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JP2768313B2 - 反射型液晶表示装置 - Google Patents
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JP2768313B2 - 反射型液晶表示装置 - Google Patents

反射型液晶表示装置

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JP2768313B2
JP2768313B2 JP7146189A JP14618995A JP2768313B2 JP 2768313 B2 JP2768313 B2 JP 2768313B2 JP 7146189 A JP7146189 A JP 7146189A JP 14618995 A JP14618995 A JP 14618995A JP 2768313 B2 JP2768313 B2 JP 2768313B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は反射型液晶表示装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】反射型液晶表示装置は、外部から入射し
た光を液晶表示装置内部に位置する反射板により反射し
た光を表示光源として利用することから、光源にバック
ライトが不要となる。これは、透過型液晶表示装置より
も、低消費電力化、薄型化、軽量化が達成できる有効な
手法と考えられている。現在製品化されている反射型液
晶表示装置では、単純マトリクス方式のＳＴＮ（スーパ
ーツイステッドネマティック）方式がある。
【０００３】しかし、ＳＴＮ方式の反射型液晶表示装置
は明るさ及び解像度の面で十分な表示特性が得られてい
ない。そこで、ＴＮ（ツイステッドネマティック）方
式、ＧＨ（ゲストホスト）方式、ＰＤＬＣ（高分子分
散）方式等の液晶を薄膜トランジスタ、ダイオード等の
スイッチング素子で駆動するアクティブマトリクス方式
が考えられている。これら従来の全ての反射型液晶表示
装置は、目視と反対側の絶縁性基板に反射板が設けら
れ、目視側の絶縁性基板には透明電極が設けられてい
る。この反射板には凹凸が形成されている。凹凸を形成
することにより、反射板に入射した光は散乱され、液晶
表示画面に使用者の顔や背景が映り込まないようにする
ことができる。
【０００４】また、反射板の設けられる位置により表示
性能は大きく異なる。偏光板の必要なＳＴＮ方式やＴＮ
方式は、偏光板を２枚の絶縁性基板の外側に張り合わせ
る必要があるため、反射板はさらに偏光板の外側に設け
られている。そのため液晶の表示の像と反射板との間に
絶縁性基板の厚さ０．２mm〜１．１mmの隔たりが発生
し、像の二重映りが発生する。一方、偏光板を必要とし
ないＧＨ方式やＰＤＬＣ方式は、反射板を２枚の絶縁性
基板の内側に設けることができ、像の二重映りを防止す
ることができる。図１３にこのような構造の従来のＧＨ
方式反射型液晶表示装置の断面図を示す。
【０００５】図１３において、下部絶縁性基板１上に
は、ゲート電極７、ソース・ドレイン電極３、ゲート絶
縁膜６、ドーピング層４、半導体層５からなるアクティ
ブマトリクス方式のスイッチング素子と、このスイッチ
ング素子を覆うとともに、表面に凹凸を有するポリイミ
ド絶縁膜１５と、スイッチング素子に接続された画素電
極８とが形成されている。ポリイミド絶縁膜１５表面に
は凹凸が形成され、その上に形成された画素電極８は、
凹凸を有する反射板として機能している。
【０００６】また、上部絶縁性基板２には、透明電極で
あるコモン電極９が形成されており、下部絶縁性基板と
液晶層１０を挟んで対向している。画像は上部絶縁性基
板２側から見る。
【０００７】この中の絶縁膜１５表面の凹凸は通常のフ
ォトレジスト工程または光感光性の絶縁材料を用いて露
光、エッチングを行い形成する。これらの技術について
は、特公昭６１−６３９０号公報や、プロシーディング
ス・オブ・エスアイディー（Ｔｏｈｒｕ Ｋｏｉｚｕｍ
