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JP2734457B2 - Asymmetric epoxidation reaction - Google Patents
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JP2734457B2 - Asymmetric epoxidation reaction - Google Patents

Asymmetric epoxidation reaction

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JP2734457B2
JP2734457B2 JP6041076A JP4107694A JP2734457B2 JP 2734457 B2 JP2734457 B2 JP 2734457B2 JP 6041076 A JP6041076 A JP 6041076A JP 4107694 A JP4107694 A JP 4107694A JP 2734457 B2 JP2734457 B2 JP 2734457B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は高血圧症、喘息症等の治
療に有効な光学活性ベンゾピラン化合物を初めとして、
医薬の重要合成中間体である光学活性エポキシ化合物の
製造法に関する。
The present invention relates to optically active benzopyran compounds which are effective for treating hypertension, asthma, etc.
The present invention relates to a method for producing an optically active epoxy compound which is an important synthetic intermediate of a medicine.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】光学活
性な医薬品の製造にエポキシ化合物が利用される場合の
最も一般的な方法は、さらに工程が進んだ段階(例えば
アンモニアと反応させて得られるアミノアルコール化合
物)でジアステレオマー分割する方法であり、具体的に
は特開平3-141286 号公報、EP409165号公報及び米国特
許 5097037号公報に記載されているピラノベンゾオキサ
ジアゾール化合物の光学分割法やJ. Med. Chem., 35, 1
685-1701 (1992) の文献に記載の光学活性インデンオキ
サイドの合成例を挙げることができる。第二の方法とし
てはエポキシ化合物の前駆体であるハロヒドリン化合物
を誘導体化し、その段階でジアステレオマー分割する
か、または酵素の立体選択性を利用する方法であり、具
体的には Circulation Research, 62, 4, 679-686 (198
8)に記載されているベンゾピラン化合物の光学分割法を
挙げることができる。これら2つの方法はいずれもラセ
ミ体を分離するため不必要な側の対掌体が全く無駄にな
るという経済的には大きな問題を抱えている。
BACKGROUND OF THE INVENTION The most common method in which an epoxy compound is used for the production of optically active pharmaceuticals is obtained at a more advanced stage (for example, by reaction with ammonia). Diamines), specifically the optical resolution of pyranobenzoxadiazole compounds described in JP-A-3-114286, EP 409165 and US Pat. No. 5,097,037. Law and J. Med. Chem., 35, 1
Examples of the synthesis of optically active indene oxide described in the literature of 685-1701 (1992) can be mentioned. The second method is to derivatize a halohydrin compound, which is a precursor of an epoxy compound, and then diastereomerically separate at that stage, or use the stereoselectivity of an enzyme. Specifically, Circulation Research, 62 , 4, 679-686 (198
The optical resolution method of the benzopyran compound described in 8) can be mentioned. Each of these two methods has a major economic problem that the unnecessary enantiomer is totally wasted because the racemate is separated.

【0003】それに対し、最近、光学活性なマンガン錯
体を用いる不斉触媒合成法が見いだされており、効率的
な光学活性エポキシ体の製造法として注目されている。
例えば J. Am. Chem. Soc., 113, 7063-7064, (1991)に
記載されている Jacobsen らの触媒や特開平5-301878号
公報、欧州公開特許535377号公報に記載されている香月
らの触媒である。この方法はラセミ体の分割法と異なり
不要な側の対掌体が無駄になるという問題が解消され、
原料となるオレフィンの種類によっては良好な化学収率
と光学収率を与えるために効率的な製造法を提供する。
しかし、これまで報告された触媒だけではすべての光学
活性エポキシ体の製造において良好な結果を与えるとは
限らず、現在も改善を計るための研究が盛んに行なわれ
ているというのが現状である。
[0003] On the other hand, recently, an asymmetric catalyst synthesis method using an optically active manganese complex has been found, and has attracted attention as an efficient method for producing an optically active epoxy compound.
For example, Jacobsen et al.'S catalyst described in J. Am. Chem. Soc., 113, 7063-7064, (1991) and Katsuki described in JP-A-5-301878 and European Patent Publication 535377. These catalysts. This method solves the problem that the enantiomer on the unnecessary side is wasted unlike the racemic separation method,
An efficient production method is provided to provide good chemical and optical yields depending on the type of olefin as a raw material.
However, the catalysts reported so far do not always give good results in the production of all optically active epoxies, and the current situation is that active research is being carried out to measure improvements. .

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は、近傍官能基
を有しないオレフィン化合物[II]
Means for Solving the Problems The present inventors have developed an olefin compound [II] having no vicinal functional group.

【0005】[0005]

【化14】 Embedded image

【0006】〔式中、R5及びR6は、それぞれ独立して、
水素原子、シアノ基、ニトロ基、アセチル基などの保護
基で保護されていてもよいアミノ基、ハロゲン原子、C1
-C4アルキル基、C1-C4アルコキシ基、ハロC1-C4アルキ
ル基、カルボキシ基、ホルミル基、C1-C4アルカノイル
基、アロイル基、ハロC1-C4アルカノイル基、カルバモ
イル基、C1-C4アルキルスルフィニル基、アリールスル
フィニル基、C1-C4アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、スルホンアミド基、モノ又はジC1-C4アル
キルスルホンアミド基を意味するか、又はR5とR6がオル
ト位のとき両者が一緒になって、結合する環とともに
Wherein R 5 and R 6 are each independently
An amino group which may be protected by a protecting group such as a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, or an acetyl group, a halogen atom, C 1
-C 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy group, halo C 1 -C 4 alkyl group, a carboxy group, a formyl group, C 1 -C 4 alkanoyl group, aroyl group, halo C 1 -C 4 alkanoyl group, a carbamoyl group, C 1 -C 4 alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, C 1 -C 4 alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfonamido group, or means a mono- or di-C 1 -C 4 alkylsulfonamido group, or When R 5 and R 6 are in the ortho position, they are joined together,

【0007】[0007]

【化15】 Embedded image

【0008】(式中、nは0又は1の整数を表す。)を
意味する。R7は水素原子、C1-C4アルキル基又はC1-C4
ルコキシ基を意味する。R8はC1-C4アルキル基又はC1-C4
アルコキシ基を意味する。又は、R7とR8が一緒になって
(Wherein, n represents an integer of 0 or 1). R 7 represents a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group. R 8 is a C 1 -C 4 alkyl group or C 1 -C 4
It means an alkoxy group. Or R 7 and R 8 together

【0009】[0009]

【化16】 Embedded image

【0010】(R9、R10、R11及びR12は、それぞれ独立
して、水素原子又はC1-C4アルキル基を意味する。)を
意味する。〕を原料とする光学活性エポキシ化合物[II
I]
(R 9 , R 10 , R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or a C 1 -C 4 alkyl group). ] As the starting material [II
I]

【0011】[0011]

【化17】 Embedded image

【0012】(R5、R6、R7及びR8は前記に同じ。*で示
された炭素原子の絶対配位はRかSを意味する。)の製
造法を鋭意検討した結果、式[I]又は[I']
As a result of intensive studies on the production method of (R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are the same as above. The absolute configuration of the carbon atom indicated by * means R or S.) [I] or [I ']

【0013】[0013]

【化18】 Embedded image

【0014】〔式中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独
立して水素原子、C1-C4アルキル基、フェニル基(該フ
ェニル基は、ハロゲン原子、C1-C4アルキル基、C1-C4
ルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていても
よい。)を意味し、又、いずれか2つが一緒になって環
を形成してもよい。X-は塩を形成しうる陰イオン対を
意味する。
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, a phenyl group (the phenyl group is a halogen atom, C 1 -C 4 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy group, cyano group or nitro group), and any two of them may form a ring together. X - represents an anion pair capable of forming a salt.

【0015】Yは水素原子、ハロゲン原子、C1-C4アル
キル基、C1-C4アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基を
意味する。Rは水素原子、C1-C4アルキル基、フェニル
基(該フェニル基は、ハロゲン原子、C1-C4アルキル
基、C1-C4アルコキシ基で置換されていてもよい。)又
は置換シリル基を意味する。〕で表される光学活性マン
ガン錯体を不斉触媒として用いることにより、高い不斉
収率で目的とする式[III]で表される光学活性エポキ
シ化合物が得られることを見出し本発明を完成させた。
Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, a C 1 -C 4 alkoxy group, a nitro group or a cyano group. R represents a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, a phenyl group (the phenyl group may be substituted with a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, or a C 1 -C 4 alkoxy group) or substitution It means a silyl group. It has been found that by using the optically active manganese complex represented by the formula (1) as an asymmetric catalyst, the desired optically active epoxy compound represented by the formula [III] can be obtained with a high asymmetric yield. Was.

【0016】光学活性マンガン錯体[I]及び[I']の
置換基であるR1、R2、R3及びR4としては水素原子、メチ
ル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル
基、ノルマルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブ
チル基、ターシャリーブチル基等のC1-C4アルキル基
か、あるいは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチ
ル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル
基、ノルマルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブ
チル基、ターシャリーブチル基、メトキシ基、エトキシ
基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノルマ
ルブトキシ基、イソブトキシ基、セカンダリーブトキシ
基、ターシャリーブトキシ基、シアノ基及びニトロ基の
中から選ばれた置換基によって置換されていてもよいフ
ェニル基が挙げられ、好ましくは、水素原子、エチル
基、ターシャリーブチル基、フェニル基、3,5-ジメチル
フェニル基が挙げられる。
The substituents R 1 , R 2 , R 3 and R 4 of the optically active manganese complexes [I] and [I ′] are hydrogen, methyl, ethyl, normal propyl, isopropyl and normal. C 1 -C 4 alkyl group such as butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, tertiary butyl group, or fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, methyl group, ethyl group, normal propyl group, isopropyl group, normal Butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, tertiary butyl group, methoxy group, ethoxy group, normal propoxy group, isopropoxy group, normal butoxy group, isobutoxy group, secondary butoxy group, tertiary butoxy group, cyano group and nitro group And a phenyl group which may be substituted with a substituent selected from Details, a hydrogen atom, an ethyl group, a tertiary butyl group, a phenyl group, 3,5-dimethylphenyl group.

