラス等の無機材料等が使用される。
The insulating layer support 15 strongly supports the charge holding medium 3 as described above, but is basically made of the same material as the photoconductive layer support 5 and has the same light transmittance. May be required. Specifically, when the charge holding medium 3 takes the shape of a flexible film, tape, or disk, a flexible plastic film is used, and when strength is required, a rigid sheet, glass, or the like is used. An inorganic material or the like is used.

電荷保持媒体電極13は、基本的には感光体電極7と同
じでよく、上述した感光体電極7と同様の形成方法によ
って、絶縁層支持体15上に形成される。
The charge storage medium electrode 13 may be basically the same as the photoreceptor electrode 7, and is formed on the insulating layer support 15 by the same forming method as the photoreceptor electrode 7 described above.

絶縁層11は、その表面、もしくはその内部に情報を静
電荷の分布として記録するものであるから、電荷の移動
を抑えるため高絶縁性が必要であり、比抵抗で1014Ω・
cm以上の絶縁性を有することが要求される。このような
絶縁層11は、樹脂、ゴム類を溶剤に溶解させ、コーティ
ング、ディッピングするか、または蒸着、スパッタリン
グ法により層形成させることができる。
Since the insulating layer 11 records information on the surface or inside thereof as a distribution of static charges, high insulating properties are required to suppress the movement of charges, and the specific resistance is 10 14 Ω ·
It is required to have insulation properties of not less than cm. Such an insulating layer 11 can be formed by dissolving a resin or rubber in a solvent and coating or dipping, or by vapor deposition or sputtering.

ここで、上記樹脂、ゴムとしては、例えばポリエチレ
ン,ポリプロピレン,ビニル樹脂,スチロール樹脂,ア
クリル樹脂,ナイロン66,ナイロン6,ポリカーボネー
ト,アセタールホモポリマー,弗素樹脂,セルロース樹
脂,フェノール樹脂,ユリア樹脂,ポリエスエル樹脂,
エポキシ樹脂,可撓性エポキシ樹脂,メラミン樹脂,シ
リコン樹脂,フェノオキシ樹脂,芳香族ポリイミド,PP
O,ポリスルホン等、またはポリイソプレン,ポリブタジ
ェン,ポリクロロプレン,イソブチレン,極高ニトリ
ル,ポリアクリルゴム,クロロスルホン化ポリエチレ
ン,エチレン・プロピレンラバー,弗素ゴム,シリコン
ラバー,多硫化系合成ゴム,ウレタンゴム等のゴムの単
体、あるいは混合物が使用される。
Here, as the resin and rubber, for example, polyethylene, polypropylene, vinyl resin, styrene resin, acrylic resin, nylon 66, nylon 6, polycarbonate, acetal homopolymer, fluororesin, cellulose resin, phenol resin, urea resin, and polystyrene resin ,
Epoxy resin, flexible epoxy resin, melamine resin, silicone resin, phenoxy resin, aromatic polyimide, PP
O, polysulfone, etc. or polyisoprene, polybutadiene, polychloroprene, isobutylene, ultra high nitrile, polyacryl rubber, chlorosulfonated polyethylene, ethylene / propylene rubber, fluorine rubber, silicon rubber, polysulfide synthetic rubber, urethane rubber, etc. A simple substance or a mixture of rubber is used.

またシリコンフィルム、ポリエステルフィルム、ポリ
イミドフィルム、合弗素フィルム、ポリエチレンフィル
ム、ポリプロピレンフィルム、ポリパラバン酸フィル
ム、ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルム等
を電荷保持媒体電極13上に接着剤等を介して貼着するこ
とにより層形成させるか、あるいは熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、ゴム
等に必要な硬化剤、溶剤等を添加してコーティング、デ
ィッピングすることにより層形成してもよい。
Further, a layer is formed by attaching a silicon film, a polyester film, a polyimide film, a polyfluorinated film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyparabanic acid film, a polycarbonate film, a polyamide film or the like to the charge holding medium electrode 13 via an adhesive or the like. Even if the layer is formed by coating or dipping a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, a curing agent necessary for a rubber or the like, a solvent, etc. Good.

また絶縁層11として、ラングミュアー・ブロジェト法
により形成される単分子膜、または単分子累積膜も使用
することができる。
Further, as the insulating layer 11, a monomolecular film formed by a Langmuir-Blodget method or a monomolecular cumulative film can also be used.

またこれら絶縁層11には、電極面との間、または絶縁
層11上に電荷保持強化層を設けることができる。電荷保
持強化層とは、強電界(104V/cm以上)が印加された時
には電荷が注入するが、低電界(104V/cm以下)では電
荷が注入しない層のことをいう。電荷保持強化層として
は、例えばSiO2、Al2O3、SiC、SiN等が使用でき、有機
系物質としては例えばポリエチレン蒸着膜、ポリパラキ
シレン蒸着膜が使用できる。
In addition, a charge retention enhancing layer can be provided between the insulating layer 11 and the electrode surface or on the insulating layer 11. The charge retention enhancing layer refers to a layer into which electric charge is injected when a strong electric field (10 4 V / cm or more) is applied, but which is not injected at a low electric field (10 4 V / cm or less). As the charge retention enhancing layer, for example, SiO 2 , Al 2 O 3 , SiC, SiN or the like can be used, and as the organic substance, for example, a polyethylene deposited film or a polyparaxylene deposited film can be used.

また静電荷をより安定に保持させるために、絶縁層11
に、電子供与性を有する物質(ドナー材料)、あるいは
電子受容性を有する物質(アクセプター材料)を添加す
るとよい。ドナー材料としてはスチレン系、ピレン系、
ナフタレン系、アントラセン系、ピリジン系、アジン系
化合物があり、具体的にはテトラチオフルバレン(TT
F)、ポリビニルピリジン、ポリビニルナフタレン、ポ
リビニルアントラセン、ポリアジン、ポリビニルピレ
ン、ポリスチレン等が使用され、一種、または混合して
用いられる。またアクセプター材料としてはハロゲン化
合物、シアン化合物、ニトロ化合物等があり、具体的に
はテトラシアノキノジメタン(TCNQ)トリニトロフルオ
レノン(TNF)等が使用され、一種、または混合して使
用される。ドナー材料、アクセプター材料は、樹脂等に
対して0.001〜10%程度添加して使用される。
In order to more stably hold the electrostatic charge, the insulating layer 11
In addition, a substance having an electron-donating property (donor material) or a substance having an electron-accepting property (acceptor material) may be added. Donor materials include styrene, pyrene,
There are naphthalene-based, anthracene-based, pyridine-based, and azine-based compounds. Specifically, tetrathiofulvalene (TT
F), polyvinyl pyridine, polyvinyl naphthalene, polyvinyl anthracene, polyazine, polyvinyl pyrene, polystyrene and the like are used, and one kind or a mixture is used. As the acceptor material, there are a halogen compound, a cyan compound, a nitro compound and the like, and specifically, tetracyanoquinodimethane (TCNQ) trinitrofluorenone (TNF) and the like are used, and one kind or a mixture is used. The donor material and the acceptor material are used by adding about 0.001 to 10% to the resin or the like.

さらに電荷を安定に保持させるために、電荷保持媒体
中に元素単体微粒子を添加することができる。元素単体
としては周期律表第I A族(アルカリ金属)、同I B族
(銅族)、同II A族(アルカリ土類金属)、同II B族
(亜鉛族)、同III A族(アルミニウム族)、同III B族
(希土類)、同IV B族(チタン族)、同V B族(バナジ
ウム族)、同VI B族(クロム族)、同VII B族(マンガ
ン族)、同VIII族(鉄族、白金族)、または同IV A族
(炭素族)としては珪素、ゲルマニウム、錫、鉛、同V
A族(窒素族)としてはアンチモン、ビスマス、同VI A
族(酸素族)としては硫黄、セレン、テルルが微細粉状
で使用される。また上記元素単体のうち金属類は金属イ
オン、微細粉状の合金、有機金属、錯体の形態としても
使用することができる。更に上記元素単体は酸化物、燐
酸化物、硫酸化物、ハロゲン化物の形態で使用すること
ができる。これらの添加物は、上述した樹脂、ゴム等の
電荷保持媒体にごく僅か添加すればよく、添加量は電荷
保持媒体に対して0.01〜10重量%程度でよい。また絶縁
層11は、絶縁性の点からは少なくても1000Å(0.1μ
m)以上の厚みが必要であり、フレキシビル性の点から
は100μm以下が好ましい。
Further, in order to stably hold the charge, elemental element fine particles can be added to the charge holding medium. Elemental elements include the following elements in the periodic table: Group IA (alkali metal), Group IB (copper group), Group IIA (alkaline earth metal), Group IIB (zinc group), Group IIIA (aluminum group) ), IIIB (rare earth), IVB (titanium), VB (vanadium), VIB (chromium), VIB (manganese), VIII (iron) Group, platinum group) or IV group A (carbon group) as silicon, germanium, tin, lead, V
Antimony, bismuth, and VIA
As the group (oxygen group), sulfur, selenium, and tellurium are used in the form of fine powder. Metals among the above elemental elements can be used in the form of metal ions, fine powdery alloys, organic metals, and complexes. Further, the above element simple substance can be used in the form of an oxide, a phosphate, a sulfate, or a halide. These additives may be added to the charge holding medium such as the above-mentioned resins and rubbers in a very small amount, and may be added in an amount of about 0.01 to 10% by weight based on the charge holding medium. Insulating layer 11 is at least 1000 mm (0.1 μ
m) or more, and the thickness is preferably 100 μm or less from the viewpoint of flexibility.

このようにして形成される絶縁層11は、破損、または
その表面の情報電荷の放電を防止するために、その表面
に保護膜を設けることができる。保護膜としては粘着性
を有するシリコンゴム等のゴム類、ポリテルペン樹脂等
の樹脂類をフィルム状にし、絶縁層11の表面に貼着する
か、またプラスチックフィルムをシリコンオイル等の密
着剤を使用して貼着するとよく、比抵抗1014Ω・cm以上
のものであればよく、膜厚は0.5〜30μm程度であり、
絶縁層11の情報を高解像度とする必要がある場合には保
護膜は薄い程よい。この保護層は、情報再生時には保護
膜上から情報を再生してもよく、また保護膜を剥離して
絶縁層の情報を再生することもできる。
The insulating layer 11 thus formed can be provided with a protective film on its surface in order to prevent damage or discharge of information charges on its surface. As the protective film, a rubber such as silicone rubber having adhesiveness, a resin such as polyterpene resin is formed into a film, and the film is adhered to the surface of the insulating layer 11, or a plastic film is formed using an adhesive such as silicone oil. It is good if the specific resistance is 10 14 Ωcm or more, the film thickness is about 0.5 to 30 μm,
When the information of the insulating layer 11 needs to have high resolution, the thinner the protective film, the better. This protective layer may reproduce information from above the protective film at the time of reproducing information, or may reproduce the information of the insulating layer by peeling off the protective film.

