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JP2767557B2 - Method for manufacturing substrate with color filter for liquid crystal display device - Google Patents
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JP2767557B2 - Method for manufacturing substrate with color filter for liquid crystal display device - Google Patents

Method for manufacturing substrate with color filter for liquid crystal display device

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JP2767557B2
JP2767557B2 JP28795494A JP28795494A JP2767557B2 JP 2767557 B2 JP2767557 B2 JP 2767557B2 JP 28795494 A JP28795494 A JP 28795494A JP 28795494 A JP28795494 A JP 28795494A JP 2767557 B2 JP2767557 B2 JP 2767557B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶セルを構成する基
板の内面に、内部にカラーフィルタを介在させた二層の
シート状の電極を形成する液晶表示装置用カラーフィル
タ付基板の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a substrate with a color filter for a liquid crystal display device, in which two layers of sheet-like electrodes having a color filter interposed are formed on the inner surface of a substrate constituting a liquid crystal cell. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】単純マトリクス駆動方式の液晶カラー表
示装置において、表示性能を向上させるためにはカラー
フィルタ上に液晶駆動用のシート状の透明電極を設ける
必要がある。また、液晶駆動のデューティ比を大きくす
るには、その透明電極のシート抵抗をできるだけ小さく
することが要求される。
2. Description of the Related Art In a simple matrix driving type liquid crystal color display device, it is necessary to provide a sheet-like transparent electrode for driving a liquid crystal on a color filter in order to improve display performance. Further, in order to increase the duty ratio for driving the liquid crystal, it is necessary to reduce the sheet resistance of the transparent electrode as much as possible.

【0003】以上の要求を満たすために、例えば図8に
示すように、二層構造のシート状電極でカラーフィルタ
を挟み込んで、その間をコンタクトホールを通して接続
することが提案されている。
In order to satisfy the above requirements, for example, as shown in FIG. 8, it has been proposed to sandwich a color filter between sheet-like electrodes having a two-layer structure and to connect them through a contact hole.

【0004】すなわち、まずガラス基板(図示せず)上
に一層目のシート状の透明電極1aを形成し(図8の
(a))、その上にコンタクトホール形成用のレジスト
3を設ける(図8の(b))。そして、その上にカラー
フィルタ4を形成した後(図8(c))、上記レジスト
3を除去してコンタクトホール5を形成する(図8の
(d))。次に、その上から二層目のシート状の透明電
極1bを形成する(図8の(e))。
That is, first, a first sheet-like transparent electrode 1a is formed on a glass substrate (not shown) (FIG. 8A), and a resist 3 for forming a contact hole is provided thereon (FIG. 8A). 8 (b)). After the color filter 4 is formed thereon (FIG. 8C), the resist 3 is removed to form a contact hole 5 (FIG. 8D). Next, a second-layer sheet-shaped transparent electrode 1b is formed from above (FIG. 8E).

【0005】上記のような構造の液晶セルにおいては、
カラーフィルタ4上部の透明電極1bはコンタクトホー
ル5を介して下部の透明電極1aと電気的に接続されて
おり、二層の透明電極1aと1bが並列に接続された構
成となっている。そして、上部の透明電極1bのシート
抵抗を下げなくても、下部の透明電極1aに抵抗値の低
いITO膜等を用いることにより、見掛け上の抵抗値が
低くなり、二層共同程度にすることができる。
In the liquid crystal cell having the above structure,
The transparent electrode 1b on the upper part of the color filter 4 is electrically connected to the lower transparent electrode 1a via the contact hole 5, and has a configuration in which two layers of transparent electrodes 1a and 1b are connected in parallel. Even if the sheet resistance of the upper transparent electrode 1b is not reduced, the apparent resistance is reduced by using an ITO film or the like having a lower resistance for the lower transparent electrode 1a. Can be.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようにして製造された液晶表示装置用カラーフィルタ付
基板においては、図8の(f)に示すA部のように、コ
ンタクトホール5に接続不良部が発生する場合があり、
この場合二層の透明電極1a,1bが接続不良となって
その部分の上側の透明電極1bに適正な駆動電圧が伝達
されず、このため、結果として表示部内に不灯部分が発
生するという問題がある。
However, in the substrate with a color filter for a liquid crystal display device manufactured as described above, as shown in part A of FIG. Part may occur,
In this case, the two layers of the transparent electrodes 1a and 1b have a poor connection, and an appropriate drive voltage is not transmitted to the transparent electrode 1b on the upper side of the two electrodes. As a result, an unlit portion is generated in the display unit. There is.