ｉ ａｎｄ Ｔａｔｓｕｏ Ｕｃｈｉｄａ， Ｐｒｏｃ
ｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ ＳＩＤ， Ｖｏｌ．２
９，１５７，１９８８）や、エスアイディー・ダイジェ
スト（Ｓ．Ｍｉｔｓｕｉ、Ｙ．Ｓｈｉｍａｄａ、Ｋ．Ｙ
ａｍａｍｏｔｏ、Ｔ．Ｔａｋａｍａｔｕ、Ｎ．Ｋｉｍｕ
ｒａ、Ｓ．Ｋｏｚａｋｉ、Ｓ．Ｏｇａｗａ、Ｈ．Ｍｏｒ
ｉｍｏｔｏ、Ｍ．Ｍａｔｓｕｕｒａ、Ｍ．Ｉｓｈｉｉ
ａｎｄ Ｋ．Ａｗａｎｏ：ＳＩＤ ９２ ＤＩＧＥＳ
Ｔ、ｐ４３７−４４０、１９９２）や、木村直史、三ッ
井精一、島田康憲、山本邦彦、神崎修一、森本弘、松浦
昌孝、「反射型カラーＬＣＤの開発」、シャープ技報、
第５６号、１９９３年６月に開示されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】反射型液晶表示装置で
は、反射板表面に凹凸を形成することにより入射光を散
乱させ、液晶表示画面上に顔や背景の映り込みを防止し
ている。しかし、特にＴＦＴ素子やＭＩＭ素子などのア
クティブ素子を形成した基板上に凹凸を形成するには、
絶縁膜の塗布及び凹凸のパターニングの工程が必要とな
る。この凹凸のパターニングの工程では、凹凸の傾斜角
度など微妙な形状の制御が難しく、十分な光散乱特性が
得られない。
【０００９】本発明の目的は、所望の光散乱特性を有
し、文字のぼやけや二重映りのない高画質で明るい表示
の反射型液晶表示装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】反射板を有する絶縁性基
板と透明電極を有する絶縁性基板とで、反射板と透明電
極とが対向する形で液晶層を挟み込んだ構造よりなる反
射型液晶表示装置において、反射板表面が平坦であり、
透明電極を有する絶縁性基板の透明電極を有する側の表
面が凹凸を有するか、または光散乱性の塗布膜を有する
ことにより、簡便な方法で高画質な反射型液晶表示装置
が得られる。
【００１１】また、透明電極を有する絶縁性基板の厚さ
が０．７mm以下と薄く、透明電極の設けられた面とは反
対側の目視側の表面が凹凸を有するか、または光散乱性
のシートを有することにより、簡便な方法で高画質な反
射型液晶表示装置が得られる。
【００１２】さらに、反射板表面を凹凸とすることもで
きる。
【００１３】
【作用】本発明における、光散乱性を持たせるために形
成する透明電極を有する絶縁性基板表面の凹凸は削り粉
により研磨し、必要に応じて弗酸でエッチングすること
により作成できる。光散乱性の膜に関してはスピンコー
ト塗布により作成できる。また、光散乱性のシートは２
枚の絶縁性基板を張り合わせ液晶を注入した後で張り合
わせることにより作成でき、屈折率の異なる粒子を混入
させた絶縁性基板を用いれば、張り合わせ、液晶注入の
みで作成できる。以上のように、透明電極を有する絶縁
性基板側で光を散乱させる方法はいずれの場合もパター
ニング工程を必要としない簡単なプロセスのみで作成が
可能であり、散乱特性の制御が容易であり、ペーパーホ
ワイトの見やすい表示が得られる。
【００１４】上記のようにして作成された反射型液晶表
示装置は反射板表面は鏡面状態であるが、対向基板表面
の凹凸、光散乱性質、シート、及び基板と屈折率の異な
る粒子を混入した基板が、屈折率差により光を散乱させ
る機能を有している。特に、この光を散乱させる部分
が、表示像を形成する液晶層の透明電極に接している
か、または、極薄い０．７mm以下の基板を介して形成さ
れているため、表示のぼやけが発生しない。これが１mm
以上の基板を介して形成されると表示のぼやけが著し
く、表示文字の認識速度が低下し、画質が劣化する。
【００１５】対向基板の厚さと文字読取時間の関係を図
１４に示す。読取時間は被験者によって絶対値が異なる
ため、各被験者の０．３mm厚のときの読取時間を１とし
た。読取実験では“員”と“買”のように似かよった文
字を画面上一面に表示し、それぞれの文字が何文字ある
かを被験者が回答するまでの時間を測定した。
【００１６】図１４より対向基板が０．７mm以上の板厚
