JP2788657B2 - New compound Cornegistin derivative - Google Patents
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Landscapes
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Description
【発明の詳細な説明】 [目的] (産業上の利用分野) 本発明は、優れた、種子の発芽阻害作用、植物の生長
抑制作用及び除草活性を有する新規なコーネギスチン誘
導体に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Purpose] (Industrial application field) The present invention relates to a novel Cornegistin derivative having excellent seed germination inhibitory action, plant growth inhibitory action and herbicidal activity.
(当該発明が解決しようとする課題) 本発明者等は、新規化合物であるコーネギスチン誘導
体の合成及び活性について永年に亘り鋭意研究を行なっ
た結果、本発明の新規な化合物が、優れた、種子の発芽
阻害作用、植物の生長抑制作用及び除草活性を有するこ
とを見出し、本発明を完成した。(Problems to be Solved by the Invention) The present inventors have conducted intensive studies on the synthesis and activity of a new compound, a cornegistin derivative, for many years, and as a result, the novel compound of the present invention was found to be excellent in seed The present invention was found to have a germination inhibitory action, a plant growth inhibitory action and a herbicidal activity, and completed the present invention.
[構成] 本発明の新規なコーネギスチン誘導体は、 (1)一般式 [式中、R1及びR2は、同一又は異なってカルボキシ基又
はカルバモイル基を示すか、一緒になって、一般式 (式中、X、Y及びZは、同一又は異なって、酸素原子
又はイミノ基を示す。)を有する基を示し、 R3及びR6は、同一又は異なって、水酸基、メルカプト
基、アミノ基又はハロゲン原子を示し、 R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子又は水酸基
を示すか、R4とR5が一緒になって、オキソ基又はイミノ
基を示し、 Aは、酸素原子又は単結合を示す。]で表わされる化
合物或いは、その分子内の水酸基、メルカプト基、アミ
ノ基、カルボキシ基、カルバモイル基或いは/並びにイ
ミノ基が保護された誘導体及びそれらの塩であるか、 (2)上記(1)記載の化合物の水酸基又は/及びメル
カプト基の保護基が、下記のA群、B群及びC群より選
択された保護基で保護された化合物であるか、 (3)上記(1)記載の化合物のアミノ基、カルボキシ
基、カルバモイル基或いは/並びにイミノ基の(保護基
が、下記のA群より選択された保護基で保護された化合
物であるか、 (4)一般式 [式中、R1′及びR2′は、同一又は異なって保護されて
いてもよいカルボキシ基又は保護されていてもよいカル
バモイル基を示すか、一緒になって、一般式 (式中、X、Y及びZは、同一又は異なって、酸素原子
又は保護されていてもよいイミノ基を示す。)を有する
基を示し、 R3′及びR6′は、同一又は異なって、保護されていて
もよい水酸基、保護されていてもよいメルカプト基、保
護されていてもよいアミノ基又はハロゲン原子を示し、 R4′及びR5′は、同一又は異なって、水素原子又は保
護されていてもよい水酸基を示すか、R4′とR5′が一緒
になって、オキソ基又は保護されていてもよいイミノ基
を示し、 Aは、酸素原子又は単結合を示す。]で表わされる
か、 (5)一般式 {式中、R1′及びR2′は、同一又は異なって保護されて
いてもよいカルボキシ基(該保護基としては、下記のA
群より選択される基を示す。)又は保護されていてもよ
いカルバモイル基(該保護基としては、下記のA群より
選択される基を示す。)を示すか、一緒になって、 一般式 [式中、X、Y及びZは、同一又は異なって、酸素原子
又は保護されていてもよいイミノ基(該保護基として
は、下記のA群より選択される基を示す。)を示す。]
を有する基を示し、 R3′及びR6′は、同一又は異なって、保護されていて
もよい水酸基(該保護基としては、下記のA群、B群及
びC群より選択される基を示す。)、保護されていても
よいメルカプト基(該保護基としては、下記のA群、B
群及びC群より選択される基を示す。)、保護されてい
てもよいアミノ基(該保護基としては、下記のA群より
選択される基を示す。)又はハロゲン原子を示し、 R4′及びR5′は、同一又は異なって、水素原子又は保
護されていてもよい水酸基(該保護基としては、下記の
A群、B群及びC群より選択される基を示す。)を示す
か、R4′とR5′が一緒になって、オキソ基又は保護され
ていてもよいイミノ基(該保護基としては、下記のA群
より選択される基を示す。)を示し、 Aは、酸素原子又は単結合を示す。}で表わされる。[Constitution] The novel Cornegistin derivative of the present invention has the following general formula (1) [Wherein, R 1 and R 2 are the same or different and represent a carboxy group or a carbamoyl group, or together form a general formula (Wherein X, Y and Z are the same or different and each represent an oxygen atom or an imino group), and R 3 and R 6 are the same or different and are a hydroxyl group, a mercapto group, or an amino group. Or a halogen atom, R 4 and R 5 are the same or different and each represent a hydrogen atom or a hydroxyl group, or R 4 and R 5 together represent an oxo group or an imino group, and A represents an oxygen atom Or a single bond. Or a derivative in which a hydroxyl group, a mercapto group, an amino group, a carboxy group, a carbamoyl group or / and an imino group in the molecule is protected, and a salt thereof, and (2) the above (1). (3) a compound in which the protecting group for the hydroxyl group and / or the mercapto group of the compound of (1) is protected by a protecting group selected from the following groups A, B and C; (4) a compound of the amino group, the carboxy group, the carbamoyl group and / or the imino group in which the protecting group is protected by a protecting group selected from the following group A; [Wherein, R 1 ′ and R 2 ′ are the same or different and each represent a carboxy group which may be protected or an carbamoyl group which may be protected, or together form a general formula (Wherein X, Y and Z are the same or different and each represent an oxygen atom or an imino group which may be protected), and R 3 ′ and R 6 ′ are the same or different. Represents an optionally protected hydroxyl group, an optionally protected mercapto group, an optionally protected amino group or a halogen atom, and R 4 ′ and R 5 ′ are the same or different and are a hydrogen atom or a protected R 4 ′ and R 5 ′ together represent an oxo group or an imino group which may be protected, and A represents an oxygen atom or a single bond. Or (5) general formula In the formula, R 1 ′ and R 2 ′ are the same or different and may be protected carboxy groups (the protecting groups include the following A
Shows a group selected from the group. ) Or a carbamoyl group which may be protected (the protecting group is a group selected from the following group A) or together form a general formula [Wherein, X, Y and Z are the same or different and each represent an oxygen atom or an imino group which may be protected (the protecting group is a group selected from the following group A). ]
R 3 ′ and R 6 ′ are the same or different and each may be a protected hydroxyl group (for the protective group, a group selected from the following group A, group B and group C) ), A mercapto group which may be protected (for the protecting group, the following groups A and B
The group selected from the group and group C is shown. ), An amino group which may be protected (the protecting group is a group selected from the following group A) or a halogen atom, and R 4 ′ and R 5 ′ are the same or different; A hydrogen atom or a hydroxyl group which may be protected (the protecting group is a group selected from the following groups A, B and C), or R 4 ′ and R 5 ′ together Represents an oxo group or an imino group which may be protected (the protecting group is a group selected from the following group A), and A represents an oxygen atom or a single bond. It is represented by}.
但し、[3S*,4R*,7R*]−3−n−プロピル−4,7
−ジヒドロキシ−5−オキソ−8(Z)−エチリデン−
1−シクロノネン−1,2−ジカルボン酸無水物と[3S*,
4R*,7R*]−3−n−プロピル−4,7−ジヒドロキシ−
5−オキソ−8(Z)−エチリデン−1−シクロノネン
−1,2−ジカルボン酸及びこれらの塩を除く。However, [3S * , 4R * , 7R * ]-3-n-propyl-4,7
-Dihydroxy-5-oxo-8 (Z) -ethylidene-
1-cyclononene-1,2-dicarboxylic anhydride and [3S * ,
4R * , 7R * ]-3-n-propyl-4,7-dihydroxy-
Excluding 5-oxo-8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene-1,2-dicarboxylic acid and salts thereof.
A群 低級アルキル基;シリル低級アルキル基;脂肪族アシル
基;芳香族アシル基;低級アルコキシ低級脂肪族アシル
基;アリールオキシ低級脂肪族アシル基;アラルキルカ
ルボニル基;アラルキル基;芳香族アシル低級アルキル
基;ジ置換低級アルコキシホスフィニル基;ジ置換低級
アルコキシチオホスフィニル基;ジ置換低級アルコキシ
ホスフィニル低級アルキル基;ジ置換低級アルコキシチ
オホスフィニル低級アルキル基;低級アルカンスルホニ
ル基;弗素化された低級アルカンスルホニル基;アリー
ルスルホニル基;低級アルカンスルホニル低級アルキル
基;弗素化された低級アルカンスルホニル低級アルキル
基;アリールスルホニル低級アルキル基;アルコキシカ
ルボニル基;アルケニルオキシカルボニル基;アリール
オキシカルボニル基;アラルキルオキシカルボニル基;
低級アルケニル基;低級アルキニル基;低級アルコキシ
低級アルキル基;置換されていてもよいカルバモイル
基;置換されていてもよいアミノスルホニル低級アルキ
ル基;置換されていてもよいスルホンアミド基;カルボ
キシ低級アルキル基;保護されたカルボキシ低級アルキ
ル基. B群 ヘテロアリールカルボニル基;ヘテロアリールチオカル
ボニル基;シリル基. C群 2価の保護基として、オキソメチレン;チオキソメチレ
ン;低級アルキリデン基;アラルキリデン基;アルコキ
シエチリデン基;2価のスルホニル基;2価のホスフィニル
基;2価のチオホスフィニル基;2価のシリル基. 上記式中、 R3及びR6の定義における「ハロゲン原子」とは、弗
素、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子を示す。Group A lower alkyl group; silyl lower alkyl group; aliphatic acyl group; aromatic acyl group; lower alkoxy lower aliphatic acyl group; aryloxy lower aliphatic acyl group; aralkylcarbonyl group; aralkyl group; aromatic acyl lower alkyl group Disubstituted lower alkoxyphosphinyl group; disubstituted lower alkoxythiophosphinyl group; disubstituted lower alkoxyphosphinyl lower alkyl group; disubstituted lower alkoxythiophosphinyl lower alkyl group; lower alkanesulfonyl group; Lower alkanesulfonyl group; arylsulfonyl group; lower alkanesulfonyl lower alkyl group; fluorinated lower alkanesulfonyl lower alkyl group; arylsulfonyl lower alkyl group; alkoxycarbonyl group; alkenyloxycarbonyl group; An aralkyloxycarbonyl group;
Lower alkenyl group; lower alkynyl group; lower alkoxy lower alkyl group; carbamoyl group which may be substituted; aminosulfonyl lower alkyl group which may be substituted; sulfonamide group which may be substituted; carboxy lower alkyl group; Protected carboxy lower alkyl groups. Group B heteroarylcarbonyl group; heteroarylthiocarbonyl group; silyl group. Group C As divalent protecting groups, oxomethylene; thioxomethylene; lower alkylidene group; aralkylidene group; alkoxyethylidene group; divalent sulfonyl group; divalent phosphinyl group; divalent thiophosphinyl group; divalent silyl group . In the above formula, the “halogen atom” in the definition of R 3 and R 6 indicates a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine and iodine.
X、Y及びZが、同一又は異なって示す「イミノ基」
とは、式=NH又は−NH−を示す。"Imino group" wherein X, Y and Z are the same or different
Represents the formula = NH or -NH-.
R4とR5が一緒になって示す「イミノ基」とは、式=NH
を示す。The “imino group” represented by R 4 and R 5 together has the formula: NH
Is shown.
A群の定義における「低級アルキル基」とは、例えば
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、n−ペン
チル、イソペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチ
ル、n−ヘキシル、4−メチルペンチル、3−メチルペ
ンチル、2−メチルペンチル、3,3−ジメチルブチル、
2,2−ジメチルブチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジ
メチルブチル、1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブ
チルのような炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基を示し、好適には炭素数1乃至4個のアルキル基で
ある。The "lower alkyl group" in the definition of Group A includes, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, isopentyl, 2-methylbutyl, neopentyl, n-hexyl, 4-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-methylpentyl, 3,3-dimethylbutyl,
A straight or branched chain having 1 to 6 carbon atoms such as 2,2-dimethylbutyl, 1,1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl Represents an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
A群の定義における「シリル低級アルキル基」とは、
後記「シリル基」が、前記「低級アルキル基」に置換し
た基を示し、例えば、トリメチルシリルメチル基、1−
(トリメチルシリル)エチル基、ジメチルイソプロピル
シリルメチル基を挙げることができる。The “silyl lower alkyl group” in the definition of Group A is
The “silyl group” described below indicates a group substituted by the “lower alkyl group”, for example, a trimethylsilylmethyl group, 1-
Examples thereof include a (trimethylsilyl) ethyl group and a dimethylisopropylsilylmethyl group.
A群の定義における「脂肪族アシル基」とは、置換さ
れていてもよいアルキルカルボニル又は不飽和アルキル
カルボニル基(該置換基は、前記ハロゲン原子又はメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、s−ブトキシ、t−ブトキシ、ペン
トキシ、イソペントキシ、2−メチルブトキシ、ネオペ
ントキシ、ヘキシルオキシ、4−メチルペントキシ、3
−メチルペントキシ、2−メチルペントキシ、3,3−ジ
メチルブトキシ、2,2−ジメチルブトキシ、1,1−ジメチ
ルブトキシ、1,2−ジメチルブトキシ、1,3−ジメチルブ
トキシ、2,3−ジメチルブトキシのような炭素数1乃至
6個の直鎖又は分枝鎖の低級アルコキシ基を示し、好適
には、ハロゲン原子又は炭素数1乃至4個のアルコキシ
基である。)を示し、例えば、ホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、
ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、
ラウロイル、ミリストイル、トリデカノイル、パルミト
イル、ステアロイルのようなアルキルカルボニル基、ク
ロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチルのようなハロゲン化アルキル
カルボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキ
シアルキルカルボニル基、(E)−2−メチル−2−ブ
テノイルのような不飽和アルキルカルボニル基を挙げる
ことができ、好適には、アルキルカルボニル基である。The “aliphatic acyl group” in the definition of Group A is an optionally substituted alkylcarbonyl or unsaturated alkylcarbonyl group (the substituent may be the aforementioned halogen atom or methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy) , S-butoxy, t-butoxy, pentoxy, isopentoxy, 2-methylbutoxy, neopentoxy, hexyloxy, 4-methylpentoxy,
-Methylpentoxy, 2-methylpentoxy, 3,3-dimethylbutoxy, 2,2-dimethylbutoxy, 1,1-dimethylbutoxy, 1,2-dimethylbutoxy, 1,3-dimethylbutoxy, 2,3- It represents a linear or branched lower alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as dimethylbutoxy, and is preferably a halogen atom or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. ), For example, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pentanoyl,
Pivaloyl, valeryl, isovaleryl, octanoyl,
Alkylcarbonyl groups such as lauroyl, myristoyl, tridecanoyl, palmitoyl and stearoyl; halogenated alkylcarbonyl groups such as chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl and trifluoroacetyl; lower alkoxyalkylcarbonyl groups such as methoxyacetyl; ) -2-Methyl-2-butenoyl and the like, and an unsaturated alkylcarbonyl group, such as an alkylcarbonyl group, is preferred.
A群の定義における「芳香族アシル基」とは、アリー
ルカルボニル基を示し、斯かる「アリール基」とは、例
えばフェニル、ナフチルのような炭素数5乃至12個の芳
香族炭化水素基であり、該基は、環上に1乃至4個の下
記より選択される置換基を有していてもよく、該環上の
置換基としては、アミノ基;ニトロ基;シアノ基;前記
低級アルキル、後記ハロゲン化低級アルキル又は後記ア
ラルキルで置換されていてもよいカルボキシ基;カルバ
モイル基;前記ハロゲン原子;前記低級アルキル基;前
記低級アルコキシ基;トリフルオロメチル、トリクロロ
メチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモ
メチル、フルオロメチル、2、2、2−トリクロロエチ
ル、2、2、2−トリフルオロエチル、2−ブロモエチ
ル、2−クロロエチル、2−フルオロエチル、2、2−
ジブロモエチルのようなハロゲン化低級アルキル基;前
記脂肪族アシル基及びメチレンジオキシ、エチレンジオ
キシ、プロピレンジオキシのような炭素数1乃至4個の
アルキレンジオキシ基を挙げることができ、基全体とし
ては、例えば、ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフ
トイルのようなアリールカルボニル基、2−ブロモベン
ゾイル、4−クロロベンゾイルのようなハロゲン化アリ
ールカルボニル基、2,4,6−トリメチルベンゾイル、4
−トルオイルのような低級アルキル化アリールカルボニ
ル基、4−アニソイルのような低級アルコキシ化アリー
ルカルボニル基、4−ニトロベンゾイル、2−ニトロベ
ンゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル基、2−
(メトキシカルボニル)ベンゾイルのような低級アルコ
キシカルボニル化アリールカルボニル基、4−フェニル
ベンゾイルのようなアリール化アリールカルボニル基等
を挙げることができ、好適には、アリールカルボニル基
である。The “aromatic acyl group” in the definition of Group A represents an arylcarbonyl group, and the “aryl group” is an aromatic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms such as phenyl and naphthyl. The group may have 1 to 4 substituents selected from the following on the ring, and the substituent on the ring includes an amino group; a nitro group; a cyano group; A carboxy group optionally substituted with a lower alkyl halide or an aralkyl described below; a carbamoyl group; the halogen atom; the lower alkyl group; the lower alkoxy group; trifluoromethyl, trichloromethyl, difluoromethyl, dichloromethyl, dibromomethyl , Fluoromethyl, 2,2,2-trichloroethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 2-bromoethyl, 2-chloroethyl , 2-fluoroethyl, 2,2
Halogenated lower alkyl groups such as dibromoethyl; the above-mentioned aliphatic acyl groups and alkylenedioxy groups having 1 to 4 carbon atoms such as methylenedioxy, ethylenedioxy and propylenedioxy; Examples thereof include arylcarbonyl groups such as benzoyl, α-naphthoyl and β-naphthoyl, halogenated arylcarbonyl groups such as 2-bromobenzoyl and 4-chlorobenzoyl, 2,4,6-trimethylbenzoyl,
A lower alkylated arylcarbonyl group such as toluoyl, a lower alkoxylated arylcarbonyl group such as 4-anisoyl, a nitrated arylcarbonyl group such as 4-nitrobenzoyl and 2-nitrobenzoyl,
A lower alkoxycarbonylated arylcarbonyl group such as (methoxycarbonyl) benzoyl, an arylated arylcarbonyl group such as 4-phenylbenzoyl and the like can be mentioned, and an arylcarbonyl group is preferable.
A群の定義における「低級アルコキシ脂肪族アシル
基」とは、前記「低級アルコキシ基」が前記「脂肪族ア
シル基」に置換した基を示し、例えば、メトキシアセチ
ル基、メトキシプロピオニル基、エトキシブチリル基を
挙げることができる。The term "lower alkoxyaliphatic acyl group" in the definition of Group A refers to a group in which the "lower alkoxy group" has been substituted by the "aliphatic acyl group", for example, methoxyacetyl, methoxypropionyl, ethoxybutyryl. Groups.
A群の定義における「アリールオキシ脂肪族アシル
基」とは、前記「アリール基」が酸素原子と結合した
「アリールオキシ基」が酸素原子で、前記「脂肪族アシ
ル基」に置換した基を示し、例えば、フェノキシアセチ
ル基、2,4−ジクロロフェノキシアセチル基、フェノキ
シプロピオニル基、ナフチルオキシブチリル基を挙げる
ことができる。The “aryloxyaliphatic acyl group” in the definition of Group A refers to a group in which the “aryloxy group” in which the “aryl group” is bonded to an oxygen atom is an oxygen atom and is substituted by the “aliphatic acyl group”. Examples thereof include a phenoxyacetyl group, a 2,4-dichlorophenoxyacetyl group, a phenoxypropionyl group, and a naphthyloxybutyryl group.
A群の定義における「アラルキル基」とは、前記「ア
リール基」が前記「低級アルキル基」に置換した基を示
し、例えば、ベンジル基、4−メトキシベンジル基、3,
4−ジメトキシベンジル基、フェネチル基、フェニルプ
ロピル基、ジフェニルメチル基を挙げることができる。The “aralkyl group” in the definition of Group A indicates a group in which the “aryl group” has been substituted with the “lower alkyl group”, for example, a benzyl group, a 4-methoxybenzyl group,
Examples thereof include a 4-dimethoxybenzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, and a diphenylmethyl group.
A群の定義における「アラルキルカルボニル基」と
は、上記「アラルキル基」がカルボニル基に置換した基
を示し、例えば、フェニルアセチル基、フェニルプロピ
オニル基、フェニルブチリル基を挙げることができる。The “aralkylcarbonyl group” in the definition of Group A indicates a group in which the above “aralkyl group” has been substituted with a carbonyl group, and examples thereof include a phenylacetyl group, a phenylpropionyl group, and a phenylbutyryl group.
A群の定義における「芳香族アシル低級アルキル基」
とは、前記「芳香族アシル基」が前記「低級アルキル
基」に置換した基を示し、例えば、ベンゾイルメチル
基、4−ブロモベンゾイルメチル基、4−トルオイルメ
チル基、ベンゾイルエチル基を挙げることができる。"Aromatic acyl lower alkyl group" in the definition of Group A
Means a group in which the "aromatic acyl group" is substituted with the "lower alkyl group", and examples thereof include a benzoylmethyl group, a 4-bromobenzoylmethyl group, a 4-toluoylmethyl group, and a benzoylethyl group. Can be.
A群の定義における「ジ置換低級アルコキシホスフィ
ニル基」とは、前記「低級アルコキシ基」が2分子、ホ
スフィニル基に置換している基を示し、例えば、ジメト
キシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基、メト
キシエトキシホスフィニル基、ジプロポキシホスフィニ
ル基、メトキシプロポキシホスフィニル基のような基を
挙げることができる。The term “di-substituted lower alkoxyphosphinyl group” in the definition of Group A refers to a group in which two molecules of the “lower alkoxy group” are substituted by a phosphinyl group, for example, a dimethoxyphosphinyl group, a diethoxyphosphonyl group. Groups such as a finyl group, a methoxyethoxyphosphinyl group, a dipropoxyphosphinyl group, and a methoxypropoxyphosphinyl group can be exemplified.
A群の定義における「ジ置換低級アルコキシチオホス
フィニル基」とは、前記「低級アルコキシ基」が2分
子、チオホスフィニル基に置換している基を示し、例え
ば、ジメトキシチオホスフィニル基、ジエトキシチオホ
スフィニル基、メトキシエトキシチオホスフィニル基、
ジプロポキシチオホスフィニル基、メトキシプロポキシ
チオホスフィニル基のような基を挙げることができる。The term "di-substituted lower alkoxythiophosphinyl group" in the definition of Group A refers to a group in which two molecules of the above "lower alkoxy group" are substituted by a thiophosphinyl group, such as a dimethoxythiophosphinyl group, Ethoxythiophosphinyl group, methoxyethoxythiophosphinyl group,
Groups such as a dipropoxythiophosphinyl group and a methoxypropoxythiophosphinyl group can be exemplified.
A群の定義における「ジ置換低級アルコキシホスフィ
ニル低級アルキル基」とは、前記「ジ置換低級アルコキ
シホスフィニル基」が前記「低級アルキル基」に置換し
ている基を示し、例えば、ジメトキシホスフィニルメチ
ル基、ジエトキシホスフィニルメチル基、メトキシエト
キシホスフィニルエチル基、ジプロポキシホスフィニル
エチル基、メトキシプロポキシホスフィニルメチル基の
ような基を挙げることができる。The “disubstituted lower alkoxyphosphinyl lower alkyl group” in the definition of Group A refers to a group in which the “disubstituted lower alkoxyphosphinyl group” is substituted with the “lower alkyl group”. Examples include a phosphinylmethyl group, a diethoxyphosphinylmethyl group, a methoxyethoxyphosphinylethyl group, a dipropoxyphosphinylethyl group, and a methoxypropoxyphosphinylmethyl group.
A群の定義における「ジ置換低級アルコキシチオホス
フィニル低級アルキル基」とは、前記「ジ置換低級アル
コキシチオホスフィニル基」が前記「低級アルキル基」
に置換している基を示し、例えば、ジメトキシチオホス
フィニルメチル基、ジエトキシチオホスフィニルメチル
基、メトキシエトキシチオホスフィニルエチル基、ジプ
ロポキシチオホスフィニルエチル基、メトキシプロポキ
シチオホスフィニルメチル基のような基を挙げることが
できる。The “disubstituted lower alkoxythiophosphinyl lower alkyl group” in the definition of Group A means that the “disubstituted lower alkoxythiophosphinyl group” is the “lower alkyl group”
And represents, for example, a dimethoxythiophosphinylmethyl group, a diethoxythiophosphinylmethyl group, a methoxyethoxythiophosphinylethyl group, a dipropoxythiophosphinylethyl group, a methoxypropoxythiophospho group. Groups such as a finylmethyl group can be mentioned.
A群の定義における「低級アルカンスルホニル基」と
は、前記「低級アルキル基」がスルホニル基に置換した
基を示し、例えば、メタンスルホニル基、エタンスルホ
ニル基、1−プロパンスルホニル基のような基を挙げる
ことができる。The term "lower alkanesulfonyl group" in the definition of Group A refers to a group in which the aforementioned "lower alkyl group" has been substituted with a sulfonyl group. Can be mentioned.
A群の定義における「弗素化された低級アルカンスル
ホニル基」とは、上記「低級アルカンスルホニル基」の
低級アルカン部分が弗素で置換された基を示し、例え
ば、トリフルオロエタンスルホニル基、ペンタフルオロ
エタンスルホニル基のような基を挙げることができる。The term “fluorinated lower alkanesulfonyl group” in the definition of Group A refers to a group in which the lower alkane part of the above “lower alkanesulfonyl group” is substituted with fluorine, for example, trifluoroethanesulfonyl group, pentafluoroethane Groups such as a sulfonyl group can be mentioned.