【0017】又、R1、R2、R3及びR4のいずれか2つが一
緒になって、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘ
キサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等C4-C8の環
を形成してもよい。
Further, any two of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 together form a C 4 -C 8 ring such as cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane and the like. Is also good.

【0018】Rとしてはフェニル基の他、フルオロフェ
ニル、クロロフェニル、ブロモフェニル、トリル、エチ
ルフェニル、ターシャリーブチルフェニル、3,5-ジメチ
ルフェニル基、メトキシフェニル(いずれもオルト体、
メタ体、パラ体が存在する。)、水素原子、メチル基、
エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノル
マルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、
ターシャリーブチル基、置換シリル等が挙げられる。
R is a phenyl group, fluorophenyl, chlorophenyl, bromophenyl, tolyl, ethylphenyl, tertiarybutylphenyl, 3,5-dimethylphenyl group, methoxyphenyl (all ortho,
There are meta field and para field. ), Hydrogen atom, methyl group,
Ethyl group, normal propyl group, isopropyl group, normal butyl group, isobutyl group, secondary butyl group,
Examples include a tertiary butyl group and substituted silyl.

【0019】置換シリルとしては、例えば、トリメチル
シリル、トリエチルシリル、トリノルマルプロピルシリ
ル、トリイソプロピルシリル、トリノルマルブチルシリ
ル、トリイソブチルシリル、トリノルマルヘキシルシリ
ル、ジメチルエチルシリル、ジメチルノルマルプロピル
シリル、ジメチルノルマルブチルシリル、ジメチルイソ
ブチルシリル、ジメチルターシャリーブチルシリル、ジ
メチルノルマルペンチルシリル、ジメチルノルマルオク
チルシリル、ジメチルシクロヘキシルシリル、ジメチル
テキシルシリル、ジメチル-2,3- ジメチルプロピルシリ
ル、ジメチル-2-(ビシクロヘプチル) シリル、ジメチル
ベンジルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチルパ
ラトリルシリル、ジメチルフロフェメシルシリル、メチ
ルジフェニルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニル
ターシャリーブチルシリル、トリベンジルシリル、ジフ
ェニルビニルシリル、ジフェニルノルマルブチルシリ
ル、フェニルメチルビニルシリル等を挙げることができ
る。
As the substituted silyl, for example, trimethylsilyl, triethylsilyl, trinormalpropylsilyl, triisopropylsilyl, trinormalbutylsilyl, triisobutylsilyl, trinormalhexylsilyl, dimethylethylsilyl, dimethylnormalpropylsilyl, dimethylnormalbutyl Silyl, dimethyl isobutylsilyl, dimethyl tertiary butylsilyl, dimethyl normal pentyl silyl, dimethyl normal octyl silyl, dimethyl cyclohexyl silyl, dimethyl texyl silyl, dimethyl-2,3-dimethylpropyl silyl, dimethyl-2- (bicycloheptyl) silyl , Dimethylbenzylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylparatolylsilyl, dimethylfurofemesylsilyl, methyldiphenylsilyl, It can be mentioned Li triphenylsilyl, diphenyl-tert-butylsilyl, tribenzylsilyl, diphenyl vinyl silyl, diphenyl n-butyl silyl, phenyl methyl vinyl silyl and the like.

【0020】Yは水素原子、ハロゲン原子(フッ素原
子、塩素原子、臭素原子)、メチル基、エチル基、ノル
マルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、
イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブ
チル基、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ
基、イソプロポキシ基、ノルマルブトキシ基、イソブト
キシ基、セカンダリーブトキシ基、ターシャリーブトキ
シ基、ニトロ基又はシアノ基を意味する。
Y is a hydrogen atom, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom), a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group,
It means an isobutyl group, a secondary butyl group, a tertiary butyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a normal propoxy group, an isopropoxy group, a normal butoxy group, an isobutoxy group, a secondary butoxy group, a tertiary butoxy group, a nitro group or a cyano group. .

【0021】光学活性マンガン錯体[I]及び[I']は
中心金属であるマンガンが1価から5価までの酸化状態
をとり得るため、種々の陰イオン対(X-) 塩を形成す
ることができる。塩を形成するイオン対としては1価の
OH-、F-、Cl-、Br-、I-、CH3CO2 -、PF6 -、ClO4 -、B
F4 -、2価のCO3 2-、SO4 2-、3価のPO4 3-イオン等が挙げ
られるが、いずれも、本目的の不斉触媒として利用でき
る。
The optically active manganese complexes [I] and [I '] form various anion pair (X ) salts because manganese, which is the central metal, can take an oxidation state from monovalent to pentavalent. Can be. As a salt-forming ion pair, a monovalent
OH -, F -, Cl - , Br -, I -, CH 3 CO 2 -, PF 6 -, ClO 4 -, B
Examples thereof include F 4 , divalent CO 3 2− , SO 4 2− , and trivalent PO 4 3− ions, all of which can be used as the asymmetric catalyst for the purpose of the present invention.

【0022】光学活性マンガン錯体[I]及び[I']の
代表的な合成例を次に説明する。スキームには[I]
{R1=R3=R=Ph(フェニル基)、R2=R4=H、X=CH
3CO2 -}のみの合成法を示すが、[I]と[I']は互い
に対掌体の関係であるため、[I']R1=R3=R=Ph(フ
ェニル基)、R2=R4=H、X=CH3CO2 -}を合成するに
は、出発原料である光学活性ビナフトール化合物及びジ
アミン化合物を逆の立体配置を持つものに変更するだけ
でよい。
A typical synthesis example of the optically active manganese complexes [I] and [I '] will be described below. The scheme includes [I]
{R 1 = R 3 = R = Ph (phenyl group), R 2 = R 4 = H, X = CH
3 CO 2 -} is shown only synthesis of, [I] and [I '] Because the relationship of the antipodes each other, [I'] R 1 = R 3 = R = Ph ( phenyl group), R 2 = R 4 = H, X = CH 3 CO 2 - to synthesize} need only change the optically active binaphthol compound and a diamine compound as a starting material to those with the opposite configuration.

【0023】すなわち、分子不斉を持つ光学活性ビナフ
トール化合物を(a)コリジン存在下、N−フェニルト
リフルオロメタンスルホンイミドを反応させて一方の水
酸基をトリフレートとし、(b)塩化[1,2−ビス
(ジフェニルホスフィノ)エタン]ニッケル(II)を触
媒としてフェニルグリニャール試薬で置換する。次いで
(c)塩基性条件下、クロロメチルメチルエーテルでメ
トキシメチル化した後、(d)t−ブチルリチウムでの
リチオ化、(e)ジメチルホルムアミドでのホルミル
化、(f)トリメチルシリルブロミドでの脱メトキシメ
チル化を経てサリチルアルデヒド化合物を合成する。R
部分が異なる化合物の合成は上記(b)の段階でグリニ
ャール試薬の種類を代えればよい。(スキーム1)
That is, an optically active binaphthol compound having molecular asymmetry is reacted with N-phenyltrifluoromethanesulfonimide in the presence of (a) collidine to convert one hydroxyl group to triflate, and (b) [1,2-chloride] Bis (diphenylphosphino) ethane] nickel (II) is replaced by phenyl Grignard reagent as catalyst. Next, (c) methoxymethylation with chloromethyl methyl ether under basic conditions, (d) lithiation with t-butyllithium, (e) formylation with dimethylformamide, (f) demethylation with trimethylsilyl bromide A salicylaldehyde compound is synthesized via methoxymethylation. R
In the synthesis of a compound having a different portion, the kind of the Grignard reagent may be changed in the step (b). (Scheme 1)

【0024】もう一方の原料であるジアミン化合物は市
販の物も多いが、市販されていないジアミン化合物の合
成例として、R1=R3=3,5−ジメチルフェニル基、R2
=R4=Hの場合をスキーム2に示した。すなわち、
(g)3,5−ジメチル安息香酸をリチウムアルミニウ
ムヒドリド還元によりアルコール体とし、(h)二酸化
マンガンで酸化してアルデヒド体を合成する。これを
(i)四塩化チタンと亜鉛末により二量化させ、(j)
4−クロロ安息香酸ヒドロキニジンを不斉源とした四酸
化オスミウムによるシャープレス不斉ジオール化反応に
より、高純度の光学活性ジオール体に変換し、(k)塩
基性条件下、メシルクロリドによる水酸基のメシル化、
(l)アジ化ナトリウムによる置換反応、(m)リチウ
ムアルミニウムヒドリドによるアジドの還元を経て目的
とするジアミン化合物を得る方法である。ただし、ジア
ミン化合物の合成法は置換基の種類により様々であるた
め、必ずしもこの方法に限定するものではない。
There are many other diamine compounds which are commercially available, but examples of the synthesis of diamine compounds which are not commercially available include R 1 = R 3 = 3,5-dimethylphenyl group and R 2
= R 4 = H is shown in Scheme 2. That is,
(G) 3,5-dimethylbenzoic acid is converted into an alcohol form by lithium aluminum hydride reduction, and (h) oxidized with manganese dioxide to synthesize an aldehyde form. This is dimerized with (i) titanium tetrachloride and zinc dust, and (j)
By the asymmetric diolation reaction of osmium tetroxide with hydroquinidine 4-chlorobenzoate as an asymmetric source, the compound is converted into a high-purity optically active diol form, and (k) hydroxyl group formation by mesyl chloride under basic conditions Mesylation,
This is a method of obtaining a target diamine compound through (l) a substitution reaction with sodium azide and (m) reduction of azide with lithium aluminum hydride. However, the method for synthesizing the diamine compound varies depending on the type of the substituent, and is not necessarily limited to this method.

