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JP2751703B2 - Semiconductor storage device - Google Patents
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JP2751703B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP2751703B2
JP2751703B2 JP3356075A JP35607591A JP2751703B2 JP 2751703 B2 JP2751703 B2 JP 2751703B2 JP 3356075 A JP3356075 A JP 3356075A JP 35607591 A JP35607591 A JP 35607591A JP 2751703 B2 JP2751703 B2 JP 2751703B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特に、ダイナミック型ランダムアクセスメモリ装置(以
下、DRAMという)に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, it relates to a dynamic random access memory device (hereinafter, referred to as DRAM).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のDRAMは図3に示されているよ
うに、メモリセルはスイッチングトランジスタ2,3と
容量4,5で構成されており、データ信号線101,1
02上の差信号はセンスアンプで増幅される。ワード線
201,202はスイッチングトランジスタ2,3のゲ
ートを制御して、容量4,5に電荷として蓄積されてい
るデータビットを電圧差としてデータ信号線101,1
02に読み出させる。データ信号線101,102の他
端はプリチャージレベル供給線401にNchトランジ
スタ7,8,9を介して接続し、プリチャージレベルに
する。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 3, a conventional DRAM has a memory cell comprising switching transistors 2, 3 and capacitors 4, 5, and a data signal line 101, 1.
02 is amplified by a sense amplifier. The word lines 201 and 202 control the gates of the switching transistors 2 and 3 and use the data bits stored as charges in the capacitors 4 and 5 as a voltage difference to generate data signal lines 101 and 1.
02 is read. The other ends of the data signal lines 101 and 102 are connected to a precharge level supply line 401 via Nch transistors 7, 8, and 9 to set the precharge level.

【0003】ワード線201,202はデコーダ11に
より選択され、昇圧回路12で上昇した電圧が供給され
る。
The word lines 201 and 202 are selected by a decoder 11 and supplied with a voltage raised by a booster circuit 12.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一般に
DRAMでは、容量に充電される電位は、ワード線を高
レベルとしたときに、VCC−VT(VCC:電源電圧,V
T:Nchトランジスタのしきい値)までであり、この
容量の電位を図6に示すように電源レベルまで充電する
ためには、ワード線201,202を電源電圧以上(例
えばVCC+VT以上)に昇圧する必要があり、これを実
現するためにワード線の昇圧回路12を設ける必要があ
った。その結果、DRAMの回路構成が複雑になるとい
う問題点があった。
However, in general, in a DRAM, the potential charged in the capacitor is VCC-VT (VCC: power supply voltage, V CC) when the word line is set to a high level.
T: the threshold value of the Nch transistor). To charge the potential of this capacitor to the power supply level as shown in FIG. 6, the word lines 201 and 202 are boosted to the power supply voltage or more (for example, VCC + VT or more). In order to realize this, it is necessary to provide the word line booster circuit 12. As a result, there is a problem that the circuit configuration of the DRAM becomes complicated.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、データ
線対と、データ線対をプリチャージするプリチャージ回
路と、セルトランジスタとセル容量とで構成されデータ
線対に差電圧を発生させるメモリセルと、データ線対上
の差電圧を増幅するセンスアンプと、データ線対とセン
スアンプとの間に接続されたトランスファーゲートと、
セルトランジスタのゲートを制御するワード線とを備え
た半導体記憶装置において、上記セル容量の1対の電極
の一方はセルトランジスタを介してデータ線対の一方に
接続可能であり、他方の電極はデータ線対の他方に接続
されていることである。
SUMMARY OF THE INVENTION The gist of the present invention is to provide a data line pair, a precharge circuit for precharging the data line pair, a cell transistor and a cell capacitor, and to generate a difference voltage between the data line pair. A memory cell, a sense amplifier that amplifies a difference voltage on the data line pair, a transfer gate connected between the data line pair and the sense amplifier,
In a semiconductor memory device having a word line for controlling a gate of a cell transistor, one of the pair of electrodes of the cell capacitor can be connected to one of a pair of data lines via a cell transistor, and the other electrode is connected to a data electrode. That is, it is connected to the other of the line pairs.