A群の定義における「アリールスルホニル基」とは、
前記「アリール基」がスルホニル基に置換した基を示
し、例えば、ベンゼンスルホニル基、p−トルエンスル
ホニル基のような基を挙げることができる。The “arylsulfonyl group” in the definition of Group A is
The "aryl group" represents a group substituted by a sulfonyl group, and examples thereof include groups such as a benzenesulfonyl group and a p-toluenesulfonyl group.
A群の定義における「低級アルカンスルホニル低級ア
ルキル基」とは、前記「低級アルカンスルホニル基」が
「低級アルキル基」に置換した基を示し、例えば、メタ
ンスルホニルメチル基、エタンスルホニルメチル基、1
−プロパンスルホニルメチル基、メタンスルホニルエチ
ル基、エタンスルホニルエチル基、1−プロパンスルホ
ニルエチル基のような基を挙げることができる。The term “lower alkanesulfonyl lower alkyl group” in the definition of Group A refers to a group in which the above “lower alkane sulfonyl group” has been substituted with a “lower alkyl group”, for example, methanesulfonylmethyl group, ethanesulfonylmethyl group,
And groups such as -propanesulfonylmethyl group, methanesulfonylethyl group, ethanesulfonylethyl group and 1-propanesulfonylethyl group.
A群の定義における「弗素化された低級アルカンスル
ホニル低級アルキル基」とは、前記「弗素化された低級
アルカンスルホニル基」が前記「低級アルキル基」に置
換した基を示し、例えば、トリフルオロメタンスルホニ
ルメチル基、ペンタフルオロメタンスルホニルメチル
基、トリフルオロメタンスルホニルエチル基、ペンタフ
ルオロエタンスルホニルエチル基のような基を挙げるこ
とができる。The “fluorinated lower alkanesulfonyl lower alkyl group” in the definition of Group A refers to a group in which the “fluorinated lower alkanesulfonyl group” is substituted with the “lower alkyl group”, for example, trifluoromethanesulfonyl Examples of such groups include a methyl group, a pentafluoromethanesulfonylmethyl group, a trifluoromethanesulfonylethyl group, and a pentafluoroethanesulfonylethyl group.
A群の定義における「アリールスルホニル低級アルキ
ル基」とは、前記「アリールスルホニル基」が前記「低
級アルキル基」に置換した基を示し、例えば、ベンゼン
スルホニルメチル基、p−トルエンスルホニルメチル
基、ベンゼンスルホニルエチル基、p−トルエンスルホ
ニルエチル基のような基を挙げることができる。The “arylsulfonyl lower alkyl group” in the definition of Group A refers to a group in which the “arylsulfonyl group” has been substituted with the “lower alkyl group”, for example, benzenesulfonylmethyl group, p-toluenesulfonylmethyl group, benzene Groups such as a sulfonylethyl group and a p-toluenesulfonylethyl group can be exemplified.
A群の定義における「アルコキシカルボニル基」と
は、前記「低級アルコキシ基」がカルボニル基に置換し
た基を示し、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、イソブトキ
シカルボニル基のような基を挙げることができる。The term "alkoxycarbonyl group" in the definition of Group A refers to a group in which the above "lower alkoxy group" has been substituted with a carbonyl group, for example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a t-butoxycarbonyl group, an isobutoxycarbonyl group. Such groups can be mentioned.
A群の定義における「アルケニルオキシカルボニル
基」とは、後記「低級アルケニル基」がオキシカルボニ
ル基に置換した基を示し、例えば、ビニルオキシカルボ
ニル基、アリルオキシカルボニル基のような炭素数3乃
至7個のアルケニルオキシカルボニル基を挙げることが
できる。The term “alkenyloxycarbonyl group” in the definition of Group A refers to a group in which the “lower alkenyl group” described below is substituted with an oxycarbonyl group, for example, having 3 to 7 carbon atoms such as vinyloxycarbonyl group and allyloxycarbonyl group. Alkenyloxycarbonyl groups.
A群の定義における「アリールオキシカルボニル基」
とは、前記「アリール基」がオキシカルボニル基に置換
した基を示し、例えば、フェノキシカルボニル基、ナフ
チルオキシカルボニル基、p−クロルフェノキシカルボ
ニル基のような基を挙げることができる。“Aryloxycarbonyl group” in the definition of Group A
"" Means a group in which the above "aryl group" is substituted with an oxycarbonyl group, and examples thereof include groups such as a phenoxycarbonyl group, a naphthyloxycarbonyl group and a p-chlorophenoxycarbonyl group.
A群の定義における「アラルキルオキシカルボニル
基」とは、前記「アラルキル基」がオキシカルボニル基
に置換した基を示し、例えば、ベンジルオキシカルボニ
ル基、4−メトキシベンジルオキシカルボニル基、3,4
−ジメトキシベンジルオキシカルボニル基、2−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル基、4−ニトロベンジルオキ
シカルボニル基のような基を挙げることができる。The “aralkyloxycarbonyl group” in the definition of Group A refers to a group in which the “aralkyl group” has been substituted with an oxycarbonyl group, for example, benzyloxycarbonyl group, 4-methoxybenzyloxycarbonyl group, 3,4
Groups such as a -dimethoxybenzyloxycarbonyl group, a 2-nitrobenzyloxycarbonyl group, and a 4-nitrobenzyloxycarbonyl group.
A群の定義における「低級アルケニル基」とは、ビニ
ル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、1−プロペニ
ル基、2−プロペニル基のような二重結合を少なくとも
一つ、低級アルキル基の分子内に有する基を示す。The term "lower alkenyl group" in the definition of Group A means at least one double bond such as vinyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 1-propenyl group and 2-propenyl group, Shows a group contained in the molecule.
A群の定義における「低級アルキニル基」とは、1−
ブチニル基、2−ブチニル基、1−プロピニル基、2−
プロピニル基のような三重結合を少なくとも一つ、低級
アルキル基の分子内に有する基を示す。The “lower alkynyl group” in the definition of Group A is 1-
Butynyl group, 2-butynyl group, 1-propynyl group, 2-
A group having at least one triple bond such as a propynyl group in the molecule of a lower alkyl group.
A群の定義における「低級アルコキシ低級アルキル
基」とは、前記「低級アルコキシ基」が「低級アルキル
基」に置換した基を示し、例えば、メトキシメチル基、
1,1−ジメチル−1−メトキシメチル基、エトキシメチ
ル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、
ブトキシメチル基、t−ブトキシメチル基、1−エトキ
シエチル基、1−(イソプロポキシ)エチル基のような
基を挙げることができる。The “lower alkoxy lower alkyl group” in the definition of Group A refers to a group in which the “lower alkoxy group” has been substituted with a “lower alkyl group”, for example, a methoxymethyl group,
1,1-dimethyl-1-methoxymethyl group, ethoxymethyl group, propoxymethyl group, isopropoxymethyl group,
Examples include groups such as a butoxymethyl group, a t-butoxymethyl group, a 1-ethoxyethyl group, and a 1- (isopropoxy) ethyl group.
A群の定義における「ピラニル基」とは、2−テトラ
ヒドロピラニル基、3−ブロモテトラヒドロピラニル基
のような3−ハロゲノテトラヒドロピラニル基、2−テ
トラヒドロチオピラニル基、4−メトキシテトラヒドロ
ピラニル基のような4−低級アルコキシテトラヒドロピ
ラニル基、4−メトキシテトラヒドロチオピラニル基の
ような4−低級アルコキシテトラヒドロチオピラニル基
等の基を挙げることができる。The “pyranyl group” in the definition of Group A is a 3-halogenotetrahydropyranyl group such as a 2-tetrahydropyranyl group or a 3-bromotetrahydropyranyl group, a 2-tetrahydrothiopyranyl group, or a 4-methoxytetrahydropyranyl group. Groups such as a 4-lower alkoxytetrahydropyranyl group such as a methyl group and a 4-lower alkoxytetrahydrothiopyranyl group such as a 4-methoxytetrahydrothiopyranyl group.
A群の定義における「フラニル基」とは、2−テトラ
ヒドロフラニル基、2−テトラヒドロチオフラニル基等
の基を挙げることができる。The “furanyl group” in the definition of Group A includes groups such as a 2-tetrahydrofuranyl group and a 2-tetrahydrothiofuranyl group.
A群の定義における「置換されていてもよいカルバモ
イル基」とは、下記の置換基がカルバモイル基に1乃至
2個置換していてもよい基を示し、該置換基としては、
前記「低級アルキル基」、前記「低級アルケニル基」、
前記「低級アルキニル基」、前記「低級アルコキシ
基」、前記「アラルキルオキシ基」又は前記「アリール
基」をあげることができる。The “optionally substituted carbamoyl group” in the definition of Group A indicates a group in which one or two carbamoyl groups may be substituted with the following substituents.
The "lower alkyl group", the "lower alkenyl group",
The “lower alkynyl group”, the “lower alkoxy group”, the “aralkyloxy group” or the “aryl group” can be exemplified.
A群の定義における「置換されていてもよいアミノス
ルホニル低級アルキル基」とは、アミノスルホニルメチ
ル基、アミノスルホニルエチル基、アミノスルホニルプ
ロピル基、アミノスルホニルブチル基、アミノスルホニ
ルペンチル基、アミノスルホニルヘキシル基のような
「アミノスルホニル低級アルキル基」のアミノ基に上記
「置換されていてもよいカルバモイル基」の定義に記載
した置換基が同様に置換した基を示す。The “aminosulfonyl lower alkyl group which may be substituted” in the definition of Group A is an aminosulfonylmethyl group, an aminosulfonylethyl group, an aminosulfonylpropyl group, an aminosulfonylbutyl group, an aminosulfonylpentyl group, an aminosulfonylhexyl group And the like, the amino group of "aminosulfonyl lower alkyl group" is substituted with the substituent described in the definition of "carbamoyl group which may be substituted".
A群の定義における「置換されていてもよいスルホン
アミド基」とは、「スルホンアミド基」の窒素原子に上
記「置換されていてもよいカルバモイル基」の定義に記
載した置換基が同様に置換した基を示す。The “optionally substituted sulfonamido group” in the definition of Group A is the same as the “substituted carbamoyl group” described above in that the nitrogen atom of the “sulfonamido group” is substituted. The following groups are shown.
A群の定義における「カルボキシ低級アルキル基」と
は、カルボキシ基が前記「低級アルキル基」に置換した
基を示し、例えば、カルボキシメチル基、カルボキシエ
チル基、カルボキシプロピル基、カルボキシブチル基、
カルボキシペンチル基、カルボキシヘキシル基を挙げる
ことができる。The term "carboxy lower alkyl group" in the definition of Group A refers to a group in which a carboxy group is substituted with the above "lower alkyl group", for example, carboxymethyl group, carboxyethyl group, carboxypropyl group, carboxybutyl group,
Examples include a carboxypentyl group and a carboxyhexyl group.
A群の定義における「保護されたカルボキシ低級アル
キル基」とは、上記「カルボキシ低級アルキル基」のカ
ルボキシ基が下記保護基で保護された基を示し、該保護
基としては、前記「低級アルキル基」、前記「ハロゲノ
低級アルキル基」、前記「アラルキル基」、前記「低級
アルコキシ低級アルキル基」、アセトキシメチル基、プ
ロピオニルオキシメチル基、ブチリルオキシメチル基、
ピバロイルオキシメチル基のような脂肪族アシルオキシ
メチル基又は1−メトキシカルボニルオキシエチル基、
1−エトキシカルボニルオキシエチル基、1−プロポキ
シカルボニルオキシエチル基、1−イソプロポキシカル
ボニルオキシエチル基、1−ブトキシカルボニルオキシ
エチル基、1−イソブトキシカルボニルオキシエチル
基、1−シクロヘキシルオキシカルボニルオキシエチル
基のような1−低級アルコキシカルボニルオキシエチル
基を示す。The term "protected carboxy lower alkyl group" in the definition of Group A refers to a group in which the carboxy group of the above "carboxy lower alkyl group" is protected by the following protecting group, and the protecting group includes the aforementioned "lower alkyl group"",The" halogeno lower alkyl group ", the" aralkyl group ", the" lower alkoxy lower alkyl group ", an acetoxymethyl group, a propionyloxymethyl group, a butyryloxymethyl group,
Aliphatic acyloxymethyl group such as pivaloyloxymethyl group or 1-methoxycarbonyloxyethyl group,
1-ethoxycarbonyloxyethyl group, 1-propoxycarbonyloxyethyl group, 1-isopropoxycarbonyloxyethyl group, 1-butoxycarbonyloxyethyl group, 1-isobutoxycarbonyloxyethyl group, 1-cyclohexyloxycarbonyloxyethyl group And a 1-lower alkoxycarbonyloxyethyl group.
B群の定義における「ヘテロアリールカルボニル基」
とは、「ヘテロアリール基」がカルボニル基に置換した
基を示し、該「ヘテロアリール基」とは、硫黄原子、酸
素原子又は/及び窒素原子を1乃至3個含む5乃至7員
芳香複素環基を示し、例えばフリル基、チエニル基、ピ
ラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、イソキ
サゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、1,2,3
−オキサジアゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル
基、チアジアゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、
ピリミジニル基、キノリル基、イソキノリル基を挙げる
ことができ、好適には、窒素原子を少なくとも1個含
み、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい5乃至7
員複素環基を示し、例えば、ピラゾリル基、イミダゾリ
ル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、チアゾリル
基、イソチアゾリル基、1,2,3−オキサジアゾリル基、
トリアゾリル基、テトラゾリル基、チアジアゾリル基、
ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジ
ニル基、キノリル基、イソキノリル基を挙げることがで
きる。"Heteroarylcarbonyl group" in the definition of Group B
Is a group in which a “heteroaryl group” is substituted with a carbonyl group, and the “heteroaryl group” is a 5- to 7-membered aromatic heterocyclic ring containing 1 to 3 sulfur atoms, oxygen atoms and / or nitrogen atoms. A group such as furyl, thienyl, pyrazolyl, imidazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, 1,2,3
-Oxadiazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, thiadiazolyl group, pyridyl group, pyridazinyl group,
Examples thereof include a pyrimidinyl group, a quinolyl group, and an isoquinolyl group, which preferably contain at least one nitrogen atom and may contain an oxygen atom or a sulfur atom.
A membered heterocyclic group, for example, a pyrazolyl group, an imidazolyl group, an oxazolyl group, an isoxazolyl group, a thiazolyl group, an isothiazolyl group, a 1,2,3-oxadiazolyl group,
Triazolyl group, tetrazolyl group, thiadiazolyl group,
Examples include a pyridyl group, a pyridazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrazinyl group, a quinolyl group, and an isoquinolyl group.
B群の定義における「ヘテロアリールチオカルボニル
基」とは、上記「ヘテロアリールカルボニル基」のカル
ボニル基がチオカルボニル基になった基と同様の基を示
す。The “heteroarylthiocarbonyl group” in the definition of Group B represents the same group as the above-mentioned “heteroarylcarbonyl group” in which the carbonyl group has become a thiocarbonyl group.
B群の定義における「シリル基」とは、珪素原子で結
合する基であればよいが、例えば、トリメチルシリル、
トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、t−
ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、
メチルジ−t−ブチルシリル、トリイソプロピルシリル
のようなトリ低級アルキルシリル基;ジフェニルメチル
シリル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロ
ピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのような1
乃至2個のアリール基で置換されたトリ低級アルキルシ
リル基;クロロメチルジメチルシリル、クロロメチルジ
イソプロピルシリル、ジ(クロロメチル)メチルシリル
のような1乃至2個のハロゲン原子で置換されたトリ低
級アルキルシリル基;アリルジメチルシリル、ビニルジ
メチルシリルのようなアルケニル基で置換されたトリ低
級アルキルシリル基を挙げることができる。The “silyl group” in the definition of Group B may be any group bonded by a silicon atom, and includes, for example, trimethylsilyl,
Triethylsilyl, isopropyldimethylsilyl, t-
Butyldimethylsilyl, methyldiisopropylsilyl,
Tri-lower alkylsilyl groups such as methyldi-t-butylsilyl and triisopropylsilyl; 1 such as diphenylmethylsilyl, diphenylbutylsilyl, diphenylisopropylsilyl and phenyldiisopropylsilyl
Tri-lower alkylsilyl groups substituted with 1 to 2 aryl groups; tri-lower alkylsilyl groups substituted with 1 to 2 halogen atoms such as chloromethyldimethylsilyl, chloromethyldiisopropylsilyl, di (chloromethyl) methylsilyl Groups; tri-lower alkylsilyl groups substituted with alkenyl groups such as allyldimethylsilyl and vinyldimethylsilyl.
C群の定義における「低級アルキリデン基」とは、例
えば、メチリデン、エチリデン、イソプロピリデンのよ
うな基を挙げることができる。The “lower alkylidene group” in the definition of Group C includes, for example, groups such as methylidene, ethylidene and isopropylidene.
C群の定義における「アラルキリデン基」とは、例え
ば、ベンジリデン基を挙げることができる。The “aralkylidene group” in the definition of Group C includes, for example, a benzylidene group.
C群の定義における「アルコキシエチリデン基」と
は、例えば、メトキシエチリデン、エトキシエチリデン
基を挙げることができる。The “alkoxyethylidene group” in the definition of Group C includes, for example, methoxyethylidene and ethoxyethylidene groups.
C群の定義における「2価のスルホニル基」とは、式
−SO2−を有する基を示す。The “divalent sulfonyl group” in the definition of Group C indicates a group having the formula —SO 2 —.
C群の定義における「2価のホスフィニル基」とは、
例えば、メチルホスフィニルのような「低級アルキル」
ホスフィニル基[−P(=0)(低級アルキル)−]、
メトキシホスフィニルのような「低級アルコキシ」ホス
フィニル基[−P(=0)(低級アルコキシ)−]、フ
ェニルホスフィニルのような[アリール」ホスフィニル
基[−P(=0)(アリール)−]、フェノキシホスフ
ィニルのような「アリール」オキシホスフィニル基[−
P(=0)(アリールオキシ)−]等の基を挙げること
ができる。The “divalent phosphinyl group” in the definition of Group C is
For example, "lower alkyl" such as methylphosphinyl
A phosphinyl group [-P (= 0) (lower alkyl)-],
A "lower alkoxy" phosphinyl group [-P (= 0) (lower alkoxy)-] such as methoxyphosphinyl; an [aryl] phosphinyl group [-P (= 0) (aryl)-such as phenylphosphinyl; ], An "aryl" oxyphosphinyl group such as phenoxyphosphinyl [-
P (= 0) (aryloxy)-] and the like.
C群の定義における「2価のチオホスフィニル基」と
は、例えば、メチルチオホスフィニルのような「低級ア
ルキル」チオホスフィニル基[−P(=S)(低級アル
キル)−]、メトキシチオホスフィニルのような「低級
アルコキシ」チオホスフィニル基[−P(=S)(低級
アルコキシ)−]、フェニルチオホスフィニルのような
「アリール」チオホスフィニル基[−P(=S)(アリ
ール)−]、フェノキシチオホスフィニルのような「ア
リール」オキシチオホスフィニル基[−P(=S)(ア
リールオキシ)−]等の基を挙げることができる。The “divalent thiophosphinyl group” in the definition of Group C is, for example, a “lower alkyl” thiophosphinyl group such as methylthiophosphinyl [—P (= S) (lower alkyl) —], methoxythiophosphinyl Such as "lower alkoxy" thiophosphinyl group [-P (= S) (lower alkoxy)-], "aryl" thiophosphinyl group such as phenylthiophosphinyl [-P (= S) (aryl)-], phenoxythio Groups such as "aryl" oxythiophosphinyl groups such as phosphinyl [-P (= S) (aryloxy)-] can be mentioned.
C群の定義における「2価のシリル基」とは、例え
ば、ジメチルシリルのようなジ「低級アルキル」シリル
基[−Si(低級アルキル)(低級アルキル)−]、フェ
ニルメチルシリルのような「アリール」「低級アルキ
ル」シリル基[−Si(アリール)(低級アルキル)
−]、ジフェニルシリルのようなジ「アリール」シリル
基[−Si(アリール)(アリール)−]、ジメトキシシ
リルのようなジ「低級アルコキシ」シリル基[−Si(低
級アルコキシ)(低級アルコキシ)−]等の基を挙げる
ことができる。The “divalent silyl group” in the definition of Group C includes, for example, di “lower alkyl” silyl groups such as dimethylsilyl [—Si (lower alkyl) (lower alkyl) —] and “phenylmethylsilyl” such as phenylmethylsilyl. Aryl, lower alkyl, silyl group [-Si (aryl) (lower alkyl)
-], Di "aryl" silyl groups such as diphenylsilyl [-Si (aryl) (aryl)-], di "lower alkoxy" silyl groups such as dimethoxysilyl [-Si (lower alkoxy) (lower alkoxy)- And the like.
R1′及びR2′の定義における「保護されていてもよい
カルボキシ基」とは、反応において、又はプロドラッグ
として、通常使用されるカルボキシ基の保護基で、保護
されていてもよいカルボキシ基を示し、かかる保護基と
して、好適には、前記A群より選択される基である。The “optionally protected carboxy group” in the definition of R 1 ′ and R 2 ′ is a carboxy group which may be protected by a carboxy group protecting group commonly used in a reaction or as a prodrug. And the protecting group is preferably a group selected from the group A.
R1′及びR2′の定義における「保護されていてもよい
カルバモイル基」とは、反応において、又はプロドラッ
グとして、通常使用されるカルバモイル基の保護基で、
保護されていてもよいカルバモイル基を示し、かかる保
護基として、好適には、前記A群より選択される基であ
る。The `` carbamoyl group which may be protected '' in the definition of R 1 ′ and R 2 ′ is a protecting group for a carbamoyl group usually used in a reaction or as a prodrug,
It represents a carbamoyl group which may be protected, and the protecting group is preferably a group selected from the group A.
X、Y及びZの定義における「保護されていてもよい
イミノ基」とは、反応において、又はプロドラッグとし
て、通常使用されるイミノ基の保護基で、保護されてい
てもよいイミノ基を示し、かかる保護基として、好適に
は、前記A群より選択される基である。The "optionally protected imino group" in the definition of X, Y and Z indicates an imino group which may be protected by a protecting group for an imino group commonly used in a reaction or as a prodrug. The protecting group is preferably a group selected from the group A.
R3′、R4′、R5′及びR6′の定義における「保護され
ていてもよい水酸基」とは、反応において、又はプロド
ラッグとして、通常使用される水酸基の保護基で、保護
されていてもよい水酸基を示し、かかる保護基として、
好適には、前記A群、B群及びC群より選択される基で
ある。The “optionally protected hydroxyl group” in the definition of R 3 ′, R 4 ′, R 5 ′ and R 6 ′ is a protected hydroxyl group commonly used in a reaction or as a prodrug. Represents a hydroxyl group which may be, as such a protecting group,
Preferably, it is a group selected from the groups A, B and C.
R3′及びR6′の定義における「保護されていてもよい
メルカプト基」とは、反応において、又はプロドラッグ
として、通常使用されるメルカプト基の保護基で、保護
されていてもよいメルカプト基を示し、かかる保護基と
して、好適には、前記A群、B群及びC群より選択され
る基である。The “optionally protected mercapto group” in the definition of R 3 ′ and R 6 ′ is a mercapto group which may be protected by a mercapto group-protecting group commonly used in a reaction or as a prodrug. And the protecting group is preferably a group selected from the above-mentioned groups A, B and C.
R3′及びR6′の定義における「保護されていてもよい
アミノ基」とは、反応において、又はプロドラッグとし
て、通常使用されるアミノ基の保護基で、保護されてい
てもよいアミノ基を示し、かかる保護基として、好適に
は、前記A群より選択される基である。The “optionally protected amino group” in the definition of R 3 ′ and R 6 ′ refers to an amino group which may be protected by a protecting group for an amino group usually used in a reaction or as a prodrug. And the protecting group is preferably a group selected from the group A.
R4′とR5′が一緒になって示す「保護されていてもよ
いイミノ基」とは、反応において、又はプロドラッグと
して、通常使用されるイミノ基の保護基で、保護されて
いてもよいイミノ基を示し、かかる保護基として、好適
には、前記A群より選択される基である。The `` optionally protected imino group '' represented by R 4 ′ and R 5 ′ together may be an imino group which may be protected by a protecting group for an imino group commonly used in a reaction or as a prodrug. It shows a good imino group, and such a protecting group is preferably a group selected from the group A.
尚、記号*によって示された立体表示は、相対構造の
一方のエナンチオマーを示すものとし、例えば、[3
S*,4R*,7R*]という表示は、[3S,4R,7R]という絶
対構造を有する化合物か、又は[3R,4S,7S]という絶対
構造を有する化合物のどちらか一方の光学活性なエナン
チオマーを示すものとする。これは、本願発明の原料化
合物である、天然から得られたコーネギスチンの絶対構
造が未定のためであり、本願において、[3S*,4R*,7R
*]と記載した化合物は、天然のコーネギスチンと同一
の絶対構造を有する化合物を示すものとする。Note that the stereoscopic display indicated by the symbol * indicates one enantiomer of the relative structure, for example, [3
The notation [S * , 4R * , 7R * ] means that either the compound having the absolute structure of [3S, 4R, 7R] or the compound having the absolute structure of [3R, 4S, 7S] is an optically active compound. It shall indicate the enantiomer. This is because the absolute structure of cornegistin obtained from nature, which is the raw material compound of the present invention, has not been determined yet. In the present application, [3S * , 4R * , 7R
* ] Indicates that the compound has the same absolute structure as natural Cornegistin.
本発明の化合物は、塩にすることができるが、そのよ
うな塩としては、好適にはナトリウム塩、カリウム塩又
はカルシウム塩のようなアルカリ金属又はアルカリ土類
金属の塩;アンモニウム塩;メチルアミン塩、ジエチル
アミン塩のような脂肪族アミン塩;アニリン塩のような
芳香族アミン塩;弗化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸
塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸塩、硝酸
塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩;メタン
スルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタ
ンスルホン酸塩のような低級アルキルスルホン酸塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩のよう
なアリールスルホン酸塩、フマール酸塩、コハク酸塩、
クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有機
酸塩及びグルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなア
ミノ酸塩をあげることができる。The compounds of the present invention may be in the form of a salt, preferably a salt of an alkali metal or alkaline earth metal such as a sodium, potassium or calcium salt; an ammonium salt; Salts, aliphatic amine salts such as diethylamine salt; aromatic amine salts such as aniline salt; hydrohalide salts such as hydrofluoride, hydrochloride, hydrobromide, hydroiodide , Nitrates, perchlorates, sulfates, phosphates and other inorganic salts; lower alkylsulfonates such as methanesulfonate, trifluoromethanesulfonate and ethanesulfonate; benzenesulfonate; Aryl sulfonates such as toluene sulfonate, fumarate, succinate,
Organic salts such as citrate, tartrate, oxalate and maleate and amino acid salts such as glutamate and aspartate can be mentioned.