【0025】以上のようにして得られたサリチリアルデ
ヒド化合物とジアミン化合物をエタノール、メタノール
などのアルコール系の溶媒、アセトニトリル、プロピオ
ニトリルのようなニトリル系の溶媒、ジクロロメタン、
クロロホルムのようなハロゲン系の溶媒、ベンゼン、ト
ルエンのような芳香族炭化水素系の溶媒、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテルのようなエーテル系溶媒、ヘ
キサン、ヘプタンのような炭化水素系の溶媒中で混合さ
せイミン化合物を形成させる。好ましい溶媒としてはエ
タノール、メタノール、アセトニトリル、ジクロロメタ
ン、トルエン等を挙げることができる。この時、必要で
あれば、等モル以上の無水硫酸マグネシウムや無水ホウ
酸又はモレキュラーシーブのような脱水剤を共存させて
もよい。あるいは溶媒との共沸脱水により生成水の除去
を行ってもよい。反応温度については特に制限がなく、
−20℃から使用する溶媒の沸点まで可能であるが、好
ましくは0℃から50℃の範囲で行う。イミン化合物は
必ずしも反応系中から取り出す必要はなく、次のマンガ
ン錯体合成と連続して行うこともできる。
The salicylaldehyde compound and the diamine compound obtained as described above are converted into an alcohol solvent such as ethanol and methanol, a nitrile solvent such as acetonitrile and propionitrile, dichloromethane,
Imine mixed in a halogen solvent such as chloroform, an aromatic hydrocarbon solvent such as benzene and toluene, an ether solvent such as tetrahydrofuran and diethyl ether, and a hydrocarbon solvent such as hexane and heptane Form the compound. Preferred solvents include ethanol, methanol, acetonitrile, dichloromethane, toluene and the like. At this time, if necessary, an equimolar amount or more of a dehydrating agent such as anhydrous magnesium sulfate, boric anhydride or molecular sieve may be allowed to coexist. Alternatively, the generated water may be removed by azeotropic dehydration with a solvent. There is no particular limitation on the reaction temperature,
The temperature can be from -20 ° C to the boiling point of the solvent used, but it is preferably carried out in the range of 0 ° C to 50 ° C. It is not always necessary to take out the imine compound from the reaction system, and it can be carried out continuously with the next manganese complex synthesis.

【0026】得られたイミン化合物を、エタノール、メ
タノールなどのアルコール系の溶媒、アセトニトリル、
プロピオニトリルのようなニトリル系の溶媒、ジクロロ
メタン、クロロホルムのようなハロゲン系の溶媒中に溶
解又は懸濁させ、0.5モル当量から10モル当量、好
ましくは0.8モル当量から2モル当量の酢酸マンガン
を加え、酸素存在下で反応させると目的とする光学活性
マンガン錯体[I]を得ることができる。必要であれば
CH3CO2 -イオンをCl-、PF6 -その他の陰イオンと置き換え
ることも可能であり、たとえば反応系中に等モル以上の
塩化リチウムを追加することにより、Cl-イオンとの交
換をすることができる。好ましい溶媒としてはエタノー
ル、メタノール、アセトニトリル、ジクロロメタン等を
挙げることができる。反応温度については特に制限がな
く、−20℃から使用する溶媒の沸点まで可能である
が、好ましくは0℃から50℃の範囲で行う。酸素は大
過剰の空気又は酸素ガスを反応系中に吹き込むか、又は
大気中、開放系で撹拌することにより、供給される。
The obtained imine compound is treated with an alcoholic solvent such as ethanol and methanol, acetonitrile,
It is dissolved or suspended in a nitrile-based solvent such as propionitrile or a halogen-based solvent such as dichloromethane or chloroform, and 0.5 to 10 molar equivalents, preferably 0.8 to 2 molar equivalents. The desired optically active manganese complex [I] can be obtained by adding manganese acetate and reacting in the presence of oxygen. If necessary
It is also possible to replace CH 3 CO 2 - ions with Cl - and PF 6 - other anions, for example by exchanging Cl - ions by adding equimolar or more lithium chloride in the reaction system. be able to. Preferred solvents include ethanol, methanol, acetonitrile, dichloromethane and the like. The reaction temperature is not particularly limited and can be from -20 ° C to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of 0 ° C to 50 ° C. Oxygen is supplied by blowing a large excess of air or oxygen gas into the reaction system, or by stirring in an open system in the atmosphere.

【0027】具体例として、スキーム3には、ジアミン
化合物が(1S,2S)−1,2−ジフェニル−1,2
−エタンジアミンである光学活性マンガン錯体[I]
{R1=R3=R=Ph(フェニル基)、R2=R4=H、X=CH
3CO2 -}の合成例を示した。
As a specific example, Scheme 3 shows that the diamine compound is (1S, 2S) -1,2-diphenyl-1,2
-Active manganese complex which is ethanediamine [I]
{R 1 = R 3 = R = Ph (phenyl group), R 2 = R 4 = H, X = CH
3 CO 2 - shows an example of the synthesis of}.

【0028】[0028]

【化19】 Embedded image

【0029】[0029]

【化20】 Embedded image

【0030】〔式中、Phはフェニルを、Tf2NPhは、N−
フェニルトリフルオロメタンスルホンイミドを、PhMgBr
は、フェニルマグネシウムブロミドを、NiCl2(dppe)
は、塩化[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタ
ン]ニッケル(II)を、MOMClは、クロロメチルメチル
エーテルを、(i-Pr)2NEtは、ジイソプロピルエチルアミ
ンを、THF はテトラヒドロフランを、DMF はジメチルホ
ルムアミドを、TMSBrは臭化トリメチルシリルを、LAH
は、リチウムアルミニウムヒドリドを、Et2Oは、ジエチ
ルエーテルを、各々意味する。〕
Wherein Ph is phenyl and Tf 2 NPh is N-
Phenyltrifluoromethanesulfonimide, PhMgBr
Replaces phenylmagnesium bromide with NiCl 2 (dppe)
Is [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] nickel (II) chloride, MOMCl is chloromethyl methyl ether, (i-Pr) 2 NEt is diisopropylethylamine, THF is tetrahydrofuran, DMF Is dimethylformamide, TMSBr is trimethylsilyl bromide, LAH
Represents lithium aluminum hydride, and Et 2 O represents diethyl ether. ]

【0031】次に、不斉エポキシ化反応の具体的な方法
について説明する。
Next, a specific method of the asymmetric epoxidation reaction will be described.

【0032】[0032]

【化21】 Embedded image

【0033】不斉触媒として用いる光学活性マンガン錯
体[I]及び[I']の使用量は原料であるオレフィン化
合物[II]に対して通常0.1mol%〜100mol
%の範囲、好ましくは1mol%〜5mol%の範囲で
ある。酸化剤の種類としては、ヨードシルベンゼン、2
−ヨードシル安息香酸、次亜塩素酸ナトリウム、過ヨウ
素酸テトラブチルアンモニウム、過酸化水素、酸素、空
気等を使用することができる。酸化剤がヨードシルベン
ゼン又は2−ヨードシル安息香酸の場合の使用量は原料
であるオレフィン化合物[II]に対して通常1当量〜1
0当量、好ましくは1当量〜3当量の範囲である。酸化
剤が次亜塩素酸ナトリウム、過ヨウ素酸テトラブチルア
ンモニウム及び過酸化水素の場合の使用量は原料である
オレフィン化合物[II]に対して通常1当量〜100当
量の範囲、好ましくは3当量〜30当量の範囲である。
酸化剤として、空気又は酸素ガスを用いる場合は、大過
剰の空気又は酸素ガスを反応系中に吹き込むか、又は大
気中、開放系で撹拌することにより、供給される。
The amount of the optically active manganese complexes [I] and [I '] used as the asymmetric catalyst is usually 0.1 mol% to 100 mol with respect to the starting olefin compound [II].
%, Preferably in the range of 1 mol% to 5 mol%. Examples of the oxidizing agent include iodosylbenzene, 2
-Iodosylbenzoic acid, sodium hypochlorite, tetrabutylammonium periodate, hydrogen peroxide, oxygen, air and the like can be used. When the oxidizing agent is iodosylbenzene or 2-iodosylbenzoic acid, the amount used is usually 1 equivalent to 1 equivalent to the olefin compound [II] as the raw material.
It is in a range of 0 equivalent, preferably 1 equivalent to 3 equivalents. When the oxidizing agent is sodium hypochlorite, tetrabutylammonium periodate or hydrogen peroxide, the amount used is usually in the range of 1 equivalent to 100 equivalents, preferably 3 equivalents to the olefin compound [II] as the raw material. It is in the range of 30 equivalents.
When air or oxygen gas is used as the oxidizing agent, the air or oxygen gas is supplied by blowing a large excess of air or oxygen gas into the reaction system or by stirring in an open system in the atmosphere.

【0034】反応溶媒としては、水、アセトニトリル、
ジクロロメタン、ジクロロエタン及びこれらの混合溶媒
などを使用することができる。特に酸化剤が次亜塩素酸
ナトリウムの場合は水とジクロロメタンのように2相系
で実施する方が好ましい場合がある。
As the reaction solvent, water, acetonitrile,
Dichloromethane, dichloroethane, a mixed solvent thereof and the like can be used. Particularly when the oxidizing agent is sodium hypochlorite, it may be preferable to carry out the reaction in a two-phase system such as water and dichloromethane.

【0035】又、反応系にピリジンN−オキシド、4−
フェニルピリジンN−オキシド、ルチジンN−オキシド
又は2−メチルイミダゾールなどのマンガン錯体に配位
能力を持つ成分を共存させることができる。使用量につ
いては特に制限がない。
In the reaction system, pyridine N-oxide,
A component having coordination ability can coexist with a manganese complex such as phenylpyridine N-oxide, lutidine N-oxide or 2-methylimidazole. There is no particular limitation on the amount used.