【0006】[0006]

【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の第1実施例を示す回路図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【0007】まず、第1実施例の構成を説明する。セン
スアンプ1の入出力端はトランスファーゲート用Nch
トランジスタ9,10に接続されており、このトランス
ファーゲート用トランジスタ9,10のゲートはトラン
スファーゲート制御信号線301と接続されている。ま
たNchトランジスタ9,10のソースはそれぞれデー
タ線101,102と接続されている。一方、データ線
101の他端はNchトランジスタ6,8のドレイン,
ソースに接続され、データ線102の他端はNchトラ
ンジスタ7,8のドレインとソースに接続されている。
またこのNchトランジスタ6〜8のゲートは、データ
線バランス信号線401と接続されている。さらにNc
hトランジスタ6,7のソースとドレインはプリチャー
ジレベル供給線501と接続されている。
First, the configuration of the first embodiment will be described. The input / output terminal of the sense amplifier 1 is Nch for a transfer gate.
The gates of the transfer gate transistors 9 and 10 are connected to a transfer gate control signal line 301. The sources of the Nch transistors 9 and 10 are connected to data lines 101 and 102, respectively. On the other hand, the other end of the data line 101 is connected to the drains of the Nch transistors 6 and 8,
The other end of the data line 102 is connected to the drain and source of the Nch transistors 7 and 8.
The gates of Nch transistors 6 to 8 are connected to data line balance signal line 401. Further Nc
The sources and drains of the h transistors 6 and 7 are connected to a precharge level supply line 501.

【0008】ワード線201はセルトランジスタ2のゲ
ートに接続されている。このセルトランジスタ2のドレ
インはデータ線101に接続され、ドレインはセル容量
4の一端に接続されている。またこのセル容量4の他端
は、データ線102に接続されている。他方、ワード線
202についても同様であり、セルトランジスタ3のゲ
ートはワード線202と、ソースはデータ線102と、
ドレインはセル容量5の一端に接続され、セル容量5の
他端はデータ線101に接続されている。ワード線20
1,202はデコーダ11で選択される。このデータ線
101,102にそれぞれ1ビットのセルを持つ2本の
ワード線201,202の回路を一組として、1つのセ
ンスアンプ1に対して複数組のワード線対でセルアレイ
が構成される。
[0008] The word line 201 is connected to the gate of the cell transistor 2. The drain of the cell transistor 2 is connected to the data line 101, and the drain is connected to one end of the cell capacitor 4. The other end of the cell capacitor 4 is connected to the data line 102. On the other hand, the same applies to the word line 202, in which the gate of the cell transistor 3 is the word line 202, the source is the data line 102,
The drain is connected to one end of the cell capacitance 5, and the other end of the cell capacitance 5 is connected to the data line 101. Word line 20
1, 202 is selected by the decoder 11. A cell array is composed of a plurality of word line pairs for one sense amplifier 1 with a circuit including two word lines 201 and 202 each having a 1-bit cell on each of the data lines 101 and 102.

【0009】次に第1実施例の作用を説明する。図1に
示されているように、本実施例では、セル容量4,5の
対極が1対のデータ線101,102に接続されている
ことにより、図4,図5に示されているように、データ
線101,102を駆動する。すなわち、図4は、セル
容量4,5が高レベルデータの時を示し、図5はセル容
量が低レベルデータの場合を示している。図4で示すよ
うに、ワード線201が上昇するとセルトランジスタ2
がオンして、データ線101とデータ線102との間に
差電位を詳示させる。この差電位によってセンスアンプ
1はデータ線101とデータ線102をそれぞれ電源電
圧と0V(GND)まで増幅する。これによってセル容
量4の両極の差電位はVCC−0=VCCとなる。
Next, the operation of the first embodiment will be described. As shown in FIG. 1, in the present embodiment, the counter electrodes of the cell capacitors 4 and 5 are connected to the pair of data lines 101 and 102, as shown in FIGS. Next, the data lines 101 and 102 are driven. That is, FIG. 4 shows a case where the cell capacities 4 and 5 are high-level data, and FIG. 5 shows a case where the cell capacities are low-level data. As shown in FIG. 4, when the word line 201 rises, the cell transistor 2
Turns on, and the potential difference between the data line 101 and the data line 102 is shown in detail. The sense amplifier 1 amplifies the data lines 101 and 102 to the power supply voltage and 0 V (GND), respectively, by the difference potential. As a result, the potential difference between the two poles of the cell capacitor 4 becomes VCC-0 = VCC.