【0007】すなわち、上記の製造方法では、コンタク
トホール5の形成をカラーフィルタ4の電着形成時にレ
ジスト3で穴を空けることにより行っているため、レジ
スト3を除去したカラーフィルタ4の断面形状が図8に
示すように逆スロープ状になり、このカラーフィルタ4
上にスパッタリング法で透明電極1bとなるITO膜等
を成膜する際にコンタクトホール5内側の成膜が十分行
われず、上記のように接続不良が発生してしまう。
That is, in the above-described manufacturing method, the contact hole 5 is formed by forming a hole in the resist 3 when the color filter 4 is formed by electrodeposition. As shown in FIG. 8, the color filter 4 has an inverted slope shape.
When an ITO film or the like to be the transparent electrode 1b is formed thereon by sputtering, film formation inside the contact hole 5 is not sufficiently performed, and a connection failure occurs as described above.

【0008】本発明は、上記のような問題点に着目して
なされたもので、二層のシート状電極間の接続が確実な
ものとなり、不灯画素が発生することのない液晶表示装
置用カラーフィルタ付基板の製造方法を提供することを
目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and is intended to provide a reliable connection between two layers of sheet-like electrodes, and to prevent the occurrence of unlit pixels in a liquid crystal display device. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a substrate with a color filter.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶表示装
置用カラーフィルタ付基板の製造方法は、液晶セルを構
成する基板の内面に、内部にカラーフィルタを介在させ
た二層のシート状の電極を形成するカラーフィルタ付基
板の製造方法において、前記基板上に形成する第1のシ
ート状の電極にスルーホールを設け、このスルーホール
の一部をまたいで覆うようにコンタクトホール形成用の
レジストを形成し、その上にカラーフィルタを形成した
後、前記レジストを除去してコンタクトホールを形成
し、さらにその上に第2のシート状の電極を成膜形成
し、前記コンタクトホールを通して前記第1のシート状
の電極と第2のシート状の電極を接続するようにしたも
のである。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a substrate with a color filter for a liquid crystal display device, comprising a two-layer sheet-like structure having a color filter interposed on an inner surface of a substrate constituting a liquid crystal cell. In the method of manufacturing a substrate with a color filter for forming an electrode, a first sheet-like electrode formed on the substrate is provided with a through hole, and a resist for forming a contact hole is formed so as to cover a part of the through hole. After forming a color filter thereon, the resist is removed to form a contact hole, a second sheet-like electrode is further formed thereon, and the first sheet electrode is formed through the contact hole. The second sheet-shaped electrode is connected to the second sheet-shaped electrode.

【0010】[0010]

【作用】本発明の液晶表示装置用カラーフィルタ付基板
の製造方法においては、基板上の第1のシート状の電極
に設けたスルーホールの一部をまたいで覆うようにコン
タクトホール形成用のレジストを設けているので、カラ
ーフィルタを形成した時にその断面形状がスロープ状に
なり、その上側に形成する第2のシート状の電極が確実
に上記第1のシート状の電極と接続する。
In the method of manufacturing a substrate with a color filter for a liquid crystal display device according to the present invention, a resist for forming a contact hole is formed so as to cover a part of a through hole provided in a first sheet-like electrode on the substrate. Is provided, when the color filter is formed, its cross-sectional shape becomes a slope shape, and the second sheet-like electrode formed on the upper side thereof is securely connected to the first sheet-like electrode.

【0011】[0011]

【実施例】図1は本発明の一実施例を示す斜視図であ
り、図8と同一符号は同一構成要素を示している。また
図2〜図7はコンタクトホール構造の種々の例を示した
ものであり、各図中(a)は平面図、(b)はその縦断
面図、(c)は横断面図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention. The same reference numerals as in FIG. 8 denote the same components. 2 to 7 show various examples of the contact hole structure, in which (a) is a plan view, (b) is a longitudinal sectional view, and (c) is a transverse sectional view.