【0036】反応温度は通常−50℃〜50℃の範囲、
好ましくは−20℃〜25℃の範囲がよい。
The reaction temperature is usually in the range of -50 ° C to 50 ° C,
Preferably, the temperature is in the range of -20C to 25C.

【0037】反応終了後は有機溶媒を減圧濃縮し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーあるいは蒸留により分
離精製すれば、目的とする光学活性化合物[III]を単
離することができる。それらの光学純度は光学活性液体
クロマトグラフィーカラム(ダイセル化学工業社、キラ
ルセル OJなど)や旋光度によって分析することがで
きる(分析条件は実施例参照)。
After completion of the reaction, the objective optically active compound [III] can be isolated by concentrating the organic solvent under reduced pressure and separating and purifying it by silica gel column chromatography or distillation. Their optical purity can be analyzed by an optically active liquid chromatography column (Daicel Chemical Industries, Inc., Chiralcel OJ, etc.) or by optical rotation (see Examples for analysis conditions).

【0038】本不斉エポキシ化反応を適用できるオレフ
ィン化合物[II]として、式[IV]
The olefin compound [II] to which the present asymmetric epoxidation reaction can be applied is represented by the formula [IV]

【0039】[0039]

【化22】 Embedded image

【0040】(式中、R5及びR6は、それぞれ独立して、
水素原子、シアノ基、ニトロ基、アセチル基などの保護
基で保護されていてもよいアミノ基、ハロゲン原子、C1
-C4アルキル基、C1-C4アルコキシ基、ハロC1-C4アルキ
ル基、カルボキシ基、ホルミル基、C1-C4アルカノイル
基、アロイル基、ハロC1-C4アルカノイル基、カルバモ
イル基、C1-C4アルキルスルフィニル基、アリールスル
フィニル基、C1-C4アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、スルホンアミド基、モノ又はジC1-C4アル
キルスルホンアミド基を意味するか、又はR5とR6が一緒
になって、結合する環とともに
(Wherein R 5 and R 6 are each independently
An amino group which may be protected by a protecting group such as a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, or an acetyl group, a halogen atom, C 1
-C 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy group, halo C 1 -C 4 alkyl group, a carboxy group, a formyl group, C 1 -C 4 alkanoyl group, aroyl group, halo C 1 -C 4 alkanoyl group, a carbamoyl group, C 1 -C 4 alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, C 1 -C 4 alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfonamido group, or means a mono- or di-C 1 -C 4 alkylsulfonamido group, or R 5 and R 6 together form a ring

【0041】[0041]

【化23】 Embedded image

【0042】(式中、nは0又は1の整数を表す。)を
意味する。R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子
又はC1-C4アルキル基を意味する。)で表されるベンゾ
ピラン誘導体や式[VI]
(Wherein, n represents an integer of 0 or 1). R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a C 1 -C 4 alkyl group. Benzopyran derivative represented by the formula [VI]

【0043】[0043]

【化24】 Embedded image

【0044】で示したインデン誘導体が挙げられる。The indene derivatives shown above are exemplified.

【0045】ベンゾピラン誘導体として好ましくは、The benzopyran derivative is preferably

【0046】[0046]

【化25】 Embedded image

【0047】(式中、R5及びR6は、それぞれ独立して、
水素原子、シアノ基、ニトロ基、アセチル基などの保護
基で保護されていてもよいアミノ基、ハロゲン原子、C1
-C4アルキル基、C1-C4アルコキシ基、ハロC1-C4アルキ
ル基、カルボキシ基、ホルミル基、C1-C4アルカノイル
基、アロイル基、ハロC1-C4アルカノイル基、カルバモ
イル基、C1-C4アルキルスルフィニル基、アリールスル
フィニル基、C1-C4アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、スルホンアミド基、モノ又はジC1-C4アル
キルスルホンアミド基を意味する。)及び
(Wherein R 5 and R 6 are each independently
An amino group which may be protected by a protecting group such as a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, or an acetyl group, a halogen atom, C 1
-C 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy group, halo C 1 -C 4 alkyl group, a carboxy group, a formyl group, C 1 -C 4 alkanoyl group, aroyl group, halo C 1 -C 4 alkanoyl group, a carbamoyl means group, C 1 -C 4 alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, C 1 -C 4 alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfonamido group, a mono- or di-C 1 -C 4 alkylsulfonamido group. )as well as

【0048】[0048]

【化26】 Embedded image

【0049】(式中、nは0又は1の整数を表す。)が
挙げられる。
(Wherein, n represents an integer of 0 or 1).

【0050】インデン誘導体としては、式As the indene derivative, a compound of the formula

【0051】[0051]

【化27】 Embedded image

【0052】で示されるインデンが挙げられる。The indene represented by

【0053】いずれの化合物も、上記の方法により、そ
れぞれ目的とするエポキシ化合物が得られる。
For each compound, the desired epoxy compound can be obtained by the above-mentioned method.

【0054】[0054]

【化28】 Embedded image

【0055】式[IV]及び[V]で表される化合物の置
換基であるR5及びR6は、それぞれ独立して、水素原子、
シアノ基、ニトロ基、アセチル基などの保護基で保護さ
れていてもよいアミノ基、ハロゲン原子、C1-C4アルキ
ル基、C1-C4アルコキシ基、ハロC1-C4アルキル基、カル
ボキシ基、ホルミル基、C1-C4アルカノイル基、アロイ
ル基、ハロC1-C4アルカノイル基、カルバモイル基、C1-
C4アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、
C1-C4アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
スルホンアミド基、モノ又はジC1-C4アルキルスルホン
アミド基を意味するか、又はR5とR6が一緒になって
R 5 and R 6 which are substituents of the compounds represented by the formulas [IV] and [V] are each independently a hydrogen atom,
A cyano group, a nitro group, an amino group which may be protected with a protecting group such as an acetyl group, a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, a C 1 -C 4 alkoxy group, a halo C 1 -C 4 alkyl group, Carboxy group, formyl group, C 1 -C 4 alkanoyl group, aroyl group, halo C 1 -C 4 alkanoyl group, carbamoyl group, C 1-
C 4 alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group,
C 1 -C 4 alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group,
Means a sulfonamide group, a mono- or di-C 1 -C 4 alkylsulfonamide group, or R 5 and R 6 together

【0056】[0056]

【化29】 Embedded image

【0057】(式中、nは0又は1の整数を表す。)を
意味する。R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子
又はC1-C4アルキル基を意味する。
(Wherein, n represents an integer of 0 or 1). R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a C 1 -C 4 alkyl group.

【0058】アミノ基の保護基としてはアセチル基、プ
ロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基
などのアシル基の他、メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、ターシャリーブトキシカルボニル基、な
どのアルコキシカルボニル基、トシル基、ベンジル基な
どが挙げられる。好ましくは、アセチル基、ターシャリ
ーブトキシカルボニル基である。
Examples of the amino-protecting group include acyl groups such as acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group and benzoyl group, and alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group and tert-butoxycarbonyl group. Examples include a tosyl group and a benzyl group. Preferably, they are an acetyl group and a tertiary butoxycarbonyl group.

【0059】ハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、
臭素原子、ヨウ素原子である。
The halogen atom is a fluorine atom, a chlorine atom,
Bromine and iodine.

【0060】C1-C4アルキル基は、メチル基、エチル
基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブ
チル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシ
ャリーブチル基を意味する。
The C 1 -C 4 alkyl group means a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, an isobutyl group, a secondary butyl group and a tertiary butyl group.

【0061】C1-C4アルコキシ基は、メトキシ基、エト
キシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノ
ルマルブトキシ基、イソブトキシ基、セカンダリーブト
キシ基、ターシャリーブトキシ基を意味する。
The C 1 -C 4 alkoxy group means a methoxy group, an ethoxy group, a normal propoxy group, an isopropoxy group, a normal butoxy group, an isobutoxy group, a secondary butoxy group or a tertiary butoxy group.

【0062】ハロC1-C4アルキル基とはハロゲン原子で
置換された上記のC1-C4アルキル基を意味し、トリフル
オロメチル基、モノクロロメチル基、ペンタフルオロエ
チル基などが挙げられる。
The halo C 1 -C 4 alkyl group means the above C 1 -C 4 alkyl group substituted by a halogen atom, and includes a trifluoromethyl group, a monochloromethyl group, a pentafluoroethyl group and the like.

【0063】C1-C4アルカノイル基の例としてはアセチ
ル基、プロピオニル基などが挙げられる。
Examples of the C 1 -C 4 alkanoyl group include an acetyl group and a propionyl group.

【0064】アロイル基の例としてはベンゾイル基、ト
ルオイル基、ナフトイル基などが挙げられる。
Examples of the aroyl group include a benzoyl group, a toluoyl group and a naphthoyl group.

【0065】ハロC1-C4アルカノイル基の例としてはト
リフルオロアセチル基、モノクロロアセチル基、ペンタ
フルオロプロピオニル基などが挙げられる。
Examples of halo C 1 -C 4 alkanoyl groups include trifluoroacetyl, monochloroacetyl, pentafluoropropionyl and the like.

【0066】C1-C4アルキルスルフィニル基、C1-C4アル
キルスルホニル基及びモノまたはジC1-C4アルキルスル
ホンアミド基におけるC1-C4アルキルとは上記と同じで
あり、アリールスルフィニル、アリールスルホニルにお
けるアリールとしてはフェニル基、トリル基などを挙げ
ることができる。
[0066] The C 1 -C 4 alkylsulfinyl group, C 1 -C 4 alkyl in C 1 -C 4 alkylsulfonyl group, and a mono- or di-C 1 -C 4 alkylsulfonamido group is as defined above, arylsulfinyl Examples of the aryl in the arylsulfonyl include a phenyl group and a tolyl group.

【0067】[0067]

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、近傍官能基を有しないオレフィン化合物を
原料に光学活性な医薬品やその中間体として有用な光学
活性エポキシ化合物を製造する新規な触媒を提供するこ
とができる。
As described above, the present invention has a novel structure for producing an optically active pharmaceutical product or an optically active epoxy compound useful as an intermediate thereof from an olefin compound having no nearby functional group as a raw material. It is possible to provide a suitable catalyst.