静電荷保持の方法としては、前述したような表面電荷
を蓄積するいわゆる自由電荷保持方法以外に絶縁媒体内
部に電荷の分布、分極を生じさせるエレクトレットがあ
る。
As an electrostatic charge holding method, there is an electret that causes charge distribution and polarization inside an insulating medium, in addition to the so-called free charge holding method of accumulating surface charges as described above.

第2図は光エレクトレットを用いた静電荷保持方法を
示す図、第1図と同一番号は同一内容を示している。な
お、図中、19は透明電極である。
FIG. 2 is a diagram showing a method for retaining electrostatic charges using an optical electret, and the same numbers as those in FIG. 1 indicate the same contents. In the figure, reference numeral 19 denotes a transparent electrode.

第2図(イ)に示すようにフィルム等の支持体15上に
電極13を形成し、電極板上にZnS、CdS、ZnOを、蒸着ス
パッター、CVD、コーティング法等で1層1〜5μm形
成する。そしてこの感光層表面に透明電極19を接触ある
いは非接触で重ね、電圧印加状態で露光すると(第2図
(ロ))、露光部で光によって電荷が発生し、電場によ
って分極し、電荷は電場を取り去ってもその位置にトラ
ップされる(第2図(ハ))。こうして、露光量に応じ
たエレクトレットが得られる。なお、第2図の電荷保持
媒体の場合は別体の感光体を必要としない利点がある。
As shown in FIG. 2 (a), an electrode 13 is formed on a support 15 such as a film, and ZnS, CdS, and ZnO are formed on the electrode plate in a thickness of 1 to 5 μm by vapor deposition sputtering, CVD, coating method, or the like. I do. Then, when a transparent electrode 19 is superposed on the surface of the photosensitive layer in a contact or non-contact manner, and exposed under a voltage applied state (FIG. 2 (b)), charges are generated by light in the exposed portion and polarized by an electric field. Is trapped at that position (FIG. 2 (c)). Thus, an electret corresponding to the exposure amount is obtained. In the case of the charge holding medium shown in FIG. 2, there is an advantage that a separate photoconductor is not required.

第3図は熱エレクトレットを用いた静電荷保持方法を
示す図で、第1図と同一番号は同一内容である。
FIG. 3 is a diagram showing a method for retaining electrostatic charges using a thermal electret, and the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same contents.

熱エレクトレット材料としては、例えばポリ弗化ビニ
リデン(PVDF),ポリ(VDF/三フッ化エチレン)、ポリ
(VDF/四フッ化エチレン),ポリフッ化ビニル,ポリ塩
化ビニリデン,ポリアクリロニトリル,ポリ−α−クロ
ロアクリロニトリル,ポリ(アクリロニトリル/塩化ビ
ニル),ポリアミド11,ポリアミド3,ポリ−m−フェニ
レンイソフタルアミド,ポリカーボネート,ポリ(ビニ
リデンシアナイド酢酸ビニル),PVDF/PZT複合体等から
なり、これを電極基板13上に1〜50μm単層で設けるか
あるいは2種類以上のものを積層する。
Examples of the heat electret material include polyvinylidene fluoride (PVDF), poly (VDF / ethylene trifluoride), poly (VDF / ethylene tetrafluoride), polyvinyl fluoride, polyvinylidene chloride, polyacrylonitrile, and poly-α-. It is made of chloroacrylonitrile, poly (acrylonitrile / vinyl chloride), polyamide 11, polyamide 3, poly-m-phenylene isophthalamide, polycarbonate, poly (vinylidene cyanide vinyl acetate), PVDF / PZT composite, etc. A single layer of 1 to 50 μm is provided thereon, or two or more layers are laminated.

そして露光前に抵抗加熱等で上記媒体材料のガラス転
移以上に媒体を加熱しておき、その状態で電圧印加露光
を行う(第3図(ロ))。高温ではイオンの移動度が大
きくなっており、露光部では絶縁層に高電界が加わり、
熱的に活性化されたイオンの内、負電荷は正電極に、正
電荷は負電極に集まって空間電荷を形成し、分極を生じ
る。その後、媒体を冷却すると、発生した電荷は電場を
取り去ってもその位置にトラップされ露光量に応じたエ
レクトレットを生じる(第3図(ハ))。
Then, before exposure, the medium is heated above the glass transition of the medium material by resistance heating or the like, and voltage application exposure is performed in that state (FIG. 3 (b)). At high temperatures, the mobility of ions is large, and in the exposed area, a high electric field is applied to the insulating layer,
Of the thermally activated ions, the negative charge collects on the positive electrode and the positive charge collects on the negative electrode to form a space charge, causing polarization. Thereafter, when the medium is cooled, the generated charges are trapped at the position even after the electric field is removed, and an electret corresponding to the exposure amount is generated (FIG. 3 (c)).

次ぎに、絶縁層11に情報を入力する方法としては高解
像度静電カメラによる方法、またレーザーによる記録方
法がある。まず本願発明で使用される高解像度静電カメ
ラは、通常のカメラに使用されている写真フィルムの代
わりに、前面に感光体電極7を設けた光導電層9からな
る感光体1と、感光体1に対向し、後面に電荷保持媒体
電極13を設けた絶縁層11からなる電荷保持媒体とにより
記録部材を構成し、両電極へ電圧を印加し、入射光に応
じて光導電層を導電性として入射光量に応じて絶縁層上
に電荷を蓄積させることにより入射光学像の静電潜像を
電荷蓄積媒体上に形成するもので、機械的なシャッタも
使用しうるし、また電気的なシャッタも使用しうるもの
であり、また静電潜像は明所、暗所に関係なく長期間保
持することが可能である。またプリズムにより光情報
も、R、G、B光成分に分離し、平行光として取り出す
カラーフィルターを使用し、R、G、B分解した電荷保
持媒体3セットで1コマを形成するか、または1平面上
にR、G、B像を並べて1セットで1コマとすることに
より、カラー撮影することもできる。
Next, as a method for inputting information to the insulating layer 11, there are a method using a high-resolution electrostatic camera and a recording method using a laser. First, the high-resolution electrostatic camera used in the present invention comprises a photoconductor 1 comprising a photoconductive layer 9 provided with a photoconductor electrode 7 on the front, instead of a photographic film used in a normal camera, A recording member is constituted by a charge holding medium comprising an insulating layer 11 having a charge holding medium electrode 13 provided on the rear surface thereof, and a voltage is applied to both electrodes so that the photoconductive layer becomes conductive according to incident light. An electrostatic latent image of an incident optical image is formed on a charge storage medium by accumulating electric charges on an insulating layer in accordance with the amount of incident light, and a mechanical shutter can be used. It can be used, and the electrostatic latent image can be held for a long period of time irrespective of a bright place or a dark place. Also, optical information is separated into R, G, and B light components by a prism, and a color filter that takes out as parallel light is used. One frame is formed by three sets of the R, G, and B separated charge holding media. By arranging the R, G, and B images on a plane to form one frame in one set, color photography can also be performed.

またレーザーによる記録方法としては、光源としては
アルゴンレーザー(514.488nm)、ヘリウム−ネオンレ
ーザー(633nm)、半導体レーザー(780nm、810nm等)
が使用でき、感光体と電荷保持媒体を面状で表面同志
を、密着させるか、一定の間隔をおいて対向させ、電圧
印加する。この場合感光体のキャリアの極性と同じ極性
に感光体電極をセットするとよい。この状態で画像信
号、文字信号、コード信号、線画信号に対応したレーザ
ー露光をスキャニングにより行うものである。画像のよ
うなアナログ的な記録は、レーザーの光強度を変調して
行い、文字、コード、線画のようなデジタル的な記録
は、レーザー光のON−OFF制御により行う。また画像に
おいて網点形成されるものには、レーザー光にドットジ
ェネレータON−OFF制御をかけて形成するものである。
尚、感光体における光導電層の分光特性は、パンクロマ
ティックである必要はなく、レーザー光源の波長に感度
を有していればよい。
As a recording method using a laser, an argon laser (514.488 nm), a helium-neon laser (633 nm), a semiconductor laser (780 nm, 810 nm, etc.) are used as a light source.
A voltage is applied by bringing the photoreceptor and the charge holding medium into a planar shape and bringing the surfaces into close contact or facing each other at a certain interval. In this case, the photoconductor electrode may be set to the same polarity as the carrier of the photoconductor. In this state, laser exposure corresponding to the image signal, character signal, code signal, and line drawing signal is performed by scanning. Analog recording such as images is performed by modulating the laser light intensity, and digital recording such as characters, codes, and line drawings is performed by ON-OFF control of laser light. In the case where halftone dots are formed in an image, the halftone dots are formed by applying dot generator ON-OFF control to laser light.
Note that the spectral characteristics of the photoconductive layer in the photoreceptor need not be panchromatic, but may be any as long as they have sensitivity to the wavelength of the laser light source.

第4図は本発明の音声情報入力機能を備えた静電カメ
ラの構成を示す図で、図中、101はマイクロホン、102は
増幅器、103はレーザー、104は音響光学変調器、105は
ポリゴンミラー、106は電源である。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of an electrostatic camera having a voice information input function of the present invention. In the figure, 101 is a microphone, 102 is an amplifier, 103 is a laser, 104 is an acousto-optic modulator, and 105 is a polygon mirror. , 106 are power supplies.

感光体1は電荷保持媒体3との間にはスイッチ107のO
N/OFFにより電源106より所定の電圧が印加されるように
なっている。そして、所定の電圧が印加された状態で画
像情報光100で面露光することにより、電荷保持媒体3
には画像に応じた潜像電位が形成される。一方マイクロ
ホン101を介して音声に応じた電気信号が増幅器102で増
幅され、音響光学変調器104で音声信号に応じてレーザ
ー103からのレーザー光を変調し、ポリゴンミラー105で
走査して感光体1を照射し、音声信号に応じた潜像電位
を電荷保持媒体3に形成する。こうして電荷保持媒体3
には画像情報と共に音声情報が記録されることになる。
その結果、例えば電荷保持媒体上に景色等の画像を記録
する時に、撮影時の状況等を音声として記録することが
できるので、再生した時にその時の説明入りの再生像を
得ることが可能となる。
The photoconductor 1 is connected between the charge holding medium 3 and the switch 107 by an O switch.
A predetermined voltage is applied from the power supply 106 by N / OFF. Then, surface exposure is performed with the image information light 100 in a state where a predetermined voltage is applied, so that the charge holding medium 3 is exposed.
Is formed with a latent image potential corresponding to the image. On the other hand, an electric signal corresponding to the sound is amplified by the amplifier 102 via the microphone 101, the laser light from the laser 103 is modulated by the acousto-optic modulator 104 according to the sound signal, and the polygon mirror 105 scans the photosensitive member 1 for scanning. To form a latent image potential corresponding to the audio signal on the charge holding medium 3. Thus, the charge holding medium 3
Will be recorded with audio information together with image information.
As a result, for example, when an image such as a landscape is recorded on a charge holding medium, the situation at the time of shooting can be recorded as audio, so that when reproduced, a reproduced image with the description at that time can be obtained. .