本発明の化合物は、分子内に不斉炭素を有し、各々が
S配位、R配位である立体異性体が存在するが、その各
々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明に包含され
る。The compound of the present invention has an asymmetric carbon in the molecule, and there are stereoisomers each having S-coordinate and R-coordinate, and each of them or a mixture thereof is included in the present invention. You.
本願化合物において、好適な化合物としては、 (1)立体配位が、[3S*,4R*,7R*]の化合物。Among the compounds of the present application, preferred compounds include: (1) a compound whose steric configuration is [3S * , 4R * , 7R * ].
(2)Aが単結合を示す場合に、8位がZである化合
物。(2) A compound wherein 8-position is Z when A represents a single bond.
(3)一般式(I)において、R1及びR2が、同一又は異
なって、カルボキシ基である化合物。(3) The compound in the formula (I), wherein R 1 and R 2 are the same or different and each is a carboxy group.
(4)一般式(I)において、R1及びR2が一緒に成っ
て、一般式 [式中、X、Y及びZが酸素原子を示す。]を有する基
である化合物。(4) In the general formula (I), R 1 and R 2 are taken together to form a general formula [In the formula, X, Y and Z each represent an oxygen atom. ] The compound which is a group which has this.
(5)一般式(II)において、R1′及びR2′が、同一又
は異なって、保護されていてもよいカルボキシ基である
化合物。(5) The compound in the formula (II), wherein R 1 ′ and R 2 ′ are the same or different and each is an optionally protected carboxy group.
(6)一般式(II)において、R1′又はR2′の一方が、
カルボキシ基又はカルバモイル基であり、他方が、保護
されたカルボキシ基である化合物。(6) In the general formula (II), one of R 1 ′ and R 2 ′ is
A compound which is a carboxy group or a carbamoyl group, and the other is a protected carboxy group.
(7)一般式(I)において、R3、R4及びR6が、水酸基
である化合物。(7) The compound in the formula (I), wherein R 3 , R 4 and R 6 are hydroxyl groups.
(8)一般式(II)において、R3′、R4′及びR6′が、
保護されていてもよい水酸基である化合物。(8) In the general formula (II), R 3 ′, R 4 ′ and R 6 ′
A compound which is a hydroxyl group which may be protected.
(9)一般式(I)において、R5が、水素原子である化
合物。(9) The compound of the formula (I), wherein R 5 is a hydrogen atom.
(10)一般式(I)において、Aが、単結合である化合
物。(10) The compound in the formula (I), wherein A is a single bond.
(11)一般式(I)において、R4とR5が一緒になって、
オキソ基である化合物。(11) In the general formula (I), R 4 and R 5 together
A compound that is an oxo group.
を挙げることができる。Can be mentioned.
本発明のコーネギスチン誘導体は、以下に記載する方
法によって製造することができる。The Cornegistin derivative of the present invention can be produced by the method described below.
上記式中、R3′及びR6′は、前記と同意義を示す。 In the above formula, R 3 ′ and R 6 ′ have the same meaning as described above.
R3″及びR6″は、R3′及びR6′の定義に包含される
「保護された水酸基」と同様の基を示し、前記A群、B
群及びC群より選択された保護基によって保護された水
酸基を示し、 R7及びR8は、同一又は異なって、水素原子又は前記
「アミノ基、カルバモイル基或いは/並びにイミノ基の
保護基」と同様の基を示し、前記A群より選択された保
護基を示す。R 3 ″ and R 6 ″ represent the same groups as the “protected hydroxyl group” included in the definitions of R 3 ′ and R 6 ′;
A hydroxyl group protected by a protecting group selected from the group and group C, wherein R 7 and R 8 are the same or different and are a hydrogen atom or the above-mentioned “amino, carbamoyl or / and imino group-protecting group”; It shows the same group and shows a protecting group selected from the group A.
R9及びR10は、同一又は異なって、前記「カルボキシ
基の保護基」と同様の基を示し、前記A群より選択され
た保護基を示す。R 9 and R 10 are the same or different and represent the same group as the “protecting group for carboxy group”, and represent a protecting group selected from Group A.
R11は、前記「アリール基」及び前記「アリールスル
ホニル基」より選択される基を示す。R 11 represents a group selected from the above “aryl group” and the above “arylsulfonyl group”.
Halは、前記「ハロゲン原子」を示す。 Hal represents the aforementioned “halogen atom”.
[法]は、原料化合物であるコーネギスチン(III)
の4位又は/及び7位の水酸基を保護する方法である。[Method] is Cornegistin (III)
Is a method for protecting the hydroxyl group at the 4-position and / or the 7-position.
水酸基の保護化は、常法に従って行なわれ、例えば、
アシル化による方法としては、一般式R12OH(式中、R12
は、前記A群及びB群より選択されたアシル残基と同意
義を示す。)を有するカルボン酸を、ジシクロヘキシル
カルボジイミド(DCC)、カルボニルジイミダゾールの
ような縮合剤の存在下に反応させることにより達成され
る。The protection of the hydroxyl group is performed according to a conventional method, for example,
As a method by acylation, R 12 OH (where R 12
Has the same significance as the acyl residue selected from Group A and Group B. Is carried out in the presence of a condensing agent such as dicyclohexylcarbodiimide (DCC) or carbonyldiimidazole.
又、活性化した試薬R12−Q(式中、R12は、前記A
群、B群及びC群より選択された基と同意義を示し、Q
は、一般式OR12を有する基;塩素、臭素、沃素のような
ハロゲン原子;アセトキシ、プロピオニルオキシのよう
なアルキルカルボニルオキシ基、クロロアセチルオキ
シ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロロアセチルオキ
シ、トリフルオロアセチルオキシのようなハロゲン化ア
ルキルカルボニルオキシ基、メトキシアセチルオキシの
ような低級アルコキシアルキルカルボニルオキシ基、
(E)−2−メチル−2−ブテノイルオキシのような不
飽和アルキルカルボニルオキシ基等の脂肪族アシルオキ
シ基;ベンゾイルオキシのようなアリールカルボニルオ
キシ基、2−ブロモベンゾイルオキシ、4−クロロベン
ゾイルオキシのようなハロゲン化アリールカルボニルオ
キシ基、2,4,6−トリメチルベンゾイルオキシ、4−ト
ルオイルオキシのような低級アルキル化アリールカルボ
ニルオキシ基、4−アニソイルオキシのような低級アル
コキシ化アリールカルボニルオキシ基、4−ニトロベン
ゾイルオキシ、2−ニトロベンゾイルオキシのようなニ
トロ化アリールカルボニルオキシ基等の芳香族アシルオ
キシ基;トリクロロメチルオキシのようなトリハロゲノ
メチルオキシ基;メタンスルホニルオキシ、エタンスル
ホニルオキシのような低級アルカンスルホニルオキシ
基;トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペンタフル
オロエタンスルホニルオキシのようなハロゲノ低級アル
カンスルホニルオキシ基;ベンゼンスルホニルオキシ、
p−トルエンスルホニルオキシのようなアリールスルホ
ニルオキシ基等の脱離基を示す。)と、溶媒中、塩基の
存在下に反応させる。In addition, the activated reagent R 12 -Q (where R 12 is
A group selected from the group selected from the group, group B and group C;
Generally radicals having OR 12; chlorine, bromine, halogen atom such as iodine; acetoxy, propionyloxy alkylcarbonyloxy group such as oxy, chloro acetyloxy, dichloroacetyl oxy, trichloroacetyloxindole, the trifluoroacetyloxy A halogenated alkylcarbonyloxy group, a lower alkoxyalkylcarbonyloxy group such as methoxyacetyloxy,
(E) an aliphatic acyloxy group such as an unsaturated alkylcarbonyloxy group such as 2-methyl-2-butenoyloxy; an arylcarbonyloxy group such as benzoyloxy, 2-bromobenzoyloxy, and 4-chlorobenzoyloxy; Halogenated arylcarbonyloxy group, 2,4,6-trimethylbenzoyloxy, lower alkylated arylcarbonyloxy group such as 4-toluoyloxy, lower alkoxylated arylcarbonyloxy group such as 4-anisoyloxy, Aromatic acyloxy groups such as nitrated arylcarbonyloxy groups such as 4-nitrobenzoyloxy and 2-nitrobenzoyloxy; trihalogenomethyloxy groups such as trichloromethyloxy; methanesulfonyloxy and ethanesulfonyloxy Lower alkanesulfonyl group; trifluoromethanesulfonyloxy, halogeno lower alkanesulfonyloxy groups such as pentafluoroethane sulfonyloxy; benzenesulfonyloxy,
A leaving group such as an arylsulfonyloxy group such as p-toluenesulfonyloxy is shown. ) In a solvent in the presence of a base.
溶媒は、反応を阻害しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、メチレンクロリド、クロロホルム、四
塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;エーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類;ヘ
キサンのような炭化水素類;ベンゼン、トルエンのよう
な芳香族炭化水素類;酢酸エチルのようなエステル類;
ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドのような
極性溶媒を挙げることができる。The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but is preferably a halogenated hydrocarbon such as methylene chloride, chloroform, or carbon tetrachloride; an ether such as ether, dioxane, or tetrahydrofuran; hexane. Hydrocarbons such as benzene; aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; esters such as ethyl acetate;
Examples include polar solvents such as dimethyl sulfoxide and dimethylformamide.
使用される塩基としては、好適には、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムのような水素化アルカリ金属類;炭
酸カリウム、炭酸ナトリウムのような炭酸アルカリ金属
類;ナトリウムアミドのようなアルカリ金属アミド類;
ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウ
ムt−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド等
の無機塩基又はトリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミンのようなトリ低級アルキルアミン類;ピリジ
ン、N,N−ジメチルアミノピリジンのような複素芳香族
三級アミン類;DBU、DBN、DABCOのような脂環式環状アミ
ン類;N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン
のような芳香族アミン類等の有機塩基を挙げることがで
きる。The base used is preferably an alkali metal hydride such as sodium hydride or potassium hydride; an alkali metal carbonate such as potassium carbonate or sodium carbonate; an alkali metal amide such as sodium amide;
Inorganic bases such as alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide; or tri-lower alkylamines such as triethylamine and diisopropylethylamine; heteroaromatics such as pyridine and N, N-dimethylaminopyridine Aliphatic tertiary amines; alicyclic cyclic amines such as DBU, DBN and DABCO; and organic bases such as aromatic amines such as N, N-dimethylaniline and N, N-diethylaniline. .
反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが、好適に
は、20℃乃至50℃である。The reaction is carried out at a temperature of 0 ° C to 100 ° C, preferably 20 ° C to 50 ° C.
反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常10分乃至24時間で
ある。The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the starting compound and the type of solvent used, but is usually from 10 minutes to 24 hours.
具体的に、次のようにして行なわれる。 Specifically, this is performed as follows.
シリル化する場合には、溶媒としては、反応を阻害し
ないものを使用し、好適にはジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホ
キシドのようなスルホキシド類、アセトニトリルのよう
なニトリル類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類、酢酸エチル、酢酸プロピルの
ようなエステル類、メチレンクロリド、クロロホルム、
ジクロロエタン、テトラクロロエタンのようなハロゲン
化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類が使用される。使用される試薬は、好適に
は、通常容易に入手し得る低級トリアルキルシリルハラ
イド類である。使用する塩基としてはイミダゾール、ト
リエチルアミン、ピリジン等が用いられるが、特にこれ
に限定されるものではなく、−20〜50℃で実施される。
使用されるシリルハライド類のコーネギスチンに対する
使用量は、2つの水酸基の一方のみを保護するか、両方
を保護するかによって当然変わってくるが、1〜5当量
である。使用する塩基もシリルハライドの使用量に対応
して変えるのが好ましい。In the case of silylation, a solvent that does not inhibit the reaction is preferably used, and dimethylformamide, amides such as dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethylsulfoxide, nitriles such as acetonitrile, and ether are preferable. , Tetrahydrofuran, ethers such as dioxane, ethyl acetate, esters such as propyl acetate, methylene chloride, chloroform,
Halogenated hydrocarbons such as dichloroethane and tetrachloroethane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone are used. The reagents used are preferably lower trialkylsilyl halides, which are usually readily available. As the base to be used, imidazole, triethylamine, pyridine and the like are used, but the present invention is not particularly limited thereto, and the reaction is carried out at −20 to 50 ° C.
The amount of the silyl halide to be used with respect to Cornegistin depends on whether only one of the two hydroxyl groups is protected or both are protected, but is 1 to 5 equivalents. It is preferable that the base used is also changed in accordance with the amount of silyl halide used.
酸無水物でアシル化する場合には、使用される溶媒と
しては、反応を阻害しなければ特に限定はなく、反応試
薬である酸無水物も使用できるが、好適にはベンゼン、
トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、アセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類、アセトニト
リルのようなニトリル類、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸エチル、酢酸
プロピルのようなエステル類、メチレンクロリド、クロ
ロホルム、ジクロロエタン、テトラクロロエタンのよう
なハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、のようなアミド類、ジメチルスルホ
キシドのようなスルホキシド類等が用いられる。使用さ
れる試薬としては低級脂肪族カルボン酸無水物又は芳香
族カルボン酸無水物である。反応は塩基の存在又は非存
在下に進行し、使用される塩基はピリジン、トリエチル
アミン等が用いられるが、特にこれに限定されるもので
はない。上記の塩基に加えて触媒量の4−(ジメチルア
ミノ)ピリジンのような強塩基の添加は反応を進行させ
るのに効果的な場合があり、−20〜50℃で実施される。When acylating with an acid anhydride, the solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and an acid anhydride as a reaction reagent can also be used.
Toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, acetone, ketones such as methyl ethyl ketone, nitriles such as acetonitrile, ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, esters such as ethyl acetate and propyl acetate, Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane and tetrachloroethane, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, and sulfoxides such as dimethylsulfoxide are used. The reagent used is a lower aliphatic carboxylic anhydride or an aromatic carboxylic anhydride. The reaction proceeds in the presence or absence of a base, and pyridine, triethylamine, or the like is used as the base to be used, but is not particularly limited thereto. Addition of a catalytic amount of a strong base, such as 4- (dimethylamino) pyridine, in addition to the above base may be effective to drive the reaction and is carried out at -20 to 50C.
メトキシアセチルクロライドのようなアシルハライド
類と反応させる場合には、塩基の存在下に実施され、反
応は上記酸無水物の代りに酸ハライド類を用いる以外は
全く同様である。用いられる酸ハライド類としては、低
級脂肪族アシルハライド、芳香族アシルハライド、低級
アルコキシ脂肪族アシルハライド、アリールオキシ低級
脂肪族アシルハライド、低級アルコキシカルボニルハラ
イド、置換されていてもよいカルバモイルハライドなど
を挙げることができる。When reacting with an acyl halide such as methoxyacetyl chloride, the reaction is carried out in the presence of a base, and the reaction is exactly the same except that an acid halide is used instead of the above acid anhydride. Examples of the acid halides used include lower aliphatic acyl halides, aromatic acyl halides, lower alkoxy aliphatic acyl halides, aryloxy lower aliphatic acyl halides, lower alkoxycarbonyl halides, and carbamoyl halides which may be substituted. be able to.
このような水酸基の保護反応は、立体的な因子に基づ
き、4位又は7位を選択的に実施することができ、例え
ば、試薬として、t−ブチルジメチルシリルクロリドの
ような嵩高いトリアルキルシリルハライドを使用した場
合には、7位水酸基が活性なアリルアルコールであるこ
と、4位水酸基が隣接するn−プロピル基の立体的影響
によって不活化されていること、並びに試薬自体の嵩高
いことのために、7位のみを選択的に保護した化合物
(IV)を製造することができる(第1工程)。Such a hydroxyl-protecting reaction can be selectively carried out at the 4- or 7-position based on steric factors. For example, as a reagent, a bulky trialkylsilyl such as t-butyldimethylsilyl chloride is used. When a halide is used, the fact that the 7-position hydroxyl group is an active allyl alcohol, that the 4-position hydroxyl group is inactivated by the steric influence of the adjacent n-propyl group, and that the reagent itself is bulky. Therefore, compound (IV) in which only position 7 is selectively protected can be produced (first step).
又、例えば、試薬として、メタンスルホニルクロリ
ド、p−トルエンスルホニルクロリドのようなスルホニ
ルクロリド類を使用した場合には、試薬の反応性が高い
ため、4位、7位が同時に保護されるが、7位は一般的
に知られているように、不安定なアリルスルホネートで
あり、容易に分解するために、4位のみを選択的に保護
した化合物(V)を製造することができる(第3工
程)。Further, for example, when a sulfonyl chloride such as methanesulfonyl chloride or p-toluenesulfonyl chloride is used as a reagent, the 4- and 7-positions are simultaneously protected due to the high reactivity of the reagent. As is generally known, the compound is an unstable allyl sulfonate, and can be easily decomposed to produce a compound (V) in which only the 4-position is selectively protected (step 3) ).
更に、上記選択的に製造した化合物(IV)又は(V)
を同一又は他の保護基で、同様にして保護することによ
り、化合物(VI)を製造することができる(第2工程、
第4工程)。Further, the compound (IV) or (V) selectively produced above
Is protected in the same manner with the same or another protecting group, whereby compound (VI) can be produced (second step,
Fourth step).
一方、化合物(III)の4位及び7位の水酸基を、同
一の保護基で、上記に準じて、同時に保護することもで
き、又、水酸基が隣接する場合、特に、R4又はR5が水酸
基である場合には、前記C群に記載された2価の保護基
でジオールを同時に保護することもできる(第5工
程)。On the other hand, the hydroxyl groups at the 4- and 7-positions of the compound (III) can be simultaneously protected with the same protecting group according to the above, and when the hydroxyl groups are adjacent to each other, particularly, when R 4 or R 5 is When it is a hydroxyl group, the diol can be simultaneously protected with the divalent protecting group described in the above-mentioned Group C (fifth step).
かかるジオールの保護は、常法に従って、例えば、以
下の様にして実施される。Such protection of the diol is carried out according to a conventional method, for example, as follows.
保護基がオキソメチレン基である場合に、使用される
溶媒としては、好適には、ベンゼン、トルエンのような
芳香族炭化水素類;ジクロロエタン、メチレンクロリ
ド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;エー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサホスホロトリアミドのような
アミド類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド
類又は酢酸エチル、酢酸メチルのようなエステル類であ
り、使用される試薬としては、好適には、ホスゲン;炭
酸ジエチル、炭酸ジメチルのような炭酸エステル類又は
カルボニルジイミダゾールのようなカルボニルジアゾー
ル類である。When the protecting group is an oxomethylene group, the solvent used is preferably an aromatic hydrocarbon such as benzene or toluene; a halogenated hydrocarbon such as dichloroethane, methylene chloride or chloroform; Ethers such as tetrahydrofuran, dioxane and dimethoxyethane; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexaphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide or esters such as ethyl acetate and methyl acetate; The reagent used is preferably phosgene; a carbonate such as diethyl carbonate or dimethyl carbonate or a carbonyldiazole such as carbonyldiimidazole.
反応温度は0乃至150℃で行なわれ、反応時間は、主
に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類によ
って異なるが、通常10分乃至10時間である。The reaction is carried out at a temperature of 0 to 150 ° C., and the reaction time is usually 10 minutes to 10 hours, although it depends mainly on the reaction temperature, the kind of the starting compound and the type of the solvent used.
保護基がチオキソメチレン基である場合に、使用され
る溶媒、反応温度、反応時間は、保護基がオキソメチレ
ン基である場合と同様であり、使用される試薬として
は、好適には、チオホスゲン又はチオカルボニルジイミ
ダゾールのようなチオカルボニルジアゾール類である。When the protecting group is a thioxomethylene group, the solvent used, the reaction temperature, and the reaction time are the same as when the protecting group is an oxomethylene group, and the reagent used is preferably thiophosgene. Or thiocarbonyldiazoles such as thiocarbonyldiimidazole.
保護基が低級アルキリデン基、アラルキリデン基又は
アルコキシエチリデン基である場合に、使用される溶媒
としては、好適には、ベンゼン、トルエンのような芳香
族炭化水素類;ジクロロエタン、メチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;エーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンの
ようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサホスホロトリアミドのようなアミド
類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類又は
アセトニトリルのようなニトリル類であり、使用される
試薬としては、好適には、保護基に相当する、アセトン
のようなケトン類;ベンズアルデヒドのようなアルデヒ
ド類;炭酸ジエチル、炭酸ジメチルのような炭酸エステ
ル類;ジメトキシプロパンのようなケタール類又はベン
ズアルデヒドジメチルアセタールのようなアセタール類
である。When the protecting group is a lower alkylidene group, an aralkylidene group or an alkoxyethylidene group, the solvent used is preferably an aromatic hydrocarbon such as benzene or toluene; or a solvent such as dichloroethane, methylene chloride or chloroform. Halogenated hydrocarbons; ethers,
Ethers such as tetrahydrofuran, dioxane and dimethoxyethane; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide and hexaphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide or nitriles such as acetonitrile. Are preferably ketones such as acetone, aldehydes such as benzaldehyde, carbonates such as diethyl carbonate and dimethyl carbonate, ketals such as dimethoxypropane or benzaldehyde dimethyl acetal, which correspond to the protecting group. Acetals like this.
反応温度は0乃至180℃で行なわれ、反応時間は、主
に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類によ
って異なるが、通常30分乃至20時間である。The reaction is carried out at a temperature of 0 to 180 ° C., and the reaction time is usually 30 minutes to 20 hours, although it depends mainly on the reaction temperature, the type of the starting compound and the type of the solvent used.
保護基が2価のスルホニル基、2価のホスフィニル
基、2価のチオホスフィニル基又は2価のシリル基であ
る場合には、使用される溶媒としては、好適には、ベン
ゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類;ヘキサンの
ような脂肪族炭化水素類;ジクロロエタン、メチレンク
ロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタンのようなエーテル類;酢酸エチル、酢酸メチル
のようなエステル類;ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサホスホロトリアミドのようなアミ
ド類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類又
はアセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類であ
り、反応温度は0乃至180℃で行なわれ、反応時間は、
主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類に
よって異なるが、通常10分乃至15時間である。When the protective group is a divalent sulfonyl group, a divalent phosphinyl group, a divalent thiophosphinyl group or a divalent silyl group, the solvent used is preferably an aromatic solvent such as benzene or toluene. Aliphatic hydrocarbons such as hexane; halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, methylene chloride and chloroform;
Ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane and dimethoxyethane; esters such as ethyl acetate and methyl acetate; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide and hexaphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide or acetone And ketones such as methyl ethyl ketone, the reaction temperature is from 0 to 180 ° C., and the reaction time is
Although it depends mainly on the reaction temperature, the starting compound and the type of solvent used, it is usually from 10 minutes to 15 hours.
使用される試薬としては、 保護基が2価のスルホニル基である場合には、塩化ス
ルホニルのようなハロゲン化スルホニル類又はスルファ
ミド類であり、 保護基が2価のホスフィニル基である場合には、メチ
ル燐酸ジクロリド、エチル燐酸ジブロミドのような低級
アルキル燐酸ジハライド類;メチルジクロロホスファイ
ト、メチルジブロモホスファイト、エチルジクロロホス
ファイトのような低級アルキルジハロゲノホスファイ
ト;アリール燐酸ジクロリド、アリール燐酸ジブロミド
のようなアリール燐酸ジハライド類又はフェニルジクロ
ロホスファイト、フェニルジブロモホスファイト、ナフ
チルジクロロホスファイトのようなアリールジハロゲノ
ホスファイトであり、 保護基が2価のチオホスフィニル基である場合には、
メチルチオ燐酸ジクロリド、エチルチオ燐酸ジブロミド
のような低級アルキルチオ燐酸ジハライド類;メチルジ
クロロチオホスファイト、メチルジブロモチオホスファ
イト、エチルジクロロチオホスファイトのような低級ア
ルキルジハロゲノチオホスファイト;アリールチオ燐酸
ジクロリド、アリールチオ燐酸ジブロミドのようなアリ
ールチオ燐酸ジハライド類又はフェニルジクロロチオホ
スファイト、フェニルジブロモチオホスファイト、ナフ
チルジクロロチオホスファイトのようなアリールジハロ
ゲノチオホスファイトであり、 保護基が2価のシリル基である場合には、ジクロロジ
メチルシラン、ジブロモジエチルシラン、ジクロロジエ
チルシラン、ジョードジメチルシラン、ジョードジエチ
ルシランのようなジハロゲノジ低級アルキルシラン類;
ジクロロジメトキシシラン、ジブロモジエトキシシラ
ン、ジクロロジエトキシシラン、ジョードジメトキシシ
ラン、ジョードジエトキシシランのようなジハロゲノジ
低級アルコキシシラン類;ジクロロジフェニルシラン、
ジブロモジフェニルシラン、ジョードジフェニルシラ
ン、ジョードジナフチルシランのようなジハロゲノジア
リールシラン類;ジクロロフェニルメチルシラン、ジブ
ロモフェニルメチルシラン、ジョードフェニルメチルシ
ラン、ジョードナフチルメチルシランのようなジハロゲ
ノアリール低級アルキルシラン類;ジクロロメトキシフ
ェニルシラン、ジブロモエトキシフェニルシラン、ジク
ロロエトキシフェニルシラン、ジョードメトキシフェニ
ルシラン、ジョードエトキシフェニルシランのようなジ
ハロゲノアリール低級アルコキシシラン類;ジクロロメ
チルフェノキシシラン、ジブロモエチルフェノキシシラ
ン、ジクロロエチルフェノキシシラン、ジョードメチル
フェノキシシラン、ジョードエチルフェノキシシランの
ようなジハロゲノ低級アルキルアリールオキシシラン類
又はジクロロジフェノキシシラン、ジブロモジフェノキ
シシラン、ジョードジフェノキシシラン、ジョードジナ
フトキシシランのようなジハロゲノジアリールオキシシ
ラン類である。When the protecting group is a divalent sulfonyl group, the reagent used is a sulfonyl halide or a sulfamide such as a sulfonyl chloride; and when the protecting group is a divalent phosphinyl group, Lower alkyl phosphate dihalides such as methyl phosphate dichloride and ethyl phosphate dibromide; lower alkyl dihalogeno phosphites such as methyl dichlorophosphite, methyl dibromophosphite and ethyl dichlorophosphite; aryl phosphate dichloride and aryl phosphate dibromide When arylphosphoric dihalides or aryldihalogenophosphites such as phenyldichlorophosphite, phenyldibromophosphite and naphthyldichlorophosphite, and the protective group is a divalent thiophosphinyl group,
Lower alkylthiophosphoric dihalides such as methylthiophosphoric acid dichloride and ethylthiophosphoric acid dibromide; lower alkyl dihalogenothiophosphites such as methyldichlorothiophosphite, methyldibromothiophosphite and ethyldichlorothiophosphite; arylthiophosphoric dichloride and arylthiophosphoric acid An arylthiophosphoric acid dihalide such as dibromide or an aryl dihalogenothiophosphite such as phenyldichlorothiophosphite, phenyldibromothiophosphite or naphthyldichlorothiophosphite, wherein the protecting group is a divalent silyl group. Is a dihalogenodi lower alkyl such as dichlorodimethylsilane, dibromodiethylsilane, dichlorodiethylsilane, iododimethylsilane, iododiethylsilane Silanes;
Dihalogenodi lower alkoxysilanes such as dichlorodimethoxysilane, dibromodiethoxysilane, dichlorodiethoxysilane, iododimethoxysilane, and iododiethoxysilane; dichlorodiphenylsilane;
Dihalogenodiaryl silanes such as dibromodiphenylsilane, iododiphenylsilane and iododinaphthylsilane; dihalogenoaryl lower alkylsilanes such as dichlorophenylmethylsilane, dibromophenylmethylsilane, iodophenylmethylsilane and iodonaphthylmethylsilane; Dihalogenoaryl lower alkoxysilanes such as dichloromethoxyphenylsilane, dibromoethoxyphenylsilane, dichloroethoxyphenylsilane, iodomethoxyphenylsilane and iodoethoxyphenylsilane; dichloromethylphenoxysilane, dibromoethylphenoxysilane, dichloroethylphenoxysilane, Dihalogeno low such as iodomethylphenoxysilane, iodoethylphenoxysilane Alkyl aryloxy silanes or dichloro diphenoxy silane, dibromo diphenoxy silane, jaw mistakes phenoxy silane, di-halogeno diacetic aryloxy silanes such as jaw blunder naphthoxycarbonyl silane.