【0068】[0068]

【実施例】【Example】

【0069】参考例1Reference Example 1

【0070】[0070]

【化30】 Embedded image

【0071】〔式中、Phはフェニルを、Tf2NPhは、N−
フェニルトリフルオロメタンスルホンイミドを、PhMgBr
は、フェニルマグネシウムブロミドを、NiCl2(dppe)
は、塩化[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタ
ン]ニッケル(II)を、MOMClは、クロロメチルメチル
エーテルを、(i-Pr)2NEtは、ジイソプロピルエチルアミ
ンを、THF はテトラヒドロフランを、DMF はジメチルホ
ルムアミドを、TMSBr は臭化トリメチルシリルを、DMAP
はジメチルアミノピリジンを、Et2Oはジエチルエーテル
を、各々意味する。〕
[Wherein Ph is phenyl and Tf 2 NPh is N-
Phenyltrifluoromethanesulfonimide, PhMgBr
Replaces phenylmagnesium bromide with NiCl 2 (dppe)
Is [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] nickel (II) chloride, MOMCl is chloromethyl methyl ether, (i-Pr) 2 NEt is diisopropylethylamine, THF is tetrahydrofuran, DMF Is dimethylformamide, TMSBr is trimethylsilyl bromide, DMAP
Represents dimethylaminopyridine, and Et 2 O represents diethyl ether. ]

【0072】の合成 (R)−(+)−ビナフトール(286mg,1.0m
mol)のジクロロメタン溶液(4mL)に2,4,6
−コリジン(132μL,1.0mmol)、ジメチル
アミノピリジン(15mg,0.12mmol)、N−
フェニルトリフルオロメタンスルホンイミド(357m
g,1.0mmol)を順次加えて12時間還流した。
反応混合物を濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶媒:トルエン)により精製し
た。の収量(収率):378mg(90%)。無色結
晶。
Synthesis of 1 (R)-(+)-binaphthol (286 mg, 1.0 m
mol) in dichloromethane solution (4 mL).
-Collidine (132 μL, 1.0 mmol), dimethylaminopyridine (15 mg, 0.12 mmol), N-
Phenyltrifluoromethanesulfonimide (357m
g, 1.0 mmol), and the mixture was refluxed for 12 hours.
After concentrating the reaction mixture, the residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent: toluene). Yield of 1 (yield): 378 mg (90%). Colorless crystals.

【0073】の合成 (209mg,0.5mmol)と塩化[1,2−ビ
ス(ジフェニルホスフィノ)エタン]ニッケル(II)
(5.3mg,0.01mmol)の混合物にフェニル
マグネシウムブロミド(2.5mL,ジエチルエーテル
中0.8M、2.0mmol)をゆっくり加えた。1時
間還流した後、室温まで冷却し、飽和塩化アンモニウム
水溶液水溶液を加えて反応を停止した。反応混合物をジ
エチルエーテルで抽出して、有機層を飽和炭酸水素ナト
リウム、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、次いで濃縮した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/トルエ
ン=4/6)により精製した。の収量(収率):15
6mg(90%)。無色結晶。
Synthesis 1 of 2 (209 mg, 0.5 mmol) and [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] nickel (II) chloride
To a mixture of (5.3 mg, 0.01 mmol) was slowly added phenylmagnesium bromide (2.5 mL, 0.8 M in diethyl ether, 2.0 mmol). After refluxing for 1 hour, the mixture was cooled to room temperature, and a saturated aqueous ammonium chloride solution was added to stop the reaction. The reaction mixture was extracted with diethyl ether, and the organic layer was washed successively with saturated sodium bicarbonate and brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent: hexane / toluene = 4/6). Yield of 2 (Yield): 15
6 mg (90%). Colorless crystals.

【0074】1H NMR(400MHz):8.10(d, J=8.30Hz, 1H),
7.79(d, J=8.30Hz, 1H), 7.78(d, J=9.28Hz, 2H), 7.72
(d, J=8.79Hz, 1H), 7.54-7.50(m, 1H), 7.36-7.20(m,
4H), 7.15-7.04(m, 7H).
1 H NMR (400 MHz): 8.10 (d, J = 8.30 Hz, 1 H),
7.79 (d, J = 8.30Hz, 1H), 7.78 (d, J = 9.28Hz, 2H), 7.72
(d, J = 8.79Hz, 1H), 7.54-7.50 (m, 1H), 7.36-7.20 (m,
4H), 7.15-7.04 (m, 7H).

【0075】の合成 (365mg,1.1mmol)のジクロロメタン溶
液(4mL)にジイソプロピルエチルアミン(530μ
L,3.0mmol)、クロロメチルメチルエーテル
(230μL,3.0mmol)を順次加えて、室温で
1日撹拌した。反応混合物を水で洗浄した後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、次いで濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/ジ
エチルエーテル=19/1)により精製した。の収量
(収率):346mg(83%)。無色結晶。
Synthesis 2 of 3 To a dichloromethane solution (4 mL) of 365 mg (1.1 mmol) was added diisopropylethylamine (530 μl).
L, 3.0 mmol) and chloromethyl methyl ether (230 μL, 3.0 mmol) were sequentially added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 day. After washing the reaction mixture with water, it was dried over anhydrous sodium sulfate and then concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent: hexane / diethyl ether = 19/1). Yield of 3 (yield): 346 mg (83%). Colorless crystals.

【0076】1H NMR(90MHz):7.00-8.22(m, 18H), 4.90
(ABq, J=7.07Hz, 2H), 2.11(s, 3H).
1 H NMR (90 MHz): 7.00-8.22 (m, 18H), 4.90
(ABq, J = 7.07Hz, 2H), 2.11 (s, 3H).

【0077】の合成 (140mg,0.36mmol)をテトラヒドロフ
ラン(1.5mL)に溶かした後、−78℃に冷却し
た。t−ブチルリチウム(530μL,ペンタン中1.
5M、0.8mmol)を加えて−78℃で3時間撹拌
した後、ジメチルホルムアミド(140μL,1.8m
mol)を加えて、冷却浴をはずしてさらに1時間撹拌
を続けた。飽和塩化アンモニウム水溶液を滴下して反応
を停止して、反応混合物をジエチルエーテルで抽出し
た。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、次
いで濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出溶媒:ヘキサン/ジエチルエーテル=19/
1)により精製した。の収量(収率):139mg
(91%)。黄色結晶。
Synthesis 3 of 4 (140 mg, 0.36 mmol) was dissolved in tetrahydrofuran (1.5 mL) and cooled to −78 ° C. t-Butyllithium (530 μL, 1.
5M, 0.8 mmol) and stirred at −78 ° C. for 3 hours, and then dimethylformamide (140 μL, 1.8 m
mol) was added, the cooling bath was removed, and stirring was continued for another hour. The reaction was stopped by dropwise addition of a saturated aqueous solution of ammonium chloride, and the reaction mixture was extracted with diethyl ether. The organic layer was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate and saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (elution solvent: hexane / diethyl ether = 19 /
Purified according to 1). Yield of 4 (Yield): 139 mg
(91%). Yellow crystals.

【0078】1H NMR(90MHz):10.42(s, 1H), 8.50-7.00
(m, 17H), 4.53(ABq, J=6.17Hz, 2H),2.94(s, 3H).
1 H NMR (90 MHz): 10.42 (s, 1 H), 8.50-7.00
(m, 17H), 4.53 (ABq, J = 6.17Hz, 2H), 2.94 (s, 3H).

【0079】の合成 (154mg,0.37mmol)とモレキュラーシ
ーブス4Aの混合物にジクロロメタン(1.5mL)を
加えて、0℃に冷却した後、臭化トリメチルシリル(1
95μL,1.5mmol)を加えて4時間撹拌した。
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停止した
後、ジクロロメタンで抽出して有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、次いで濃縮した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/トルエ
ン=3/7)により精製した。の収量(収率):13
2mg(95%)。黄色結晶。
To a mixture of Synthesis 4 of 5 (154 mg, 0.37 mmol) and Molecular Sieves 4A was added dichloromethane (1.5 mL), and the mixture was cooled to 0 ° C., and trimethylsilyl bromide (1
95 μL, 1.5 mmol) and stirred for 4 hours.
After the reaction was stopped by adding a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, the mixture was extracted with dichloromethane, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and then concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent: hexane / toluene = 3/7). Yield of 5 (Yield): 13
2 mg (95%). Yellow crystals.

【0080】1H NMR(400MHz):10.41(s, 1H), 10.10(s,
1H), 8.17(s, 1H), 8.05(d, J=8.30Hz, 1H), 7.97(d, J
=8.30Hz, 1H), 7.85(d, J=7.81Hz, 1H), 7.49(t, J=3.4
2Hz, 1H), 7.34-7.19(m, 6H), 7.02-7.00(m, 3H).
1 H NMR (400 MHz): 10.41 (s, 1 H), 10.10 (s,
1H), 8.17 (s, 1H), 8.05 (d, J = 8.30Hz, 1H), 7.97 (d, J
= 8.30Hz, 1H), 7.85 (d, J = 7.81Hz, 1H), 7.49 (t, J = 3.4
2Hz, 1H), 7.34-7.19 (m, 6H), 7.02-7.00 (m, 3H).