【0012】本実施例は、カラーフィルタ4を挟み込む
二層の透明電極1a,1b間を接続するためのコンタク
トホール5を形成する際に、その断面形状をスロープ状
にして、二層の透明電極1a,1bの接続を確実にする
ものである。具体的には、図2の(c)のB部に示すよ
うに、ITOのストライプパターン(透明電極1a)上
に電着法でカラーフィルタ4を形成する場合、パターン
端面方向に対してカラーフィルタ4がはみ出すことが知
られており、この部分の断面がスロープ状になることを
利用したものである。
In this embodiment, when the contact hole 5 for connecting the two layers of transparent electrodes 1a and 1b sandwiching the color filter 4 is formed, its cross-sectional shape is made into a slope shape, and the two-layer transparent electrode is formed. This ensures the connection between 1a and 1b. Specifically, as shown in part B of FIG. 2C, when the color filter 4 is formed on the ITO stripe pattern (transparent electrode 1a) by the electrodeposition method, the color filter 4 is formed in the pattern end face direction. It is known that 4 protrudes, and this is based on the fact that the cross section of this portion becomes slope-shaped.

【0013】以上の原理を利用し、一層目の透明電極中
にスリット形状の穴を設けることによって、コンタクト
ホール内部にスロープ状のカラーフィルタ断面を作り出
すことが本実施例の重要な点になっている。以下、図1
について新コンタクトホール形成の過程を説明する。
It is an important point of this embodiment that a slit-shaped color filter section is formed inside the contact hole by providing a slit-shaped hole in the first-layer transparent electrode using the above principle. I have. Hereinafter, FIG.
The process of forming a new contact hole will be described.

【0014】図1の(a) 一層目の第1のシート状の透明電極1aとしてシート抵
抗が10Ω/cm2 程度のITO膜を形成したガラス基板
(図示せず)をフォトリソグラフ法によりストライプ状
にパターニングする。その際、対向側パターンのスペー
ス部に当たる部分に20μm幅程度のスルーホール(ス
リット状穴)2が空くようにフォトマスクを設計してお
く。
FIG. 1A shows a glass substrate (not shown) on which an ITO film having a sheet resistance of about 10 Ω / cm 2 is formed as a first sheet-like transparent electrode 1a by a photolithographic method. Is patterned. At this time, the photomask is designed so that a through hole (slit-like hole) 2 having a width of about 20 μm is formed in a portion corresponding to a space portion of the opposing pattern.

【0015】図1の(b) 上記スルーホール2の一部をまたいで覆うようにコンタ
クトホール形成用のレジスト3をフォトリソグラフ法に
より形成する。ここでは、スルーホール2の片側をまた
ぐように形成する。
In FIG. 1B, a resist 3 for forming a contact hole is formed by photolithography so as to cover a part of the through hole 2. Here, it is formed so as to straddle one side of the through hole 2.

【0016】図1の(c) 上記コンタクトホール形成用のレジスト3を付けたまま
カラーフィルタ4を電着法により形成する。この時、レ
ジスト3の付いていないスルーホール2の反対側の断面
は、図に示すようにカラーフィルタ4がはみ出して緩や
かなスロープ状となる。
FIG. 1 (c) A color filter 4 is formed by an electrodeposition method with the above-mentioned resist 3 for forming a contact hole. At this time, the cross section on the opposite side of the through hole 2 without the resist 3 has a gentle slope shape with the color filter 4 protruding as shown in the figure.

【0017】図1の(d) 上記カラーフィルタ4を250℃×2時間で本焼成した
後、可性ソーダによりレジスト3を除去してコンタクト
ホール5を形成する。これにより、カラーフィルタ4の
下から一層目の透明電極1aがむき出しになる部分が作
られる。
After the color filter 4 is fully baked at 250.degree. C. for 2 hours, the resist 3 is removed with a possible soda to form a contact hole 5. FIG. Thereby, a portion where the first transparent electrode 1a from below the color filter 4 is exposed is formed.

【0018】図1の(e) 上記カラーフィルタ4の上に二層目の第2のシート状の
透明電極1bとなるITO膜をスパッタリング法により
成膜形成する。この時、上記カラーフィルタ4の下から
むき出しになった一層目の透明電極1aと二層目の透明
電極1bがスロープ状断面となったカラーフィルタ4の
上面を通して接続される。
In FIG. 1E, an ITO film to be the second sheet-like transparent electrode 1b is formed on the color filter 4 by a sputtering method. At this time, the first-layer transparent electrode 1a and the second-layer transparent electrode 1b that are exposed from under the color filter 4 are connected through the upper surface of the color filter 4 having a sloped cross section.