[法]は、水酸基の保護基を除去する方法である。水
酸基の保護基の除去は、その種類によって異なるが、一
般にこの分野の技術において周知の方法によって、例え
ば、以下の様に実施される。[Method] is a method for removing a protecting group for a hydroxyl group. The removal of the protecting group for the hydroxyl group varies depending on the type thereof, but is generally performed by a method well known in the art, for example, as follows.
水酸基の保護基として、トリ低級アルキルシリル基を
使用した場合には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化マグネシウム等のアルカリ金属水酸化物、ア
ルカリ土類水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリ
ウム等のアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩の
ような無機塩基;塩酸、弗素酸のような無機酸;トリフ
ルオロボランエーテラートのようなルイス酸;酢酸、プ
ロピオン酸のような有機酸又はテトラブチルアンモニウ
ムフルオライド、ピリジニウム ポリ(ハイドロジエン
フルオライド)、2,4,6−トリメチルピリジニウム ポ
リ(ハイドロジエンフルオライド)のような有機アミン
塩類などが用いられる。使用される溶媒としては反応を
阻害しなければ特に限定はなく、好適にはアセトニトリ
ルのようなニトリル類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシ
ドのようなスルホキシド類、メタノール、エタノールの
ようなアルコール類、クロロホルム、メチレンクロライ
ド、ジクロロエタン、テトラクロロエタンのようなハロ
ゲン化炭化水素類、水、酢酸、プロピオン酸のような低
級脂肪酸類又はこれらの混合溶媒である。反応温度及び
反応時間は出発物質及び使用する試薬等によって異なる
が、通常は−20乃至60℃で、10分乃至60時間である。When a tri-lower alkylsilyl group is used as a protecting group for a hydroxyl group, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or magnesium hydroxide, an alkaline earth hydroxide; sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate Inorganic bases such as alkali metal carbonates and alkali metal bicarbonates; inorganic acids such as hydrochloric acid and hydrofluoric acid; Lewis acids such as trifluoroborane etherate; organic acids such as acetic acid and propionic acid; Organic amine salts such as butylammonium fluoride, pyridinium poly (hydrogenfluoride) and 2,4,6-trimethylpyridinium poly (hydrogenfluoride) are used. The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and is preferably a nitrile such as acetonitrile, tetrahydrofuran, an ether such as dioxane, dimethylformamide, an amide such as dimethylacetamide, or dimethylsulfoxide. Such as sulfoxides, alcohols such as methanol and ethanol, halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride, dichloroethane and tetrachloroethane, water, acetic acid, lower fatty acids such as propionic acid, or a mixed solvent thereof. is there. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting materials and the reagents to be used, but are usually from -20 to 60 ° C and from 10 minutes to 60 hours.
水酸基の保護基が、アラルキルオキシカルボニル基又
はアラルキル基である場合には、通常、還元剤と接触さ
せることにより除去することができる。例えば、パラジ
ウム炭素、白金、ラネーニッケルのような触媒を用い、
常温にて接触還元を行なうことにより達成される。反応
は溶媒の存在下に行なわれ、使用される反応溶媒として
は本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、
メタノール、エタノールのようなアルコール類;テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;酢酸の
ような脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が
好適である。反応温度及び反応時間は出発物質及び使用
する還元剤等によって異なるが、通常は0℃乃至室温
で、5分乃至12時間である。When the protecting group for a hydroxyl group is an aralkyloxycarbonyl group or an aralkyl group, it can be usually removed by contact with a reducing agent. For example, using a catalyst such as palladium carbon, platinum, Raney nickel,
This is achieved by performing catalytic reduction at room temperature. The reaction is performed in the presence of a solvent, and the reaction solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction.
Alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; fatty acids such as acetic acid; and mixed solvents of these organic solvents and water are preferred. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting material, the reducing agent used, and the like, but are usually 0 ° C. to room temperature and 5 minutes to 12 hours.
又、液体アンモニア中若しくはメタノール、エタノー
ルのようなアルコール中において、−78℃〜−20℃で、
金属リチウム若しくはナトリウムを作用させることによ
っても除去できる。In liquid ammonia or in alcohols such as methanol and ethanol, at -78 ° C to -20 ° C,
It can also be removed by the action of metallic lithium or sodium.
更に、塩化アルミニウム−沃化ナトリウム又はトリメ
チルシリルイオダイドのようなアルキルシリルハライド
類を用いても除去することができる。反応は溶媒の存在
下に行なわれ、使用される反応溶媒としては本反応に関
与しないものであれば特に限定はないが、好適には、ア
セトニトリルのようなニトリル類;メチレンクロリド、
クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類又はこれら
の混合溶媒が使用される。反応温度は出発物質等によっ
て異なるが、通常は0℃乃至50℃である。Furthermore, it can be removed by using an alkylsilyl halide such as aluminum chloride-sodium iodide or trimethylsilyl iodide. The reaction is carried out in the presence of a solvent, and the reaction solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction. Preferably, nitriles such as acetonitrile; methylene chloride,
Halogenated hydrocarbons such as chloroform or mixed solvents thereof are used. The reaction temperature varies depending on the starting materials and the like, but is usually 0 ° C to 50 ° C.
尚、反応基質が硫黄原子を有する場合においては、好
適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いられ
る。When the reaction substrate has a sulfur atom, aluminum chloride-sodium iodide is preferably used.
水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル基
又はアルコキシカルボニル基である場合には、溶媒の存
在下に、塩基で処理することにより除去することができ
る。塩基としては、化合物の他の部分に影響を与えない
ものであれば特に限定はないが、好適にはナトリウムメ
トキシドのような金属アルコラート類;アンモニア水;
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭
酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアル
カリ金属水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを用い
て実施される。使用される溶媒としては通常の加水分解
反応に使用されるものであれば特に限定はなく、水、メ
タノール、エタノール、n−プロパノールのようなアル
コール類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類のような有機溶媒又は水と有機溶媒との
混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は出発物
質及び用いる塩基等によって異なり特に限定はないが、
副反応を抑制するために、通常は0℃乃至150℃で、1
乃至10時間である。When the hydroxyl-protecting group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an alkoxycarbonyl group, it can be removed by treating with a base in the presence of a solvent. The base is not particularly limited as long as it does not affect the other parts of the compound, but is preferably a metal alcoholate such as sodium methoxide; aqueous ammonia;
It is carried out using an alkali metal carbonate such as sodium carbonate or potassium carbonate; an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide or concentrated ammonia-methanol. The solvent to be used is not particularly limited as long as it is used in a usual hydrolysis reaction, and water, methanol, ethanol, alcohols such as n-propanol or tetrahydrofuran, ethers such as dioxane, etc. An organic solvent or a mixed solvent of water and an organic solvent is preferred. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting material, the base used, and the like, and are not particularly limited.
In order to suppress side reactions, the temperature is usually 1 to 0 ° C to 150 ° C.
Up to 10 hours.
水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、テトラヒド
ロピラニル基、テトラヒドロフラニル基又は置換された
エチル基である場合には、通常溶媒中で酸で処理するこ
とにより除去することができる。使用される酸として
は、好適には塩酸、酢酸−硫酸、p−トルエンスルホン
酸又は酢酸等である。使用される溶媒としては本反応に
関与しないものであれば特に限定はないが、メタノー
ル、エタノールのようなアルコール類;テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類又はこれらの有機
溶媒と水との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応
時間は出発物質及び用いる酸の種類等によって異なる
が、通常は0℃乃至50℃で、10分乃至18時間である。When the protecting group of the hydroxyl group is an alkoxymethyl group, a tetrahydropyranyl group, a tetrahydrofuranyl group or a substituted ethyl group, it can be usually removed by treating with an acid in a solvent. The acid used is preferably hydrochloric acid, acetic acid-sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid or acetic acid. The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not participate in the present reaction, but includes alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, or a mixed solvent of these organic solvents and water. It is suitable. The reaction temperature and the reaction time vary depending on the starting material and the kind of the acid used, but are usually from 0 ° C. to 50 ° C. for 10 minutes to 18 hours.
水酸基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル基で
ある場合は、通常前記水酸基の保護基が脂肪族アシル
基、芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である
場合の除去反応の条件と同様にして塩基と処理すること
により脱離させることができる。尚、アリルオキシカル
ボニルの場合は、特にパラジウム及びトリフェニルホス
フィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除
去する方法が簡便で、副反応が少なく実施することがで
きる。When the protecting group for the hydroxyl group is an alkenyloxycarbonyl group, it is usually treated with a base in the same manner as in the removal reaction when the protecting group for the hydroxyl group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an alkoxycarbonyl group. Can be desorbed. In the case of allyloxycarbonyl, the removal method using palladium and triphenylphosphine or nickel tetracarbonyl is particularly simple and can be carried out with few side reactions.
尚、保護されたメルカプト基の保護基の除去も上記と
同様にして達成できる。The removal of the protected mercapto group can also be achieved in the same manner as described above.
更に、保護されたアミノ基の保護基の除去も上記と同
様にして、例えば、以下のようにして実施される。Furthermore, removal of the protecting group of the protected amino group is carried out in the same manner as described above, for example, as follows.
アミノ基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル
基又はアルコキシカルボニル基である場合には、水性溶
媒の存在下に酸又は塩基で処理することにより除去する
ことができる。酸としては、塩酸、硫酸、リン酸、臭化
水素酸が用いられ、塩基としては、化合物の他の部分に
影響を与えないものであれば特に限定はないが、好適に
は炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属
炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなア
ルカリ金属水酸化物;濃アンモニア−メタノール又はヒ
ドラジン、ヒドロキシルアミンのようなカルボニル試薬
を用いて実施される。使用される溶媒としては通常の加
水分解反応に使用されるものであれば特に限定はなく、
水又は水とメタノール、エタノール、n−プロパノール
のようなアルコール類若しくはテトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類のような有機溶媒との混合
溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は出発物質及
び用いる塩基等によって異なり特に限定はないが、副反
応を抑制するために、通常は0℃乃至150℃で、30分乃
至15時間である。When the protecting group for the amino group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an alkoxycarbonyl group, it can be removed by treating with an acid or a base in the presence of an aqueous solvent. As the acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, or hydrobromic acid is used, and the base is not particularly limited as long as it does not affect the other parts of the compound. It is carried out using an alkali metal carbonate such as potassium; an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide; concentrated ammonia-methanol or a carbonyl reagent such as hydrazine or hydroxylamine. The solvent used is not particularly limited as long as it is one used in a usual hydrolysis reaction.
Preferred is water or a mixed solvent of water and an organic solvent such as alcohols such as methanol, ethanol and n-propanol or ethers such as tetrahydrofuran and dioxane. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting material and the base used, and are not particularly limited. However, in order to suppress a side reaction, the reaction is usually performed at 0 ° C. to 150 ° C. for 30 minutes to 15 hours.
アミノ基の保護基が、アラルキル基又はアラルキルオ
キシカルボニル基である場合には、白金若しくはパラジ
ウム炭素のような触媒を使用して、常温で接触還元を行
ない、除去する方法又は酸化剤を用いて除去する方法が
好適である。When the protecting group for the amino group is an aralkyl group or an aralkyloxycarbonyl group, a catalytic reduction such as platinum or palladium carbon is carried out at room temperature to remove and remove using an oxidizing agent. Is preferred.
還元による除去において使用される溶媒としては本反
応に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノールのようなアルコー
ル類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類;トルエン、ベンゼン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、シクロヘキサ
ンのような脂肪族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピ
ルのようなエステル類;酢酸のような脂肪酸類又はこれ
らの有機溶媒と水との混合溶媒が好適である。The solvent used in the removal by reduction is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, but alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane; toluene, Aromatic hydrocarbons such as benzene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane; esters such as ethyl acetate and propyl acetate; fatty acids such as acetic acid; Mixed solvents are preferred.
使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用
されるものであれば、特に限定はないが、好適にはパラ
ジウム炭素、ラネーニッケル、酸化白金、白金黒、ロジ
ウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩
化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが用いられる。The catalyst to be used is not particularly limited as long as it is usually used for a catalytic reduction reaction, but is preferably palladium carbon, Raney nickel, platinum oxide, platinum black, rhodium-aluminum oxide, triphenylphosphine-. Rhodium chloride and palladium-barium sulfate are used.
圧力は、特に限定はないが、通常1乃至10気圧で行な
われる。The pressure is not particularly limited, but it is usually 1 to 10 atm.
反応温度及び反応時間は、出発物質及び触媒の種類等
により異なるが、通常、0℃乃至100℃で、5分乃至24
時間実施される。The reaction temperature and reaction time vary depending on the type of the starting material and the catalyst, etc., but are usually 0 ° C. to 100 ° C. and 5 minutes to
Implemented for hours.
酸化による除去において使用される溶媒としては本反
応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適に
は、含水有機溶媒である。このような有機溶媒として好
適には、アセトンのようなケトン類;アセトニトリルの
ようなニトリル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのような
アミド類及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシ
ド類を挙げることができる。The solvent used in the removal by oxidation is not particularly limited as long as it does not participate in the present reaction, but is preferably a water-containing organic solvent. Suitable examples of such an organic solvent include ketones such as acetone; nitriles such as acetonitrile; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide and hexamethylphosphorotriamide; and sulfoxides such as dimethylsulfoxide. be able to.
使用される酸化剤としては、通常、酸化に使用される
化合物であれば特に限定はないが、好適には過硫酸カリ
ウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイト
レイト(CAN)、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−
ベンゾキノン(DDQ)が用いられる。The oxidizing agent to be used is not particularly limited as long as it is a compound usually used for oxidation, but preferably potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium cerium nitrate (CAN), 2,3-dichloro- 5,6-dicyano-p-
Benzoquinone (DDQ) is used.
反応温度及び反応時間は、出発物質及び触媒の種類等
により異なるが、通常、0℃乃至150℃で、10分乃至24
時間実施される。The reaction temperature and reaction time vary depending on the type of the starting material and the catalyst, etc.
Implemented for hours.
アミノ基の保護基がアルケニルオキシカルボニル基で
ある場合は、通常前記アミノ基の保護基が脂肪族アシル
基、芳香族アシル基又は低級アルコキシカルボニル基で
ある場合の除去反応の条件と同様にして塩基と処理する
ことにより脱離させることができる。尚、アリルオキシ
カルボニルの場合は、特にパラジウム及びトリフェニル
ホスフィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用し
て除去する方法が簡便で、副反応が少なく実施すること
ができる。When the protecting group for the amino group is an alkenyloxycarbonyl group, the base is usually used in the same manner as in the removal reaction when the protecting group for the amino group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or a lower alkoxycarbonyl group. Can be desorbed. In the case of allyloxycarbonyl, the removal method using palladium and triphenylphosphine or nickel tetracarbonyl is particularly simple and can be carried out with few side reactions.
尚、上記のような水酸基、メルカプト基又はアミノ基
の保護基を除去する操作によって、分子内の他の保護基
が同時に除去されることもある。The above-mentioned operation of removing a protecting group for a hydroxyl group, a mercapto group or an amino group may simultaneously remove other protecting groups in the molecule.
従って、保護基を選択することにより、4位又は7位
の保護基を選択的に除去することが可能となり(第6工
程、第7工程、第8工程、第9工程)、又4位及び7位
の保護基を同時に除去することができる(第10工程)。Therefore, by selecting the protecting group, it becomes possible to selectively remove the protecting group at the 4-position or the 7-position (step 6, step 7, step 8, step 9), The protecting group at the 7-position can be removed at the same time (tenth step).
又、ジオールとして2価の保護基により保護されてい
る場合においては、一般に保護基の種類により異なる
が、以下のような常法に従って、ジオールの保護基を除
去することができる。In the case where the diol is protected by a divalent protecting group, the protecting group of the diol can be removed according to the following conventional method, although it generally depends on the type of the protecting group.
ジオールの保護基が、オキソメチレン、チオキソメチ
レン、2価のスルホニル基、2価のホスフィニル基又は
2価のチオホスフィニル基である場合には、[法]に
おいて記載した、「水酸基の保護基が、脂肪族アシル
基、芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基」であ
る場合と同様にして実施する。When the protecting group of the diol is an oxomethylene, a thioxomethylene, a divalent sulfonyl group, a divalent phosphinyl group or a divalent thiophosphinyl group, the “protecting group for the hydroxyl group described in [Method] is An aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an alkoxycarbonyl group "is used.
ジオールの保護基が、低級アルキリデン基、アラルキ
リデン基又はアルコキシメチリデン基である場合には、
[法]において記載した、「水酸基の保護基が、アル
コキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒド
ロフラニル基又は置換されたエチル基」である場合と同
様にして実施する。When the protecting group of the diol is a lower alkylidene group, an aralkylidene group or an alkoxymethylidene group,
The method is carried out in the same manner as described in [Method], wherein the protective group for the hydroxyl group is an alkoxymethyl group, a tetrahydropyranyl group, a tetrahydrofuranyl group or a substituted ethyl group.
ジオールの保護基が、2価のシリル基である場合に
は、[法]において記載した、「水酸基の保護基が、
トリ低級アルキルシリル基」である場合と同様にして実
施する。When the protecting group of the diol is a divalent silyl group, the “protecting group for the hydroxyl group described in [Method]
And a "tri-lower alkylsilyl group".
第11工程以下においては、R3′又は/及びR6′が水酸
基、メルカプト基又はアミノ基を示す場合には、各工程
終了後、所望により[法]に準じて、4位又は/及び
7位の水酸基を保護することができ、R3′又は/及び
R6′が保護された水酸基、保護されたメルカプト基又は
保護されたアミノ基を示す場合には、各工程終了後、所
望により[法]に準じて、4位又は/及び7位の水酸
基を脱保護することができる。In the eleventh and subsequent steps, when R 3 ′ and / or R 6 ′ represent a hydroxyl group, a mercapto group or an amino group, after completion of each step, the 4-position and / or 7 Position can be protected, and R 3 ′ and / or
When R 6 ′ represents a protected hydroxyl group, a protected mercapto group or a protected amino group, after completion of each step, a hydroxyl group at the 4-position and / or 7-position may be optionally substituted according to [Method]. Can be deprotected.
[法]は、化合物(VII)の分子内の酸無水物を、開
環し、ハーフ酸アミド(VIII)又は(IX)とし、又はす
ることなく、再度閉環してイミド化合物(X)又は(X
I)を製造する方法である。[Method] is a method in which the acid anhydride in the molecule of the compound (VII) is ring-opened to form a half-acid amide (VIII) or (IX), or the ring is closed again without or without the imide compound (X) or ( X
I) is a method of manufacturing.
第11工程は、化合物(VII)の分子内の酸無水物を、
開環し、ハーフ酸アミド(VIII)及び(IX)を製造する
工程である。In the eleventh step, an acid anhydride in the molecule of the compound (VII) is
In this step, the ring is opened to produce half acid amides (VIII) and (IX).
使用される溶媒は反応を阻害しなければ特に限定はな
いが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのよう
な芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、クロロホル
ム、ジクロロエタン、テトラクロロエタンのようなハロ
ゲン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル
類、エーテル、テトラヒドロフタン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドのよう
なスルホキシド類である。使用されるアミンはアンモニ
ア;メチルアミン、エチルアミン、イソプロピルアミ
ン、t−ブチルアミンのような低級脂肪族アミン類;ベ
ンジルアミン、4−メトキシベンジルアミン、4−クロ
ロベンジルアミンのようなアラルキルアミン類;3−ヒド
ロキシプロピルアミン、2−メチル−2−アミノプロパ
ノール、エタノールアミンのようなヒドロキシ低級アル
キルアミン類;2,2−ジメトキシエチルアミンのような低
級アルコキシ低級アルキルアミン類;メトキシアミンの
ような低級アルコキシアミン類;アニリン、4−クロロ
アニリン、2,4−ジフルオロアニリンのような芳香族ア
ミン類及び2−アミノピリミジンのようなヘテロ芳香族
アミン類である。使用されるアミンの量は1〜5当量で
あり、アミンを過剰に使用する時は、生成物は用いたア
ミンのカルボン酸塩となり得る。反応において、求核性
の少ないアミンを用いる時は、トリエチルアミン、トリ
エチレンジアミン等の塩基の存在下に実施することが好
ましい。反応は、通常、−20〜50℃で行なわれ、反応時
間は、使用される溶媒、温度によって異なるが、通常5
分乃至24時間である。The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but is preferably an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene or xylene, or a halogenated hydrocarbon such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane or tetrachloroethane. Hydrogens, nitriles such as acetonitrile, ethers, ethers such as tetrahydrophthalane and dioxane, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, and sulfoxides such as dimethylsulfoxide. The amine used is ammonia; lower aliphatic amines such as methylamine, ethylamine, isopropylamine and t-butylamine; aralkylamines such as benzylamine, 4-methoxybenzylamine and 4-chlorobenzylamine; Hydroxy lower alkylamines such as hydroxypropylamine, 2-methyl-2-aminopropanol and ethanolamine; lower alkoxy lower alkylamines such as 2,2-dimethoxyethylamine; lower alkoxyamines such as methoxyamine; Aromatic amines such as aniline, 4-chloroaniline and 2,4-difluoroaniline and heteroaromatic amines such as 2-aminopyrimidine. The amount of amine used is from 1 to 5 equivalents, and when the amine is used in excess, the product can be a carboxylate of the amine used. When an amine having low nucleophilicity is used in the reaction, the reaction is preferably performed in the presence of a base such as triethylamine and triethylenediamine. The reaction is usually carried out at −20 to 50 ° C., and the reaction time varies depending on the solvent and temperature used.
Minutes to 24 hours.
第12工程は、ハーフ酸アミド(VIII)又は/及び(I
X)を脱水、再閉環し、イミド化合物(X)又は化合物
(XI)を製造する工程である。In the twelfth step, the half acid amide (VIII) and / or (I
In this step, X) is dehydrated and reclosed to produce an imide compound (X) or compound (XI).
本反応では出発原料として使用するハーフ酸アミドの
アミンの種類、又は、脱水剤の種類によって環化の方向
が異なった異性体を副生する事がある。脱水剤として使
用し得る試薬は、カルボン酸とアミンから酸アミドを生
成する時に使用される一般的な試薬であれば、限定はな
いが、このような試薬の例として、例えば、DCC以外
に、ピロリン酸テトラエチルのようなピロリン酸誘導
体、2−フルオロ−1−メチルピリジニウム p−トル
エンスルホネート等が挙げられる。使用される溶媒とし
ては、反応を阻害しないものであれば、特に限定はない
が、好適には第11工程において使用される溶媒を挙げる
ことができる。尚、2−フルオロ−1−メチルピリジニ
ウム p−トルエンスルホネートを使用する場合には、
2当量のトリエチルアミンの様な3級アミンの存在が必
要となる。反応は、通常、−20乃至120℃で行なわれ、
反応時間は、反応温度及び使用される溶媒によって異な
るが、30分乃至24時間である。In this reaction, an isomer having a different cyclization direction may be produced as a by-product depending on the type of the amine of the half-acid amide used as the starting material or the type of the dehydrating agent. The reagent that can be used as a dehydrating agent is not limited as long as it is a general reagent used when generating an acid amide from a carboxylic acid and an amine.Examples of such a reagent, for example, other than DCC, Pyrophosphate derivatives such as tetraethyl pyrophosphate; 2-fluoro-1-methylpyridinium p-toluenesulfonate; The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but preferably includes the solvent used in the eleventh step. When 2-fluoro-1-methylpyridinium p-toluenesulfonate is used,
The presence of two equivalents of a tertiary amine such as triethylamine is required. The reaction is usually performed at -20 to 120 ° C,
The reaction time varies depending on the reaction temperature and the solvent used, but is 30 minutes to 24 hours.
