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JP2735288B2 - シクロヘキサノールの製造方法 - Google Patents
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JP2735288B2 - シクロヘキサノールの製造方法 - Google Patents

シクロヘキサノールの製造方法

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JP2735288B2
JP2735288B2 JP1107094A JP10709489A JP2735288B2 JP 2735288 B2 JP2735288 B2 JP 2735288B2 JP 1107094 A JP1107094 A JP 1107094A JP 10709489 A JP10709489 A JP 10709489A JP 2735288 B2 JP2735288 B2 JP 2735288B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明の主題は、カルボン酸の存在下にシクロヘキセ
ンと水を接触させることによる取得可能のシクロヘキサ
ノールの製造方法である。
ここに、取得可能なシクロヘキサノールとは、遊離シ
クロヘキサノール、あるいはその相当するエステルと混
合している遊離シクロヘキサノールを意味する。
シクロヘキサノールは、アジピン酸の製造に特に用い
られる製品であり、しかもカルボン酸シクロヘキシルを
加水分解して、一方ではシクロヘキサノールの補足量を
形成し、他方では次いで取得可能のシクロヘキサノール
の製造に再循環してもよりカルボン酸を形成できる。
シクロヘキセンおよび水を酸性の種々の触媒上に接触
させることを特徴とする、シクロヘキセンの水和による
シクロヘキサノールの種々の製造方法がさきに記載さ
れ、このリストは、欧州特許出願第022 4116号明細書に
対する序文において作成されている。
前記欧州特許出願明細書は、一層詳しくは、フエノー
ルの存在下に水和反応を行うことを推奨している。しか
しながらその原則としての価値が論争されていない、依
然に推奨された方法の工業的規模における開発は、ほと
んど求める生成物に見られる一層悪い収率によつて危う
くなる。
特開昭61-249949号の下に公表された日本特許出願明
細書には、特に、0.07より大きい表面酸点対全酸点の比
を有するゼオライトの存在下におけるシクロヘキセンと
カルボン酸の反応によるシクロヘキシルエステルの製造
方法が記載されている。
再び、求めるエステルの収率がシクロヘキセンに対し
て著しい場合は、このような技術の価値は遊離シクロヘ
キサノールがこの反応によつて得られないことによつて
限定される。
従つて、特に以前の方法の効率の欠如が克服でき、し
かも反応混合物における遊離シクロヘキサノールの著し
い割合を得る可能性を提供する潜在的に取得可能なシク
ロヘキサノールの製造方法を提案する必要がある。
従つて、本発明の主題は、反応がまた、反応条件下に
液体であるカルボン酸の存在下において行われることを
特徴とする、触媒としてのH−ZSM−5ゼオライトの存
在下におけるシクロヘキセンと水の反応による潜在的な
取得可能のシクロヘキサノールの製造方法である。
本発明のこれ以上の主題は、 a) シクロヘキサノールおよび、そのカルボキシレー
ト基が反応において用いられるカルボン酸に相当するカ
ルボン酸シクロヘキシルを含有する混合物を形成するた
めに、触媒としてのH−ZSM−5ゼオライトおよび反応
条件下において液体であるカルボン酸の存在下にシクロ
ヘキセンと水を反応させること、 b) 任意の適切な手段による前記混合物の回収、 c) 混合物への水の添加、次いで d) シクロヘキサノールを回収するために、このよう
に形成された混合物の蒸留、 の工程を連続して包含することを特徴とする、シクロヘ
キサノールの製造方法である。
本発明の方法の骨組内において、反応条件下において
液体であるカルボン酸の存在下に反応を行うことが必須
である。
本発明の方法において用いるに適したカルボン酸は、 −飽和脂肪族モノカルボン酸、 −1種またはそれ以上のハロゲン原子を含有するその同
族体、 −飽和脂肪族ジカルボン酸、 −1種またはそれ以上のハロゲン原子を含有するその同
族体、および −安息香酸 および好ましくは120℃より低温において液体である
前記の範疇の酸から選ぶことができる。
本発明の方法において用いるに適したカルボン酸の中
で、 ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、モノクロロ酢酸、酪
酸、イソ酪酸、コハク酸、グルタル酸、ドデカンジオン
酸および安息香酸を挙げることができる。
ギ酸、酢酸およびトリフルオロ酢酸が一層特に適して
いる。
商業的に広く入手し得る製品である酢酸の使用は、一
層特に推奨される。
カルボン酸の正確な使用量は、広い限界内で変わり得
る。この量がシクロヘキセン対カルボン酸のモル比が0.
1より大かまたはそれに等しいようなものである場合に
良好な結果が得られ、前記の比が5より大きい場合は有
益な効果は見られない。本発明による方法の良好な適用
には、この比は0.2〜2が好ましい。
水は反応媒質中に、種々の量で存在してもよく、正確
な量は、他の反応条件によつて大いに決まる。しかしな
がら、シクロヘキセンおよびカルボン酸の与えられた量
には、シクロヘキセン対(水+カルボン酸)系のモル比
が60%未満、好ましくは1%より大であるような量の水
を用いるのが有利であることが分かつた。本発明の方法
の良好な適用には、前記モル比は2%〜10%である。
反応は触媒としてのH−ZSM−5ゼオライトの存在下
に行われる。
ZSM系列のゼオライトは、モービル・オイル・カンパ
ニーによつて開発および販売されている、シリカ:アル
ミナ比20およびそれ以上を有する結晶性アルミノケイ酸
塩である。
H−ZSM−5型は、既知のゼオライト構造の一連の製
品の酸形に相当する。
反応温度は、広い限界内で変わり得るが、しかしなが
ら60℃未満では反応は徐々に進行し、その欠点は一層大
量の触媒によることによつて相殺でき、しかも180℃よ
り高温においては、求める製品への選択性が減少する。
本発明による方法の良好な適用には、温度は90℃〜12
0℃である。
反応は通常、液相を固体触媒と接触させることによつ
て行われる。反応は、大気圧下または反応体を液相に保
つに十分な圧力下において行つてもよい。
反応の終りに、生成物(遊離シクロヘキサノールおよ
び使用するカルボン酸に相当するシクロヘキシルエステ
ル)の混合物を回収でき、しかも任意の適切な手段によ
つてその種々の成分に分離できるか、またはこれは同様
に本発明の主題であり、前記混合物を、任意の適切な手
段によつて回収でき、次いで水の添加後に遊離シクロヘ
キサノールを蒸留によつて回収できる。
下記の例は、本発明を具体的に説明し、ここで下記の
約束を用いる。
CHACは酢酸シクロヘキシルを表わし、 C6-OLはシクロヘキサノールを表わす。
例 例1〜4、対照試験(a) 20cm3のガラス反応器に、シクロヘキセン0.75g(8.85
mmol)、H−ZSM−5ゼオライト0.5gおよび水および
(または)酢酸5.1gを装入し、水/酸モル比は下記第1
表に示す。120℃(特記しない限り)に4時間加熱後、
混合物を冷却し、次いで形成したシクロヘキサノールお
よび酢酸シクロヘキシルをクロマトグラフイーによつて
求める。
収量(YY)は、装入したシクロヘキセンに対して示さ
れる。特別の条件および得られた結果を下記第1表に示
す。
例5〜7 前記の装置において前記の方法により、 −シクロヘキセン 9.6mmol、 −H−ZSM−5ゼオライト 0.5g、 −水 111mmol −酢酸 50.7mmol を、水/酸モル比約2.19およびシクロヘキセン/(水+
酸)モル比約5.9%で含む装入材料について一連の試験
を行う。
特別の条件および得られた結果を下記第2表に示す。
例8〜12 前記の装置において前記の方法により、 −シクロヘキセン 9.5mmol、 −H−ZSM−5ゼオライト 0.5g −水 111mmol −正確な種類を下記第3表に示すカルボン酸51mmolを水
/酸モル比2.18で含む装入材料について一連の試験を行
う。
特別の条件および120℃において4時間反応後に得ら
れた結果を下記第3表に示す。
例13 前記の装置において前記の方法により、 −シクロヘキセン 18.9mmol −H−ZSM−5ゼオライト 1g −水 11.1mmol −酢酸 22.4mmol (水/酸モル比=0.5) シクロヘキセン/(水+酸)モル比56.3%) を含有する装入材料について試験を行う。
120℃において4時間反応後に得られた結果は下記の
通りである。
取得可能 C6-OLのYY=47.5% YY(C6-OL) =23.3%。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 米国特許3644497(US,A) 欧州公開224116(EP,A1) 欧州特許10993(EP,B1)