【0081】参考例2Reference Example 2

【0082】[0082]

【化31】 Embedded image

【0083】〔式中、LAHは、水素化アルミニウムリチ
ウムを、THFは、テトラヒドロフランを、Et2Oはジエチ
ルエーテルを、MsClはメシルクロリドを、DMFはジメチ
ルホルムアミドを、各々意味する。〕
[Wherein, LAH means lithium aluminum hydride, THF means tetrahydrofuran, Et 2 O means diethyl ether, MsCl means mesyl chloride, and DMF means dimethylformamide. ]

【0084】の合成 3,5−ジメチル安息香酸(4.5g,30mmol)
のテトラヒドロフラン溶液(120mL)を0℃に冷却
して、水素化アルミニウムリチウム(1.7g,45m
mol)をゆっくり加えた。2時間還流した後、メタノ
ール(8mL)と3N塩酸(50mL)を加えて反応を
停止した。反応混合物をジエチルエーテルで抽出して、
有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、次い
で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=8/2)により
精製した。の収量(収率):3.0g(74%)。無
色オイル。
Synthesis of 6 3,5-dimethylbenzoic acid (4.5 g, 30 mmol)
Of tetrahydrofuran (120 mL) was cooled to 0 ° C., and lithium aluminum hydride (1.7 g, 45 m
mol) was added slowly. After refluxing for 2 hours, methanol (8 mL) and 3N hydrochloric acid (50 mL) were added to stop the reaction. The reaction mixture was extracted with diethyl ether,
The organic layer was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and a saturated saline solution, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 8/2). 6 yield (yield): 3.0 g (74%). Colorless oil.

【0085】の合成 (8.60g,63mmol)のジエチルエーテル溶
液にγ−酸化マンガン(54.8g,630mmol)
を加えて、室温で16時間撹拌した。反応混合物をセラ
イトろ過して濃縮した。得られた粗生成物(8.05
g)を精製せずに次の反応に用いた。
[0085] 7 Synthesis of 6 (8.60g, 63mmol) in diethyl ether solution γ- manganese oxide (54.8 g, 630 mmol)
Was added and stirred at room temperature for 16 hours. The reaction mixture was filtered through celite and concentrated. The obtained crude product (8.05
g) was used in the next reaction without purification.

【0086】の合成 粗生成物(8.05g,60mmol)のジオキサン
溶液(400mL)に四塩化チタン(9.9ml,90
mmol)と亜鉛粉末(11.8g,180mmol)
をジオキサン(200mL)に懸濁させたものを加えて
4時間還流した。反応混合物を水とジエチルエーテルに
分配した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、次いで濃縮した。残渣をエタノールより再結晶
した。の収量(収率):3.45g(より48
%)。無色結晶。
Synthesis of 8 Titanium tetrachloride (9.9 ml, 90 mL) was added to a dioxane solution (400 mL) of the crude product 7 (8.05 g, 60 mmol).
mmol) and zinc powder (11.8 g, 180 mmol)
Was suspended in dioxane (200 mL), and the mixture was refluxed for 4 hours. After partitioning the reaction mixture between water and diethyl ether, the organic layer was separated, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was recrystallized from ethanol. 8 yield (yield): 3.45 g (48 from 6 )
%). Colorless crystals.

【0087】1H NMR(90MHz):7.24(s, 4H), 7.14(s, 2
H), 7.00(s, 2H), 2.36(s, 12H).
1 H NMR (90 MHz): 7.24 (s, 4H), 7.14 (s, 2
H), 7.00 (s, 2H), 2.36 (s, 12H).

【0088】の合成 4−クロロ安息香酸ヒドロキニジン(186mg,0.
4mmol)、フェリシアン化カリウム(2.96g,
9.0mmol)、炭酸カリウム(1.24g,9.0
mmol)の混合物にt−ブタノール(20mL)、水
(20mL)、オスミウム酸カリウム2水和物(11.
1mg,0.03mmol)と(709mg,3.0
mmol)を順次加えて室温で24時間撹拌した。亜硫
酸ナトリウム(15g,0.12mmol)を加えてさ
らに30分間撹拌した後、2層を分離して水層をジクロ
ロメタンで抽出し、有機層を合わせて濃縮した。残渣を
酢酸エチルで希釈して、1M硫酸、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、次いで濃縮した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸
エチル=9/1〜7/3)により精製した。の収量
(収率):550mg(67%)。無色結晶。の光学
純度は、キラルカラムを用いる高速液体クロマトグラフ
ィー分析(DAICEL CHIRALCEL OD、
溶出溶媒:ヘキサン/イソプロパノール=15/1)に
より99%e.e.以上と決定された。
Synthesis of 9 Hydroquinidine 4-chlorobenzoate (186 mg, 0.
4 mmol), potassium ferricyanide (2.96 g,
9.0 mmol), potassium carbonate (1.24 g, 9.0
mmol) in a mixture of t-butanol (20 mL), water (20 mL), and potassium osmate dihydrate (11.
1 mg, 0.03 mmol) and 8 (709 mg, 3.0
mmol) was added in sequence, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. After adding sodium sulfite (15 g, 0.12 mmol) and further stirring for 30 minutes, the two layers were separated, the aqueous layer was extracted with dichloromethane, and the organic layers were combined and concentrated. The residue was diluted with ethyl acetate, washed sequentially with 1 M sulfuric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, and saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and then concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 9/1 to 7/3). 9 yield (yield): 550 mg (67%). Colorless crystals. The optical purity of 9 was determined by high performance liquid chromatography analysis using a chiral column (DAICEL CHIRALCEL OD,
Elution solvent: hexane / isopropanol = 15/1) to give 99% e. e. It was decided above.

【0089】1H NMR(90MHz):6.96(m, 6H), 4.76(s, 2
H), 2.63(br s, 2H), 2.30(s, 12H).
1 H NMR (90 MHz): 6.96 (m, 6H), 4.76 (s, 2
H), 2.63 (br s, 2H), 2.30 (s, 12H).

【0090】10の合成 (550mg,2.0mmol)のジクロロメタン溶
液(8mL)にトリエチルアミン(610μL,4.4
mmol)、メシルクロリド(340μL,4.4mm
ol)を順次加えて、室温で3時間撹拌した。反応混合
物を水で洗浄した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ジエチルエーテル)
により精製した。10の収量(収率):839mg(9
8%)。無色結晶。
Synthesis 9 of 10 To a dichloromethane solution (8 mL) of 9 (550 mg, 2.0 mmol) was added triethylamine (610 μL, 4.4).
mmol), mesyl chloride (340 μL, 4.4 mm
ol) were sequentially added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The reaction mixture was washed with water and concentrated. The residue is subjected to silica gel column chromatography (elution solvent: diethyl ether)
And purified. Yield (yield) of 10 : 839 mg (9
8%). Colorless crystals.

【0091】1H NMR(90MHz):6.80-7.10(m, 6H), 5.74
(s, 2H), 2.86(s, 6H), 2.23(s, 12H).
1 H NMR (90 MHz): 6.80-7.10 (m, 6H), 5.74
(s, 2H), 2.86 (s, 6H), 2.23 (s, 12H).

【0092】11の合成10 (1.7g,4.0mmol)とアジ化ナトリウム
(572mg,8.8mmol)の混合物にジメチルホ
ルムアミド(16mL)を加えて、80℃で7時間撹拌
した。反応混合物を水と酢酸エチルに分配し後、有機層
を分離して無水硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
溶媒:ヘキサン)により精製した。11の収量(収
率):568mg(48%)。無色結晶。
Synthesis 10 of 11 To a mixture of 10 (1.7 g, 4.0 mmol) and sodium azide (572 mg, 8.8 mmol) was added dimethylformamide (16 mL), and the mixture was stirred at 80 ° C. for 7 hours. After partitioning the reaction mixture between water and ethyl acetate, the organic layer was separated, dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent: hexane). Yield of 11 (yield): 568 mg (48%). Colorless crystals.

【0093】1H NMR(90MHz):7.00(br s, 2H), 6.84(br
s, 2H), 4.63(s, 2H), 2.28(s, 12H).
1 H NMR (90 MHz): 7.00 (br s, 2H), 6.84 (br
s, 2H), 4.63 (s, 2H), 2.28 (s, 12H).

【0094】実施例1Embodiment 1

【0095】[0095]

【化32】 Embedded image

【0096】〔式中、EtOHはエタノールを意味する。〕[Wherein, EtOH means ethanol. ]

【0097】[I-1]の合成11 (32mg,0.1mmol)のテトラヒドロフラ
ン溶液(1mL)を0℃に冷却して、水素化アルミニウ
ムリチウム(7.6mg,0.2mmol)を加えた。
混合物を室温で30分間撹拌した後、飽和フッ化カリウ
ム水溶液(380μL,1.59N,0.6mmol)
を加えて反応を停止した。反応混合物をセライトろ過し
た後、酢酸エチルで抽出して無水硫酸ナトリウムで乾燥
し次いで濃縮した。得られた粗生成物12(75.
8mg,0.2mmol)をエタノール(4mL)に溶
かして、室温で1時間撹拌した。反応混合物を一旦濃縮
した後、酢酸マンガン4水和物(24.6mg,0.1
mmol)とエタノール(4mL)を加えて空気中で6
時間撹拌した。生成した結晶をろ取して、エタノール次
いでヘキサンで洗浄することにより[I-1]を39.3
mg得た。さらに濾液を濃縮した後、残渣をジクロロメ
タン−ヘキサンより再結晶して[I-1]を7.7mg得
た。[I-1]の合計収量(収率):47.0mg(11
より43%)。 IR(KBr):3053, 2920, 1599, 1493, 1425, 1333, 1296,
1223, 1188, 1148, 1128, 1045, 1028, 953, 860, 733,
700, 575, 548 cm-1.
Synthesis of [I-1] A solution of 11 (32 mg, 0.1 mmol) in tetrahydrofuran (1 mL) was cooled to 0 ° C., and lithium aluminum hydride (7.6 mg, 0.2 mmol) was added.
After the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, a saturated aqueous potassium fluoride solution (380 μL, 1.59 N, 0.6 mmol) was used.
Was added to stop the reaction. The reaction mixture was filtered through celite, extracted with ethyl acetate, dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated. The obtained crude products 12 and 5 (75.
8 mg, 0.2 mmol) was dissolved in ethanol (4 mL) and stirred at room temperature for 1 hour. After once concentrating the reaction mixture, manganese acetate tetrahydrate (24.6 mg, 0.1
mmol) and ethanol (4 mL).
Stirred for hours. The resulting crystals were collected by filtration and washed with ethanol and then hexane to give [I-1] 39.3.
mg. After the filtrate was further concentrated, the residue was recrystallized from dichloromethane-hexane to obtain 7.7 mg of [I-1]. Total yield (yield) of [I-1]: 47.0 mg ( 11
43%). IR (KBr): 3053, 2920, 1599, 1493, 1425, 1333, 1296,
1223, 1188, 1148, 1128, 1045, 1028, 953, 860, 733,
700, 575, 548 cm -1 .