なお、上記説明では光学変調器とポリゴンミラーとの
組み合わせにより光を変調して走査露光するようにした
が、この他にも、例えばフライングスポットスキャナー
(FSS)等のようにCRTと変更手段の組み合わせにより電
子ビームを走査し、ブラウン管面の輝点からの光により
感光体を通して走査露光するようにしてもよく、また管
面部に針電極群を有する一種のCRTの管面に近接して電
荷保持媒体を対向配置し、走査電子ビームが当たった針
電極を通して電荷保持媒体に直接放電記録するようにし
てもよい。
In the above description, scanning and exposure are performed by modulating light using a combination of an optical modulator and a polygon mirror. In addition, a combination of a CRT and a changing means such as a flying spot scanner (FSS) may be used. May be used to scan and expose through a photoreceptor with light from the bright spot on the surface of the cathode ray tube, or a charge holding medium close to the surface of a type of CRT having needle electrodes on the tube surface. May be arranged to face each other, and discharge recording is performed directly on the charge holding medium through the needle electrode irradiated with the scanning electron beam.

第5図はPCM変調を利用した本発明の他の実施例を示
す図で、第4図と同一番号は同一内容を示している。第
5図の場合は音声信号をPCM120でディジタル信号に変換
しているので、ノイズに強い良質の音声情報を記録する
ことが可能となる。
FIG. 5 is a diagram showing another embodiment of the present invention utilizing PCM modulation, and the same reference numerals as those in FIG. 4 indicate the same contents. In the case of FIG. 5, since the audio signal is converted into a digital signal by the PCM 120, it is possible to record high-quality audio information that is resistant to noise.

第6図は本発明の他の実施例を示す図で、図中、121
はA/D変換器、122は循環メモリ、123はD/A変換器であ
る。
FIG. 6 is a view showing another embodiment of the present invention.
Is an A / D converter, 122 is a circulating memory, and 123 is a D / A converter.

本実施例においては、音声信号をA/D変換して循環メ
モリ122に記憶し、循環メモリ122の出力をD/A変換して
これを記録するようにしたものである。循環メモリ122
は一定時間の音声情報を記憶する記憶容量を有し、順次
記憶内容を更新するようにしているので、常に一定時間
前から現在までの音声情報が記憶されるようになってい
る。例えば循環メモリの記憶容量を1分間の音声情報を
記録することができるようにしたとすれば、撮影時点の
30秒前から30秒後まで音声情報を記録させるようにする
ことができるので、撮影時の情景をリアル感を持って再
現することが可能となる。例えばSLの撮影等において、
シュッシュッポッポ、シュッシュッポッポという音とシ
ャッター音と共に、SLの像を撮影することができれば、
その再生画像は撮影時の状況を彷彿と思い出す等が期待
できる。
In this embodiment, the audio signal is A / D converted and stored in the circulation memory 122, and the output of the circulation memory 122 is D / A converted and recorded. Circular memory 122
Has a storage capacity for storing voice information for a certain period of time and sequentially updates the stored contents, so that the voice information from a certain period before to the present is always stored. For example, if the storage capacity of the circulating memory is made to be able to record audio information for one minute,
Since the audio information can be recorded from 30 seconds before to 30 seconds later, it is possible to reproduce the scene at the time of shooting with a realistic feeling. For example, when shooting SL,
If you can capture the image of SL with the sound of shushuppo, shushuppo and shutter sound,
The reproduced image can be expected to recall the situation at the time of shooting.

以下、像電位読取り方法について説明する。 Hereinafter, an image potential reading method will be described.

第7図は本発明における電位読み取り方法の例を示す
図で、第1図と同一番号は同一内容を示している。な
お、図中、21は電位読み取り部、23は検出電極、25はガ
ード電極、27はコンデンサ、29は電圧計である。
FIG. 7 is a diagram showing an example of a potential reading method according to the present invention, and the same numbers as those in FIG. 1 indicate the same contents. In the figure, 21 is a potential reading unit, 23 is a detection electrode, 25 is a guard electrode, 27 is a capacitor, and 29 is a voltmeter.

電位読み取り部21を電荷保持媒体3の電荷蓄積面に対
向させると、検出電極23に電荷保持媒体3の絶縁層11上
に蓄積された電荷によって生じる電界が作用し、検出電
極面上に電荷保持媒体上の電荷と等量の誘導電荷が生ず
る。この誘導電荷と逆極性の等量の電荷でコンデンサ27
が充電されるので、コンデンサの電極間に蓄積電荷に応
じた電位差が生じ、この値を電圧計29で読むことによっ
て電荷保持体の電位を求めることができる。そして、電
位読み取り部21で電荷保持媒体面上を走査することによ
り静電潜像を電気信号として出力することができる。な
お、検出電極23だけでは電荷保持媒体の検出電極対向部
位よりも広い範囲の電荷による電界(電気力線)が作用
して分解能が落ちるので、検出電極の周囲に接地したガ
ード電極25を配置するようにしてもよい。これによっ
て、電気力線は面に対して垂直方向を向くようになるの
で、検出電極23に対向した部位のみの電気力線が作用す
るようになり、検出電極面積に略等しい部位の電位を読
み取ることができる。電位読み取りの精度、分解能は検
出電極、ガード電極の形状、大きさ、及び電荷保持媒体
との間隔によって大きく変わるため、要求される性能に
合わせて最適条件を求めて設計する必要がある。
When the potential reading unit 21 faces the charge storage surface of the charge holding medium 3, an electric field generated by charges stored on the insulating layer 11 of the charge holding medium 3 acts on the detection electrode 23, and the charge is held on the detection electrode surface. An induced charge equal to the charge on the medium results. A capacitor 27 with an equal amount of charge of the opposite polarity to this induced charge
Is charged, a potential difference occurs between the electrodes of the capacitor in accordance with the accumulated charge. By reading this value with the voltmeter 29, the potential of the charge holding member can be obtained. The electrostatic latent image can be output as an electric signal by scanning the surface of the charge holding medium with the potential reading unit 21. When the detection electrode 23 alone is used, an electric field (line of electric force) due to electric charges in a wider range than the detection electrode facing portion of the charge storage medium acts to lower the resolution. Therefore, the grounded guard electrode 25 is arranged around the detection electrode. You may do so. As a result, the lines of electric force are directed in the direction perpendicular to the surface, so that the lines of electric force only act on the portion facing the detection electrode 23, and the potential of the portion substantially equal to the detection electrode area is read. be able to. The accuracy and resolution of potential reading vary greatly depending on the shape and size of the detection electrode and guard electrode, and the distance between the detection electrode and the guard electrode. Therefore, it is necessary to design the optimum conditions in accordance with the required performance.

第8図は電位読み取り方法の他の例を示す図で、検出
電極、ガード電極を絶縁性保護膜31上に設け、絶縁性保
持膜を介して電位を検出する点以外は第7図の場合と同
様である。
FIG. 8 is a view showing another example of the potential reading method. The case of FIG. 7 except that a detection electrode and a guard electrode are provided on the insulating protective film 31 and the potential is detected via the insulating holding film. Is the same as

この方法によれば、電荷保持媒体に接触させて検出で
きるため検出電極との間隔を一定にすることができる。
According to this method, since the detection can be performed by contacting the charge holding medium, the distance from the detection electrode can be made constant.

第9図は電位読み取り方法の他の例を示す図で、針状
電極33を直接電荷保持媒体に接触させ、その部位の電位
を検出するもので、検出面積を小さくすることができる
ので、高分解能を得ることができる。なお、針状電極を
複数設けて検出するようにすれば読み取り速度を向上さ
せることが可能となる。
FIG. 9 is a view showing another example of the potential reading method, in which the needle-like electrode 33 is brought into direct contact with the charge holding medium to detect the potential at the site, and the detection area can be reduced. Resolution can be obtained. If a plurality of needle electrodes are provided for detection, the reading speed can be improved.

以上は接触または非接触で直流信号を検出する直流増
幅型のものであるが、次に交流増幅型の例を説明する。
The above is a DC amplification type that detects a DC signal in a contact or non-contact manner. Next, an example of an AC amplification type will be described.

第10図は振動電極型の電位読取り方法を示す図で、22
は検出電極、24は増幅器、26はメータである。
FIG. 10 is a diagram showing a potential reading method of a vibrating electrode type.
Is a detection electrode, 24 is an amplifier, and 26 is a meter.

検出電極22は振動し、電荷保持媒体3の帯電面に対し
て時間的に距離が変化するように駆動されており、その
結果、検出電極22における電位は、帯電面の静電電位に
応じた振幅で時間的に変化する。この時間的な電位変化
をインピーダンスZの両端の電圧変化として取り出し、
コンデンサCを通して交流分を増幅器24で増幅し、メー
タ26により読み取ることにより帯電面の静電電位を測定
することができる。
The detection electrode 22 vibrates and is driven so that the distance with respect to the charged surface of the charge holding medium 3 changes with time, and as a result, the potential at the detection electrode 22 corresponds to the electrostatic potential of the charged surface. It changes over time with amplitude. This temporal potential change is extracted as a voltage change across the impedance Z,
The AC component is amplified by the amplifier 24 through the capacitor C and read by the meter 26, whereby the electrostatic potential of the charged surface can be measured.

第11図は回転型検出器の例を示し、図中28は回転羽根
である。
FIG. 11 shows an example of a rotary detector, in which 28 is a rotary blade.

電極22と電荷保持媒体3の帯電面の間には導電性の回
転羽根28が設けられて図示しない駆動手段により回転駆
動されている。その結果、検出電極22と電荷保持媒体3
との間は周期的に電気的に遮蔽される。そのため、検出
電極22には帯電面の静電電位に応じた振幅の周期的に変
化する電位信号が検出され、この交流成分を増幅器24で
増幅して読み取ることになる。
Conductive rotating blades 28 are provided between the electrode 22 and the charged surface of the charge holding medium 3, and are driven to rotate by driving means (not shown). As a result, the detection electrode 22 and the charge holding medium 3
Is periodically and electrically shielded. Therefore, the detection electrode 22 detects a periodically varying potential signal having an amplitude corresponding to the electrostatic potential of the charged surface, and the AC component is amplified by the amplifier 24 and read.

第12図は振動容量型検出器の例を示し、28は駆動回
路、30は振動片である。
FIG. 12 shows an example of a vibration capacitance type detector, in which 28 is a drive circuit, and 30 is a vibrating reed.