尚、化合物(VII)を出発原料として使用し、反応条
件を選択することにより、例えば、過剰(4当量)のア
ニリンとDCC(2当量)を使用するか、又は強塩基のDAB
COをアニリンと共に使用することにより、ハーフ酸アミ
ドを単離することなく、一工程で上記化合物を製造する
ことができる(第13工程)。By using compound (VII) as a starting material and selecting reaction conditions, for example, an excess (4 equivalents) of aniline and DCC (2 equivalents) can be used, or a strong base DAB can be used.
By using CO with aniline, the above compound can be produced in one step without isolating the half-acid amide (step 13).
[法]は、カルボン酸のエステル化の方法であり、例
えば、化合物(VIII)を化合物(XII)に変換できる
が、他のカルボン酸化合物(例えば、化合物(IX))に
ついても同様に実施できる(第14工程)。[Method] is a method for esterification of a carboxylic acid. For example, compound (VIII) can be converted to compound (XII), but the same can be carried out for other carboxylic acid compounds (eg, compound (IX)). (14th step).
反応条件等は、[法]に準じて同様に実施するか、
又は、例えば、第15工程に示すように、ジアゾメタン、
トリメチルシリルジアゾメタンのようなアルキル化剤に
よって達成することができる。The reaction conditions are the same as in [Method], or
Or, for example, as shown in the fifteenth step, diazomethane,
This can be achieved by an alkylating agent such as trimethylsilyldiazomethane.
[法]は、化合物(XII)の別途製法である。[Method] is a separate production method of compound (XII).
第15工程は、化合物(VII)の酸無水物部分をジエス
テルに変換する工程であり、ジアゾメタン、トリメチル
シリルジアゾメタン、ジフェニルジアゾメタンのような
ジアゾアルキル化剤によって達成するか、又は、希水酸
化ナトリウムにて調製したナトリウム塩を凍結乾燥し、
これをジメチルホルムアミドのようなアミド類を溶媒に
用いて、メチルアイオダイドのようなアルキルハライド
類でアルキル化して、ジエステルを得る工程である。The fifteenth step is a step of converting the acid anhydride portion of the compound (VII) to a diester, which is achieved by using a diazoalkylating agent such as diazomethane, trimethylsilyldiazomethane, diphenyldiazomethane, or by using dilute sodium hydroxide. Lyophilize the prepared sodium salt,
In this step, an amide such as dimethylformamide is used as a solvent and alkylated with an alkyl halide such as methyl iodide to obtain a diester.
ジアゾアルキル化剤による反応において、使用される
溶媒としては、反応を阻害しなければ特に限定はなく、
好適にはメチレンクロリド、クロロホルム、ジクロロエ
タンのようなハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類、メタノール、
エタノール、n−プロパノールのようなアルコール類、
酢酸エチル、プロピオン酸エチルのような脂肪酸エステ
ル類、ジメチルホルムアミドのようなアミド類、ジメチ
ルスルホキシドのようなスルホキシド類、アセトニトリ
ルのようなニトリル類、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類を挙げることができ
る。尚、トリメチルシリルジアゾメタンを使用する時
は、プロトン源としてのメタノールが必須であり、反応
は、通常−20乃至50℃で行なわれ、反応時間は、使用さ
れる溶媒、温度により異なるが、5分乃至24時間であ
る。In the reaction with the diazoalkylating agent, the solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction,
Preferably, methylene chloride, chloroform, halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, methanol,
Alcohols such as ethanol, n-propanol,
Ethyl acetate, fatty acid esters such as ethyl propionate, amides such as dimethylformamide, sulfoxides such as dimethylsulfoxide, nitriles such as acetonitrile, ethers, tetrahydrofuran and ethers such as dioxane. it can. When using trimethylsilyldiazomethane, methanol is essential as a proton source, and the reaction is usually performed at -20 to 50 ° C. The reaction time varies depending on the solvent and the temperature used, but may be from 5 minutes to 5 minutes. 24 hours.
アルキルハライド類を使用する反応において、使用さ
れる溶媒は、反応を阻害しないものであれば特に限定は
ないが、好適には、ジメチルホルムアミドのようなアミ
ド類、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類、
アセトニトリルのようなニトリル類、エーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類を挙げる
ことができる。反応温度、時間は使用される溶媒、試薬
によって異なるが、通常、0乃至80℃で、1乃至30時間
である。In the reaction using alkyl halides, the solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but preferably, amides such as dimethylformamide, sulfoxides such as dimethylsulfoxide,
Examples thereof include nitriles such as acetonitrile, and ethers such as ether, tetrahydrofuran and dioxane. The reaction temperature and time vary depending on the solvent and reagent used, but are usually 0 to 80 ° C and 1 to 30 hours.
第16工程は、保護されたカルボン酸の脱保護の工程で
ある。The sixteenth step is a step of deprotecting the protected carboxylic acid.
保護基の除去はその種類によって異なるが、一般にこ
の分野の技術において周知の方法によって以下の様に実
施される。The removal of the protecting group depends on its type, but is generally carried out by a method well known in the art as follows.
カルボキシ基の保護基として、低級アルキル基又はア
リール基を使用した場合には、酸又は塩基で処理するこ
とにより除去することができる。酸としては、塩酸、硫
酸、リン酸、臭化水素酸が用いられ、塩基としては、化
合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定
はないが、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムのようなアルカリ金属水酸化物又は濃アンモニア
−メタノールを用いて実施される。使用される溶媒とし
ては通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に
限定はなく、水又は水とメタノール、エタノール、n−
プロパノールのようなアルコール類若しくはテトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類のような有機
溶媒との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間
は出発物質及び用いる塩基等によって異なり特に限定は
ないが、副反応を抑制するために、通常は0乃至150℃
で、1乃至10時間である。When a lower alkyl group or an aryl group is used as a protecting group for a carboxy group, it can be removed by treating with an acid or a base. As the acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, or hydrobromic acid is used, and the base is not particularly limited as long as it does not affect the other parts of the compound. It is carried out using an alkali metal carbonate such as potassium, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or concentrated ammonia-methanol. The solvent to be used is not particularly limited as long as it is used in a usual hydrolysis reaction, and water or water and methanol, ethanol, n-
A mixed solvent with an organic solvent such as an alcohol such as propanol or an ether such as tetrahydrofuran or dioxane is preferable. The reaction temperature and the reaction time are different depending on the starting material and the base to be used and are not particularly limited.
And 1 to 10 hours.
カルボキシ基の保護基がジフェニルメチルのようなジ
アリール置換メチル基である場合には、通常酸性条件下
で除去する。使用される反応溶媒としてはアニソールの
ような芳香族炭化水素類がよく、酸としてはトリフルオ
ロ酢酸のようなフッ素置換有機酸が用いられる。反応温
度及び反応時間は出発物質等によって異なるが、通常は
室温で30分乃至10時間である。When the protecting group for the carboxy group is a diaryl-substituted methyl group such as diphenylmethyl, it is usually removed under acidic conditions. The reaction solvent used is preferably an aromatic hydrocarbon such as anisole, and the acid is a fluorine-substituted organic acid such as trifluoroacetic acid. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting materials and the like, but are usually 30 minutes to 10 hours at room temperature.
カルボキシ基の保護基がアラルキル基又はハロゲノ低
級アルキル基である場合には、通常還元剤と接触させる
ことにより除去することができる。還元剤としては、カ
ルボキシ基の保護基がハロゲノ低級アルキル基である場
合には、亜鉛−酢酸が好適であり、アラルキル基である
場合には、パラジウム炭素、白金のような触媒を用い、
接触還元を行なうか、又は硫化カリウム、硫化ナトリウ
ムのようなアルカリ金属硫化物を用いて実施される。反
応は溶媒の存在下に行なわれ、使用される溶媒としては
本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類;テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;酢酸のよ
うな脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好
適である。反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる
還元剤等によって異なるが、通常は0℃乃至室温付近
で、5分乃至12時間である。When the protecting group of the carboxy group is an aralkyl group or a halogeno lower alkyl group, it can be usually removed by contact with a reducing agent. As the reducing agent, when the protective group of the carboxy group is a halogeno lower alkyl group, zinc-acetic acid is preferable, and when it is an aralkyl group, a catalyst such as palladium carbon or platinum is used,
It is carried out by catalytic reduction or by using an alkali metal sulfide such as potassium sulfide or sodium sulfide. The reaction is carried out in the presence of a solvent, and the solvent to be used is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction. Alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; acetic acid And mixed solvents of these fatty acids or organic solvents with water are preferred. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting material, the reducing agent used, and the like.
カルボキシ基の保護基がアルコキシメチル基である場
合には、通常酸で処理することにより除去することがで
きる。使用される酸としては、好適には塩酸、酢酸−硫
酸又はp−トルエンスルホン酸−酢酸等である。反応は
溶媒の存在下に行なわれ、使用される溶媒としては本反
応に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノ
ール、エタノールのようなアルコール類;テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類又はこれらの有
機溶媒と水との混合溶媒が好適である。反応温度及び反
応時間は出発物質及び用いる酸の種類等によって異なる
が、通常は0乃至50℃で、10分乃至18時間である。When the protecting group of the carboxy group is an alkoxymethyl group, it can be usually removed by treating with an acid. The acid used is preferably hydrochloric acid, acetic acid-sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid-acetic acid. The reaction is carried out in the presence of a solvent, and the solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction. Alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; The mixed solvent of the organic solvent and water is preferable. The reaction temperature and the reaction time vary depending on the starting material and the kind of the acid used, but are usually 0 to 50 ° C. and 10 minutes to 18 hours.
又、カルボキシ基の保護基の除去を常法に従って、ア
ンモニア処理によって行なうと、アミド化することもで
きる。Amidation can also be carried out by removing the protecting group for the carboxy group by treatment with ammonia according to a conventional method.
尚、所望により、常法に従って、上記生成したカルボ
ン酸化合物を水と酢酸エチルのような水と混和しない有
機溶媒との混合溶媒に溶かし、炭酸水素ナトリウム水溶
液、炭酸カリウム水溶液のようなアルカリ金属炭酸塩若
しくは重炭酸塩水溶液を、0℃乃至室温下に加え、pH7
付近と析出した沈殿を濾取することによりアルキル金属
塩を形成することができる。If desired, according to a conventional method, the carboxylic acid compound produced above is dissolved in a mixed solvent of water and an organic solvent immiscible with water such as ethyl acetate, and an alkali metal carbonate such as an aqueous sodium hydrogen carbonate solution or an aqueous potassium carbonate solution is dissolved. A salt or bicarbonate aqueous solution is added at 0 ° C.
The alkyl metal salt can be formed by filtering the vicinity and the precipitate deposited.
更に、このようにして製造した塩、又はカルボン酸化
合物をテトラヒドロフランのようなエーテル類又はN,N
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキ
サメチルホスホロトリアミド、トリエチルホスフェート
のような極性溶媒類に溶解し、2当量のトリエチルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミンのような有機塩基、ナトリ
ウムヒドリドのような水素化アルカリ金属類又は炭酸水
素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような
アルカリ金属炭酸塩若しくは重炭酸塩を反応させること
によって生成した塩を使用し、これにアセトキシメチル
クロリド、プロピオニルオキシメチルブロミドのような
脂肪族アシルオキシメチルハライド類、1−メトキシカ
ルボニルオキシエチルクロリド、1−エトキシカルボニ
ルオキシエチルイオダイドのような1−低級アルコキシ
カルボニルオキシエチルハライド類、フタリジルハライ
ド類又は(2−オキソ−5−メチル−1,3−ジオキソレ
ン−4−イル)メチルハライド類を反応させることによ
り、生体内で加水分解されやすいカルボキシ基の保護基
で再び保護されたエステル体を製造することができる。
反応溶媒は反応を阻害するものでなければ特に限定はな
いが、好適には上記極性溶媒を使用する。反応温度及び
反応時間は出発物質、溶媒及び反応試薬の種類によって
異なるが、通常0乃至100℃の範囲で、0.5乃至10時間反
応させる。Further, the salt or carboxylic acid compound thus produced is converted into an ether such as tetrahydrofuran or N, N
Dissolved in polar solvents such as dimethylformamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphorotriamide, triethylphosphate and 2 equivalents of an organic base such as triethylamine, dicyclohexylamine, alkali metal hydrides such as sodium hydride or carbonic acid A salt formed by reacting an alkali metal carbonate or bicarbonate such as sodium hydrogen, sodium carbonate or potassium carbonate is used, and an aliphatic acyloxymethyl halide such as acetoxymethyl chloride or propionyloxymethyl bromide is used. , 1-methoxycarbonyloxyethyl chloride, 1-ethoxycarbonyloxyethyl iodide, such as 1-lower alkoxycarbonyloxyethyl halides, phthalidyl halides or (2-O By reacting (so-5-methyl-1,3-dioxolen-4-yl) methyl halides, it is possible to produce an ester protected again with a carboxy-protecting group which is easily hydrolyzed in vivo. .
The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but the above-mentioned polar solvent is preferably used. The reaction temperature and reaction time vary depending on the types of starting materials, solvents and reaction reagents, but the reaction is usually carried out at 0 to 100 ° C for 0.5 to 10 hours.
第17工程は、カルボン酸をアミドに変換する工程であ
り、第11、12、13工程に準じて行なわれる。The seventeenth step is a step of converting a carboxylic acid to an amide, and is performed according to the eleventh, twelfth, and thirteenth steps.
反応は、活性化された酸残基(例えば、酸ハライド、
酸無水物等)に変換し、相当するアミン(例えば、アン
モニアガス)と反応させる方法によって行なわれる。The reaction is carried out with activated acid residues (eg, acid halides,
Acid anhydride, etc.) and reacting with a corresponding amine (eg, ammonia gas).
活性化された酸残基としては、特に、トリエチルアミ
ンのような塩基の存在下に、クロロ蟻酸メチル、クロロ
蟻酸エチルのようなクロロ蟻酸エステル類と処理して得
られる酸無水物が好ましい。As the activated acid residue, an acid anhydride obtained by treating with a chloroformate such as methyl chloroformate or ethyl chloroformate in the presence of a base such as triethylamine is particularly preferable.
使用される溶媒としては、反応を阻止せず、出発物質
をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好
適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族
炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのような
ハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピルのよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類又はアセ
トニトリルのようなニトリル類を挙げることができる。
反応温度は−10℃乃至150℃で行なわれ、反応時間は、
主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類に
よって異なるが、通常10分乃至15時間である。The solvent used is not particularly limited as long as it does not hinder the reaction and dissolves the starting materials to some extent. Preferably, aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene; methylene chloride, Halogenated hydrocarbons such as chloroform; esters such as ethyl acetate and propyl acetate; ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, and dimethoxyethane; and nitriles such as acetonitrile.
The reaction temperature is from −10 ° C. to 150 ° C., and the reaction time is
Although it depends mainly on the reaction temperature, the starting compound and the type of solvent used, it is usually from 10 minutes to 15 hours.
尚、所望により、アミド基を保護基で保護することも
できる。Incidentally, the amide group can be protected with a protecting group, if desired.
第18工程は、化合物(XIII)の1位のエステルをアミ
ドに選択的に変換する工程であり、使用される試薬とし
ては、好適には、濃アンモニア水、アンモニアガス、メ
チルアミンのようなアミン類を挙げることができる。使
用される溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば、特に限定はないが、好適には、水、メタノール、エ
タノール、n−プロパノールのようなアルコール類、ジ
メチルホルムアミドのようなアミド類、ジメチルスルホ
キシドのようなスルホキシド類、アセトニトリルのよう
なニトリル類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類を挙げることができる。反応
は、所望により、ボンベンロール等を用いて加圧下に行
なうことが好ましい。反応は、通常、0乃至50℃で行な
われ、反応時間は、反応温度及び使用される溶媒の種類
により異なるが、1乃至24時間である。The eighteenth step is a step of selectively converting the ester at the 1-position of the compound (XIII) to an amide. The reagent to be used is preferably concentrated aqueous ammonia, ammonia gas, or an amine such as methylamine. And the like. The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but is preferably water, methanol, ethanol, alcohols such as n-propanol, amides such as dimethylformamide, and dimethyl. Examples thereof include sulfoxides such as sulfoxide, nitriles such as acetonitrile, and ethers such as ether, tetrahydrofuran and dioxane. The reaction is preferably carried out under pressure using a Bomben roll or the like, if desired. The reaction is usually carried out at 0 to 50 ° C., and the reaction time is 1 to 24 hours, depending on the reaction temperature and the kind of the solvent used.
[法]、[法]及び[法]は、一例として、化合
物(VII)を原料化合物とした反応を記載しているが、
原料化合物として、化合物(VIII)、(IX)、(X)、
(XI)、(XII)、(XIII)又は(XIV)を使用すること
により、相当する化合物をそれぞれ得ることができる。[Method], [Method] and [Method] describe, as an example, a reaction using compound (VII) as a starting compound.
Compounds (VIII), (IX), (X),
By using (XI), (XII), (XIII) or (XIV), the corresponding compounds can be obtained.
第19工程は、化合物(VII)の9員環内のカルボニル
基をフェニルスルホニルヒドラジンのようなアリールス
ルホニルヒドラジン、フェニルヒドラジンのようなアリ
ールヒドラジン等のヒドラジン類と反応させ、フェニル
スルホニルヒドラゾンのようなヒドラゾンに変換する工
程である。溶媒は反応を阻害しなければ特に限定はない
が、好適には、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドのよう
なスルホキシド類を挙げることができる。反応温度は、
通常、−10乃至50℃であり、反応時間は、反応温度及び
使用される溶媒の種類により異なるが、3乃至24時間で
ある。In a nineteenth step, the carbonyl group in the 9-membered ring of the compound (VII) is reacted with a hydrazine such as an arylsulfonylhydrazine such as phenylsulfonylhydrazine or an arylhydrazine such as phenylhydrazine to form a hydrazone such as phenylsulfonylhydrazone. This is the step of converting to. The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but preferably includes ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, and sulfoxides such as dimethylsulfoxide. . The reaction temperature is
Usually, it is -10 to 50 ° C, and the reaction time is 3 to 24 hours, depending on the reaction temperature and the kind of the solvent used.
第20工程は、化合物(VII)のエキソの二重結合をエ
ポキシ化し、化合物(XVI)を製造する工程である。The twentieth step is a step of epoxidizing the exo double bond of compound (VII) to produce compound (XVI).
使用される溶媒としては、好適には、水;酢酸のよう
な有機酸類;ジクロロエタン、メチレンクロリド、クロ
ロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;アセトン、メ
チルエチルケトンのようなケトン類;アセトニトリルの
ようなニトリル類;メタノール、エタノール、n−プロ
パノール、イソプロノール、t−ブタノール、イソブタ
ノール、イソアミルアルコールのようなアルコール類又
は上記溶媒の混合溶媒である。The solvent used is preferably water; organic acids such as acetic acid; halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, methylene chloride, chloroform; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; nitriles such as acetonitrile. An alcohol such as methanol, ethanol, n-propanol, isopronol, t-butanol, isobutanol, isoamyl alcohol or a mixed solvent of the above solvents.
使用される試薬としては、過酸化水素のような無機過
酸化物;メタクロロ過安息香酸、過酢酸のような有機過
酸、過酸化t−ブタノールのような過酸化アルコール等
のエポキシを生成できる有機過酸化物である。The reagents used include inorganic peroxides such as hydrogen peroxide; organic peracids such as metachloroperbenzoic acid and peracetic acid; and organic compounds capable of forming an epoxy such as a peroxide alcohol such as t-butanol peroxide. It is a peroxide.
反応温度は−20乃至100℃で行なわれ、反応時間は、
主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類に
よって異なるが、通常10分乃至15時間である。The reaction temperature is from -20 to 100 ° C, and the reaction time is
Although it depends mainly on the reaction temperature, the starting compound and the type of solvent used, it is usually from 10 minutes to 15 hours.
第21工程は、9員環のケトンを、水酸基に変換する工
程である。例えば、化合物(VII)を原料化合物として
使用することにより、水酸基の化合物(XVII)を製造す
ることができる。The twenty-first step is a step of converting a 9-membered ketone into a hydroxyl group. For example, a compound (XVII) having a hydroxyl group can be produced by using the compound (VII) as a starting compound.
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質
をある程度溶解するものであれば、特に限定はないが、
好適にはメタノール、エタノール、イソプロパノールの
ようなアルコール類;エーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類;ジ
メチルホルムアミドのようなアミド類、ジメチルスルホ
キシド、スルホランのようなスルホキシド類;水;酢酸
のような有機酸又はこれらの混合溶媒を挙げることがで
きる。The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent.
Preferably alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol; ethers, tetrahydrofuran,
Ethers such as dioxane and dimethoxyethane; amides such as dimethylformamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide and sulfolane; water; organic acids such as acetic acid; and mixed solvents thereof.
使用される試薬は、ケトンを水酸基に還元できるもの
であれば、特に限定はないが、好適には、シアン化水素
化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化
アルミニウムリチウム、K−セレクトライド、L−セレ
クトライドのような水素化アルカリ金属塩類又は亜鉛の
ような遷移金属である。The reagent used is not particularly limited as long as it can reduce a ketone to a hydroxyl group, but is preferably sodium borohydride, sodium borohydride, lithium aluminum hydride, K-selectride, L-select. Alkali metal hydrides such as rides or transition metals such as zinc.
反応温度は−20℃乃至120℃で行なわれ、反応時間
は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常10分乃至10時間である。The reaction temperature is from -20 ° C to 120 ° C, and the reaction time is usually from 10 minutes to 10 hours, varying mainly depending on the reaction temperature, the type of the starting compound or the type of solvent used.
第22工程は、特定の水酸基を立体反転させる工程であ
る。The twenty-second step is a step of stereoinverting a specific hydroxyl group.
従って、この製法を実施することにより、分子内の全
ての水酸基につき、全ての立体配位の化合物を製造する
ことができることとなる。Therefore, by carrying out this production method, it is possible to produce compounds having all steric coordination for all hydroxyl groups in the molecule.
水酸基の反転は、常法に従って、立体反転させたい水
酸基を、[法]において記載した「脂肪族アシル
化」;「芳香族アシル化」;「トリハロゲノメチル
化」;「低級アルカンスルホニル化」;「ハロゲノ低級
アルカンスルホニル化」;「アリールスルホニル化」し
た後、酢酸ナトリウム等と反応させ、最後にアセチル基
等を脱離させることによる。The inversion of the hydroxyl group is carried out according to a conventional method by converting the hydroxyl group to be stereo-inverted into “aliphatic acylation”; “aromatic acylation”; “trihalogenomethylation”; “lower alkane sulfonylation” described in [Method]; "Halogeno lower alkane sulfonylation"; by "aryl sulfonylation", followed by reaction with sodium acetate and the like, and finally elimination of an acetyl group and the like.
尚、チオ酢酸ナトリウム等と反応させ、アセチル基等
を除去することにより、メルカプト化合物を製造するこ
とができる(第23工程)。In addition, a mercapto compound can be produced by reacting with sodium thioacetate or the like to remove an acetyl group or the like (step 23).
更に、アンモニアと反応させることにより、アミノ化
合物を製造することができる(第24工程)。Furthermore, an amino compound can be produced by reacting with ammonia (24th step).
又、立体反転させたい水酸基を、常法に準じて相当す
るケトン基に酸化後、次いで還元することによっても実
施できる。Further, it can also be carried out by oxidizing a hydroxyl group to be stereo-inverted to a corresponding ketone group according to a conventional method, and then reducing it.
第25工程は、9員環内の保護されていない水酸基をハ
ロゲン原子に変換する方法である。The 25th step is a method for converting an unprotected hydroxyl group in a 9-membered ring into a halogen atom.
ハロゲン化試薬としては、好適には、チオニルクロリ
ド、チオニルブロミド、チオニルアイオダイドのような
チオニルハライド類;スルホニルクロリド、スルホニル
ブロミド、スルホニルアイオダイドのようなスルホニル
ハライド類;三塩化燐、三臭化燐、三沃化燐のような三
ハロゲン化燐類;五塩化燐、五臭化燐、五沃化燐のよう
な五ハロゲン化燐類;メチルトリフェニルホスホニウム
アイオダイド、メチルトリフェニルホスホニウムブロミ
ドのようなホスホニウムハライド類;トリフェニルホス
フィンのようなホスフィン類の存在下にN−ブロモコハ
ク酸イミドのようなN−ハロゲノコハク酸イミド又はオ
キシ塩化燐、オキシ臭化燐、オキシ沃化燐のようなオキ
シハロゲン化燐類を挙げることができ、好適には、ホス
ホニウムハライド類である。As the halogenating reagent, preferably, thionyl halides such as thionyl chloride, thionyl bromide and thionyl iodide; sulfonyl halides such as sulfonyl chloride, sulfonyl bromide and sulfonyl iodide; phosphorus trichloride, phosphorus tribromide Phosphorus trihalides such as phosphorus triiodide; phosphorus pentahalides such as phosphorus pentachloride, phosphorus pentabromide, and phosphorus pentaiodide; such as methyltriphenylphosphonium iodide and methyltriphenylphosphonium bromide Phosphonium halides; N-halogenosuccinimides such as N-bromosuccinimide or oxyhalogens such as phosphorus oxychloride, phosphorus oxybromide and phosphorus oxyiodide in the presence of phosphines such as triphenylphosphine Phosphorus halides, preferably phosphonium halides A.
使用される溶媒としては、好適には、ベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類;ジクロロエタン、メチ
レンクロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水
素類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタンのようなエーテル類;酢酸エチル、酢酸
メチルのようなエステル類;ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサホスホロトリアミドのよう
なアミド類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシ
ド類又はアセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類である。The solvent used is preferably an aromatic hydrocarbon such as benzene or toluene; a halogenated hydrocarbon such as dichloroethane, methylene chloride or chloroform; an ether such as ether, tetrahydrofuran, dioxane or dimethoxyethane. Esters; esters such as ethyl acetate and methyl acetate; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexaphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; and ketones such as acetone and methylethylketone.
反応温度は0乃至150℃で行なわれ、反応時間は、主
に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類によ
って異なるが、通常10分乃至20時間である。The reaction is carried out at a temperature of 0 to 150 ° C., and the reaction time is usually 10 minutes to 20 hours, although it depends mainly on the reaction temperature, the kind of the starting compound and the kind of the solvent used.