【0098】同様の反応を行い本発明化合物[I-2]〜
[I-8]を得た。
The same reaction was carried out to obtain the compounds of the present invention [I-2] to
[I-8] was obtained.

【0099】[0099]

【化33】 Embedded image

【0100】[I-2] IR(KBr):3447, 3422, 3049, 3013, 2916, 2680, 1655,
1603, 1558, 1506, 1420, 1387, 1333, 1296, 1257, 12
23, 1186, 1148, 1117, 1057, 1024, 953, 887,851, 81
8, 785, 746, 706, 683 cm-1. [I-3] IR(KBr):3431, 3053, 1599, 1493, 1443, 1425, 1385,
1333, 1296, 1223, 1188, 1148, 1128, 1090, 1072, 10
45, 1028, 999, 982, 953, 860, 733, 700, 681cm-1. [I-4] IR(KBr):3447, 3422, 3057, 3041, 2928, 1611, 1558,
1491, 1452, 1420, 1389, 1342, 1310, 1281, 1229, 12
13, 1188, 1150, 1126, 1016, 955, 799, 775, 746, 70
0 cm-1. [I-5] IR(KBr):3053, 2922, 2853, 1609, 1555, 1508, 1454,
1423, 1387, 1344, 1327, 1300, 1227, 1188, 1148, 81
0, 746, 702 cm-1. Calcd. for C60H45N2O4Mn:C, 78.94; H, 4.97; N, 3.07
%. Found:C, 79.80; H,5.32; N, 3.07%. [I-6] IR(KBr):3051, 2920, 1605, 1555, 1508, 1454, 1389,
1344, 1327, 1300, 1221, 1188, 1150, 1126, 810, 77
0, 704, 687 cm-1. Calcd. for C60H45N2O4Mn・1.5H2O:C, 76.67; H, 5.15;
N, 2.98%. Found:C, 76.50; H, 5.22; N, 3.06%. [I-7] IR(KBr):3422, 3053, 2932, 2858, 1609, 1583, 1558,
1493, 1423, 1346, 1327, 1223, 1188, 1150, 1124, 10
28, 951, 866, 820, 760, 700, 658 cm-1. [I-8] IR(KBr):3447, 3051, 2936, 2860, 1611, 1583, 1558,
1508, 1489, 1448, 1423, 1394, 1346, 1329, 1304, 12
73, 1225, 1190, 1169, 1150, 1124, 810, 783,760, 68
7 cm-1.
[I-2] IR (KBr): 3447, 3422, 3049, 3013, 2916, 2680, 1655,
1603, 1558, 1506, 1420, 1387, 1333, 1296, 1257, 12
23, 1186, 1148, 1117, 1057, 1024, 953, 887,851, 81
8, 785, 746, 706, 683 cm -1 . [I-3] IR (KBr): 3431, 3053, 1599, 1493, 1443, 1425, 1385,
1333, 1296, 1223, 1188, 1148, 1128, 1090, 1072, 10
45, 1028, 999, 982, 953, 860, 733, 700, 681cm -1 . [I-4] IR (KBr): 3447, 3422, 3057, 3041, 2928, 1611, 1558,
1491, 1452, 1420, 1389, 1342, 1310, 1281, 1229, 12
13, 1188, 1150, 1126, 1016, 955, 799, 775, 746, 70
0 cm -1 . [I-5] IR (KBr): 3053, 2922, 2853, 1609, 1555, 1508, 1454,
1423, 1387, 1344, 1327, 1300, 1227, 1188, 1148, 81
0, 746, 702 cm -1 .Calcd. For C 60 H 45 N 2 O 4 Mn: C, 78.94; H, 4.97; N, 3.07
%. Found: C, 79.80; H, 5.32; N, 3.07%. [I-6] IR (KBr): 3051, 2920, 1605, 1555, 1508, 1454, 1389,
1344, 1327, 1300, 1221, 1188, 1150, 1126, 810, 77
0, 704, 687 cm -1 .Calcd. For C 60 H 45 N 2 O 4 Mn ・ 1.5H 2 O: C, 76.67; H, 5.15;
N, 2.98%. Found: C, 76.50; H, 5.22; N, 3.06%. [I-7] IR (KBr): 3422, 3053, 2932, 2858, 1609, 1583, 1558,
1493, 1423, 1346, 1327, 1223, 1188, 1150, 1124, 10
28, 951, 866, 820, 760, 700, 658 cm -1 . [I-8] IR (KBr): 3447, 3051, 2936, 2860, 1611, 1583, 1558,
1508, 1489, 1448, 1423, 1394, 1346, 1329, 1304, 12
73, 1225, 1190, 1169, 1150, 1124, 810, 783,760, 68
7 cm -1 .

【0101】実施例2−1 インデンのエポキシ化Example 2-1 Epoxidation of indene

【0102】[0102]

【化34】 Embedded image

【0103】インデン(10μL,86μmol)をピ
リジンN−オキシドのアセトニトリル溶液(0.02
M,1.1mL,22μmol)に溶かした後、[I-
1](2.3mg,2.1μmol)を加えた。この溶
液にヨードシルベンゼン(37.8mg,0.17mm
ol)を一度に加えて、室温で24時間撹拌した。反応
混合物を慎重に濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出溶媒:ペンタン〜ペンタン/ジ
エチルエーテル10/1)により精製した。エポキシド
の収量(収率):6.0mg(53%)。不斉収率:9
2% e.e.
Indene (10 μL, 86 μmol) was added to a solution of pyridine N-oxide in acetonitrile (0.02
M, 1.1 mL, 22 μmol), and then [I-
1] (2.3 mg, 2.1 μmol). To this solution was added iodosylbenzene (37.8 mg, 0.17 mm
ol) in one portion and stirred at room temperature for 24 hours. After carefully concentrating the reaction mixture, the residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: pentane to pentane / diethyl ether 10/1). Epoxide yield (yield): 6.0 mg (53%). Asymmetric yield: 9
2% e. e.

【0104】実施例2−2 ベンゾピラン化合物のエポキシ化Example 2-2 Epoxidation of Benzopyran Compound

【0105】[0105]

【化35】 Embedded image

【0106】[IV-1](26.2mg,0.10mmo
l)と[I-1](2.6mg,2.5μmol)をピリ
ジン N−オキシドのアセトニトリル溶液(0.02
M,1.25mL, 0.025mmol)に溶かした
後、0℃に冷却した。この溶液に窒素雰囲気下でヨード
シルベンゼン(44.0mg,0.20mmol)を一
度に加えて、0℃で24時間撹拌した。不溶物をセライ
トを通してろ去した後、ろ液を濃縮して残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢
酸エチル=8:2〜4:6)により精製した。エポキシ
ドの収量(収率):20.1mg(72%)。不斉収
率:98%e.e.(DAICEL CHIRALCE
L OJ,ヘキサン/イソプロパノール=1:1,流速
=0.5mL/分)。
[IV-1] (26.2 mg, 0.10 mmol
l) and [I-1] (2.6 mg, 2.5 μmol) were added to a solution of pyridine N-oxide in acetonitrile (0.02
M, 1.25 mL, 0.025 mmol) and cooled to 0 ° C. To this solution was added iodosylbenzene (44.0 mg, 0.20 mmol) at a time under a nitrogen atmosphere, and the mixture was stirred at 0 ° C. for 24 hours. After the insolubles were removed by filtration through Celite, the filtrate was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 8: 2 to 4: 6). Epoxide yield (yield): 20.1 mg (72%). Asymmetric yield: 98% e. e. (DAICEL CHIRALCE
LOJ, hexane / isopropanol = 1: 1, flow rate = 0.5 mL / min).

【0107】実施例2−3 ベンゾピラン化合物のエポキシ化Example 2-3 Epoxidation of Benzopyran Compound

【0108】[0108]

【化36】 Embedded image

【0109】[IV-1](20.0mg,76.3μmo
l)と[I-1](1.7mg,1.6μmol)をN−
メチルイミダゾールのアセトニトリル溶液(0.02
M,760μL,7.6μmol)に溶かした後、30
%過酸化水素水(86μL,0.76mmol)を5分
間かけて滴下した。室温で24時間撹拌した後、反応混
合物を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=1:
1)により精製した。エポキシドの収量(収率):7.
1mg(33%)。不斉収率:94%e.e.(DAI
CEL CHIRALCEL OJ,ヘキサン/イソプ
ロパノール=1:1,流速=0.5mL/分)。
[IV-1] (20.0 mg, 76.3 μmo
l) and [I-1] (1.7 mg, 1.6 μmol)
Acetonitrile solution of methyl imidazole (0.02
M, 760 μL, 7.6 μmol).
% Hydrogen peroxide (86 μL, 0.76 mmol) was added dropwise over 5 minutes. After stirring at room temperature for 24 hours, the residue obtained by concentrating the reaction mixture was subjected to silica gel column chromatography (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 1: 1).
Purified according to 1). 6. Epoxide yield (yield):
1 mg (33%). Asymmetric yield: 94% e. e. (DAI
(CEL CHIRALCEL OJ, hexane / isopropanol = 1: 1, flow rate = 0.5 mL / min).