駆動回路28によってコンデンサーを形成する一方の電
極の振動片30を振動させて、コンデンサ容量を変化させ
る。その結果、検出電極22により検出される直流電位信
号は変調を受け、この交流成分を増幅して検出する。こ
の検出器は直流を交流に変換して高感度で安定性良く電
位測定することができる。
The driving circuit 28 vibrates the vibrating reed 30 of one electrode forming the capacitor to change the capacitance of the capacitor. As a result, the DC potential signal detected by the detection electrode 22 is modulated, and the AC component is amplified and detected. This detector can convert a direct current into an alternating current and measure the potential with high sensitivity and high stability.

第13図は電位読み取り方法の他の例を示す図で、細長
い検出電極を用い、CT手法(コンピュータ断層映像法)
を用いて電位検出を行うものである。
FIG. 13 is a diagram showing another example of a potential reading method, in which a CT method (computed tomographic imaging method) is used by using an elongated detection electrode.
Is used to perform potential detection.

検出電極35を電荷蓄積面を横断するように対向配置す
ると、得られるデータは検出電極に沿って線積分した
値、即ちCTにおける投影データに相当するデータが得ら
れる。そこで、この検出電極を第13図(ロ)の矢印のよ
うに全面に行き渡るように走査し、さらに角度θを変え
て同様に走査していくことにより必要なデータを収集
し、収集したデータにCTアルゴリズムを用いて演算処理
を施すことにより、電荷保持体上の電位分布状態を求め
ることができる。
When the detection electrodes 35 are arranged to face each other across the charge storage surface, the obtained data is a value obtained by linear integration along the detection electrodes, that is, data corresponding to projection data in CT. Therefore, necessary data is collected by scanning this detection electrode so as to cover the entire surface as indicated by the arrow in FIG. 13 (b), and further changing the angle θ to collect necessary data. By performing arithmetic processing using the CT algorithm, the potential distribution state on the charge holding member can be obtained.

なお、第14図に示すように検出電極を複数個並べるよ
うにすればデータ収集速度を早くすることができ、全体
としての処理速度を向上させることができる。
If a plurality of detection electrodes are arranged as shown in FIG. 14, the data collection speed can be increased, and the processing speed as a whole can be improved.

第15図は集電型検出器の例を示し、図中、32は接地型
金属円筒、34は絶縁体、36は集電器である。
FIG. 15 shows an example of a current collecting detector, in which 32 is a grounded metal cylinder, 34 is an insulator, and 36 is a current collector.

集電器36には放射性物質が内蔵され、そこからα線が
放出されている。そのため、金属円筒内は空気が電離し
て正負のイオン対が形成されている。これらのイオンは
自然の状態では再結合および拡散によって消滅し、平衡
状態を保っているが、電界があると、熱運動による空気
分子との衝突を繰り返しながら統計的には電界の方向に
進み、電荷を運ぶ役割を果たす。
The current collector 36 contains a radioactive substance, from which alpha rays are emitted. Therefore, air is ionized in the metal cylinder to form positive and negative ion pairs. In the natural state, these ions disappear by recombination and diffusion, and maintain an equilibrium state.However, when an electric field is present, the ions statistically proceed in the direction of the electric field while repeatedly colliding with air molecules due to thermal motion. It plays the role of carrying charges.

即ち、イオンのため空気が導電化されて、集電器36も
含めたその周りの物体の間には等価的な電気抵抗路が存
在するとみなすことでできる。
In other words, it can be considered that the air is made conductive by the ions, and that an equivalent electric resistance path exists between the surrounding objects including the current collector 36.

従って、電荷保持媒体3の帯電面と接地金属円筒32、
帯電体と集電器36、および集電器36と接地金属円筒32の
間の抵抗をそれぞれR0、R1、R2とすると、帯電体の電位
をV1とすると、集電器36の電位V2は、定常状態では、 V2=R2V1(R1+R2) となる。その結果、集電器36の電位を読み取ることによ
って電荷保持媒体3の電位を求めることができる。
Therefore, the charged surface of the charge holding medium 3 and the ground metal cylinder 32,
When the resistance between the charged body and the current collector 36 and the resistance between the current collector 36 and the ground metal cylinder 32 are R 0 , R 1 , and R 2 , respectively, and when the potential of the charged body is V 1 , the potential V 2 of the current collector 36 is obtained. Becomes V 2 = R 2 V 1 (R 1 + R 2 ) in the steady state. As a result, the potential of the charge holding medium 3 can be obtained by reading the potential of the current collector 36.

第16図は電子ビーム型の電位読取装置の例を示す図
で、37は電子銃、38は電子ビーム、39は第1ダイノー
ド、40は2次電子増倍部である。
FIG. 16 is a view showing an example of an electron beam type potential reader, wherein 37 is an electron gun, 38 is an electron beam, 39 is a first dynode, and 40 is a secondary electron multiplier.

電子銃37から出た電子を図示しない静電偏向あるいは
は電磁偏向装置により偏向して帯電面を走査する。走査
電子ビームのうちの一部は、帯電面の電荷と結合して充
電電流が流れ、その分帯電面の電位は平衡電位に下が
る。残りの変調された電子ビームは電子銃37の方向に戻
り、第1ダイオード39に衝突し、その2次電子が2次電
子増倍部40で増幅されその陽極から信号出力として取り
出される。この戻りの電子ビームとして反射電子あるい
は2次電子を使用する。
Electrons emitted from the electron gun 37 are deflected by an electrostatic deflection device or an electromagnetic deflection device (not shown) to scan the charged surface. A part of the scanning electron beam is combined with the charge on the charged surface to cause a charging current to flow, and accordingly, the potential on the charged surface drops to an equilibrium potential. The remaining modulated electron beam returns to the direction of the electron gun 37, collides with the first diode 39, and its secondary electrons are amplified by the secondary electron multiplier 40 and taken out from its anode as a signal output. Reflected electrons or secondary electrons are used as the returning electron beam.

電子ビーム型の場合には、走査後は媒体上には均一な
電荷が形成されるが、走査時に潜像に対応する電流が検
出される。潜像がマイナス電荷の場合は、電荷が多い部
分(露光部)ではエレクトロンによる蓄積電荷が少な
く、充電電流が小さいが、例えば電荷が存在しない部分
では最大の充電電流が流れる。プラス電荷の場合はこの
逆でネガ型となる。
In the case of the electron beam type, a uniform charge is formed on the medium after scanning, but a current corresponding to a latent image is detected during scanning. When the latent image is negatively charged, the charge accumulated by the electrons is small and the charge current is small in a portion with a large amount of charge (exposed portion), but the maximum charge current flows in a portion where no charge is present, for example. In the case of a positive charge, the reverse is the case, and a negative type is obtained.

第17図は電位読み取り方法の他の例を示す図であり、
静電潜像が形成された電荷保持媒体3をトナー現像し、
着色した面を光ビームにより照射してスキャニングし、
その反射光を光電変換器61で電気信号に変換するもので
あり、光ビーム径を小さくすることにより高分解能を達
成することができ、また光学的に簡便に静電電位の検出
を行うことができる。
FIG. 17 is a diagram showing another example of the potential reading method,
Developing the charge holding medium 3 on which the electrostatic latent image is formed with toner,
Scanning by irradiating the colored surface with a light beam,
The reflected light is converted into an electric signal by the photoelectric converter 61, and high resolution can be achieved by reducing the diameter of the light beam, and the electrostatic potential can be easily detected optically. it can.

第18図は電位読み取り方法の他の例を示す図であり、
後述するような微細カラーフィルターにより形成したR,
G,B分解像をトナー現像し、着色した面を光ビームによ
り照射し、その反射光によりY,M,C信号を得る場合の例
を示している。図中、63は走査信号発生器、65はレーザ
ー、67は反射鏡、69はハーフミラー、71は光電変換器、
73、75、77はゲート回路である。
FIG. 18 is a diagram showing another example of the potential reading method,
R, formed by a fine color filter as described below,
An example is shown in which the G and B separated images are developed with toner, the colored surface is irradiated with a light beam, and the Y, M and C signals are obtained from the reflected light. In the figure, 63 is a scanning signal generator, 65 is a laser, 67 is a reflecting mirror, 69 is a half mirror, 71 is a photoelectric converter,
73, 75 and 77 are gate circuits.

走査信号発生器63からの走査信号でレーザー65からの
レーザー光を、反射鏡67、ハーフミラー69を介して着色
面に当てて走査する。着色面からの反射光をハーフミラ
ー69を介して光電変換器71に入射させて電気信号に変換
する。走査信号発生器63からの信号に同期してゲート回
路73、75、77を開閉制御すれば、微細フィルタのパター
ンに同期してゲート回路73、75、77が開閉制御されるの
で、Y、M、Cに着色しておかなくてもY、M、Cの信
号を得ることができる。
The scanning light from the scanning signal generator 63 is used to scan the laser light from the laser 65 by applying the laser light from the laser 65 to the colored surface via the reflecting mirror 67 and the half mirror 69. The light reflected from the colored surface is made incident on the photoelectric converter 71 via the half mirror 69 to be converted into an electric signal. If the gate circuits 73, 75, and 77 are controlled to open and close in synchronization with the signal from the scanning signal generator 63, the gate circuits 73, 75, and 77 are controlled to open and close in synchronization with the pattern of the fine filter. , C can be obtained without Y, M, C signals.

なお、カラー像が後述するように3面分割したものの
場合も、全く同様にY、M、Cの信号を得ることがで
き、この場合もY、M、Cに着色しておかなくてもよい
ことは同様である。
In the case where the color image is divided into three planes as described later, the signals of Y, M, and C can be obtained in exactly the same manner. In this case, the Y, M, and C signals need not be colored. The same is true.

第17図、第18図に示した静電電位検出法においては、
トナー像が静電潜像の帯電量に対応したγ特性を有して
いることが必要で、そのため帯電量のアナログ的変化に
対してしきい値を持たないようにする必要がある。対応
さえとれていればγ特性が一致していなくても電気的な
処理によってγの補正を行うようにすればよい。
In the electrostatic potential detection method shown in FIGS. 17 and 18,
It is necessary that the toner image has a γ characteristic corresponding to the charge amount of the electrostatic latent image. Therefore, it is necessary that the toner image does not have a threshold value for an analog change of the charge amount. As long as the measures are taken, even if the γ characteristics do not match, γ may be corrected by electrical processing.

次にカラー画像を形成するために使用するカラーフィ
ルターについて説明する。
Next, a color filter used for forming a color image will be described.

第19図はプリズムによる色分解光学系を示す図で、図
中、31、33、35はプリズムブロック、37、39、41はフィ
ルタ、43、45は反射鏡である。
FIG. 19 is a diagram showing a color separation optical system using a prism. In the figure, 31, 33, and 35 are prism blocks, 37, 39, and 41 are filters, and 43 and 45 are reflection mirrors.