上記各製法において、反応終了後、本反応の目的化合
物は常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え、水洗
後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目
的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又
はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。In each of the above production methods, after completion of the reaction, the target compound of this reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture, washing with water, and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.
本願発明の原料化合物であるコーネギスチン(III)
は、次のようにして製造される。Cornegistin (III) which is a starting compound of the present invention
Is manufactured as follows.
先ず、原料化合物コーネギスチンを生産する上記SANK
21086株は鹿の糞より分離された不完全菌類の一種で、
その菌学的性質は以下の通りである。First, SANK, which produces the raw material compound Cornegistin,
21086 strain is a kind of incomplete fungi isolated from deer dung,
Its bacteriological properties are as follows.
麦芽寒天培地上に於ける生育は良好で24℃、7日間で
コロニーの直径は35〜43mmに達する。コロニーの表面は
始めは淡黄褐色(Straw yellow 3B4)で中央部が隆起
し、表面はビロード状で、やがて黄褐色(Greyish yell
ow 3C4)でやや粉状となる。コロニーの裏面は淡茶色
(Greyish orange 5B3)である。尚、色の表示は、“Th
e Methuen Handbook of Colour"(A.Kornerup等著、英
国ロンドン Eyre Methuen 1978年刊行)によった。チ
ャペック寒天培地上に於ける生育は麦芽寒天培地上の場
合よりも遅く、24℃、7日間でコロニーの直径は18〜22
mmであるが、コロニーの形状、色調は麦芽寒天培地上で
の状態とほとんど同じである。37℃では生育は極めて悪
いが分生子の形成は見られる。The growth on the malt agar medium is good, and the colony diameter reaches 35 to 43 mm in 7 days at 24 ° C. The surface of the colony is initially light yellowish brown (Straw yellow 3B4), the center is raised, the surface is velvety, and eventually yellowish brown (Greyish yell
ow 3C4) and slightly powdery. The back of the colony is light brown (Greyish orange 5B3). The color display is “Th
e Methuen Handbook of Color "(A. Kornerup et al., London, UK, published by Eyre Methuen, 1978). Growth on Chapek agar is slower than on malt agar, at 24 ° C for 7 days. Colony diameter 18-22
Although it is mm, the shape and color of the colony are almost the same as those on a malt agar medium. At 37 ° C, growth is extremely poor, but conidium formation is observed.
顕微鏡による観察の結果、菌糸は隔壁を有し、ほとん
ど無色、滑面でその径は2〜5μmである。分生子柄は
気生菌糸又は基底菌糸層から直接形成され、長さは20〜
120μm×2.5〜4.0μmである。分生子は分生子柄の先
端に散開型の分枝を輪生した分生子形成構造上のフイア
ライドから形成される場合と、ほとんど未分枝でフイア
ライドが形成される場合とがある。フイアライドは滑面
で10〜40μm×2.5〜4.0μmであり、先端は細長い管状
となる。分生子は淡褐色、滑面で長く連鎖し、亜球形乃
至卵形で3〜5.5×2〜4μmである。As a result of observation with a microscope, the mycelium has partition walls, is almost colorless, has a smooth surface, and a diameter of 2 to 5 μm. The conidiophores are formed directly from the aerial or basal mycelium and are 20-
120 μm × 2.5 to 4.0 μm. The conidium may be formed from a phyllide on a conidium-forming structure in which a divergent branch is formed at the tip of the conidiophore, or a phyllide may be formed almost unbranched. The fluoride has a smooth surface of 10 to 40 μm × 2.5 to 4.0 μm, and its tip is an elongated tube. The conidium is light brown, long chain with smooth surface, and subglobular to oval, 3 to 5.5 × 2 to 4 μm.
以上の如きSANK 21086株の諸形態を既知菌株のそれら
と比較検討したところ、R.A.Samson著、Studies in Myc
ology No.6、1974年、C.B.S.発行、14頁及びA.H.S.Brow
n及びG.Smith著、Transactions British Mycological S
ociety、40巻、1957年、40頁に記載されているペシロマ
イセス・バリオチとよく一致していた。従って、SANK 2
1086株をペシロマイセス・バリオチ・ベイニアー(Paec
ilomyces variotii Bainier)と同定した。SANK 21086
株は、ブダペスト条約により承認された通産省工業技術
院微生物工業技術研究所に、昭和62年4月24日、同条約
の規定による国際寄託がされており、その寄託番号はFE
RM BP−1351号である。When the various forms of the SANK 21086 strain as described above were compared with those of known strains, RASamson, Studies in Myc
ology No.6, 1974, CBS issued, page 14, and AHSBrow
n and G. Smith, Transactions British Mycological S
ociety, vol. 40, 1957, p. 40. Therefore, SANK 2
1086 shares of Pesilomyces barriot beinier (Paec
ilomyces variotii Bainier). SANK 21086
The strain was deposited on April 24, 1987, with the Ministry of International Trade and Industry, approved by the Budapest Treaty, by the Institute of Microbial Engineering, under the provisions of the treaty.
RM BP-1351.
以上SANK 21086株について説明したが、これら菌類の
諸性質は一定したものではなく、自然的、人工的に容易
に変化することは周知のとおりであり、本発明で使用し
うる菌株はペシロマイセス属に属しコーネギスチンを生
産する菌株全てを包含するものである。Although the description of the SANK 21086 strain has been described above, it is well known that the properties of these fungi are not constant and are easily changed naturally and artificially, and the strains usable in the present invention belong to the genus Pesilomyces. It includes all strains of the genus belonging to Cornegistin.
培養は、一般微生物における培養方法に準じて行なわ
れ、液体培地中での振とう培養或いは通気撹拌培養によ
るのが好ましい。培地成分としては、例えば、炭素源と
してブドウ糖、グリセロール、マルトース、シュクロー
ス、マンニット、糖蜜、デキストリン、澱粉、大豆油、
綿実油等が、窒素源としては大豆粉、落花生粉、綿実
粉、ファーマミン、魚粉、コーン・スチープ・リカー、
ペプトン、肉エキス、イースト、イースト・エキス、硝
酸ソーダ、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム等が、
また無機塩としては、食塩、燐酸塩、炭酸カルシウム等
が使用される。又、必要に応じて微量の金属塩が適宜添
加される。液体培養に際してはシリコン油、植物油、界
面活性剤等が消泡剤として使用される。The cultivation is carried out in accordance with the culturing method for general microorganisms, and is preferably performed by shaking culturing in a liquid medium or by aeration and stirring culturing. As the medium components, for example, glucose as a carbon source, glycerol, maltose, sucrose, mannitol, molasses, dextrin, starch, soybean oil,
Cottonseed oil, etc., as a nitrogen source, soybean flour, peanut flour, cottonseed flour, pharmamine, fish meal, corn steep liquor,
Peptone, meat extract, yeast, yeast extract, sodium nitrate, ammonium nitrate, ammonium sulfate, etc.
Salts, phosphates, calcium carbonate and the like are used as the inorganic salts. Also, a trace amount of a metal salt is appropriately added as needed. At the time of liquid culture, silicone oil, vegetable oil, surfactant and the like are used as an antifoaming agent.
培地のpHは弱酸性乃至中性附近、培養温度は20〜30
℃、特に24℃前後が好ましい。培養の経過に伴って培養
液中に生産されるコーネギスチンの力価の経時的変化は
タイヌビエの茎葉処理による殺草活性により測定され
る。通常150〜200時間の培養でコーネギスチンの生産量
は最高値に達する。The pH of the medium is slightly acidic to near neutral, and the culture temperature is 20 to 30.
° C, especially around 24 ° C. The time-dependent change in the titer of Cornegistin produced in the culture solution over the course of the culture is measured by the herbicidal activity of the foliage treatment of the rice plant. Usually, the cornegistin production reaches the highest value after culturing for 150 to 200 hours.
主として培養液中の液体部分に存在するコーネギスチ
ンは培養終了後、菌体、その他の固形部分を珪藻土を濾
過助剤とする濾過操作、或いは遠心分離によって除去
し、その濾液或いは上清中に存在するコーネギスチンを
その物理化学的性状を利用することにより、抽出、精製
することができる。吸着剤としては、例えば、活性炭、
或いは吸着用樹脂であるアンバーライトXAD−2,XAD−4,
XAD−7等(ローム・アンド・ハース社製)やダイヤイ
オンHP10,HP20,CHP20P,HP50等(三菱化成工業(株)社
製)が使用され、コーネギスチンを含む液から上記の如
き吸着剤の層を通過させて、含まれる不純物を吸着させ
て取りのぞくか、コーネギスチンを吸着させた後、メタ
ノール水、アセトン水、n−ブタノール水等を用いて溶
出する。又、水と混和しない有機溶媒、例えば、クロロ
ホルム、酢酸エチル、n−ブタノール等の単独又はそれ
らの組み合せにより培養濾液又は水溶液から中性乃至酸
性で抽出、精製することも可能である。Cornegistin, which is mainly present in the liquid portion of the culture solution, is removed by filtration or centrifugation using diatomaceous earth as a filter aid after culturing, and is present in the filtrate or supernatant. Cornegistin can be extracted and purified by utilizing its physicochemical properties. As the adsorbent, for example, activated carbon,
Alternatively, Amberlite XAD-2, XAD-4,
XAD-7 (manufactured by Rohm and Haas) and Diaion HP10, HP20, CHP20P, HP50 (manufactured by Mitsubishi Kasei Kogyo KK) are used. To adsorb impurities contained therein and remove them, or after adsorbing Cornegistin, elute with methanol water, acetone water, n-butanol water or the like. It is also possible to neutrally and acidicly extract and purify from the culture filtrate or aqueous solution by using an organic solvent immiscible with water, for example, chloroform, ethyl acetate, n-butanol or the like alone or in combination.
更にコーネギスチンを精製するためにはシリカゲル、
フロジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラ
フィーやセファデックスLH−20(ファルマシア社製)等
を用いた分配カラムクロマトグラフィー並びに順相、逆
相カラムを用いた液体クロマトグラフィーで精製するこ
とができる。これらの精製手段を単独或いは適宜組み合
せ、反復して用いることによってコーネギスチンを精製
することができる。In order to further purify Cornegistin, silica gel,
It can be purified by adsorption column chromatography using a carrier such as Furozil, distribution column chromatography using Sephadex LH-20 (manufactured by Pharmacia), etc., and liquid chromatography using normal-phase and reverse-phase columns. . Cornegistin can be purified by repeatedly using these purification means alone or in combination as appropriate.
[効果] 本発明の新規コーネギスチン誘導体は植物に対して除
草作用を示す。本発明化合物は発芽前及び発芽後のいず
れの処理方法によっても種々のイネ科及び広葉雑草に対
して優れた除草効果を示し、殊に、茎葉処理除草剤とし
て有用である。例えばノビエ、タマガヤツリ、コナギ、
アゼナ、ミゾハコベ、キカシグサ、ホタルイ、マツバイ
等の水田の狭葉及び広葉雑草や、メヒシバ、エノコログ
サ、オヒシバ、スズメノヒエ、スズメノテツポウ、ハコ
ベ、タデ類、ヒユ類、イチビ、シロザ、アメリカキンコ
ジカ、オナモミ、ブタクサ、ナズナ、タネツケバナ、セ
ンダングサ、ヤエムグラ、ソバカズラ等の畑地の狭葉及
び広葉雑草を防除する事ができる。更に、水田、畑地の
みならず、果樹園、桑園、非農耕地においても使用する
事ができる。[Effect] The novel Cornegistin derivative of the present invention exhibits herbicidal action on plants. The compound of the present invention exhibits an excellent herbicidal effect against various grasses and broadleaf weeds by both pre-emergence and post-emergence treatment methods, and is particularly useful as a foliar treatment herbicide. For example, Nobie, Tamayatsuri, Konagi,
Narrow leaf and broad leaf weeds of paddy fields such as Azena, Mizohakobe, Kikashigusa, Firefly, Matsubai, etc .; It can control narrow leaves and broad-leaved weeds in fields such as napsuna, tanecane, sendangusa, yaegura and buckwheat. Furthermore, it can be used not only in paddy fields and uplands, but also in orchards, mulberry fields, and non-cultivated lands.
特に本発明化合物は、畑地に生育する広葉雑草に強い
除草活性を示す。例えば畑地における茎葉処理で、アオ
ビユ、スベリヒユ、オナモミ、センダングサ、ブタク
サ、アレチウリ、コアカザ、サナエタデ、オオイヌタ
デ、ハコベ、ナズナ、ミミナグサ、シロバナチヨウセン
アサガオ、マルバアサガオ、イヌホウズキ、ワルナス
ビ、ホトケノザ、オオバコ、イチビ、アメリカキンコジ
カ、カタバミ、ヤエムグラ、ソバカズラ、イヌノフグ
リ、ケシ等の雑草に優れた除草効果を示す。In particular, the compounds of the present invention exhibit strong herbicidal activity against broadleaf weeds growing in the field. For example, in the foliage treatment in the field, Aobuyu, purslane, Onamomi, Sendangusa, Ragweed, Arechiuri, Koakazana, Sanaetade, Oinutade, Hakobe, Nazuna, Miminagusa, Shirobanachiyosenasaagao, Marubaasagao, Inuhobuzuoka, Inuhobazoi, Inouho-busa, Inuho-basu, Inuho-bazoi, Inuho-bazoi, Inuho-buki-o-buki, Inuho-bazoi, Inuho-bazoi, Inuho-bazoi, Insect, It shows an excellent herbicidal effect on weeds such as calf deer, oxalis, yamgra, buckwheat, Inoufuguri and poppy.
本発明の除草剤を調製するには、こうして得たコーネ
ギスチン誘導体を担体で希釈し、必要に応じて他の補助
剤を加えることにより、粉剤、粗粉剤、粒剤、微粒剤、
水和剤、水溶剤、溶剤等に調製することができる。もち
ろん精製の任意の段階で精製を中止し、粗製物を有効成
分とすることもできる。ここでいう担体とは、有効成分
の植物への到達性を助け、又は、有効成分の貯蔵、輸
送、或いは取扱を容易にするために除草剤に混合される
合成又は天然の無機又は有機物質を意味する。To prepare the herbicide of the present invention, the thus obtained conegistin derivative is diluted with a carrier, and if necessary, other adjuvants are added, so that powders, coarse powders, granules, fine granules,
It can be prepared into a wettable powder, a water solvent, a solvent and the like. Of course, the purification can be stopped at any stage of the purification, and the crude product can be used as the active ingredient. A carrier as used herein refers to a synthetic or natural inorganic or organic substance that is mixed with a herbicide to aid in the accessibility of the active ingredient to the plant or to facilitate storage, transport, or handling of the active ingredient. means.
適当な固体担体としてはクレー、タルク、珪藻土、カ
オリン、ベントナイト、炭酸カルシウム等の無機物質、
クマロン樹脂、アルキド樹脂及びポリ塩化ビニル等の合
成樹脂、カルナバロウ、パラフィンロウ等のワックス等
或いはくるみ、ナッツ等の堅果の殻、大豆粉等が挙げら
れる。Suitable solid carriers include clay, talc, diatomaceous earth, kaolin, bentonite, inorganic substances such as calcium carbonate,
Synthetic resins such as coumarone resin, alkyd resin and polyvinyl chloride; waxes such as carnauba wax and paraffin wax; or nut shells such as walnuts, nuts, and soybean flour.
適当な液体担体の例としては、例えば水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコー
ル等のアルコール類、キシレン、メチルナフタリン、ソ
ルベントナフサ等の炭化水素類等が挙げられる。分散、
湿潤、拡展等の目的で使用される界面活性剤は、イオン
性でも非イオン性でもよい。適当なイオン性界面活性剤
としては、高級脂肪酸の塩である石けん類、高級アルコ
ール硫酸エステル塩、高級アルキルエーテル硫酸エステ
ル塩のような硫酸エステル塩類、アルキルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム、ジアルキルスルホサクシネートのナ
トリウム塩のようなスルホン酸塩類、リン酸エステル塩
類、カルボン酸及び/又はスルホン酸系ポリソープ類の
ようなアニオン系界面活性剤、アミン塩型及び第4級ア
ンモニウム塩型のカチオン系界面活性剤、アミノ酸型及
びベタイン型両性界面活性剤等を挙げることができる。Examples of suitable liquid carriers include, for example, water, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, and ethylene glycol, and hydrocarbons such as xylene, methylnaphthalene, and solvent naphtha. dispersion,
Surfactants used for purposes such as wetting and spreading may be ionic or non-ionic. Suitable ionic surfactants include soaps such as higher fatty acid salts, higher alcohol sulfates, higher ester sulfates such as alkyl ether sulfates, sodium alkylbenzene sulfonates, and sodium salts of dialkyl sulfosuccinates. Anionic surfactants such as sulfonic acid salts, phosphoric acid ester salts, carboxylic acid and / or sulfonic acid-based polysoaps, amine salt type and quaternary ammonium salt type cationic surfactants, amino acid type And betaine-type amphoteric surfactants.
適当な非イオン性界面活性剤としては、例えば脂肪酸
のグリセライド、脂肪酸の蔗糖エステル、高級脂肪族ア
ルコールの酸化エチレン縮合物、高級脂肪酸の酸化エチ
レン縮合物、アルキルフェノール若しくはアルキルナフ
トールの酸化エチレン縮合物及び酸化エチレンと酸化プ
ロピレンの共重合体等を挙げることができる。Suitable nonionic surfactants include, for example, glycerides of fatty acids, sucrose esters of fatty acids, ethylene oxide condensates of higher fatty alcohols, ethylene oxide condensates of higher fatty acids, ethylene oxide condensates of alkyl phenols or alkyl naphthols and oxidants. Copolymers of ethylene and propylene oxide can be exemplified.
本発明の除草剤は他の成分、例えばゼラチン、アラビ
アゴム、カゼイン、ポリビニルアルコール、カルボキシ
メチルセルロースのような保護コロイド剤、ポリリン酸
ナトリウムのような分散剤、ベントナイト、ビーガムの
ような無機分散剤及び安定剤、結合剤、凍結防止剤のよ
うな一般に農薬用に許容されるその他の成分等を含有す
ることもある。The herbicides of the present invention may comprise other ingredients such as gelatin, acacia, casein, polyvinyl alcohol, protective colloids such as carboxymethylcellulose, dispersants such as sodium polyphosphate, inorganic dispersants such as bentonite, veegum, and stabilizing agents. It may also contain other ingredients generally acceptable for pesticides, such as agents, binders, and antifreezes.
本発明の除草剤は他の除草剤、植物生長調節剤等と混
合し適用範囲を拡大し、省力化をはかることができる。The herbicide of the present invention can be mixed with other herbicides, plant growth regulators and the like to expand the range of application and save labor.
次に本発明の除草剤の効果を試験例をあげて説明す
る。Next, the effect of the herbicide of the present invention will be described with reference to test examples.
試験例 茎葉処理除草試験 縦7.5cm、横20cm、高さ7cmのプラスチック製ポットに
土をつめ、イネ科雑草5種、広葉雑草5種計10種の植物
種子をまき、その上に約1cm程度覆土した。ポットは温
室内のベンチの中につめこんだバーミキュライトの中に
埋め、給水はバーミキュライトを通じて間接的に行ない
播種した植物を約2週間生育させて、製剤例1により調
製した各化合物の1000ppmを含有する水和剤の薬液をポ
ットあたり10ml植物体の茎葉に直接散布した。散布後の
経過を観察し14日目に調査を行なった。その結果を第1
表に示す。なお除草効果の判定は下記の基準によって得
たものである。Test example Foliage treatment Weeding test A soil is filled in a plastic pot of 7.5 cm in length, 20 cm in width, and 7 cm in height, and 5 kinds of grasses and 5 kinds of broadleaf weeds are sown, and a total of 10 kinds of plant seeds are sown, and about 1 cm is put on it. Covered soil. The pot is buried in vermiculite packed in a bench in a greenhouse, water is supplied indirectly through vermiculite, and the seeded plant is grown for about 2 weeks. Water containing 1000 ppm of each compound prepared according to Formulation Example 1 is prepared. The medicinal solution of the Japanese medicine was directly sprayed on the foliage of 10 ml of the plant per pot. The progress after spraying was observed, and a survey was performed on the 14th day. The result is
It is shown in the table. The determination of the herbicidal effect was obtained based on the following criteria.
無処理のポットの雑草に対し とした。Against untreated pot weeds And
試験に使用した雑草は、下記の通りである。 The weeds used in the test are as follows.
上記結果から明らかなように、本願発明に係る化合物
は、イネ科及び広葉雑草の広範囲の雑草に対して、生育
期の茎葉処理で優れた除草効果を示した。 As is clear from the above results, the compound according to the present invention showed an excellent herbicidal effect on foliage in a wide range of grasses and broadleaf weeds by foliar treatment during the growing season.
以下に、実施例及び製剤例を挙げて、更に詳細に説明
する。Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Preparation Examples.
尚、コーネギスチンの製造法については、本発明は、
これらの方法に限定されるものではなく、培養基の種
類、培養条件、採取、精製方法等は大幅に変えうるもの
であることは言うまでもない。In addition, about the manufacturing method of Cornegistin, this invention
It is needless to say that the present invention is not limited to these methods, and that the type of culture medium, culture conditions, collection, purification methods, and the like can be greatly changed.
実施例1 ペシロマイセス・バリオチSANK 21086株を下記の組成
の培地80mlを含む500ml容三角フラスコに一白金耳接種
し2.0r.p.m.の回転振盪培養機により26℃で168時間培養
した。Example 1 One loopful of Pecillomyces varioti SANK 21086 strain was inoculated into a 500 ml Erlenmeyer flask containing 80 ml of a medium having the following composition, and cultured at 26 ° C. for 168 hours using a 2.0 rpm rotary shaking incubator.
培養組成: グリセリン 50g 生ジャガイモ 50g イーストエキス 5g 麦芽エキス 5g 脱イオン水 1000ml (pH6.0) この培養液0.5mlを同一の培地80mlを含む500ml容三角
フラスコ25本に接種し、200r.p.m.の回転振盪培養機に
より26℃で192時間培養した。得られた培養液2lに濾過
助剤としてセライト545(米国ジョンズ・マンビル・プ
ロダクト・コーポレーション製)を200g加えて濾過する
ことにより培養濾液1.7l(pH6.0)が得られた。培養濾
液をダイヤイオンHP20(三菱化成工業(株)社製)300m
lのカラムに通し活性物質を吸着させた。11の脱イオン
水で水洗後、80%アセトン水1lで溶出し、得られた溶出
液1lを減圧下濃縮し、凍結乾燥することにより、活性区
分である粗粉末3gが得られた。この粗粉末2.7gを400ml
の脱イオン水に溶解し、pH2.5に調整後酢酸エチル400ml
で2回抽出しコーネギスチンを含む酢酸エチル800mlを
得た。抽出液800mlを0.1Mリン酸2ナトリウム溶液300ml
で2回洗浄、次いで飽和食塩水300mlで2回洗浄して無
水硫酸ナトリウムで脱水後、減圧下濃縮しコーネギスチ
ンを含む650mgの油状物を得た。Culture composition: glycerin 50 g raw potato 50 g yeast extract 5 g malt extract 5 g deionized water 1000 ml (pH 6.0) Inoculate 0.5 ml of this culture into 25 500 ml Erlenmeyer flasks containing 80 ml of the same medium and rotate at 200 rpm. The cells were cultured at 26 ° C. for 192 hours using a shaking incubator. 200 g of Celite 545 (manufactured by Johns Manville Product Corporation, USA) was added as a filter aid to 2 l of the obtained culture solution, followed by filtration to obtain a culture filtrate (1.7 l, pH 6.0). The culture filtrate is 300m from Diaion HP20 (Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.)
The active substance was adsorbed through a column of l. After washing with 11 deionized water, elution was carried out with 1 liter of 80% acetone water, and 1 liter of the obtained eluate was concentrated under reduced pressure and lyophilized to obtain 3 g of a coarse powder which was an active class. 2.7 g of this coarse powder in 400 ml
Dissolve in deionized water and adjust to pH 2.5, then 400 ml of ethyl acetate
And extracted twice to obtain 800 ml of ethyl acetate containing Cornegistin. 800 ml of extract 300 ml of 0.1 M disodium phosphate solution
, Then twice with 300 ml of saturated saline, dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain 650 mg of an oil containing Cornegistin.
更に、この油状物を酢酸エチル:クロロホルム(1:
1)で平衡化し充填したセファデックスLH−20(ファル
マシア社製)の150mlのカラムに酢酸エチル:クロロホ
ルム(1:1)で溶解して吸着させた後、同混合溶媒系で
展開溶出した。溶出液を10mlずつ分画しコーネギスチン
を含むフラクションNo22〜28を集め減圧下濃縮し純度約
70%のコーネギスチン標品100mgを得た。Further, this oily substance was mixed with ethyl acetate: chloroform (1: 1).
After dissolving and adsorbing on a 150 ml column of Sephadex LH-20 (manufactured by Pharmacia) packed and equilibrated in 1) with ethyl acetate: chloroform (1: 1), the mixture was developed and eluted with the same mixed solvent system. The eluate was fractionated in 10 ml portions, and fractions 22 to 28 containing Cornegistin were collected and concentrated under reduced pressure to a purity of about
100 mg of a 70% Cornegistin preparation was obtained.
融点:100〜103℃ 比旋光度:[α]D 23+168.3゜(c=1.0、CHCl3) 紫外線吸収スペクトル:λmax nm(E1cm 1%) メタノール中で測定した紫外線吸収スペクトルは238n
m(131)に極大吸収を示す。Melting point: 100-103 ° C. Specific rotation: [α] D 23 + 168.3 ° (c = 1.0, CHCl 3 ) Ultraviolet absorption spectrum: λmax nm (E 1 cm 1% ) The ultraviolet absorption spectrum measured in methanol is 238n.
The maximum absorption is shown at m (131).