【0019】その後、フォトリソグラフ法により二層目
の透明電極1bを一層目の透明電極1aと並列になるよ
うにストライプ状にパターニングし、これにより本実施
例のコンタクトホール5の形成が完了する。
Thereafter, the second-layer transparent electrode 1b is patterned in a stripe shape by photolithography so as to be parallel to the first-layer transparent electrode 1a, thereby completing the formation of the contact hole 5 in this embodiment.

【0020】このようにして、一層目の透明電極1aと
二層目の透明電極1bを上記のコンタクトホール5を通
して接続することで、二層の透明電極1a,1b間の接
続は確実なものとなる。したがって、単純マトリクス方
式の液晶表示装置として不灯画素が発生することのない
ものを安定して製造することが可能となる。
In this manner, by connecting the first-layer transparent electrode 1a and the second-layer transparent electrode 1b through the contact hole 5, the connection between the two-layer transparent electrodes 1a and 1b is ensured. Become. Therefore, it is possible to stably manufacture a simple matrix type liquid crystal display device that does not generate unlit pixels.

【0021】また、コンタクトホール5の構造を他に図
2〜図7において示したが、実際にはカラーフィルタ4
の厚みは1μm程度であり、カラーフィルタ4のスロー
プ状になった部分の横幅は5μm程度である。つまり、
この部分は縦・横比=1:5の緩やかな傾斜となってい
る。
Although the structure of the contact hole 5 is shown in FIGS. 2 to 7, the color filter 4 is actually used.
Is about 1 μm, and the lateral width of the slope portion of the color filter 4 is about 5 μm. That is,
This portion has a gentle slope with an aspect ratio of 1: 5.

【0022】従来例で示した方法では、このスロープ状
になった部分の裏側(逆スロープ状部分)を使用して二
層の電極1a,1b間の接続を行っているので、不灯画
素の発生を完全に防ぐことはできない。また従来例の方
法では、コンタクトホール形成用のレジスト3の高さに
対してカラーフィルタ4の厚みの方が上まわると、レジ
スト3の除去が不充分となるため、カラーフィルタ4の
両サイドに開口部を設けることになる。しかし、この方
法は二層目の透明電極1bのパターニングの際のサイド
エッチングに非常に弱いという問題がある。
In the method shown in the conventional example, the connection between the two-layered electrodes 1a and 1b is performed by using the back side (reverse slope-shaped portion) of the slope-shaped portion. Outbreaks cannot be completely prevented. In the conventional method, when the thickness of the color filter 4 exceeds the height of the resist 3 for forming a contact hole, the removal of the resist 3 becomes insufficient. An opening will be provided. However, this method has a problem that it is very weak to side etching when patterning the second-layer transparent electrode 1b.

【0023】本発明では、例えば図2,図3,図5,図
7に示す構造にすることで、必然的に開口部はパターン
上部内側となり、サイドエッチングに強い構造とするこ
とが可能になる。また、図2〜図5,図7に示す構造と
することにより、仮に一部のコンタクトホール5で接続
不良が発生した場合でも、隣接する他の近傍のコンタク
トホール5を通して駆動電圧を伝達することができ、よ
り完全に不灯画素の発生を防止することが可能になる。
In the present invention, for example, by adopting the structure shown in FIG. 2, FIG. 3, FIG. 5, and FIG. 7, the opening is inevitably inside the upper part of the pattern, and it becomes possible to make the structure resistant to side etching. . Further, by adopting the structure shown in FIGS. 2 to 5 and FIG. 7, even if a connection failure occurs in some of the contact holes 5, the drive voltage can be transmitted through another adjacent contact hole 5 adjacent thereto. This makes it possible to more completely prevent the occurrence of unlit pixels.

【0024】なお、図2はレジスト3を図1と同様スリ
ット状のスルーホール2の片側をまたぐように設けてコ
ンタクトホール5を形成した例、図3はレジスト3を半
円状の二つのスルーホール2の両側を覆うように設けて
コンタクトホール5を形成した例、図4は同じく半円状
の二つのスルーホール2の外側にレジスト3を設けてコ
ンタクトホール5を形成した例をそれぞれ示している。
FIG. 2 shows an example in which a resist 3 is provided so as to straddle one side of a slit-like through hole 2 as in FIG. 1 to form a contact hole 5, and FIG. FIG. 4 shows an example in which a contact hole 5 is formed so as to cover both sides of the hole 2, and FIG. 4 shows an example in which a resist 3 is provided outside the two semicircular through holes 2 to form the contact hole 5. I have.