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】触媒としてのH−ZSM−5ゼオライトの存
    在下にシクロヘキセンと水との反応による取得可能のシ
    クロヘキサノールの製造方法において、反応が、また、
    反応条件下に液体である −飽和脂肪族モノカルボン酸、 −1種またはそれ以上のハロゲン原子を含有するその同
    族体、 −飽和脂肪族ジカルボン酸、 −1種またはそれ以上のハロゲン原子を含有するその同
    族体、および −安息香酸 からなる群から選ばれるカルボン酸の存在下において行
    われることを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】a) シクロヘキサノールおよび、そのカ
    ルボキシレート基が反応において用いられるカルボン酸
    に相当するカルボン酸シクロヘキシルを含有する混合物
    を形成するために、触媒としてのH−ZSM−5ゼオライ
    トおよび反応条件下において液体である −飽和脂肪族モノカルボン酸、 −1種またはそれ以上のハロゲン原子を含有するその同
    族体、 −飽和脂肪族ジカルボン酸、 −1種またはそれ以上のハロゲン原子を含有するその同
    族体、および −安息香酸 からなる群から選ばれるカルボン酸の存在下にシクロヘ
    キセンと水とを反応させること、 b) 任意の適切な手段による前記混合物の回収、 c) 混合物への水の添加、次いで d) シクロヘキサノールを回収するためにこのように
    形成された混合物の蒸留、 の工程を連続して包含することを特徴とするシクロヘキ
    サノールの製造方法。
  3. 【請求項3】カルボン酸が120℃未満またはそれに等し
    い温度において液体であることを特徴とする、特許請求
    の範囲第1項又は第2項に記載の方法。
  4. 【請求項4】カルボン酸が、ギ酸、酢酸およびトリフル
    オロ酢酸からなる群から選ばれることを特徴とする、特
    許請求の範囲第1項〜第3項の何れか1項に記載の方
    法。
  5. 【請求項5】カルボン酸が酢酸であることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第1項〜第4項の何れか1項に記載
    の方法。
  6. 【請求項6】シクロヘキセン対カルボン酸のモル比が0.
    1〜5、好ましくは0.2〜2であるような量でカルボン酸
    が用いられることを特徴とする、前記特許請求の範囲の
    何れか1項に記載の方法。
  7. 【請求項7】(水+カルボン酸)系に対するシクロヘキ
    センのモル比が60%未満、好ましくは1%より大きいよ
    うな量でシクロヘキセンが用いられることを特徴とす
    る、前記特許請求の範囲の何れか1項に記載の方法。
  8. 【請求項8】前記比が2%〜10%であることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第7項に記載の方法。
  9. 【請求項9】反応温度が60℃〜180℃、好ましくは90℃
    〜120℃であることを特徴とする、特許請求の範囲第1
    項〜第8項の何れか1項に記載の方法。
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