色分解光学系は3つのプリズムブロックからなり、プ
リズムブロック31のa面から入射した光情報は、b面に
おいて一部が分離反射され、さらにa面で反射されてフ
ィルタ37からB色光成分が取り出される。残りの光情報
はプリズムブロック33に入射し、c面まで進んで一部が
分離反射され、フィルタ39からG色光成分、他は直進し
てフィルタ41からR色光成分が取り出される。そして、
G,B色光成分を、反射鏡43、45で反射させることによ
り、R,G,B光を平行光として取り出すことができる。
The color separation optical system is composed of three prism blocks. Light information incident from the a surface of the prism block 31 is partially reflected and reflected on the b surface, further reflected on the a surface, and a B color light component is extracted from the filter 37. It is. The remaining light information enters the prism block 33, proceeds to the c-plane, and is partially reflected, and the G color light component passes from the filter 39 and the other goes straight to extract the R color light component from the filter 41. And
The G, B light components are reflected by the reflecting mirrors 43, 45, so that the R, G, B light can be extracted as parallel light.

このようなフィルタ51を、第20図に示すように感光体
1の前面に配置して撮影することにより、第20図(ロ)
のようにR、G、B分解した電荷保持媒体3セットで1
コマを形成するか、また第20図(ハ)に示すように1平
面上にR,G,B像として並べて1セットで1コマとするこ
ともできる。
By arranging such a filter 51 in front of the photoreceptor 1 as shown in FIG. 20 and photographing, the filter 51 shown in FIG.
1 set for 3 sets of charge-retaining medium that has been decomposed into R, G,
Frames can be formed or, as shown in FIG. 20 (c), R, G and B images can be arranged on one plane to form one frame in one set.

第21図は微細カラーフィルタの例を示す図で、例え
ば、レジストをコーティングしたフィルムをマスクパタ
ーンで露光してR,G,Bストライプパターンを形成し、そ
れぞれR,G,B染色することにより形成する方法、または
第19図のような方法で色分解した光を、それぞれ細いス
リットに通すことにより生じるR,G,Bの干渉縞をホログ
ラム記録媒体に記録させることにより形成する方法、ま
たは光導電体にマスクを密着させて露光し、静電潜像に
よるR,G,Bストライプパターンを形成し、これをトナー
現像して3回転写することによりカラー合成してトナー
のストライプを形成する方法等により形成する。このよ
うな方法で形成されたフィルタのR,G,B1組で1画素を形
成し、1画素を10μm程度の微細なものにする。このフ
ィルタを第20図のフィルタ51として使用することにより
カラー静電潜像を形成することができる。この場合、フ
ィルタは感光体と離して配置しても、あるいは感光体と
一体に形成するようにしてもよい。
FIG. 21 is a diagram showing an example of a fine color filter.For example, a resist-coated film is exposed with a mask pattern to form an R, G, B stripe pattern, and formed by dyeing R, G, B respectively. 19, or a method in which the light separated by the method as shown in FIG. 19 is formed by recording the R, G, B interference fringes generated by passing the light through a narrow slit on a hologram recording medium, or photoconductive. A method in which an R, G, B stripe pattern based on an electrostatic latent image is formed by bringing a mask into close contact with the body to form an R, G, B stripe pattern. Is formed. One pixel is formed by a set of R, G, and B of the filter formed by such a method, and one pixel is made as fine as about 10 μm. By using this filter as the filter 51 in FIG. 20, a color electrostatic latent image can be formed. In this case, the filter may be arranged separately from the photoconductor, or may be formed integrally with the photoconductor.

第22図は微細カラーフィルタとフレネルレンズを組み
合わせた例を示す図で、フレネルレンズによってR,G,B
パターンを縮小して記録することができ、また通常のレ
ンズに比べて薄くコンパクトなレンズ設計が可能とな
る。
FIG. 22 is a diagram showing an example in which a fine color filter and a Fresnel lens are combined, and R, G, B
The pattern can be recorded in a reduced size, and a thin and compact lens can be designed as compared with a normal lens.

第23図はND(Neutral Densitvy)フィルタとR、G、
Bフィルターを併用した3面分割の例を示す図で、入射
光をNDフィルター81、83及び反射ミラー85で3分割し、
それぞれRフィルター87、Gフィルター89、Bフィルタ
ー91を通すことにより、R、G、B光を平行光として取
り出すことができる。
Figure 23 shows the ND (Neutral Densitvy) filter and R, G,
FIG. 4 is a diagram showing an example of three-plane division using a B filter together, where incident light is divided into three by ND filters 81 and 83 and a reflection mirror 85;
R, G, and B light can be extracted as parallel light by passing through the R filter 87, the G filter 89, and the B filter 91, respectively.

〔作用〕[Action]

本発明は、感光体と電荷保持媒体間に電圧を印加した
状態で露光することにより画像情報を静電潜像として記
録すると共に、音声情報で光を光学変調し、変調した情
報光を感光体に照射することにより画像情報と共に音声
情報も記録することができ、またPCM変調した音声情報
を記録することにより音質を向上させ、さらに音声情報
を所定容量の循環メモリに記憶させて静止画記録の前後
の音声を記録でき、記録時の雰囲気が分かるようにする
ことができる。
The present invention records image information as an electrostatic latent image by exposing with a voltage applied between a photoconductor and a charge holding medium, optically modulates light with audio information, and applies the modulated information light to the photoconductor. By irradiating the image information, audio information can be recorded together with the image information.In addition, the sound quality is improved by recording the PCM-modulated audio information. The sound before and after can be recorded, and the atmosphere at the time of recording can be understood.

以下、実施例を説明する。 Hereinafter, examples will be described.

〔実施例1〕…電荷保持媒体の作製方法 メチルフェニルシリコン樹脂10g、キシレン−ブタノ
ール1:1溶媒10gの組成を有する混合液に、硬化剤(金属
触媒):商品名 CR−15を1重量%(0.2g)加えてよく
撹拌し、Alを1000Å蒸着したガラス基板上にドクターブ
レード4ミルを用いてコーティングを行った。その後15
0℃、1hrの乾燥を行ない、膜厚10μmの電荷保持媒体
(a)を得た。
Example 1 Method for Producing a Charge Retaining Medium To a mixed solution having a composition of 10 g of methylphenylsilicone resin and 10 g of xylene-butanol 1: 1 solvent, 1% by weight of a curing agent (metal catalyst): trade name CR-15 (0.2 g), and the mixture was stirred well, and coated on a glass substrate on which Al was deposited at 1000 ° using a doctor blade 4 mil. Then 15
Drying was performed at 0 ° C. for 1 hour to obtain a charge holding medium (a) having a film thickness of 10 μm.

また上記混合液を、Alを1000Å蒸着した100μmポリ
エステルフィルム上に同様の方法でコーディングし、次
いで乾燥し、フィルム状の電荷保持媒体(b)を得た。
In addition, the above mixed solution was coated on a 100 μm polyester film on which Al was deposited at 1000 ° in the same manner, and then dried to obtain a film-shaped charge holding medium (b).

また上記混合液を、Alを1000Å蒸着した4インチディ
スク形状アクリル(1mm厚)基板上にスピンナー2000rpm
でコーディングし、50℃、3hr乾燥させ、膜厚7μmの
ディスク状電荷保持媒体(c)を得た。
The above mixed solution was spin-coated on a 4-inch disk-shaped acrylic (1 mm thick) substrate on which Al was vapor-deposited at 1000 °
And dried at 50 ° C. for 3 hours to obtain a disk-shaped charge holding medium (c) having a thickness of 7 μm.

また上記混合液に、更にステアリン酸亜鉛を0.1g添加
し、同様のコーティング、乾燥を行い、10μmの膜厚を
有する電荷保持媒体(d)を得た。
Further, 0.1 g of zinc stearate was further added to the above mixed solution, and the same coating and drying were performed to obtain a charge retaining medium (d) having a film thickness of 10 μm.

〔実施例2〕 ポリイミド樹脂10g、N−メチルピロリドン10gの組成
を有する混合液を、Alを1000Å蒸着したガラス基板上に
スピンナーコーティング(1000rpm、20秒)した。溶媒
を乾燥させるため150℃で30分間、前乾燥を行った後、
硬化させるため350℃、2時間加熱した。膜厚8μmを
有する均一な被膜が形成された。
Example 2 A mixed solution having a composition of 10 g of a polyimide resin and 10 g of N-methylpyrrolidone was spin-coated (1000 rpm, 20 seconds) on a glass substrate on which Al was deposited at 1000 °. After pre-drying at 150 ° C for 30 minutes to dry the solvent,
It was heated at 350 ° C. for 2 hours for curing. A uniform coating having a thickness of 8 μm was formed.

〔実施例3〕…単層系有機感光体(PVK−TNF)作製方法 ポリ−N−ビニルカルバゾール10g(亜南香料(株)
製)、2,4,7−トリニトロフルオレノン10g、ポリエステ
ル樹脂2g(バインダー:バイロン200東洋紡(株)
製)、テトラハイドロフラン(THF)90gの組成を有する
混合液を暗所で作製し、In2O3−SnO2を約1000Åの膜厚
でスパッターしたガラス基板(1mm厚)に、ドクターブ
レードを用いて塗布し、60℃で約1時間通風乾燥し、膜
厚約10μmの光導電層を有する感光層を得た。又完全に
乾燥を行うために、更に1日自然乾燥を行って用いた。
Example 3 Method for producing single-layer organic photoreceptor (PVK-TNF) 10 g of poly-N-vinyl carbazole (Anan Kofu Co., Ltd.)
Manufactured), 2,4,7-trinitrofluorenone 10 g, polyester resin 2 g (binder: Byron 200 Toyobo Co., Ltd.)
A mixed solution having a composition of 90 g of tetrahydrofuran (THF) was prepared in a dark place, and a doctor blade was applied to a glass substrate (1 mm thick) on which In 2 O 3 -SnO 2 was sputtered to a thickness of about 1000 mm. It was then applied and dried by ventilation at 60 ° C. for about 1 hour to obtain a photosensitive layer having a photoconductive layer having a thickness of about 10 μm. In order to dry completely, it was further dried naturally for one day before use.

〔実施例4〕…アモルファスシリコンaSi:H無機感光体
の作製方法 基板洗浄 SnO2の薄膜透明電極層を一方の表面に設けたコーニン
グ社7059ガラス(23×16×0.9t、光学研磨済)をトリク
ロロエタン、アセトン、エタノール各液中、この順番に
各々10分ずつ超音波洗浄する。
Example 4 Method for Producing Amorphous Silicon aSi: H Inorganic Photoreceptor Substrate Cleaning Corning 7059 glass (23 × 16 × 0.9 t, optically polished) provided with a thin transparent electrode layer of SnO 2 on one surface. In each of the trichloroethane, acetone and ethanol solutions, ultrasonic cleaning is performed for 10 minutes each in this order.