赤外吸収スペクトル:νmax(KBr)cm−1:3400, 3300,2900,1850(W),1820(W),1760,1710, 1640,1440,1300,1260,1220,1160,1060, 1000,920,800,760. 核磁気共鳴スペクトル:δ(ppm) 重クロロホルム中、内部基準にTMS(テトラメチルシ
ラン)を使用して測定した1H−核磁気共鳴吸収スペクト
ル(270MHz)は次の通りである。Infrared absorption spectrum: ν max (KBr) cm-1: 3400, 3300, 2900, 1850 (W), 1820 (W), 1760, 1710, 1640, 1440, 1300, 1260, 1220, 1160, 1060, 1000, 920,800,760. Nuclear magnetic resonance spectrum: δ (ppm) 1 H-nuclear magnetic resonance absorption spectrum (270 MHz) measured in deuterated chloroform using TMS (tetramethylsilane) as an internal standard is as follows.
0.93(3H,t),1.29(2H,m),1.70(3H,d),1.90−2.1
(2H,m),2.57(1H,dd),3.15(1H,d),3.4(3H,m),4.
07(1H,d),5.12(1H,dd),5.85(1H,dd)。0.93 (3H, t), 1.29 (2H, m), 1.70 (3H, d), 1.90-2.1
(2H, m), 2.57 (1H, dd), 3.15 (1H, d), 3.4 (3H, m), 4.
07 (1H, d), 5.12 (1H, dd), 5.85 (1H, dd).
実施例2 実施例1と全く同様の方法で培養し、得られた培養濾
液1.81をpH2.5に調整後、酢酸エチル1.5lで2回抽出し
コーネギスチンを含む酢酸エチル抽出液3lを得た。抽出
液を0.1Mリン酸2ナトリウム溶液1lで2回、次いで飽和
食塩水1lで2回洗浄し無水硫酸ナトリウムで脱水後、減
圧下濃縮し油状物700mgを得た。この油状物をあらかじ
め酢酸エチル:クロロホルム(1:1)で平衡化し充填し
たセファデックスLH−20(ファルマシア社製)のカラム
80mlに同混合溶媒系で溶解して吸着させた後同一溶媒で
展開溶出した。溶出液を10mlずつ分画しコーネギスチン
を含むフラクションNo13〜18を集め、減圧下濃縮し再度
同一のセファデックスLH−20カラムに付し溶出分画を濃
縮することにより油状物290mgを得た。Example 2 After culturing in the same manner as in Example 1, the obtained culture filtrate 1.81 was adjusted to pH 2.5, and then extracted twice with 1.5 l of ethyl acetate to obtain 3 l of an ethyl acetate extract containing conegistin. The extract was washed twice with 1 liter of a 0.1 M disodium phosphate solution and then twice with 1 liter of saturated saline, dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain 700 mg of an oily substance. A column of Sephadex LH-20 (manufactured by Pharmacia) which was preliminarily equilibrated and packed with ethyl acetate: chloroform (1: 1).
After dissolving and adsorbing in 80 ml with the same mixed solvent system, it was eluted with the same solvent. The eluate was fractionated by 10 ml, fractions Nos. 13 to 18 containing Cornegistin were collected, concentrated under reduced pressure, applied again to the same Sephadex LH-20 column, and concentrated to obtain 290 mg of an oil.
この部分精製品290mgを逆相カラムを用いた高速液体
クロマトグラフィーを行い精製した。すなわち40%アセ
トニトリル−水の混合溶媒であらかじめ平衡化した逆相
カラム((YMC;S−343 CI−15 ODS)山村化学工業
(株)社製)に試料を注入後UV吸収240nmでモニターし
ながら同一の混合溶媒で流速5ml/分で展開溶出を行い溶
出時間30〜39分の間を分取した。同様の操作を3回行っ
て純度約90%のコーネギスチン185mgを得た。290 mg of this partially purified product was purified by high performance liquid chromatography using a reversed phase column. That is, after injecting a sample into a reverse phase column ((YMC; S-343 CI-15 ODS) manufactured by Yamamura Chemical Industry Co., Ltd.) previously equilibrated with a mixed solvent of 40% acetonitrile-water, the sample was monitored at UV absorption 240 nm. Elution was performed with the same mixed solvent at a flow rate of 5 ml / min. The same operation was performed three times to obtain 185 mg of Cornegistin having a purity of about 90%.
実施例3 ペシロマイセス・バリオチSANK 21086株を実施例1と
同一組成の培地80mlを含む500ml容三角フラスコに一白
金耳接種し、200r.p.m.の回転振盪培養機により26℃で1
44時間培養した。この培養液75mlを同一培地15lを含む3
0l容ジャーファーメンター2基にそれぞれ接種し26℃、
撹拌150〜180回転/分、通気量15l/分で192時間通気撹
拌培養した。得られた培養液25lに濾過助剤としてセラ
イト545を1kg加えて濾過すると濾液19lが得られた。こ
の培養濾液をpH2.5に調整して、はじめ19l、次いで9.5l
の酢酸エチルで各1回ずつ抽出し、合計約28lの酢酸エ
チル抽出液を得た。次いでこの抽出液を0.1Mリン酸−2
−ナトリウム溶液5lで3回、飽和食塩水5lで2回それぞ
れ洗浄し無水硫酸ナトリウムで脱水後、減圧下濃縮して
油状物20.2gを得た。油状物20.2gを酢酸エチル:クロロ
ホルム(1:1)であらかじめ平衡化し、充填したセファ
デックスLH−20の500mlのカラムに同一の混合溶媒に溶
解して吸着させた後、同混合溶媒系で展開溶出した。溶
出液を20mlずつ分画しコーネギスチンを含むフラクショ
ンNo35〜52を集め減圧下濃縮し油状物7.56gを得た。こ
の全量を10mlのメチレンクロライドに溶解し、室温に放
置することによりコーネギスチンの無色針状結晶3.7gを
得た。Example 3 One loopful of a Psillomyces varioti SANK 21086 strain was inoculated into a 500 ml Erlenmeyer flask containing 80 ml of a medium having the same composition as in Example 1, and incubated at 26 ° C. using a 200 rpm rotatory shaking incubator.
Incubated for 44 hours. 75 ml of this culture solution containing 15 l of the same medium
Two 0l jar fermenters were inoculated at 26 ° C,
The culture was carried out with aeration and agitation at a speed of 150 to 180 rotations / min and an aeration of 15 l / min for 192 hours. 1 kg of Celite 545 was added as a filter aid to 25 l of the obtained culture solution, followed by filtration to obtain 19 l of the filtrate. The culture filtrate was adjusted to pH 2.5, first 19 l, then 9.5 l
, And extracted once each with ethyl acetate to obtain a total of about 28 l of ethyl acetate extract. Then, the extract was mixed with 0.1 M phosphoric acid-2.
-Washed three times with 5 l of sodium solution and twice with 5 l of saturated saline, dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain 20.2 g of an oily substance. 20.2 g of the oily substance was equilibrated in advance with ethyl acetate: chloroform (1: 1), dissolved in the same mixed solvent and adsorbed on a packed Sephadex LH-20 500 ml column, and developed with the same mixed solvent system. Eluted. The eluate was fractionated in 20 ml portions, and fractions No. 35 to 52 containing Cornegistin were collected and concentrated under reduced pressure to obtain 7.56 g of an oily substance. The whole amount was dissolved in 10 ml of methylene chloride and left at room temperature to obtain 3.7 g of colorless needle crystals of Cornegistin.
実施例4 (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4,7−ジ−
(イソプロピルジメチルシリルオキシ)−5−オキソ−
8(Z)−エチリデン−1−シクロノネン−1,2−ジカ
ルボン酸無水物(化合物1); (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4−イソプ
ロピルジメチルシリルオキシ−5−オキソ−7−ヒドロ
キシ−8(Z)−エチリデン−1−シクロノネン−1,2
−ジカルボン酸無水物(化合物2);及び (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4−ヒドロ
キシ−5−オキソ−7−イソプロピルジメチルシリルオ
キシ−8−(Z)−エチリデン−1−シクロノネン−1,
2−ジカルボン酸無水物(化合物3) コーネギスチン(308mg、1ミリモル)のジメチルホ
ルムアミド(DMF)(4ml)溶液に、ジメチルイソプロピ
ルシリルクロライド(328mg、2.4ミリモル)のDMF(4m
l)溶液とイミダゾール(163mg、2.4ミリモル)のDMF
(5ml)溶液を室温で順次滴下し、2時間撹拌した。反
応溶液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出、水洗、芒硝
で乾燥後、溶媒を留去し、499mgの粗生成物を得た。こ
れをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、n−
ヘキサン:酢酸エチル(15:1)で溶出し、化合物1を23
5mg(収率46%)得た。次いで、n−ヘキサン:酢酸エ
チル(5:1)で溶出し、化合物2及び3を、各々123mg
(収率30%)、10mg(3%)得た。Example 4 (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4,7-di-
(Isopropyldimethylsilyloxy) -5-oxo-
8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene-1,2-dicarboxylic anhydride (compound 1); (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4-isopropyldimethylsilyloxy-5- Oxo-7-hydroxy-8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene-1,2
Dicarboxylic anhydride (compound 2); and (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4-hydroxy-5-oxo-7-isopropyldimethylsilyloxy-8- (Z) -ethylidene -1-cyclononene-1,
2-Dicarboxylic anhydride (Compound 3) In a solution of Cornegistin (308 mg, 1 mmol) in dimethylformamide (DMF) (4 ml), dimethylisopropylsilyl chloride (328 mg, 2.4 mmol) in DMF (4 m
l) DMF in solution and imidazole (163 mg, 2.4 mmol)
(5 ml) The solution was sequentially added dropwise at room temperature and stirred for 2 hours. The reaction solution was poured into ice water, extracted with ethyl acetate, washed with water and dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain 499 mg of a crude product. This was subjected to silica gel column chromatography to give n-
The compound 1 was eluted with hexane: ethyl acetate (15: 1).
5 mg (46% yield) was obtained. Then, elution was performed with n-hexane: ethyl acetate (5: 1), and Compounds 2 and 3 were each dissolved in 123 mg.
(Yield 30%), 10 mg (3%) were obtained.
[化合物1] 油状物。[Compound 1] Oil.
NMRスペクトラム(CDCl3)δppm:5.65(d,J=6.9Hz,1
H);4.90(b,1H);3.85(d,J=8.9Hz,1H);3.42(dt,J
=10.5,4.8Hz);3.5〜3.3(b,1H);3.22(ABq,J=13.7H
z,2H);2.38(dd,J=13.3,5.6Hz,1H);2.1〜1.8(b,2
H);1.73(d,J=7.2Hz,3H);1.4〜1.1(m.2H);1.0〜0.
8(m,2H);0.97(d,J=5.2Hz,6H);0.95(d,J=4.8Hz,6
H);0.89(t,J=4.8Hz,3H);0.10(s,3H);0.09(s,3
H);0.08(s,3H);0.04(s,3H). IRスペクトラム(ヌジョール)νcm−1:1860,1815,177
0,1700. マススペクトル(m/z):508(M+);465(M−CO2+
1+). Rf値:0.43(ヘキサン/酢酸エチル=10/1) [化合物2] 油状物。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.65 (d, J = 6.9 Hz, 1
H); 4.90 (b, 1H); 3.85 (d, J = 8.9 Hz, 1H); 3.42 (dt, J
= 10.5,4.8Hz); 3.5-3.3 (b, 1H); 3.22 (ABq, J = 13.7H
z, 2H); 2.38 (dd, J = 13.3, 5.6 Hz, 1H); 2.1 to 1.8 (b, 2
H); 1.73 (d, J = 7.2 Hz, 3H); 1.4-1.1 (m.2H); 1.0-0.
8 (m, 2H); 0.97 (d, J = 5.2 Hz, 6H); 0.95 (d, J = 4.8 Hz, 6
H); 0.89 (t, J = 4.8 Hz, 3H); 0.10 (s, 3H); 0.09 (s, 3
H); 0.08 (s, 3H); 0.04 (s, 3H). IR spectrum (nujol) νcm-1: 1860,1815,177
. 0,1700 mass spectrum (m / z): 508 ( M +); 465 (M-CO 2 +
1+ ). Rf value: 0.43 (hexane / ethyl acetate = 10/1) [Compound 2] Oil.
NMRスペクトラム(CDCl3)δppm:5.72(q,J=6.9Hz,1
H);5.02(dd,J=5.6,4.4Hz,1H);4.01(d,J=8.5Hz,1
H);3.73(d,J=10.1Hz,1H);3.41(dt,J=8.5,4.4Hz,1
H);3.32(dd,J=13.3,5.6Hz,1H);3.22(ABq,J=13.7H
z,2H);2.41(dd,J=13.3,4.4Hz,1H);2.2〜2.0(m,1
H);2.0〜1.9(m,1H);1.67(d,J=7.3Hz,3H);1.4〜1.
2(m,2H);1.01(d,J=4.8Hz,6H);1.0〜0.9(m,1H);
0.92(t,J=7.3Hz,3H);0.16(s,3H);0.14(s,3H). IRスペクトラム(ヌジョール)νcm−1:3500,1855,181
5,1760,1700. マススペクトル(m/z):408(M+);365(M+1−C
O2 +). Rf値:0.38(ヘキサン/酢酸エチル=5/1) [化合物3] 油状物。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.72 (q, J = 6.9 Hz, 1
H); 5.02 (dd, J = 5.6,4.4Hz, 1H); 4.01 (d, J = 8.5Hz, 1
H); 3.73 (d, J = 10.1Hz, 1H); 3.41 (dt, J = 8.5,4.4Hz, 1
H); 3.32 (dd, J = 13.3,5.6Hz, 1H); 3.22 (ABq, J = 13.7H
z, 2H); 2.41 (dd, J = 13.3,4.4Hz, 1H); 2.2-2.0 (m, 1
H); 2.0-1.9 (m, 1H); 1.67 (d, J = 7.3 Hz, 3H); 1.4-1.
2 (m, 2H); 1.01 (d, J = 4.8 Hz, 6H); 1.0 to 0.9 (m, 1H);
0.92 (t, J = 7.3 Hz, 3H); 0.16 (s, 3H); 0.14 (s, 3H). IR spectrum (nujol) νcm-1: 3500,1855,181
5,1760,1700. Mass spectrum (m / z): 408 (M + ); 365 (M + 1-C)
O 2 + ). Rf value: 0.38 (hexane / ethyl acetate = 5/1) [Compound 3] Oil.
NMRスペクトラム(CDCl3)δppm:5.90(q,J=6.9Hz,1
H);5.04(dd,J=9.3,5.2Hz,1H);3.86(d,J=9.3Hz,1
H);3.42(dd,J=15.3,9.3Hz,1H);3.3〜3.2(m,1H);
3.21(ABq,J=14.9Hz,2H);2.62(dd,J=15.3,5.2Hz,1
H);2.2〜1.7(m,2H);1.76(d,J=6.9,3H);1.6〜1.5
(b,1H);1.4〜1.1(m,2H);1.0〜0.9(m,1H);0.97
(d,J=2.8Hz,6H);0.91(t,J=7.2Hz,3H);0.12(s,3
H);0.06(s,3H). IRスペクトラム(フィルム)νcm−1:3450,1850,1820,1
760,1700. マススペクトル(m/z):408(M+);365(M−CO2+
1+). Rf値:0.18(ヘキサン/酢酸エチル=5/1) 実施例5 (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4,7−ジ−
(イソプロピルジメチルシリルオキシ)−5−オキソ−
8(Z)−エチリデン−1−シクロノネン−1,2−ジカ
ルボン酸無水物(化合物1) コーネギスチン(154mg、0.5ミリモル)のDMF溶液(7
ml)に対して、ジメチルイソプロピルシリルクロライド
(274mg、2ミリモル)、イミダゾール(136mg、2ミリ
モル)を過剰に使った以外は実施例4と同様に反応、処
理して、化合物1を242mg(収率95%)得た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.90 (q, J = 6.9 Hz, 1
H); 5.04 (dd, J = 9.3,5.2Hz, 1H); 3.86 (d, J = 9.3Hz, 1
H); 3.42 (dd, J = 15.3,9.3Hz, 1H); 3.3-3.2 (m, 1H);
3.21 (ABq, J = 14.9Hz, 2H); 2.62 (dd, J = 15.3,5.2Hz, 1
H); 2.2-1.7 (m, 2H); 1.76 (d, J = 6.9, 3H); 1.6-1.5
(B, 1H); 1.4-1.1 (m, 2H); 1.0-0.9 (m, 1H); 0.97
(D, J = 2.8Hz, 6H); 0.91 (t, J = 7.2Hz, 3H); 0.12 (s, 3
H); 0.06 (s, 3H). IR spectrum (film) νcm-1: 3450, 1850, 1820, 1
. 760,1700 mass spectrum (m / z): 408 ( M +); 365 (M-CO 2 +
1+ ). Rf value: 0.18 (hexane / ethyl acetate = 5/1) Example 5 (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4,7-di-
(Isopropyldimethylsilyloxy) -5-oxo-
8 (Z) -Ethylidene-1-cyclononene-1,2-dicarboxylic anhydride (Compound 1) Cornegistin (154 mg, 0.5 mmol) in DMF (7
The reaction and treatment were carried out in the same manner as in Example 4 except that dimethylisopropylsilyl chloride (274 mg, 2 mmol) and imidazole (136 mg, 2 mmol) were used in excess to the amount of Compound 1 to give 242 mg of Compound 1 (yield). 95%).
実施例6 (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4−ヒドロキ
シ−5−オキソ−7−t−ブチルジメチルシリルオキシ
−8(Z)−エチリデン−1−シクロノネン−1,2−ジ
カルボン酸無水物(化合物4) コーネギスチン(660mg、2.14ミリモル)、イミダゾ
ール(190mg、2.78ミリモル)のDMF(10ml)溶液にt−
ブチルジメチルシリルクロライド(420mg、2.78ミリモ
ル)を室温で、窒素雰囲気下に加えた。一夜室温で撹拌
後、水(50ml)を加え、酢酸エチル抽出、乾燥、濃縮
後、シリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エ
チル=7:1)に付し、化合物4を660mg(収率73%)得
た。Example 6 (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4-hydroxy-5-oxo-7-t-butyldimethylsilyloxy-8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene-1, 2-Dicarboxylic anhydride (compound 4) A solution of Cornegistin (660 mg, 2.14 mmol) and imidazole (190 mg, 2.78 mmol) in DMF (10 ml) was t-
Butyldimethylsilyl chloride (420 mg, 2.78 mmol) was added at room temperature under a nitrogen atmosphere. After stirring overnight at room temperature, water (50 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate, dried and concentrated, and then subjected to silica gel chromatography (hexane: ethyl acetate = 7: 1) to obtain 660 mg of compound 4 (yield 73%). Was.
[化合物4] 油状物。[Compound 4] Oily substance.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.73(q,J=7.2Hz,1H);
5.04(t,J=5.2Hz,1H);4.02(t,J=8.4Hz,1H);3.59
(d,J=8.4Hz,1H);3.45(dt,J=8.4,4.2Hz,1H);3.34
(dd,J=13.3,6.0Hz,1H);3.23(ABq,J=14.5Hz,1H);
2.41(dd,J=13.3,4.4Hz,1H);2.2〜2.0(m,1H);2.0〜
1.9(m,1H);1.66(d,J=7.2Hz,3H);1.4〜1.2(m,2
H);0.97(s,9H);0.92(t,J=7.2Hz,3H);0.17(s,3
H);0.14(s,3H). IRスペクトル(CHCl3)νcm−1:3600,3400,1830,1770,1
700. マススペクトル(m/z):423(M+1+);365(M−C
4H9 +). Rf値:0.42(ヘキサン/酢酸エチル=4/1). 実施例4〜6と同様の方法で以下の化合物を製造し
た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.73 (q, J = 7.2 Hz, 1H);
5.04 (t, J = 5.2Hz, 1H); 4.02 (t, J = 8.4Hz, 1H); 3.59
(D, J = 8.4Hz, 1H); 3.45 (dt, J = 8.4,4.2Hz, 1H); 3.34
(Dd, J = 13.3,6.0Hz, 1H); 3.23 (ABq, J = 14.5Hz, 1H);
2.41 (dd, J = 13.3,4.4Hz, 1H); 2.2 ~ 2.0 (m, 1H); 2.0 ~
1.9 (m, 1H); 1.66 (d, J = 7.2Hz, 3H); 1.4 ~ 1.2 (m, 2
H); 0.97 (s, 9H); 0.92 (t, J = 7.2 Hz, 3H); 0.17 (s, 3H)
H); 0.14 (s, 3H). IR spectrum (CHCl 3 ) νcm−1: 3600,3400,1830,1770,1
700. Mass spectrum (m / z): 423 (M + 1 + ); 365 (M-C
4 H 9 +). Rf value: 0.42 (hexane / ethyl acetate = 4/1). The following compounds were produced in the same manner as in Examples 4 to 6.
化合物5 (R3′=R6′=ジメチルt−ブチルシリルオキシ基の化
合物) 収率:11%。 Compound 5 (R 3 ′ = R 6 ′ = compound of dimethyl t-butylsilyloxy group) Yield: 11%.
油状物。Oil.
Rf値:0.73(ヘキサン/酢酸エチル=5/1). 化合物6 (R3′=R6′=トリエチルシリルオキシ基の化合物) 収率:69%。Rf value: 0.73 (hexane / ethyl acetate = 5/1). Compound 6 (R 3 ′ = R 6 ′ = compound of triethylsilyloxy group) Yield: 69%.
油状物。Oil.
Rf値:0.62(ヘキサン/酢酸エチル=10/1). 化合物7 (R3′=水酸基、R6′=トリエチルシリルオキシ基の化
合物) 収率:23%。Rf value: 0.62 (hexane / ethyl acetate = 10/1). Compound 7 (R 3 ′ = hydroxyl group, R 6 ′ = triethylsilyloxy group compound) Yield: 23%.
油状物。Oil.
Rf値:0.37(ヘキサン/酢酸エチル=5/1). 化合物8 (R3′=R6′=ジメチルフェニルシリルオキシ基の化合
物) 収率:90%。Rf value: 0.37 (hexane / ethyl acetate = 5/1). Compound 8 (R 3 ′ = R 6 ′ = compound of dimethylphenylsilyloxy group) Yield: 90%.
油状物。Oil.
Rf値:0.20(ヘキサン/酢酸エチル=10/1). 化合物9 (R3′=水酸基、R6′=ジメチルフェニルシリルオキシ
基の化合物) 収率:31%。Rf value: 0.20 (hexane / ethyl acetate = 10/1). Compound 9 (R 3 ′ = hydroxyl group, R 6 ′ = compound of dimethylphenylsilyloxy group) Yield: 31%.
油状物。Oil.
Rf値:0.17(ヘキサン/酢酸エチル=5/1). nD 231.5291. 化合物10 (R3′=ジメチルフェニルシリルオキシ基、R6′=水酸
基の化合物) 収率:12%。Rf value: 0.17 (hexane / ethyl acetate = 5/1). n D 23 1.5291. Compound 10 (R 3 ′ = dimethylphenylsilyloxy group, R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 12%.
油状物。Oil.
Rf値:0.08(ヘキサン/酢酸エチル=5/1). 化合物11 (R3′=R6′=ジメチルアリルシリルオキシ基の化合
物) 収率:63%。Rf value: 0.08 (hexane / ethyl acetate = 5/1). Compound 11 (R 3 ′ = R 6 ′ = compound of dimethylallylsilyloxy group) Yield: 63%.
油状物。Oil.
Rf値:0.43(ヘキサン/酢酸エチル=10/1). 化合物12 (R3′=水酸基、R6′=ジメチルアリルシオリルオキシ
基の化合物) 収率:11%。Rf value: 0.43 (hexane / ethyl acetate = 10/1). Compound 12 (R 3 ′ = hydroxyl group, R 6 ′ = compound of dimethylallyl thiolyloxy group) Yield: 11%.
油状物。Oil.
Rf値:0.37(ヘキサン/酢酸エチル=5/1). 化合物13 (R3′=ジメチルアリルシリルオキシ基、R6′=水酸基
の化合物) 収率:5%。Rf value: 0.37 (hexane / ethyl acetate = 5/1). Compound 13 (R 3 ′ = dimethylallylsilyloxy group, R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 5%.
油状物。Oil.
Rf値:0.15(ヘキサン/酢酸エチル=5/1). 化合物14 (R3′=R6′=クロロメチルジメチルシリルオキシ基の
化合物) 収率:74%。Rf value: 0.15 (hexane / ethyl acetate = 5/1). Compound 14 (R 3 ′ = R 6 ′ = compound of chloromethyldimethylsilyloxy group) Yield: 74%.
油状物。Oil.
Rf値:0.32(ヘキサン/酢酸エチル=10/1). 化合物15 (R3′=R6′=トリメチルシリルオキシ基の化合物) 収率:90%。Rf value: 0.32 (hexane / ethyl acetate = 10/1). Compound 15 (R 3 ′ = R 6 ′ = compound of trimethylsilyloxy group) Yield: 90%.
油状物。Oil.
Rf値:0.63(ヘキサン/酢酸エチル=10/1). 化合物16 (R3′=水酸基、R6′=トリメチルシリルオキシ基の化
合物) 収率:16%。Rf value: 0.63 (hexane / ethyl acetate = 10/1). Compound 16 (R 3 ′ = hydroxyl group, R 6 ′ = trimethylsilyloxy group compound) Yield: 16%.
油状物。Oil.
Rf値:0.45(ヘキサン/酢酸エチル=3/1). 化合物17 (R3′=トリメチルシリルオキシ基、R6′=水酸基の化
合物) 収率:11%。Rf value: 0.45 (hexane / ethyl acetate = 3/1). Compound 17 (R 3 ′ = trimethylsilyloxy group, R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 11%.
油状物。Oil.
Rf値:0.33(ヘキサン/酢酸エチル=3/1). 実施例7 (3S*,4R*,7R*)イソプロピルアミン 3−n−プロ
ピル−4,7−ジヒドロキシ−5−オキソ−8(Z)−エ
チリデン−1−シクロノネン−1−(N−イソプロピ
ル)カルバモイル−2−カルボキシレート(化合物18) コーネギスチン(154mg、0.5ミリモル)のクロロホル
ム(5ml)溶液にイソプロピルアミン(60mg、1ミリモ
ル)を加え室温で2時間撹拌した。生成した白色結晶を
濾取、クロロホルムで洗浄し、白色結晶の化合物18を、
143mg(収率82%)得た。Rf value: 0.33 (hexane / ethyl acetate = 3/1). Example 7 (3S * , 4R * , 7R * ) isopropylamine 3-n-propyl-4,7-dihydroxy-5-oxo-8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene-1- (N-isopropyl) carbamoyl -2-Carboxylate (compound 18) Isopropylamine (60 mg, 1 mmol) was added to a solution of conegistin (154 mg, 0.5 mmol) in chloroform (5 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The generated white crystals were collected by filtration and washed with chloroform to give a white crystalline compound 18.