になると認識時間が急激に上がっていることが分かる。
したがって、液晶パネルの表面で散乱をさせる場合、対
向基板の厚さを０．７mm以下にすることがよい表示特性
を得るのに重要となる。
【００１７】ここで、透明電極を有する絶縁性基板側
で、光散乱性を大きくすると、後方散乱も大きくなるた
め、黒表示の輝度が上昇し、コントラストが低下する
が、反射板を有する絶縁性基板側にも光散乱特性をもた
せることによりコントラストを低下させずに、十分な光
散乱特性を有する反射型液晶表示装置を作製することが
できる。
【００１８】
【実施例】以下に本発明の実施例について図面を参照し
て詳細に説明する。
【００１９】図において、下部絶縁性基板１上には、ゲ
ート電極７、ソース・ドレイン電極３、ゲート絶縁膜
６、ドーピング層４、半導体層５からなるアクティブマ
トリクス方式のスイッチング素子と、このスイッチング
素子に接続された画素電極８とが形成されている。画素
電極８は反射板として機能している。
【００２０】また、上部絶縁性基板２には、凹凸を有す
るコモン電極９が形成されている。上部絶縁性基板２と
下部絶縁性基板１とは、間に液晶層１０を挟んで画素電
極８とコモン電極９が対向する形で張り合わせてある。
画像は上部絶縁性基板２側から見る。
【００２１】（実施例１）図１は第１の発明の第１の実
施例の反射型液晶表示装置の断面図である。
【００２２】反射板である画素電極８を有する下部絶縁
性基板１については１．１mm厚のガラス基板を用い、透
明電極であるコモン電極９を有する上部絶縁性基板２に
ついては１．１mm厚のガラス基板を１０００＃の磨き粉
で研磨した粗面化ガラス基板を用いた。
【００２３】下部絶縁性基板１には順スタガー構造薄膜
トランジスタ（ＴＦＴ）を作成した。はじめにＣｒ金属
をスパッタリング法により１００nm成膜し、通常のフォ
トレジスト工程によりソース・ドレイン電極３及び信号
配線をパターニング形成する。次に、ドーピング層４、
半導体層５、ゲート絶縁膜６をプラズマＣＶＤにより連
続成膜を行った。このとき、ドーピング層４には、リン
原子を混入することでｎ型化されたアモルファスシシコ
ン（ｎ+ ａ−Ｓｉ）層を１００nm、そして半導体層５に
は、アモルファスシシコン層を１００nm、ゲート絶縁膜
６には、シリコン酸化膜を３００nm、シリコン窒化膜を
１００nm、成膜した。さらに、ゲート電極層としてＣｒ
金属をスパッタリング法により１００nm成膜した。この
後、ゲート電極７、ゲート配線をパターニングし、同一
のパターンで連続的にゲート絶縁膜６、半導体層５、ド
ーピング層４をエッチングし、ＴＦＴ素子部のアイラン
ド化を行った。最後に、Ａｌ金属をスパッタリング法に
より３００nm成膜、パターニングし画素電極８を形成し
た。
【００２４】一方、上部絶縁性基板２には、粗面化表面
にＩＴＯ膜をスパッタリング法により６０nm成膜し、パ
ターニングすることによりコモン電極を形成した。
【００２５】その後、上下絶縁性基板を画素電極８とコ
モン電極９が対向するようにして重ね合わせた。なお、
上下絶縁性基板には、配向処理が施され、両基板はプラ
スチック粒子等のスペーサを介して、パネル周辺部にエ
ポキシ系の接着剤を塗ることにより、張り合わされた。
その後ＧＨ型の液晶を注入し液晶層とすることで、反射
型液晶表示装置を製造した。このときガラス基板の屈折
率が１．５に対し、ＩＴＯの屈折率が２．０であり、液
晶材料を１．７程度のものを使用した。
【００２６】実用上十分明るく、新聞紙に匹敵する白表
示を有するモノクロ反射型パネルを低コストで、実現し
た。また、上部絶縁性基板に、ＲＧＢカラーフィルタを
設置することで、明るいカラー反射型パネルを低コスト
で実現できる。
【００２７】（実施例２）図２は第１の本発明の第２の
実施例の反射型液晶表示装置の断面図である。実施例１
と同じものは同じ符号で示した。
【００２８】上部絶縁性基板２の粗面化表面にポリイミ
ドを１μm 程度の膜厚にスピンコートし、２５０度で１
時間アニールし、ポリイミド平坦化膜１１を形成した後
に、ＩＴＯ膜をスパッタした以外は実施例１と同様に作