装置の準備 洗浄の済んだ基板を第24図の反応室204内のアノード2
06上に熱伝導が十分であるようにセットした後、反応室
内を10-5Torr台までD.Pにより真空引きし、反応容器お
よびガス管の焼出しを150℃〜350℃で約1時間行い、焼
出し後装置を冷却する。
Preparation of Apparatus The cleaned substrate is placed in the anode 2 in the reaction chamber 204 shown in FIG.
After setting so that the heat conduction is sufficient on 06, the reaction chamber was evacuated by DP to a level of 10 -5 Torr, and the reaction vessel and gas pipe were baked out at 150 ° C. to 350 ° C. for about 1 hour. After baking out, cool the device.

a・Si:H(n+)の堆積 ガラス基板が350℃になるようにヒーターを208調整、
加熱し、予めタンク201内で混合しておいたPH3/SiH4=1
000ppmのガスをニードルバルブとPMBの回転数を制御す
ることによって反応室204の内圧が200m Torrになるよう
に流し内圧が一定になった後、Matching Box203を通じ
て、40WのR f Power 202(13.56KHz)を投入し、カソー
ド・アノード間にプラズマを形成する。堆積は4分間行
い、Rfの投入を止め、ニードルバルブを閉じる。
a. Deposition of Si: H (n + ) Adjust the heater 208 so that the temperature of the glass substrate is 350 ℃,
Heated and premixed in tank 201 PH 3 / SiH 4 = 1
After controlling the number of rotations of the needle valve and the PMB so that the internal pressure of the reaction chamber 204 becomes 200 mTorr and the internal pressure becomes constant, a 40 W R f Power 202 (13.56 KHz) is passed through the matching box 203. ) To form a plasma between the cathode and the anode. The deposition is performed for 4 minutes, the supply of Rf is stopped, and the needle valve is closed.

その結果、ブロッキング層を構成する約0.2μmのa
・Si:H(n+)膜が基板上に堆積された。
As a result, about 0.2 μm
-A Si: H (n + ) film was deposited on the substrate.

a・Si・Hの堆積 SiH4 100%ガスをと同じ方法で内圧が200m Torrに
なるように流し、内圧が一定になったところで、Matchi
ng Box203を通じて40WのR f Power 202(13.56KHz)を
投入し、プラズマを形成して70分間維持する。堆積終了
はRfの投入を止め、ニードルバルブを閉じる。Heater20
8 Off後、基板が冷えているから取り出す。
a. Deposition of Si ・ H 100% SiH 4 gas was flowed in the same manner as above to keep the internal pressure at 200 mTorr, and when the internal pressure became constant, Matchi
A 40 W Rf Power 202 (13.56 KHz) is supplied through the ng Box 203, and a plasma is formed and maintained for 70 minutes. When the deposition is completed, the supply of Rf is stopped, and the needle valve is closed. Heater20
After 8 Off, take out the board because it is cold.

この結果、約18.8μmの膜がa・Si:H(n+)膜上に堆
積された。
As a result, a film of about 18.8 μm was deposited on the a.Si:H(n + ) film.

こうしてSnO2/a・Si・H(n+)ブロッキング層/a・S
i:H(non・dope)20μmの感光体を作製することができ
た。
Thus, SnO 2 / a · Si · H (n + ) blocking layer / a · S
A photoreceptor of i: H (non-dope) 20 μm could be produced.

〔実施例5〕…アモルファスセレン−テルル無機感光体
の作製方法 セレン(Se)に対しテルル(Te)が13重量%の割合で
混合された金属粒を用い、蒸着法によりa−Se−Te薄膜
を真空度10-5Torr、抵抗加熱法でITOガラス基板上に蒸
着した。膜厚は1μmとした。さらに真空度を維持した
状態で、同じく抵抗加熱法でSeのみの蒸着を行いa−Se
−Te層上に10μm a−Se層を積層した。
Example 5 Method for Producing Amorphous Selenium-Tellurium Inorganic Photoreceptor An a-Se-Te thin film was formed by vapor deposition using metal particles in which selenium (Se) was mixed with tellurium (Te) at a ratio of 13% by weight. Was deposited on an ITO glass substrate by a resistance heating method at a degree of vacuum of 10 −5 Torr. The film thickness was 1 μm. Further, while maintaining the degree of vacuum, vapor deposition of only Se was similarly performed by the resistance heating method to perform a-Se.
A 10 μm a-Se layer was laminated on the -Te layer.

〔実施例6〕…機能分離型感光体の作製方法 (電荷発生層)の形成方法 クロロジアンブルー0.4g、ジクロルエタン40gの組成
を有する混合液を250ml容積のステンレス容器に入れ、
更にガラスビーズNo3、180mlを加え、振動ミル(安川電
機製作所KED9−4)により、約4時間の粉砕を行い粒径
〜5μmのクロロシアンブルーを得る。ガラスビーズを
濾過後、ポリカーボネート、ユーピロンE−2000(三菱
ガス化学)を0.4g加え約4時間撹拌する。この溶液をIn
2O3−SnO2を約1000Åスパッターしたガラス基板(1mm
厚)にドクターブレードを用いて塗布し、膜厚約1μm
の電荷発生層を得た。乾燥は室温で1日行った。
Example 6 Method for Producing a Function-Separated Type Photoreceptor Method for Forming (Charge Generation Layer) A mixed solution having a composition of 0.4 g of chlorodian blue and 40 g of dichloroethane was placed in a 250 ml stainless steel container.
Further, 180 ml of glass beads No. 3 is added, and crushed for about 4 hours by a vibration mill (KED9-4, Yaskawa Electric Seisakusho) to obtain chlorocyan blue having a particle size of 5 μm. After filtering the glass beads, 0.4 g of polycarbonate and Iupilone E-2000 (Mitsubishi Gas Chemical) is added and stirred for about 4 hours. In this solution
2 O 3 -SnO 2 to about 1000Å sputtered glass substrate (1mm
Thickness) using a doctor blade to a thickness of about 1 μm
Was obtained. Drying was performed at room temperature for one day.

〔電荷輸送層の形成方法〕(Formation method of charge transport layer)

4−ジベンジルアミノ−2−メチルベンズアルデヒド
−1,1′−ジフェニルヒドラゾン0.1g、ポリカーボネー
ト(ユーピロンE−2000)0.1g、ジクロルエタン2.0gの
組成を有する混合液をドクターブレードにて、上記電荷
発生層上に塗布し、約10μmの電荷輸送層を得た。乾燥
は60℃で2時間行った。
A mixture having a composition of 0.1 g of 4-dibenzylamino-2-methylbenzaldehyde-1,1'-diphenylhydrazone, 0.1 g of polycarbonate (Iupilone E-2000) and 2.0 g of dichloroethane was charged with a doctor blade to the above-mentioned charge generating layer. Coating on top to obtain a charge transport layer of about 10 μm. Drying was performed at 60 ° C. for 2 hours.

〔実施例7〕 (電荷発生層の形成方法) 酢酸ブチル10gにブチラール樹脂(積水化学、SLEC)
0.25g、下記の構造式を有するアズレニウムClO4塩、 0.5g、ガラスビーズNo、133gとを混合し、タッチミキ
サーで1日間撹拌し、よく分散させものをドクターブレ
ード、またはアプリケーターでガラス板上に積層したIT
O上に塗布し、60℃、2時間以上乾燥させた。乾燥後の
膜厚は1μm以下。
[Example 7] (Method of forming charge generation layer) Butyral resin (Sekisui Chemical, SLEC) in 10 g of butyl acetate
0.25 g, azulhenium ClO 4 salt having the following structural formula, 0.5 g, glass beads No., 133 g were mixed, stirred for 1 day with a touch mixer, well dispersed and then laminated on a glass plate with a doctor blade or applicator.
It was applied on O and dried at 60 ° C. for 2 hours or more. The film thickness after drying is 1 μm or less.

(電荷輸送層の形成方法) テトラヒドロフラン9.5gにポリカーボネート(三菱ガ
ス化学、ユーピロンE−2000)0.5gと下記の構造式で示
されるヒドラゾン誘導体(阿南香料、CTC191) 0.5gとを混合し、ドクターブレードで上記電荷発生層
上に塗布し、60℃、2時間以上乾燥させた。膜厚10μm
以下であった。
(Method of forming charge transport layer) In 9.5 g of tetrahydrofuran, 0.5 g of polycarbonate (Mitsubishi Gas Chemical, Iupilon E-2000) and a hydrazone derivative represented by the following structural formula (Anan fragrance, CTC191) Then, the mixture was mixed with 0.5 g and applied on the charge generating layer with a doctor blade, and dried at 60 ° C. for 2 hours or more. 10 μm thick
It was below.

〔実施例8〕 (電荷発生層の形成方法) テトラヒドロフラン20gにブチラール樹脂(積水化
学、SLEC)0.5g、チタニルフタロシアニン0.25g、4.10
−ジブロモアンスアンスロン0.25g、ガラスビーズNo.1
を33g、タッチミキサーで1日間撹拌し、よく分散させ
ものをドクターブレード、またはアプリケーターでガラ
ス板上で積層したITO上に塗布し、60℃、2時間以上乾
燥させた。乾燥後の被膜は、膜厚1μm以下であった。
[Example 8] (Method of forming charge generation layer) In 20 g of tetrahydrofuran, 0.5 g of butyral resin (Sekisui Chemical, SLEC), 0.25 g of titanyl phthalocyanine, 4.10
-0.25 g of dibromoanthranthrone, glass beads No. 1
Was stirred for 1 day with a touch mixer, and the mixture was well dispersed and applied to ITO laminated on a glass plate with a doctor blade or an applicator, and dried at 60 ° C. for 2 hours or more. The dried film had a thickness of 1 μm or less.

(電荷輸送層の作製方法) ジクロロエタン9.5gに、ポリカーボネート(三菱ガス
化学、ユーピロンE2000)0.5g、上記ヒドラゾン誘導体
(阿南香料、CTC191)0.5gを溶解し、ドクターブレード
で、上記電荷発生層上に塗布、60℃、2時間以上乾燥さ
せた。膜厚は10μm以上であった。
(Preparation method of charge transport layer) In 9.5 g of dichloroethane, 0.5 g of polycarbonate (Mitsubishi Gas Chemical, Iupilon E2000) and 0.5 g of the above hydrazone derivative (Anan fragrance, CTC191) were dissolved, and the above-mentioned charge generation layer was placed on the charge generation layer with a doctor blade. The coating was performed and dried at 60 ° C. for 2 hours or more. The film thickness was 10 μm or more.