【0010】次にワード線201が下がり、バランス用
Nchトランジスタ6−8によってデータ線101,デ
ータ線102はバランスされて1/2VCCとなる。この
時、セル容量4の対極は0→1/2VCCとなり、これに
よってセルに充電された電位は、VCC−VT+1/2VC
C=3/2VCC−VTまで昇圧される。これがリストアレ
ベルとなる。
Next, the word line 201 is lowered, and the data lines 101 and 102 are balanced by the balance Nch transistor 6-8 to have a voltage of 1/2 VCC. At this time, the counter electrode of the cell capacitor 4 changes from 0 to 1/2 VCC, and the potential charged in the cell is VCC-VT + 1 / 2VC.
The voltage is boosted to C = 3/2 VCC-VT. This is the restore level.

【0011】図2は本発明の第2実施例を示している。
第2実施例ではトランスファーゲート制御信号301,
302の2本を有している。図7に示されているよう
に、この2本を制御することによって、差電位を増幅す
る際にセル容量4の対極が増幅にともなって動いて、セ
ンススピードを遅らせるという欠点を解消した回路であ
る。
FIG. 2 shows a second embodiment of the present invention.
In the second embodiment, the transfer gate control signal 301,
302. As shown in FIG. 7, by controlling these two lines, a circuit that eliminates the drawback that the counter electrode of the cell capacitor 4 moves with the amplification when amplifying the difference potential and delays the sense speed is achieved. is there.

【0012】図4に示すように、セル容量4の高レベル
データを増幅する際、データ線102は1/2VCCか
ら、GNDへ向かって降下する。これにともない、セル
容量4がデータ線101をGND側へ引くことによって
センススピードを遅らせる。これを図7に示されている
ようにデータ線102をトランスファーゲート制御信号
欄301を低レベルに落とすことによって、センスアン
プ1と切り離しフローティングとしてセンスが完了して
後、このトランスファーゲートNchトランジスタ10
をオンすることによってセンススピードを高速化する。
As shown in FIG. 4, when amplifying the high-level data of the cell capacitor 4, the data line 102 falls from 1/2 VCC to GND. Along with this, the cell capacitor 4 pulls the data line 101 to the GND side, thereby delaying the sensing speed. By lowering the data line 102 to a low level in the transfer gate control signal column 301 as shown in FIG.
To increase the sense speed.

【0013】[0013]

【発明の効果】以上説明したように、セル容量の対極を
1対のデータ線に接続することによって、センスアンプ
活性化時に、セル容量の両極はセンスアンプによって増
幅されたデータ線のレベルで充電される。ワード線が下
ってからデータ線がバランスされることによって容量の
対極は1/2VCCとなり、セルレベルが高レベルの時は
昇圧され、セルレベルが低レベルの時は降圧されて充電
する。これによって従来セルへの充電効率を上げるため
のワード線の昇圧回路は不要になり回路構成が簡単にな
るという効果を得られる。
As described above, by connecting the opposite electrode of the cell capacitance to a pair of data lines, both electrodes of the cell capacitance are charged at the level of the data line amplified by the sense amplifier when the sense amplifier is activated. Is done. When the data line is balanced after the word line is lowered, the opposite electrode of the capacitance becomes 1/2 Vcc. When the cell level is high, the voltage is boosted, and when the cell level is low, the voltage is lowered and charged. This eliminates the need for a word line boosting circuit for increasing the efficiency of charging the conventional cell, and has the effect of simplifying the circuit configuration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施例の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of a first embodiment.