成した。屈折率２程度のポリイミドを塗布し、平坦化す
ることにより、ガラス基板の粗面化表面での散乱性を高
めることができる。
【００２９】（実施例３）図３は第３の発明の第１の実
施例の反射型液晶表面装置の断面図である。
【００３０】実施例１と同じものは同じ符号で示した。
下部絶縁性基板１には、実施例１と同様のスイッチング
素子とこのスイッチング素子を覆い、表面に凹凸を有す
るポリイミド絶縁膜１５が形成されている。反射板とな
る画素電極８は、ポリイミド絶縁膜１５上に形成されて
おり、表面に凹凸を有している。
【００３１】反射板を有する下部絶縁性基板１について
は１．１mm厚のガラス基板を用い、透明電極を有する上
部絶縁性基板２については１．１mm厚のガラス基板を１
０００＃の磨き粉で研磨した粗面化ガラス基板を用い
た。
【００３２】下部絶縁性基板１には順スタガー構造薄膜
トランジスタ（ＴＦＴ）を実施例１と同様の方法で作成
した。ＴＦＴ素子部の上にポリイミドを約２μm スピン
コートし、１８０度で１時間仮焼成した。さらに、フォ
トレジスト工程を経て、エッチングにより凹凸を形成す
る。次に、この後形成する画素電極とＴＦＴ素子をつな
ぐコンタクトホールを通常のフォトレジスト工程を経て
形成し、２５０度で１時間本焼成した。さらに、Ａｌ金
属をスパッタリング法により３００nm成膜、パターニン
グし画素電極を形成した。最後に、周辺部の端子出しを
通常のパターニング工程で行った。
【００３３】一方、上部絶縁性基板２には、粗面化表面
にＩＴＯ膜をスパッタリング法により６０nm成膜し、パ
ターニングすることによりコモン電極９を形成した。
【００３４】その後、上下絶縁性基板を画素電極８とコ
モン電極９が対向するようにして重ね合わせた。なお、
上下絶縁性基板には、配向処理が施され、両基板はプラ
スチック粒子等のスペーサを介して、パネル周辺部にエ
ポキシ系の接着剤を塗ることにより、張り合わされた。
その後ＧＨ型の液晶を注入し液晶層とすることで、反射
型液晶表示装置を製造した。このときガラス基板の屈折
率が１．５に対し、ＩＴＯの屈折率が２．０であり、液
晶材料を１．７程度のものを使用した。
【００３５】実用上十分明るく、新聞紙に匹敵する白表
示を有するモノクロ反射型パネルを低コストで、実現し
た。また、上部絶縁性基板に、ＲＧＢカラーフィルタを
設置することで、明るいカラー反射型パネルを低コスト
で実現できる。
【００３６】また、実施例１に比較して、コントラスト
を改善することができた。
【００３７】（実施例４）図４は第３の発明の第２の発
明の反射型液晶表示装置の断面図である。実施例１と同
じものは同じ符号で示した。
【００３８】上部絶縁性基板２の粗面化表面にポリイミ
ドを１μm 程度の膜厚にスピンコートし、２５０度で１
時間アニールし、ポリイミド平坦化膜１１を形成した後
に、ＩＴＯ膜をスパッタした以外は実施例３と同様に作
成した。屈折率２程度のポリイミドを塗布し、平坦化す
ることにより、ガラス基板の粗面化表面での散乱性を高
めることができる。
【００３９】（実施例５）図５は第１の発明の第３の実
施例の反射型液晶表示装置の断面図である。実施例１と
同じものは同じ符号で示した。１２は光散乱性膜であ
る。
【００４０】反射板を有する下部絶縁性基板１及び透明
電極を有する上部絶縁性基板２については１．１mm厚の
ガラス基板を用いた。
【００４１】下部絶縁性基板１については実施例１と同
様に作成した。
【００４２】一方、上部絶縁性基板２については、はじ
めに光散乱性の膜として酸化チタンを含む塗料ビヒクル
を１〜２μm スピンコート塗布し、オーブンにより９０
℃で焼成した。その後、ＩＴＯ膜をスパッタリング法に
より６０nm成膜し、パターニングすることによりコモン
電極９を形成した。
【００４３】その後も実施例１と同様に基板の張り合わ
せ、液晶注入を行い、液晶注入口を封止し、反射型液晶
表示装置を製造した。
【００４４】このようにして、実用上十分明るく、新聞
紙に匹敵する白表示を有するモノクロ反射型パネルを低
コストで、実現した。また、上部絶縁性基板に、ＲＧＢ
カラーフィルタを設置することで、明るいカラー反射型