〔実施例9〕…電荷注入防止層を設けた機能分離型感光
体の作製方法 (電荷注入防止層の形成方法) ガラス板上に積層したITO上に可溶性ポリアミド(東
亜合成化学、FS−175SV10)をスピンコーターにより0.5
〜1μm塗布、60℃、2時間以上乾燥させた。
[Example 9] ... Method of producing a function-separated type photoreceptor provided with a charge injection preventing layer (Method of forming charge injection preventing layer) Soluble polyamide (Toa Gosei Chemical, FS-175SV10) on ITO laminated on a glass plate 0.5 by spin coater
11 μm coating, dried at 60 ° C. for 2 hours or more.

(電荷発生層の形成方法) 酢酸ブチル10gにブチラール樹脂(積水化学、SLEC)
0.25g、前記したアズレニウムClO4塩0.5g、ガラスビー
ズNo、133gとを混合し、タッチミキサーで1日間撹拌
し、よく分散させものをドクターブレード、またはアプ
リケーターで上記電荷注入防止層上に塗布し、60℃、2
時間以上乾燥させた。乾燥後の被膜は、膜厚1μm以下
であった。
(Formation method of charge generation layer) Butyral resin (Sekisui Chemical, SLEC) in 10 g of butyl acetate
0.25 g, the above-mentioned azulhenium ClO 4 salt 0.5 g, and glass beads No. 133 g were mixed, stirred for 1 day with a touch mixer, and dispersed well, and then applied onto the above-mentioned charge injection preventing layer with a doctor blade or an applicator. , 60 ℃, 2
Dried for more than an hour. The dried film had a thickness of 1 μm or less.

(電荷輸送層の形成方法) テトラヒドロフラン9.5gにポリカーボネート(三菱ガ
ス化学、ユーピロンE2000)0.5gと前記したヒドラゾン
誘導体(阿南香料、CTC191)0.5gとを溶解させ、ドクタ
ーブレードで上記電荷発生層上に塗布し、60℃、2時間
以上乾燥させた。膜厚10μm以下であった。
(Method of forming charge transport layer) In 9.5 g of tetrahydrofuran, 0.5 g of polycarbonate (Mitsubishi Gas Chemical, Iupilon E2000) and 0.5 g of the above-mentioned hydrazone derivative (Anan Perfume, CTC191) are dissolved, and the above-mentioned charge generation layer is placed on the charge generation layer with a doctor blade. It was applied and dried at 60 ° C. for 2 hours or more. The film thickness was 10 μm or less.

〔実施例10〕 (電荷注入防止層の形成方法) ガラス板上に積層したITO上に可溶性ポリアミド(東
亜合成化学、FS−175SV10)をスピンコーターにより0.5
〜1μm塗布、60℃、2時間以上乾燥させた。
Example 10 (Method for Forming Charge Injection Prevention Layer) Soluble polyamide (Toa Gosei Chemical Co., FS-175SV10) was applied on ITO laminated on a glass plate by a spin coater for 0.5 minute.
11 μm coating, dried at 60 ° C. for 2 hours or more.

(電荷発生層の形成方法) テトラヒドロフラン20gをブチラール樹脂(積水化
学、SLEC)0.5g、チタニルフタロシアニン0.25g、4.10
−ジブロモアンスアンスロン0.25g、ガラスビーズNo.1
を33g、タッチミキサーで1日間撹拌し、よく分散させ
たものをドクターブレード、またはアプリケーターで上
記電荷注入防止層上に塗布し、60℃、2時間以上乾燥さ
せた。乾燥後の被膜は、膜厚1μm以下であった。
(Method of forming charge generation layer) 20 g of tetrahydrofuran was added to 0.5 g of butyral resin (Sekisui Chemical, SLEC), 0.25 g of titanyl phthalocyanine, 4.10
-0.25 g of dibromoanthranthrone, glass beads No. 1
Was stirred with a touch mixer for 1 day, and the resulting mixture was well dispersed and applied to the charge injection preventing layer with a doctor blade or an applicator and dried at 60 ° C. for 2 hours or more. The dried film had a thickness of 1 μm or less.

(電荷輸送層の形成方法) 溶媒であるジクロロエタン9.5gに、ポリカーボネート
(三菱ガス化学、ユーピロンE2000)0.5g、前記ヒドラ
ゾン誘導体(阿南香料、CTC191)0.5gを溶解し、ドクタ
ーブレードで、上記電荷発生層上に塗布、60℃、2時間
以上乾燥させた。膜厚は10μm以上であった。
(Method of forming charge transport layer) In 9.5 g of dichloroethane as a solvent, 0.5 g of polycarbonate (Mitsubishi Gas Chemical, Iupilon E2000) and 0.5 g of the above-mentioned hydrazone derivative (Anan fragrance, CTC191) are dissolved, and the above-mentioned charge generation is performed with a doctor blade. It was applied on the layer and dried at 60 ° C. for 2 hours or more. The film thickness was 10 μm or more.

〔実施例11〕 (感光体電極層の形成方法) 青板ガラス上に、酸化インジウム錫(ITO、比抵抗100
Ω・cm2)をスパッタリング法により蒸着させた。
Example 11 (Method of forming photoconductor electrode layer) Indium tin oxide (ITO, specific resistance 100
Ω · cm 2 ) was deposited by a sputtering method.

また、EB法により同様に蒸着させることができる。 In addition, vapor deposition can be similarly performed by the EB method.

(電荷注入防止層の形成方法) 上記感光体電極層上に、二酸化珪素をスパッタリング
法により蒸着させた。
(Method of Forming Charge Injection Prevention Layer) On the photoreceptor electrode layer, silicon dioxide was deposited by a sputtering method.

膜厚は100〜3000Åとすことができ、また二酸化珪素
の代わりに酸化アルミニウムを使用してもよく、またス
パッタリング法の代わりにEB法により同様に蒸着させる
ことができる。
The film thickness can be 100 to 3000 °, aluminum oxide may be used instead of silicon dioxide, and vapor deposition can be similarly performed by an EB method instead of a sputtering method.

(電荷発生層の形成方法) 上記電荷注入防止層上に、セレン−テルル(テルル含
有量13重量%)を抵抗加熱により蒸着させた。膜厚は2
μm以下である。
(Method of forming charge generation layer) Selenium-tellurium (tellurium content: 13% by weight) was deposited on the charge injection preventing layer by resistance heating. The film thickness is 2
μm or less.

(電荷輸送層の形成方法) 上記電荷発生層上に粒状セレンを使用し、抵抗加熱法
により蒸着させた。膜厚は10μm以下である。
(Method of Forming Charge Transport Layer) Granular selenium was deposited on the charge generation layer by a resistance heating method. The film thickness is 10 μm or less.

〔実施例12〕…熱エレクトレットの作製方法 ポリ弗化ビニリデンフィルム20μm上に真空蒸着(10
-6Torr、抵抗加熱法)によりAlを1000Å蒸着したものを
電荷保持媒体とし、機能分離型感光体の光導電性感光体
と共に静電潜像を形成する。
[Example 12] ... Method for preparing thermal electret Vacuum evaporation (10 μm) on a 20 μm polyvinylidene fluoride film
An electrostatic latent image is formed together with the photoconductive photoreceptor of the function-separated type photoreceptor by using a charge-retention medium that has been formed by depositing Al at 1000 ° C. by -6 Torr (resistance heating method).

まず電荷保持媒体のAl基板側からホットプレート(3
×3cm)を接触させ、180℃に媒体を加熱する。加熱直後
に感光体を電荷保持媒体に10μmの空気ギャップで表面
同志を対向させ、量電極間に−550Vの電圧を印加(感光
体電極を負とする)し、露光させた。露光はハロゲンラ
ンプを光源として、10ルックスで、文字パターン原稿を
介して感光体裏面から1秒間行った。
First, a hot plate (3
× 3 cm) and heat the medium to 180 ° C. Immediately after heating, the photoreceptor was exposed to the charge holding medium by applying a voltage of -550 V between the electrodes (the photoreceptor electrode was made negative) with the surfaces facing each other with an air gap of 10 μm. Exposure was performed for 1 second from the back of the photoreceptor through a character pattern original at 10 lux using a halogen lamp as a light source.

この後フィルムを自然冷却した結果、露光部(文字
部)には、−150Vの電位が測定され、未露光部には電位
が測定されなかった。この帯電パターンの形成されたフ
ィルム上に水滴を滴下し、回収した後、電位測定を行っ
た結果、前と変わらず、露光部では−150Vの電位が測定
された。一方同様の電荷保持媒体に強制的にコロナ放電
で表面に−150Vの電荷を形成した後、水滴を滴下し、回
収したところ、最初−150Vを示した露光部が0Vと全く電
荷が消失した。従って加熱下での電荷形成はポリ弗化ビ
ニリデンの内部で分極が生じ、エレクトレット化してい
ることがわかった。
Thereafter, the film was naturally cooled. As a result, a potential of -150 V was measured in the exposed portion (character portion), and no potential was measured in the unexposed portion. After a water drop was dropped on the film on which the charged pattern was formed and collected, the potential was measured. As a result, a potential of -150 V was measured in the exposed portion as before. On the other hand, a charge of -150 V was forcibly formed on the surface of the same charge holding medium by corona discharge, and a water drop was dropped and collected. As a result, the exposed portion which initially showed -150 V was 0 V and the charge was completely lost. Therefore, it was found that polarization was generated inside the polyvinylidene fluoride during electrification under heating, and the film was electretized.

〔実施例13〕…光エレクトレットの作製方法 1.1mm厚のガラス支持体上にAlを、約1000Åスパッタ
リング法により積層して基板とし、そのAl層に硫化亜鉛
を約1.5μmの膜厚に蒸着(10-5Torr、抵抗加熱)させ
た。この硫化亜鉛層面に、ガラス上に積層したITO面を
空気ギャップ10μm設けて対向させ、両電極間に+700V
の電圧を印加(Al電極側を負にする)した状態で、ITO
基板側から露光を行った。露光は実施例11と同様にして
行った。その結果露光部には+80Vの電位が測定され、
未露光部には電位が測定されなかった。この場合も実施
例11と同様な水滴実験を行ったが、回収後の電位の変化
はなく、内部に電荷の蓄積されたエレクトレットが形成
された。
Example 13 Method for Producing Optical Electret Al was laminated on a glass support having a thickness of 1.1 mm by a sputtering method of about 1000 ° to form a substrate, and zinc sulfide was deposited on the Al layer to a thickness of about 1.5 μm ( 10 -5 Torr, resistance heating). On this zinc sulfide layer surface, an ITO surface laminated on glass was provided with an air gap of 10 μm and opposed to each other.
With the voltage applied (to make the Al electrode side negative),
Exposure was performed from the substrate side. Exposure was performed in the same manner as in Example 11. As a result, a potential of +80 V is measured at the exposed portion,
No potential was measured in the unexposed area. In this case as well, a water droplet experiment similar to that of Example 11 was performed, but there was no change in the potential after the collection, and an electret in which charges were accumulated was formed inside.