【0025】また、図5はレジスト3をスリット状のス
ルーホール2の中央部で両側を覆うように設けてコンタ
クトホール5を形成した例、図6は同じくスリット状の
スルーホール2の両端部から外側に二つのレジスト3を
設けてコンタクトホール5を形成した例、図7はコ字状
のスルーホール2の中央部の片側をまたぐようにレジス
ト3を設けてコンタクトホール5を形成した例をそれぞ
れ示している。
FIG. 5 shows an example in which a resist 3 is provided so as to cover both sides at the center of a slit-shaped through hole 2 to form a contact hole 5, and FIG. FIG. 7 shows an example in which two resists 3 are provided on the outside to form a contact hole 5, and FIG. Is shown.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、一層目
のシート状の電極に設けたスルーホールの一部をまたぐ
ようにレジストを設けてコンタクトホールを形成するよ
うにしたため、カラーフィルタを形成した時にその断面
形状がスロープ状になり、二層のシート状電極間の接続
が確実なものとなり、不灯画素が発生することのない液
晶表示装置を安定して製造することが可能になるという
効果がある。
As described above, according to the present invention, a contact hole is formed by providing a resist over a part of a through-hole provided in a first sheet-like electrode. When a is formed, the cross-sectional shape becomes a slope shape, the connection between the two layers of sheet-like electrodes is ensured, and it is possible to stably manufacture a liquid crystal display device in which no unlit pixels are generated. It has the effect of becoming.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施例を示す斜視図FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of the present invention.

【図2】 コンタクトホールの他の構造例を示す説明図FIG. 2 is an explanatory view showing another example of the structure of a contact hole.

【図3】 コンタクトホールの他の構造例を示す説明図FIG. 3 is an explanatory view showing another example of the structure of a contact hole.

【図4】 コンタクトホールの他の構造例を示す説明図FIG. 4 is an explanatory view showing another example of the structure of a contact hole.

【図5】 コンタクトホールの他の構造例を示す説明図FIG. 5 is an explanatory view showing another example of the structure of a contact hole.

【図6】 コンタクトホールの他の構造例を示す説明図FIG. 6 is an explanatory view showing another example of the structure of the contact hole.

【図7】 コンタクトホールの他の構造例を示す説明図FIG. 7 is an explanatory view showing another example of the structure of the contact hole.

【図8】 従来例を示す斜視図FIG. 8 is a perspective view showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a 透明電極 1b 透明電極 2 スルーホール 3 レジスト 4 カラーフィルタ 5 コンタクトホール 1a Transparent electrode 1b Transparent electrode 2 Through hole 3 Resist 4 Color filter 5 Contact hole

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 液晶セルを構成する基板の内面に、内部
にカラーフィルタを介在させた二層のシート状の電極を
形成するカラーフィルタ付基板の製造方法において、前
記基板上に形成する第1のシート状の電極にスルーホー
ルを設け、このスルーホールの一部をまたいで覆うよう
にコンタクトホール形成用のレジストを形成し、その上
にカラーフィルタを形成した後、前記レジストを除去し
てコンタクトホールを形成し、さらにその上に第2のシ
ート状の電極を成膜形成し、前記コンタクトホールを通
して前記第1のシート状の電極と第2のシート状の電極
を接続することを特徴とする液晶表示装置用カラーフィ
ルタ付基板の製造方法。
1. A method of manufacturing a substrate with a color filter in which two layers of sheet-like electrodes having a color filter interposed therein are formed on an inner surface of a substrate constituting a liquid crystal cell. A through hole is provided in the sheet-like electrode of the above, a resist for forming a contact hole is formed so as to cover a part of the through hole, a color filter is formed thereon, and then the resist is removed to form a contact. Forming a hole, further forming a second sheet-like electrode thereon, and connecting the first sheet-like electrode and the second sheet-like electrode through the contact hole. A method for manufacturing a substrate with a color filter for a liquid crystal display device.
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