【図2】第2実施例の回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram of a second embodiment.

【図3】従来例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a conventional example.

【図4】第1実施例の電圧波形を示す波形図である。FIG. 4 is a waveform chart showing a voltage waveform of the first embodiment.

【図5】第1実施例の電圧波形を示す波形図である。FIG. 5 is a waveform chart showing a voltage waveform of the first embodiment.

【図6】従来例の電圧波形を示す波形図である。FIG. 6 is a waveform diagram showing a voltage waveform of a conventional example.

【図7】第2実施例の電圧波形を示す波形図である。FIG. 7 is a waveform diagram showing a voltage waveform of the second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 センスアンプ 2,3 セルトランジスタ 4,5 セル容量 6,7 プリチャージトランジスタ 8 バランストランジスタ 101,102 データ信号線 201,202 ワード線 301 トランスファーゲート制御線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Sense amplifier 2, 3 Cell transistor 4, 5 Cell capacitance 6, 7 Precharge transistor 8 Balance transistor 101, 102 Data signal line 201, 202 Word line 301 Transfer gate control line

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 データ線対と、データ線対をプリチャー
ジするプリチャージ回路と、セルトランジスタとセル容
量とで構成されデータ線対に差電圧を発生させるメモリ
セルと、データ線対上の差電圧を増幅するセンスアンプ
と、データ線対とセンスアンプとの間に接続されたトラ
ンスファーゲートと、セルトランジスタのゲートを制御
するワード線とを備えた半導体記憶装置において、上記
セル容量の1対の電極の一方はセルトランジスタを介し
てデータ線対の一方に接続可能であり、他方の電極はデ
ータ線対の他方に接続されていることを特徴とする半導
体記憶装置。
1. A data line pair, a precharge circuit for precharging a data line pair, a memory cell including a cell transistor and a cell capacitor for generating a difference voltage between the data line pair, and a difference between the data line pair. In a semiconductor memory device provided with a sense amplifier for amplifying a voltage, a transfer gate connected between a data line pair and a sense amplifier, and a word line for controlling a gate of a cell transistor, a pair of the cell capacitances is provided. A semiconductor memory device, wherein one of the electrodes is connectable to one of a pair of data lines via a cell transistor, and the other electrode is connected to the other of the pair of data lines.
【請求項2】 上記ワード線は選択時に電源電圧に上昇
し、データ線対に発生した差電圧はトランスファーゲー
トを介してセンスアンプで電源電圧と接地電位とに拡大
されたセル容量に戻され、ワード線の電圧を下降させた
後にデータ線対をプリチャージするときセル容量の一方
の電極の電圧を昇圧する請求項1記載の半導体記憶装
置。
2. The word line rises to a power supply voltage at the time of selection, and a difference voltage generated in a data line pair is returned to a cell capacitance expanded to a power supply voltage and a ground potential by a sense amplifier via a transfer gate, 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein when precharging the data line pair after lowering the voltage of the word line, the voltage of one electrode of the cell capacitor is boosted.
【請求項3】 上記トランスファーゲートはデータ線対
とセンスアンプとの間に介在する1対のトランスファト
ランジスタで構成されており、1対のトランスファトラ
ンジスタは1対の制御線で独立して制御され、一方のト
ランスファトランジスタはセンスアンプの差動増幅中、
他方の電極をセンスアンプから遮断する請求項1記載の
半導体記憶装置。
3. The transfer gate comprises a pair of transfer transistors interposed between a data line pair and a sense amplifier, wherein the pair of transfer transistors are independently controlled by a pair of control lines, During the differential amplification of the sense amplifier,
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the other electrode is cut off from the sense amplifier.
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