〔実施例14〕 実施例3の単層系有機感光体(PVK−TNF)、実施例1
(a)の電荷保持媒体、及びガラス基板を使用し、これ
を電極側を外側にして重ねてカメラにセットする。その
際に感光体1と電荷保持媒体3間に空隙を設けるため、
第25図に示すように10μmのポリエステルフィルムをス
ペーサー2として露光面以外の周囲に配置する。
Example 14 Single-Layer Organic Photoconductor (PVK-TNF) of Example 3, Example 1
(A) The charge holding medium and a glass substrate are used, and they are set on a camera with the electrode side facing out. At that time, in order to provide a gap between the photoconductor 1 and the charge holding medium 3,
As shown in FIG. 25, a 10 μm polyester film is disposed as a spacer 2 around the periphery other than the exposed surface.

感光体電極側を負、電荷保持媒体側に正にして電圧を
700V印加し、その状態で露出f=1.4、シャッタースピ
ード1/60秒で光学シャッターを切るか、あるいは露出f
=1.4、シャッター開放状態で1/60秒電圧印加を行い、
屋外昼間の被写体撮影を行った。
The voltage is set with the photoconductor electrode side negative and the charge holding medium side positive.
700V is applied, and in that state, the optical shutter is released at an exposure f = 1.4 and a shutter speed of 1/60 second, or the exposure f
= 1.4, voltage is applied for 1/60 seconds with the shutter open,
The subject was photographed outdoors during the daytime.

露光OFF、電圧印加OFF後、電荷保持媒体を明るい所、
あるいは暗いで所で取り出し、 微小面積電位読取り法によるCRT画像形成、トナ
ー現象による画像形成を行った。
After the exposure is turned off and the voltage is turned off, place the charge holding medium in a bright place,
Alternatively, it was taken out in a dark place, and a CRT image was formed by a micro area potential reading method, and an image was formed by a toner phenomenon.

では、100×100μmの微小面積表面電位測定プロー
ブをX−Y軸スキャニングを行い、100μm単位の電位
データを処理し、CRT上に電位−輝度変換により画像形
成を行った。電荷保持媒体上には最高露光部電位200Vか
ら未露光部0Vまでのアナログ電位潜像が形成されてお
り、その潜像をCRT上で100μmの解像度で顕像化するこ
とができた。
Then, a 100 × 100 μm micro area surface potential measurement probe was scanned on the XY axis, potential data was processed in units of 100 μm, and an image was formed on a CRT by potential-luminance conversion. An analog potential latent image was formed on the charge holding medium from the highest exposed portion potential of 200 V to the unexposed portion 0 V, and the latent image could be visualized on a CRT with a resolution of 100 μm.

では、取り出した電荷保持媒体を負に帯電した湿式
トナー(黒)に10秒浸漬することにより、ポジ像が得ら
れた。得られたトナー像の解像度は1μmの高解像度で
あった。
Then, the positive charge image was obtained by immersing the removed charge holding medium in the negatively charged wet toner (black) for 10 seconds. The resolution of the obtained toner image was a high resolution of 1 μm.

カラー画像の撮影は以下の方法で行った。 The photographing of the color image was performed by the following method.

プリズム型3面分割法 第20図に示すようにプリズムの3面上にR,G,Bフィル
ターを配置し、それぞれの面に上記媒体をセットし、f
=1.4、シャッタースピード1/30秒で被写体撮影を行っ
た。
Prism-type three-plane splitting method As shown in FIG. 20, R, G, and B filters are arranged on three faces of a prism, and the above-described medium is set on each face, and f
The subject was photographed at a shutter speed of 1/30 sec. = 1.4.

カラーCRT表示法 R,G,B潜像各々を同様の方法でスキャニングして読み
取り、R,G,B潜像に対応した螢光発色をCRT上で形成し、
3色分解画像をCRT上で合成することによりカラー画像
を得た。
Color CRT display method Each of the R, G, B latent images is scanned and read in the same manner, and a fluorescent color corresponding to the R, G, B latent image is formed on the CRT,
A color image was obtained by synthesizing the three-color separated image on a CRT.

トナー現像法 分解露光した電荷保持媒体をR,G,B潜像に対して負に
帯電したC(シアン)、M(マゼンダ)、Y(イエロ
ー)トナーで各々現像し、トナー像を形成する。トナー
が乾燥する前にシアントナー像を形成した媒体上に普通
紙を重ね、紙上に正のコロナ帯電を行い。その後、剥離
を行うと、普通紙にトナー像が転写された。さらに、同
様の方法で画像の位置を一致させて、同一箇所にマゼン
ダトナー、イエロートナーを順次転写合成すると、普通
紙上にカラー画像が形成された。
Toner Development Method The charge-holding medium that has been separated and exposed is developed with C (cyan), M (magenta), and Y (yellow) toners negatively charged with respect to the R, G, and B latent images, respectively, to form toner images. Before the toner dries, plain paper is overlaid on the medium on which the cyan toner image is formed, and positive corona charging is performed on the paper. Thereafter, when peeling was performed, the toner image was transferred to plain paper. Further, when the positions of the images were matched by the same method and the magenta toner and the yellow toner were sequentially transferred and synthesized at the same location, a color image was formed on plain paper.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように本発明によれば、静止画像の記録と共に
音声情報も同時記録することができ、特に静止画記録の
前後の音声を記録することにより記録時の雰囲気が分か
るようにして静止画の迫力感を出すこと可能となり、カ
メラの多機能化を図ることができる。
As described above, according to the present invention, audio information can be recorded simultaneously with the recording of a still image. In particular, by recording the sound before and after the still image recording, the atmosphere at the time of recording can be understood so that the still image can be recorded. It is possible to give a sense of power, and it is possible to make the camera multifunctional.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明に使用する電荷保持媒体を説明するため
の図、第2図は光エレクトレットを用いた静電潜像記録
方法の原理を説明するための図、第3図は熱エレクトレ
ットを用いた静電潜像記録方法の原理を説明するための
図、第4図は本発明の音声情報入力機能を備えた静電カ
メラの構成を示す図、第5図はPCM変調を利用した本発
明の他の実施例を示す図、第6図は一定時間音声を記録
するようにした本発明の他の実施例を示す図、第7図、
第8図、第9図は直流増幅型の電位読み取り方法の例を
示す図、第10図、第11図、第12図は交流増幅型の電位読
み取り方法の例を示す図、第13図、第14図はCTスキャン
法による電位読み取り方法の例を示す図、第15図は集電
型の電位読み取り方法の例を示す図、第16図は電子ビー
ム型の電位読み取り方法の例を示す図、第17図、第18図
はトナー着色を利用した電位読み取り方法を説明するた
めの図、第19図は色分解光学系の構成を示す図、第20図
はカラー静電潜像を形成する場合の説明図、第21図は微
細カラーフィルタの例を示す図、第22図は微細カラーフ
ィルタとフレネルレンズを組み合わせた例を示す図、第
23図はNDフィルタとR、G、Bフィルタの併用による3
面分割を示す図、第24図はa−Si:H感光体の作製方法を
説明するための図、第25図は本発明を適用した静電カメ
ラによる撮影の実施例を説明するための図である。 101……マイクロホン、102……増幅器、103……レーザ
ー、104……音響光学変調器、105……ポリゴンミラー、
106……電源。
FIG. 1 is a view for explaining a charge holding medium used in the present invention, FIG. 2 is a view for explaining the principle of an electrostatic latent image recording method using an optical electret, and FIG. FIG. 4 is a diagram for explaining the principle of the electrostatic latent image recording method used, FIG. 4 is a diagram showing a configuration of an electrostatic camera having a voice information input function of the present invention, and FIG. 5 is a book using PCM modulation. FIG. 6 is a diagram showing another embodiment of the present invention, FIG. 6 is a diagram showing another embodiment of the present invention in which sound is recorded for a fixed time, FIG.
8 and 9 are diagrams showing examples of a DC amplification type potential reading method, FIG. 10, FIG. 11, and FIG. 12 are diagrams showing examples of an AC amplification type potential reading method, FIG. FIG. 14 is a diagram showing an example of a potential reading method by a CT scanning method, FIG. 15 is a diagram showing an example of a current collecting type potential reading method, and FIG. 16 is a diagram showing an example of an electron beam type potential reading method 17 and 18 are diagrams for explaining a potential reading method using toner coloring, FIG. 19 is a diagram showing a configuration of a color separation optical system, and FIG. 20 is a diagram for forming a color electrostatic latent image. FIG. 21 is a diagram showing an example of a fine color filter, FIG. 22 is a diagram showing an example in which a fine color filter and a Fresnel lens are combined, FIG.
Figure 23 shows 3 using the ND filter and R, G, B filters together.
FIG. 24 is a view showing surface division, FIG. 24 is a view for explaining a method of manufacturing an a-Si: H photosensitive member, and FIG. 25 is a view for explaining an example of photographing by an electrostatic camera to which the present invention is applied. It is. 101 microphone, 102 amplifier, 103 laser, 104 acousto-optic modulator, 105 polygon mirror,
106 ... Power supply.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基板上に電極、光導電層を積層した感光体
と、基板上に電極、1014Ω・cm以上の比抵抗を持つ絶縁
層を積層した電荷保持媒体との間に電圧を印加した状態
で感光体に光を照射することにより画像情報を静電潜像
として記録する静電カメラであって、音声情報でレーザ
ー光を光学変調し、変調したレーザー光を感光体に照射
することにより画像情報と共に音声情報も記録するよう
にした音声情報入力機能を備えた静電カメラ。
A voltage is applied between a photoreceptor in which an electrode and a photoconductive layer are laminated on a substrate and a charge holding medium in which an electrode and an insulating layer having a specific resistance of 10 14 Ω · cm or more are laminated on the substrate. An electrostatic camera that records image information as an electrostatic latent image by irradiating light to the photoreceptor with the voltage applied, and optically modulates laser light with audio information and irradiates the modulated laser light to the photoreceptor An electrostatic camera having an audio information input function for recording audio information together with image information.
【請求項2】音声情報によるレーザー光の変調は、PCM
変調した音声情報により行う請求項1記載の音声情報入
力機能を備えた静電カメラ。
2. Modulation of laser light by voice information is performed by PCM.
2. The electrostatic camera according to claim 1, wherein the electrostatic camera is provided with a voice information input function.
【請求項3】音声信号をA/D変換して所定容量の循環メ
モリに記憶させ、循環メモリから読み出してD/A変換し
た音声情報出力によりレーザー光を光学変調し、画像情
報記録の露光前後一定時間にわたって音声情報を記録す
るようにした請求項1記載の音声情報入力機能を備えた
静電カメラ。
3. An audio signal is A / D converted and stored in a circulating memory having a predetermined capacity, and a laser beam is optically modulated by an audio information output read out from the circulating memory and D / A converted, and before and after exposure of image information recording. 2. The electrostatic camera having an audio information input function according to claim 1, wherein audio information is recorded for a predetermined time.
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