【0110】実施例2−4 実施例2−3と同様に各種オレフィンに対して本発明化
合物[I]を触媒として用い、アセトニトリル中ヨード
シルベンゼン(PhIO)、次亜塩素酸ナトリウム(NaOCl)又
は2−ヨードシル安息香酸(IBA)で不斉エポキシ化した
時の試験結果を下表に示す。
Example 2-4 In the same manner as in Example 2-3, using compound [I] of the present invention as a catalyst for various olefins, iodosylbenzene (PhIO), sodium hypochlorite (NaOCl) or acetonitrile was used. The test results obtained when asymmetric epoxidation was performed with 2-iodosylbenzoic acid (IBA) are shown in the following table.

【0111】[0111]

【化37】 Embedded image

【0112】[0112]

【化38】 Embedded image

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 式[I]及び[I'] 【化1】 〔式中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立して水素原
子、C1-C4アルキル基、フェニル基(該フェニル基は、
ハロゲン原子、C1-C4アルキル基、C1-C4アルコキシ基、
シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい。)を意
味し、又、いずれか2つが一緒になってC4-C8の環を形
成してもよい。X-は塩を形成しうる陰イオン対を意味
する。Yは水素原子、ハロゲン原子、C1-C4アルキル
基、C1-C4アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基を意味
する。Rは水素原子、C1-C4アルキル基、フェニル基
(該フェニル基は、ハロゲン原子、C1-C4アルキル基、C
1-C4アルコキシ基で置換されていてもよい。)又は置換
シリル基を意味する。(ただし、R1及びR3がフェニル基
でかつR2及びR4が水素原子の時並びにR1及びR3が水素原
子でかつR2及びR4がフェニル基の時、Rが水素原子及び
メチル基である場合を除く。)〕で表される光学活性マ
ンガン錯体。
1. Formulas [I] and [I '] [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, a phenyl group (the phenyl group is
Halogen atom, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy group,
It may be substituted with a cyano group or a nitro group. ), And any two may be taken together to form a C 4 -C 8 ring. X - represents an anion pair capable of forming a salt. Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, a C 1 -C 4 alkoxy group, a nitro group or a cyano group. R represents a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, a phenyl group (the phenyl group is a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group,
It may be substituted with 1 -C 4 alkoxy group. ) Or substituted silyl groups. (However, when R 1 and R 3 are phenyl groups and R 2 and R 4 are hydrogen atoms, and when R 1 and R 3 are hydrogen atoms and R 2 and R 4 are phenyl groups, R is a hydrogen atom and An optically active manganese complex represented by the formula:
【請求項2】 式[II] 【化2】 〔式中、R5及びR6は、それぞれ独立して、水素原子、シ
アノ基、ニトロ基、アセチル基などの保護基で保護され
ていてもよいアミノ基、ハロゲン原子、C1-C4アルキル
基、C1-C4アルコキシ基、ハロC1-C4アルキル基、カルボ
キシ基、ホルミル基、C1-C4アルカノイル基、アロイル
基、ハロC1-C4アルカノイル基、カルバモイル基、C1-C4
アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、C1
-C4アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ス
ルホンアミド基、モノ又はジC1-C4アルキルスルホンア
ミド基を意味するか、又はR5とR6がオルト位のとき両者
が一緒になって、結合する環とともに 【化3】 (式中、nは0又は1の整数を表す。)を意味する。R7
は水素原子、C1-C4アルキル基又はC1-C4アルコキシ基を
意味する。R8はC1-C4アルキル基又はC1-C4アルコキシ基
を意味する。又は、R7とR8が一緒になって 【化4】 (R9、R10、R11及びR12は、それぞれ独立して、水素原
子又はC1-C4アルキル基を意味する。)を意味する。〕
で表されるオレフィン化合物に対し、請求項1記載の式
[I]又は[I']で表される光学活性マンガン錯体のい
ずれかを触媒として不斉エポキシ化反応を行ない、式
[III] 【化5】 (R5、R6、R7及びR8は前記に同じ。)で表される光学活
性エポキシ化合物を製造する方法。
2. A compound of the formula [II] Wherein R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, an amino group which may be protected by a protecting group such as a cyano group, a nitro group, and an acetyl group, a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl Group, C 1 -C 4 alkoxy group, halo C 1 -C 4 alkyl group, carboxy group, formyl group, C 1 -C 4 alkanoyl group, aroyl group, halo C 1 -C 4 alkanoyl group, carbamoyl group, C 1 -C 4
Alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, C 1
-C 4 alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfonamide group, mono- or di-C 1 -C 4 alkylsulfonamide group, or together when R 5 and R 6 are in the ortho position, With the linking ring (Where n represents an integer of 0 or 1). R 7
Represents a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group. R 8 represents a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group. Or R 7 and R 8 together (R 9 , R 10 , R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or a C 1 -C 4 alkyl group). ]
An asymmetric epoxidation reaction is carried out on the olefin compound represented by the formula [I] or the optically active manganese complex represented by the formula [I '] according to claim 1 as a catalyst to obtain a compound represented by the formula [III]: Formula 5 (Wherein R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are the same as above).
【請求項3】 式[IV] 【化6】 (式中、R5及びR6は、それぞれ独立して、水素原子、シ
アノ基、ニトロ基、アセチル基などの保護基で保護され
ていてもよいアミノ基、ハロゲン原子、C1-C4アルキル
基、C1-C4アルコキシ基、ハロC1-C4アルキル基、カルボ
キシ基、ホルミル基、C1-C4アルカノイル基、アロイル
基、ハロC1-C4アルカノイル基、カルバモイル基、C1-C4
アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、C1
-C4アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ス
ルホンアミド基、モノ又はジC1-C4アルキルスルホンア
ミド基を意味するか、又はR5とR6が一緒になって、結合
する環とともに 【化7】 (式中、nは0又は1の整数を表す。)を意味する。R9
及びR10は、それぞれ独立して、水素原子又はC1-C4アル
キル基を意味する。)で表されるオレフィン化合物に対
し、請求項1記載の式[I]又は[I']で表される光学
活性マンガン錯体のいずれかを触媒として不斉エポキシ
化反応を行ない、式[V] 【化8】 (式中、R5、R6、R9及びR10は前記に同じ。*で示され
た炭素原子の絶対配位はRかSを意味する。)で表され
る光学活性ベンゾピラン化合物を製造する方法。
3. A compound of the formula [IV] (Wherein, R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, an amino group which may be protected by a protecting group such as a cyano group, a nitro group, an acetyl group, a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl Group, C 1 -C 4 alkoxy group, halo C 1 -C 4 alkyl group, carboxy group, formyl group, C 1 -C 4 alkanoyl group, aroyl group, halo C 1 -C 4 alkanoyl group, carbamoyl group, C 1 -C 4
Alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, C 1
-C 4 alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfonamide group, mono- or di-C 1 -C 4 alkylsulfonamide group, or R 5 and R 6 together with the ring to be bonded 7] (Where n represents an integer of 0 or 1). R 9
And R 10 each independently represent a hydrogen atom or a C 1 -C 4 alkyl group. Asymmetric epoxidation reaction of the olefin compound represented by the formula [V] with one of the optically active manganese complexes represented by the formula [I] or [I '] according to claim 1 as a catalyst. Embedded image (Wherein R 5 , R 6 , R 9 and R 10 are the same as above. The absolute configuration of the carbon atom indicated by * means R or S.) how to.
【請求項4】式[VI] 【化9】 (式中、R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子又
はC1-C4アルキル基を意味する。)で示した化合物に対
し、式[I]又は[I'] 【化10】 〔式中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立して水素原
子、C1-C4アルキル基、フェニル基(該フェニル基は、
ハロゲン原子、C1-C4アルキル基、C1-C4アルコキシ基、
シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい。)を意
味し、又、いずれか2つが一緒になってC4-C8の環を形
成してもよい。X-は塩を形成しうる陰イオン対を意味
する。Yは水素原子、ハロゲン原子、C1-C4アルキル
基、C1-C4アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基を意味
する。Rは水素原子、C1-C4アルキル基、フェニル基
(該フェニル基は、ハロゲン原子、C1-C4アルキル基、C
1-C4アルコキシ基で置換されていてもよい。)又は置換
シリル基を意味する。〕で表される光学活性マンガン錯
体のいずれかを触媒として不斉エポキシ化反応を行な
い、式[VII] 【化11】 (式中、R9及びR10は、前記に同じ。*で示された炭素
原子の絶対配位はRかSを意味する。)で表される光学
活性エポキシ化合物を製造する方法。
4. A compound of the formula [VI] (Wherein, R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a C 1 -C 4 alkyl group) with respect to a compound represented by the formula [I] or [I ′] ] [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, a phenyl group (the phenyl group is
Halogen atom, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy group,
It may be substituted with a cyano group or a nitro group. ), And any two may be taken together to form a C 4 -C 8 ring. X - represents an anion pair capable of forming a salt. Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, a C 1 -C 4 alkoxy group, a nitro group or a cyano group. R represents a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, a phenyl group (the phenyl group is a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group,
It may be substituted with 1 -C 4 alkoxy group. ) Or substituted silyl groups. An asymmetric epoxidation reaction is carried out using any of the optically active manganese complexes represented by the formula [VII] as a catalyst. (Wherein R 9 and R 10 are the same as above. The absolute configuration of the carbon atom indicated by * means R or S.)
【請求項5】式[VIII] 【化12】 で示したインデンに対し、請求項4記載の式[I]又は
[I']で表される光学活性マンガン錯体のいずれかを触
媒として不斉エポキシ化反応を行ない、式[IX] 【化13】 (*で示された炭素原子の絶対配位はRかSを意味す
る。)で表される光学活性エポキシ化合物を製造する方
法。
5. A compound of the formula [VIII] Is subjected to an asymmetric epoxidation reaction using one of the optically active manganese complexes represented by the formula [I] or [I '] according to claim 4 as a catalyst to give the indene represented by the formula [IX] ] (Absolute configuration of carbon atom indicated by * means R or S.) A method for producing an optically active epoxy compound represented by the formula:
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