パネルを低コストで実現できる。
【００４５】（実施例６）図６は第３の発明の第３の実
施例の反射型液晶表示装置の断面図である。上記実施例
と同じものは同じ符号で示した。
【００４６】反射板を有する下部絶縁性基板１及び透明
電極を有する上部絶縁性基板２については１．１mm厚の
ガラス基板を用いた。
【００４７】下部絶縁性基板１については実施例３と同
様に作成した。
【００４８】一方、上部絶縁性基板２については、はじ
めに光散乱性の膜として酸化チタンを含む塗料ビヒクル
を１〜２μm スピンコート塗布し、オーブンにより９０
℃で焼成した。その後、ＩＴＯ膜をスパッタリング法に
より６０nm成膜し、パターニングすることによりコモン
電極９を形成した。
【００４９】その後も実施例３と同様に基板の張り合わ
せ、液晶注入を行い、液晶注入口を封止し、反射型液晶
表示装置を製造した。
【００５０】このようにして、実用上十分明るく、新聞
紙に匹敵する白表示を有するモノクロ反射型パネルを低
コストで、実現した。また、上部絶縁性基板に、ＲＧＢ
カラーフィルタを設置することで、明るいカラー反射型
パネルを低コストで実現できる。
【００５１】（実施例７）図７は第２の発明の第１の実
施例の反射型液晶表示装置の断面図である。上記実施例
と同様のものは同じ符号で示した。
【００５２】反射板を有する下部絶縁性基板１について
は１．１mm厚のガラス基板を用い、透明電極を有する上
部絶縁性基板２については０．７mm厚のガラス基板を１
０００＃の磨き粉で研磨した粗面化ガラス基板を用い
た。
【００５３】下部絶縁性基板１については実施例１と同
様に作成した。
【００５４】一方、上部絶縁性基板２には、粗面化表面
の裏面にＩＴＯ膜をスパッタリング法により６０nm成膜
し、パターニングすることによりコモン電極９を形成し
た。
【００５５】その後も実施例１と同様に基板の張り合わ
せ、液晶注入を行い、液晶注入口を封止し、反射型液晶
表示装置を製造した。
【００５６】このようにして、実用上十分明るく、新聞
紙に匹敵する白表示を有するモノクロ反射型パネルを低
コストで、実現した。また、上部絶縁性基板に、ＲＧＢ
カラーフィルタを設置することで、明るいカラー反射型
パネルを低コストで実現できる。
【００５７】（実施例８）図８は第４の発明の第１の実
施例の反射型液晶表示装置の断面図である。上記実施例
と同じものは同じ符号で示した。
【００５８】反射板を有する下部絶縁性基板１について
は１．１mm厚のガラス基板を用い、透明電極を有する上
部絶縁性基板２については０．７mm厚のガラス基板を１
０００＃の磨き粉で研磨した粗面化ガラス基板を用い
た。
【００５９】下部絶縁性基板１については実施例３と同
様に作成した。
【００６０】一方、上部絶縁性基板２には、粗面化表面
の裏面にＩＴＯ膜をスパッタリング法により６０nm成膜
し、パターニングすることによりコモン電極を形成し
た。
【００６１】その後も実施例３と同様に基板の張り合わ
せ、液晶注入を行い、液晶注入口を封止し、反射型液晶
表示装置を製造した。
【００６２】このようにして、実用上十分明るく、新聞
紙に匹敵する白表示を有するモノクロ反射型パネルを低
コストで、実現した。また、上部絶縁性基板に、ＲＧＢ
カラーフィルタを設置することで、明るいカラー反射型
パネルを低コストで実現できる。
【００６３】（実施例９）図９は第２の発明の第２の実
施例の反射型液晶表示装置の断面図である。上記実施例
と同じものは同じ符号で示した。１３は光拡散シートで
ある。
【００６４】反射板を有する下部絶縁性基板１について
は１．１mm厚のガラス基板を用い、透明電極を有する上
部絶縁性基板２については０．７mm厚のガラス基板を用
いた。
【００６５】下部絶縁性基板１については実施例１と同
様に作成した。一方、上部絶縁性基板２についても同様
にＩＴＯ膜をスパッタリング法により６０nm成膜し、パ
ターニングすることによりコモン電極９を形成した。そ
の後も実施例１と同様に基板の張り合わせ、液晶注入を
行い、液晶注入口を封止し、液晶パネルを作成した。
【００６６】さらに、液晶パネルの上部絶縁性基板２の
表面に光散乱性のシートとして、通常透過型液晶ディス
プレイのバックライトに用いる光拡散シート１３を貼る
ことにより反射型液晶表示装置を製造した。実用上十分
明るく、新聞紙に匹敵する白表示を有するモノクロ反射
型パネルを低コストで、実現した。また、上部絶縁性基
板に、ＲＧＢカラーフィルタを設置することで、明るい
カラー反射型パネルを低コストで実現できる。
【００６７】（実施例１０）図１０は第４の発明の第２
の実施例の反射型液晶表示装置の断面図である。上記実
施例と同じものは同じ符号で示した。
【００６８】反射板を有する下部絶縁性基板１について
は１．１mm厚のガラス基板を用い、透明電極を有する上
部絶縁性基板２については０．７mm厚のガラス基板を用
いた。
【００６９】下部絶縁性基板１については実施例３と同
様に作成した。一方、上部絶縁性基板２についても同様
にＩＴＯ膜をスパッタリング法により６０nm成膜し、パ
ターニングすることによりコモン電極９を形成した。そ
の後も実施例３と同様に基板の張り合わせ、液晶注入を
行い、液晶注入口を封止し、液晶パネルを作成した。
【００７０】さらに、液晶パネルの上部絶縁性基板２の
表面に光散乱性のシートとして、通常透過型液晶ディス
プレイのバックライトに用いる光拡散シート１３を貼る
ことにより反射型液晶表示装置を製造した。実用上十分
明るく、新聞紙に匹敵する白表示を有するモノクロ反射
型パネルを低コストで、実現した。また、上部絶縁性基
板に、ＲＧＢカラーフィルタを設置することで、明るい
カラー反射型パネルを低コストで実現できる。
【００７１】（実施例１１）図１１は第２の発明の第３
の実施例の反射型液晶表示装置の断面図である。上記実
施例と同じものは同じ符号で示した。１４は光散乱ガラ
ス基板である。
【００７２】反射板を有する下部絶縁性基板１について
は１．１mm厚のガラス基板を用い、透明電極を有する上
部絶縁性基板２については屈折率２．０のポリマーを４
ｗｔ％混入させた０．７mm厚の光散乱ガラス基板１４を
用いた。
【００７３】下部絶縁性基板１については実施例１と同
様に作成した。
【００７４】一方、上部絶縁性基板についても同様にＩ
ＴＯ膜をスパッタリング法により６０nm成膜し、パター
ニングすることによりコモン電極９を形成した。
【００７５】その後も実施例１と同様に基板の張り合わ
せ、液晶注入を行い、液晶注入口を封止し、液晶パネル
を作成した。
【００７６】このようにして、実用上十分明るく、新聞
紙に匹敵する白表示を有するモノクロ反射型パネルを低
コストで、実現した。また、上部絶縁性基板に、ＲＧＢ
カラーフィルタを設置することで、明るいカラー反射型
パネルを低コストで実現できる。
【００７７】（実施例１２）図１２は第２の発明の第４
の実施例の反射型液晶表示装置の断面図である。上記実
施例と同じものは同じ符号で示した。
【００７８】反射板を有する下部絶縁性基板１について
は１．１mm厚のガラス基板を用い、透明電極を有する上
部絶縁性基板については屈折率２．０のポリマーを４ｗ
ｔ％混入させた０．７mm厚の光散乱ガラス基板１４を用
いた。
【００７９】下部絶縁性基板１については実施例３と同
様に作成した。
【００８０】一方、上部絶縁性基板についても同様にＩ
ＴＯ膜をスパッタリング法により６０nm成膜し、パター
ニングすることによりコモン電極９を形成した。
【００８１】その後も実施例３と同様に基板の張り合わ
せ、液晶注入を行い、液晶注入口を封止し、液晶パネル
を作成した。
【００８２】このようにして、実用上十分明るく、新聞
紙に匹敵する白表示を有するモノクロ反射型パネルを低
コストで、実現した。また、上部絶縁性基板に、ＲＧＢ
カラーフィルタを設置することで、明るいカラー反射型
パネルを低コストで実現できる。
【００８３】
【発明の効果】本発明を適用するならば、簡単なプロセ
スで、しかも十分な散乱性を持ったペーパーホワイトの
白表示の行える反射型液晶表示装置を製造することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１の液晶表示装置の断面図であ
る。
【図２】本発明の実施例２の液晶表示装置の断面図であ
る。
【図３】本発明の実施例３の液晶表示装置の断面図であ
る。
【図４】本発明の実施例４の液晶表示装置の断面図であ
る。
【図５】本発明の実施例５の液晶表示装置の断面図であ
る。
【図６】本発明の実施例６の液晶表示装置の断面図であ
る。
【図７】本発明の実施例７の液晶表示装置の断面図であ
る。
【図８】本発明の実施例８の液晶表示装置の断面図であ
る。
【図９】本発明の実施例９の液晶表示装置の断面図であ
る。
【図１０】本発明の実施例１０の液晶表示装置の断面図
である。
【図１１】本発明の実施例１１の液晶表示装置の断面図
である。
【図１２】本発明の実施例１２の液晶表示装置の断面図
である。
【図１３】従来の液晶表示装置の断面図である。
【図１４】読取時間の対向基板厚さ依存性を示す図であ
る。
【符号の説明】
１ 下部絶縁性基板 ２ 上部絶縁性基板 ３ ソース・ドレイン電極 ４ ドーピング層 ５ 半導体層 ６ ゲート絶縁膜 ７ ゲート電極 ８ 画素電極 ９ コモン電極 １０ 液晶層 １１ ポリイミド平坦化膜 １２ 光散乱性膜 １３ 光拡散シート １４ 光散乱ガラス基板 １５ ポリイミド絶縁膜 １６ コンタクトホール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−83883（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−104287（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−80327（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−18697（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−89923（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02F 1/1335

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】反射板を有する絶縁性基板と透明電極を有
    する絶縁性基板とで、前記反射板と前記透明電極とが対
    向する形で液晶層を挟み込んだ構造よりなる反射型液晶
    表示装置において、前記透明電極を有する絶縁性基板が
    前記透明電極側の表面全面に凹凸を有するか、または、
    前記透明電極と前記絶縁性基板の間に光散乱性の膜が形
    成されていることを特徴とする反射型液晶表示装置。
  2. 【請求項２】反射板を有する絶縁性基板と透明電極を有
    する絶縁性基板とで、前記反射板と前記透明電極とが対
    向する形で液晶層を挟み込んだ構造よりなる反射型液晶
    表示装置において、前記透明電極を有する絶縁性基板は
    厚さが０．７mm以下で前記透明電極の設けられた面とは
    反対側の表面に凹凸を有するか、または、光散乱性のシ
    ートを張り合わせたことを特徴とする反射型液晶表示装
    置。
  3. 【請求項３】反射板を有する絶縁性基板と透明電極を有
    する絶縁性基板とで、前記反射板と前記透明電極とが対
    向する形で液晶層を挟み込んだ構造よりなる反射型液晶
    表示装置において、前記反射板表面が凹凸を有し、前記
    透明電極を有する絶縁性基板が前記透明電極側の表面に
    凹凸を有するか、または、前記透明電極と前記絶縁性基
    板の間に光散乱性の膜が形成されていることを特徴とす
    る反射型液晶表示装置。
  4. 【請求項４】反射板を有する絶縁性基板と透明電極を有
    する絶縁性基板とで、前記反射板と前記透明電極とが対
    向する形で液晶層を挟み込んだ構造よりなる反射型液晶
    表示装置において、前記透明電極を有する絶縁性基板は
    ポリマーの混入した光散乱ガラス基板からなることを特
    徴とする反射型液晶表示装置。
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