143 mg (82% yield) were obtained.
[化合物18] 融点:127℃。[Compound 18] Melting point: 127 ° C.
NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:6.02(b,1H);5.34
(q,J=6.9Hz,1H);4.75(dd,J=5.6,4.8Hz,1H);4.6
(b,1H);3.94(d,J=9.7Hz,1H);3.76(six,J=6.4Hz,
1H);3.6(t,J=6.5Hz,1H);3.4〜3.2(m,1H);3.22(d
d,J=13.3,6.5Hz,1H);2.89(ABq,J=12.5Hz,2H);2.86
(s,1H);2.4(dd,J=16.1,5.2Hz,1H);1.8〜1.6(m,2
H);1.57(d,J=6.9Hz,3H);1.17(d,J=6.5Hz,6H);1.
00(d,J=6.5Hz,3H);0.98(d,J=6.5Hz,3H);0.98(d,
J=6.5Hz,3H);0.83(t,J=7.3Hz,3H). IRスペクトル(ヌジョール)νcm−1:3370,3150,1690,1
635,1610. マススペクトル(m/z):349(M−H2O−NH2C3H7−
i+); 331;308;290;262;246;234;219. Rf値:0.06(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 実施例7と同様にして、以下の化合物を製造した。NMR spectrum (DMSO-d 6) δppm: 6.02 (b, 1H); 5.34
(Q, J = 6.9Hz, 1H); 4.75 (dd, J = 5.6,4.8Hz, 1H); 4.6
(B, 1H); 3.94 (d, J = 9.7Hz, 1H); 3.76 (six, J = 6.4Hz,
1H); 3.6 (t, J = 6.5Hz, 1H); 3.4-3.2 (m, 1H); 3.22 (d
d, J = 13.3, 6.5Hz, 1H); 2.89 (ABq, J = 12.5Hz, 2H); 2.86
(S, 1H); 2.4 (dd, J = 16.1, 5.2Hz, 1H); 1.8 to 1.6 (m, 2
H); 1.57 (d, J = 6.9 Hz, 3H); 1.17 (d, J = 6.5 Hz, 6H); 1.
00 (d, J = 6.5Hz, 3H); 0.98 (d, J = 6.5Hz, 3H); 0.98 (d,
J = 6.5 Hz, 3H); 0.83 (t, J = 7.3 Hz, 3H). IR spectrum (nujol) νcm-1: 3370, 3150, 1690, 1
. 635,1610 mass spectrum (m / z): 349 ( M-H 2 O-NH 2 C 3 H 7 -
. i +); 331; 308 ; 290; 262; 246; 234; 219 Rf value: 0.06 (hexane / ethyl acetate = 1/2). The following compounds were produced in the same manner as in Example 7.
化合物19 (R1′=カルバモイル、R2′=カルボン酸・アンモニウ
ム塩、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:定量的。 Compound 19 (R 1 ′ = carbamoyl, R 2 ′ = carboxylic acid ammonium salt, R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: quantitative.
融点:84〜86℃。Melting point: 84-86 ° C.
化合物20 (R1′=メチルカルバモイル、R2′=カルボン酸・メチ
ルアミン塩、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:97%。Compound 20 (R 1 ′ = methylcarbamoyl, R 2 ′ = carboxylic acid / methylamine salt, R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 97%.
融点:110〜111℃。Melting point: 110-111 ° C.
化合物21 (R1′=t−ブチルカルバモイル、R2′=カルボン酸・
t−ブチルアミン塩、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:69%。Compound 21 (R 1 ′ = t-butylcarbamoyl, R 2 ′ = carboxylic acid.
t-butylamine salt, R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 69%.
融点:116〜118℃。Melting point: 116-118 ° C.
化合物22 (R1′=ヒドロキシt−ブチルカルバモイル、R2′=カ
ルボン酸、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:92%。Compound 22 (R 1 '= hydroxy t- butylcarbamoyl, R 2' = carboxylic acid, R 3 '= R 6' = a compound of hydroxyl groups) Yield: 92%.
融点:106〜108℃。Melting point: 106-108 ° C.
化合物23 (R1′=3−ヒドロキシプロピルカルバモイル、R2′=
カルボン酸、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:73%。Compound 23 (R 1 ′ = 3-hydroxypropylcarbamoyl, R 2 ′ =
(Carboxylic acid, R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 73%.
融点:87〜89℃。Melting point: 87-89C.
化合物24 (R1′=ベンジルカルバモイル、R2′=カルボン酸、
R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:67%。Compound 24 (R 1 ′ = benzylcarbamoyl, R 2 ′ = carboxylic acid,
R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 67%.
融点:105〜107℃。Melting point: 105-107 ° C.
化合物25 (R1′=4−メトキシベンジルカルバモイル、R2′=カ
ルボン酸、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:75%。Compound 25 (R 1 ′ = 4-methoxybenzylcarbamoyl, R 2 ′ = carboxylic acid, R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 75%.
融点:102〜103℃。Melting point: 102-103 ° C.
化合物26 (R1′=ジメトキシメチルカルバモイル、R2′=カルボ
ン酸、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:97%。Compound 26 (R 1 ′ = dimethoxymethylcarbamoyl, R 2 ′ = carboxylic acid, R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 97%.
融点:80〜82℃。Melting point: 80-82 ° C.
化合物27 (R1′=フェニルカルバモイル、R2′=カルボン酸・ト
リエチルアミン塩、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:53%。Compound 27 (R 1 ′ = phenylcarbamoyl, R 2 ′ = carboxylic acid / triethylamine salt, R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 53%.
融点:114〜115℃。Melting point: 114-115 [deg.] C.
化合物28 (R1′=メチルカルバモイル、R2′=カルボン酸、R3′
=R6′=アセトキシ基の化合物) 収率:99%。Compound 28 (R 1 ′ = methylcarbamoyl, R 2 ′ = carboxylic acid, R 3 ′
= R 6 '= compound of acetoxy group) Yield: 99%.
融点:97〜98℃。Melting point: 97-98 ° C.
化合物29 (R1′=イソプロピルカルバモイル、R2′=カルボン酸
・イソプロピルアミン塩、R3′=R6′=ジメチルイソプ
ロピルシリルオキシ基の化合物) 収率:89%。Compound 29 (R 1 '= isopropylcarbamoyl, R 2' = carboxylic acid isopropylamine salt, R 3 '= R 6' = a compound of dimethylisopropylsilyl group) Yield: 89%.
融点:67〜70℃。Melting point: 67-70 ° C.
化合物30 (R1′=イソプロピルカルバモイル、R2′=カルボン酸
・イソプロピルアミン塩、R3′=R6′=ジメチルフェニ
ルシリルオキシ基の化合物) 収率:定量的。Compound 30 (R 1 ′ = isopropylcarbamoyl, R 2 ′ = carboxylic acid / isopropylamine salt, R 3 ′ = R 6 ′ = dimethylphenylsilyloxy group) Yield: quantitative.
アモルファス。amorphous.
化合物31 (R1′=メチルカルバモイル、R2′=カルボン酸・メチ
ルアミン塩、R3′=水酸基、R6′=ジメチルt−ブチル
シリルオキシ基の化合物) 収率:23%。Compound 31 (R 1 '= methylcarbamoyl, R 2' = carboxylic acid methylamine salt, R 3 '= hydroxyl group, R 6' = a compound of dimethyl t- butyl silyl group) Yield: 23%.
アモルファス。amorphous.
化合物32 (R1′=メチルカルバモイル、R2′=カルボン酸・メチ
ルアミン塩、R3′=R6′=トリメチルシリルオキシ基の
化合物) 収率:42%。Compound 32 (R 1 ′ = methylcarbamoyl, R 2 ′ = carboxylic acid / methylamine salt, R 3 ′ = R 6 ′ = trimethylsilyloxy group) Yield: 42%.
融点:71〜76℃。Melting point: 71-76 ° C.
化合物33 (R1′=2,4−ジフルオロフェニルカルバモイル、R2′
=カルボン酸、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:74%。Compound 33 (R 1 ′ = 2,4-difluorophenylcarbamoyl, R 2 ′
= Carboxylic acid, R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 74%.
融点:69〜75℃。Melting point: 69-75C.
化合物34 (R1′=2,6−ジフルオロフェニルカルバモイル、R2′
=カルボン酸、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:44%。Compound 34 (R 1 ′ = 2,6-difluorophenylcarbamoyl, R 2 ′
= Carboxylic acid, R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 44%.
融点:68〜67℃。Melting point: 68-67 ° C.
化合物35 (R1′=2,5−ジフルオロフェニルカルバモイル、R2′
=カルボン酸、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:78%。Compound 35 (R 1 ′ = 2,5-difluorophenylcarbamoyl, R 2 ′
= Carboxylic acid, R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 78%.
融点:63〜73℃。Melting point: 63-73 ° C.
化合物36 (R1′=フェニルカルバモイル、R2′=カルボン酸・ト
リエチレンジアミン塩、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:29%。Compound 36 (R 1 ′ = phenylcarbamoyl, R 2 ′ = carboxylic acid / triethylenediamine salt, R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 29%.
油状物。Oil.
化合物37 (R1′=2−ピリミジルカルバモイル、R2′=カルボン
酸、R3′=R6′=水酸基の化合物) 収率:50%。Compound 37 (R 1 ′ = 2-pyrimidylcarbamoyl, R 2 ′ = carboxylic acid, R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl compound) Yield: 50%.
融点:110〜112℃。Melting point: 110-112 ° C.
実施例8 (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4,7−ジアセ
トキシ−5−オキソ−8(Z)−エチリデン−1−シク
ロノネン−1,2−ジカルボン酸無水物(化合物38) コーネギスチン(66mg、0.21ミリモル)とピリジン
(0.2ml)の塩化メチレン(3ml)溶液に無水酢酸(0.2m
l)を加え、触媒量の4−N,N−ジメチルアミノピリジン
(DMAP)(10mg)の存在下、室温で2時間撹拌した。水
(15ml)を加え、塩化メチレン抽出、乾燥、濃縮後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エ
チル=2/1)に付し、化合物38を、85.2mg(定量的)得
た。Example 8 (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4,7-diacetoxy-5-oxo-8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene-1,2-dicarboxylic anhydride ( Compound 38) Cornegistin (66 mg, 0.21 mmol) and pyridine (0.2 ml) in methylene chloride (3 ml) were dissolved in acetic anhydride (0.2 m
l) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours in the presence of a catalytic amount of 4-N, N-dimethylaminopyridine (DMAP) (10 mg). Water (15 ml) was added, the mixture was extracted with methylene chloride, dried and concentrated, and then subjected to silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 2/1) to obtain 85.2 mg (quantitative) of compound 38.
[化合物38] 融点:134〜136℃ NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.9〜5.8(m,2H);4.90
(d,J=9.0Hz,1H);3.51(ddd,J=9.0,4.4,3.6Hz,1H);
3.41(d,J=16.5Hz,1H);3.25(d,J=16.5Hz,1H);3.12
(dd,J=14.5,9.0Hz,1H);2.70(dd,J=14.5,5.0Hz,1
H);2.15(s,3H);2.07(s,3H);2.0〜1.9(m,1H);1.8
1(d,J=7.2Hz,3H);1.8〜1.6(m,1H);1.4〜1.2(m,2
H);0.93(t,J=7.2Hz,3H). IRスペクトル(CHCl3)νcm−1:1830,1770,1740. マススペクトル(m/z):392(M+);332;290;262;244. Rf値:0.72(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 実施例8と同様にして以下の化合物を製造した。[Compound 38] Melting point: 134-136 ° C NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.9-5.8 (m, 2H); 4.90
(D, J = 9.0Hz, 1H); 3.51 (ddd, J = 9.0,4.4,3.6Hz, 1H);
3.41 (d, J = 16.5Hz, 1H); 3.25 (d, J = 16.5Hz, 1H); 3.12
(Dd, J = 14.5,9.0Hz, 1H); 2.70 (dd, J = 14.5,5.0Hz, 1
H); 2.15 (s, 3H); 2.07 (s, 3H); 2.0-1.9 (m, 1H); 1.8
1 (d, J = 7.2 Hz, 3H); 1.8 to 1.6 (m, 1H); 1.4 to 1.2 (m, 2
H); 0.93 (t, J = 7.2 Hz, 3H). IR spectrum (CHCl 3 ) νcm−1: 1830, 1770, 1740. Mass spectrum (m / z): 392 (M + ); 332; 290; 262; 244. Rf value: 0.72 (hexane / ethyl acetate = 1 / 2). The following compounds were produced in the same manner as in Example 8.
化合物39 (R3′=R6′=メトキシメチルカルボニルオキシ基であ
る化合物) 収率:91%。 Compound 39 (compound in which R 3 ′ = R 6 ′ = methoxymethylcarbonyloxy group) Yield: 91%.
油状物 Rf値:0.40(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)。Oil Rf value: 0.40 (hexane / ethyl acetate = 1/1).
化合物40 (R3′=R6′=2,4−ジクロロフェニルオキシメチルカ
ルボニルオキシ基である化合物) 収率:75%。Compound 40 (compound in which R 3 ′ = R 6 ′ = 2,4-dichlorophenyloxymethylcarbonyloxy group) Yield: 75%.
融点:64〜65℃。Melting point: 64-65 [deg.] C.
Rf値:0.30(ヘキサン/酢酸エチル=3/1)。Rf value: 0.30 (hexane / ethyl acetate = 3/1).
化合物41 (R3′=R6′=フェニルオキシメチルカルボニルオキシ
基である化合物) 収率:76%。Compound 41 (a compound in which R 3 ′ = R 6 ′ = phenyloxymethylcarbonyloxy group) Yield: 76%.
油状物。Oil.
Rf値:0.39(ヘキサン/酢酸エチル=3/1)。Rf value: 0.39 (hexane / ethyl acetate = 3/1).
化合物42 (R3′=R6′=2,4−ジクロロフェニルカルボニルオキ
シ基である化合物) 収率:19%。Compound 42 (compound in which R 3 ′ = R 6 ′ = 2,4-dichlorophenylcarbonyloxy group) Yield: 19%.
融点:66〜67℃。Melting point: 66-67 [deg.] C.
Rf値:0.61(ヘキサン/酢酸エチル=3/1)。Rf value: 0.61 (hexane / ethyl acetate = 3/1).
化合物43 (R3′=水酸基、R6′=2,4−ジクロロフェニルカルボ
ニルオキシ基である化合物) 収率:56%。Compound 43 (a compound in which R 3 ′ = hydroxyl group and R 6 ′ = 2,4-dichlorophenylcarbonyloxy group) Yield: 56%.
融点:60〜61℃。Melting point: 60-61 ° C.
Rf値:0.31(ヘキサン/酢酸エチル=3/1)。Rf value: 0.31 (hexane / ethyl acetate = 3/1).
化合物44 (R3′=アセトキシ基、R6′=ジメチルt−ブチルシリ
ルオキシ基である化合物) 収率:87%。Compound 44 (a compound in which R 3 ′ = acetoxy group and R 6 ′ = dimethyl t-butylsilyloxy group) Yield: 87%.
油状物。Oil.
Rf値:0.51(ヘキサン/酢酸エチル=4/1)。Rf value: 0.51 (hexane / ethyl acetate = 4/1).
化合物45 (R3′=水酸基、R6′=エトキシカルボニルオキシ基で
ある化合物) 収率:11%。Compound 45 (a compound in which R 3 ′ is a hydroxyl group and R 6 ′ is an ethoxycarbonyloxy group) Yield: 11%.
油状物。Oil.
Rf値:0.62(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)。Rf value: 0.62 (hexane / ethyl acetate = 1/1).
化合物46 (R3′=水酸基、R6′=ジメチルカルバモイルオキシ基
である化合物) 収率:15%。Compound 46 (a compound in which R 3 ′ = hydroxyl group and R 6 ′ = dimethylcarbamoyloxy group) Yield: 15%.
油状物。Oil.
Rf値:0.26(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)。Rf value: 0.26 (hexane / ethyl acetate = 1/1).
化合物47 (R3′=水酸基、R6′=ベンゾイルオキシ基である化合
物) 収率:56%。Compound 47 (a compound in which R 3 ′ is a hydroxyl group and R 6 ′ is a benzoyloxy group) Yield: 56%.
融点:59〜60℃。Melting point: 59-60 [deg.] C.
Rf値:0.49(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)。Rf value: 0.49 (hexane / ethyl acetate = 2/1).
実施例9 (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4−メタンス
ルホニルオキシ−5−オキソ−7−ヒドロキシ−8
(Z)−エチリデン−1−シクロノネン−1,2−ジカル
ボン酸無水物(化合物48) コーネギスチン(155mg、0.5ミリモル)、ジアザビシ
クロ[2,2,2]オクタン(DBU)(124mg、1.11ミリモ
ル)の塩化メチレン(5ml)溶液にメタンスルホニルク
ロライド(86μl、1.11ミリモル)を、0℃、窒素雰囲
気下に加えた。0℃で2時間、室温で2日間、撹拌後、
水(20ml)を加え、塩化メチレンで抽出、乾燥、濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/
酢酸エチル=1/1)に付し、無色油状の化合物38を33mg
(収率17%)得た。更にコーネギスチンを65mg(回収率
42%)得た。Example 9 (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4-methanesulfonyloxy-5-oxo-7-hydroxy-8
(Z) -Ethylidene-1-cyclononene-1,2-dicarboxylic anhydride (Compound 48) Chlorination of Cornegistin (155 mg, 0.5 mmol), diazabicyclo [2,2,2] octane (DBU) (124 mg, 1.11 mmol) To a methylene (5 ml) solution was added methanesulfonyl chloride (86 μl, 1.11 mmol) at 0 ° C. under a nitrogen atmosphere. After stirring at 0 ° C. for 2 hours and room temperature for 2 days,
After adding water (20 ml), extracting with methylene chloride, drying and concentrating, silica gel column chromatography (hexane / hexane).
(Ethyl acetate = 1/1) to give 33 mg of a colorless oily compound 38.
(17% yield). In addition, 65 mg of Cornegistin (recovery rate
42%).
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.87(q,J=7.0Hz,1H);
5.08(dd,J=7.6,5.2Hz,1H);4.68(d,J=10.4Hz,1H);
3.66(ddd,J=10.4,4.0,3.2Hz,1H);3.41(d,J=15.1H
z,1H);3.31(dd,J=14.9,7.6Hz,1H);3.16(d,J=15.1
Hz,1H);3.12(s,3H);2.84(dd,J=14.9,5.2Hz,1H);
2.2〜2.0(m,1H);1.98(b,1H);1.9〜1.8(m,1H);1.7
6(d,J=7.0Hz,3H);1.4〜1.1(m,2H);0.94(t,J=7.3
Hz,3H). IRスペクトル(CHCl3)νcm−1:3550,3400,1830,1765,1
710. マススペクトル(m/z):386(M+);368(M−H2O+);29
0;248;219. Rf値:0.29(ヘキサン/酢酸エチル=1/1). 実施例9と同様にして以下の化合物が製造された。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.87 (q, J = 7.0 Hz, 1H);
5.08 (dd, J = 7.6, 5.2 Hz, 1H); 4.68 (d, J = 10.4 Hz, 1H);
3.66 (ddd, J = 10.4,4.0,3.2Hz, 1H); 3.41 (d, J = 15.1H
z, 1H); 3.31 (dd, J = 14.9,7.6Hz, 1H); 3.16 (d, J = 15.1
Hz, 1H); 3.12 (s, 3H); 2.84 (dd, J = 14.9, 5.2Hz, 1H);
2.2-2.0 (m, 1H); 1.98 (b, 1H); 1.9-1.8 (m, 1H); 1.7
6 (d, J = 7.0 Hz, 3H); 1.4 to 1.1 (m, 2H); 0.94 (t, J = 7.3
Hz, 3H). IR spectrum (CHCl 3 ) νcm−1: 3550,3400,1830,1765,1
710. Mass Spectrum (m / z): 386 ( M +); 368 (M-H 2 O +); 29
0; 248; 219. Rf value: 0.29 (hexane / ethyl acetate = 1/1). The following compounds were produced in the same manner as in Example 9.
化合物49 (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4−p−トル
エンスルホニルオキシ−5−オキソ−7−ヒドロキシ−
8(Z)−エチリデン−1−シクロノネン−1,2−ジカ
ルボン酸無水物 融点:54〜55℃。Compound 49 (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4-p-toluenesulfonyloxy-5-oxo-7-hydroxy-
8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene-1,2-dicarboxylic anhydride Melting point: 54-55 ° C.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:7.89(d,J=8.1Hz,2H);
7.40(d,J=8.1Hz,2H);5.85(q,J=7.0Hz,1H);5.00
(dd,J=8.0,4.8Hz,1H);4.32(d,J=10.1Hz,1H);3.58
(ddd,J=10.1,6.8,4.0Hz,1H);3.36(dd,J=14.5,8.0H
z,1H);3.22(ABq,J=14.7Hz,2H); 2.66(dd,J=14.5,4.8Hz,1H);2.49(s,3H);1.96(s,1
H);1.9〜1.7(m,1H);1.74(d,J=7.0Hz,3H);1.7〜1.
5(m,1H);1.2〜1.0(m,2H);0.81(t,J=7.2Hz,3H). IRスペクトル(CDCl3)νcm−1:3600,3370,1835,1770,1
720. マススペクトル(m/z):462(M+);444;290;244;219;15
5. Rf値:0.49(ヘキサン/酢酸エチル=1/1). 実施例10 3−n−プロピル−4,7−ジブロモ−5−オキソ−8
(Z)−エチリデン−1−シクロノネン−1,2−ジカル
ボン酸無水物(化合物50) コーネギスチン(275mg、0.89ミリモル)、トリフェ
ニルホスフィン(583mg、2.22ミリモル)のDMF(10ml)
溶液にN−ブロモサクシニイミド(NBS)(396mg、2.22
ミリモル)を加えた。窒素雰囲気下60℃で3時間加熱し
た。冷却後、飽和亜硫酸ナトリウム(20ml)を加え、5
分間激しく撹拌した。エーテル抽出、乾燥、濃縮後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エ
チル=3/1)に付し、化合物50を50mg(収率13%)得
た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 7.89 (d, J = 8.1 Hz, 2H);
7.40 (d, J = 8.1Hz, 2H); 5.85 (q, J = 7.0Hz, 1H); 5.00
(Dd, J = 8.0, 4.8Hz, 1H); 4.32 (d, J = 10.1Hz, 1H); 3.58
(Ddd, J = 10.1,6.8,4.0Hz, 1H); 3.36 (dd, J = 14.5,8.0H
z, 1H); 3.22 (ABq, J = 14.7 Hz, 2H); 2.66 (dd, J = 14.5, 4.8 Hz, 1H); 2.49 (s, 3H); 1.96 (s, 1)
H); 1.9-1.7 (m, 1H); 1.74 (d, J = 7.0 Hz, 3H); 1.7-1.
5 (m, 1H); 1.2 to 1.0 (m, 2H); 0.81 (t, J = 7.2 Hz, 3H). IR spectrum (CDCl 3 ) νcm−1: 3600,3370,1835,1770,1
720. Mass spectrum (m / z): 462 (M + ); 444; 290; 244; 219; 15.
5. Rf value: 0.49 (hexane / ethyl acetate = 1/1). Example 10 3-n-propyl-4,7-dibromo-5-oxo-8
(Z) -Ethylidene-1-cyclononene-1,2-dicarboxylic anhydride (compound 50) Cornegistin (275 mg, 0.89 mmol), triphenylphosphine (583 mg, 2.22 mmol) in DMF (10 ml)
N-bromosuccinimide (NBS) (396 mg, 2.22
Mmol). Heated at 60 ° C. for 3 hours in a nitrogen atmosphere. After cooling, saturated sodium sulfite (20 ml) was added and 5
Stir vigorously for minutes. After ether extraction, drying and concentration, the residue was subjected to silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain 50 mg of Compound 50 (13% yield).
無色油状物。Colorless oil.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.68(q,J=7.0Hz,1H);
4.98(d,J=9.3Hz,1H);4.41(d,J=6.8Hz,1H,);3.64
(d,J=14.5Hz,1H);3.4〜3.3(m,1H);3.07(ddd,J=1
8.3,9.5,1.2Hz,1H);2.80(d,J=14.5Hz,1H);2.35(d,
J=18.3Hz,1H);2.1〜1.9(m,1H);1.9〜1.7(m,1H);
1.81(d,J=7.0Hz,3H);1.7〜1.5(m,1H);1.5〜1.3
(m,1H);0.99(t,J=7.2Hz,3H). IRスペクトル(CHCl3)νcm−1:1850,1830,1765. マススペクトル(m/z):434(M+). Rf値:0.28(ヘキサン/酢酸エチル=3/1). 実施例11 (3S*,4R*,7R*)−N−イソプロピル 3−n−プロ
ピル−4,7−ジヒドロキシ−5−オキソ−8(Z)−エ
チリデン−1−シクロノネン−1,2−ジカルボキシイミ
ド(化合物51) 化合物18(60mg、0.14ミリモル)に塩化メチレン(2m
l)を加え、N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド
(DCC)(58mg、0.28ミリモル)を加え、室温で3時間
撹拌後、溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘキサン/酢酸エチル=5/1、次いで1/1)に付
し、化合物51を36mg(収率53%)得た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.68 (q, J = 7.0 Hz, 1H);
4.98 (d, J = 9.3Hz, 1H); 4.41 (d, J = 6.8Hz, 1H,); 3.64
(D, J = 14.5Hz, 1H); 3.4 to 3.3 (m, 1H); 3.07 (ddd, J = 1
8.3,9.5,1.2Hz, 1H); 2.80 (d, J = 14.5Hz, 1H); 2.35 (d,
J = 18.3Hz, 1H); 2.1-1.9 (m, 1H); 1.9-1.7 (m, 1H);
1.81 (d, J = 7.0Hz, 3H); 1.7-1.5 (m, 1H); 1.5-1.3
(M, 1H); 0.99 (t, J = 7.2 Hz, 3H). IR spectrum (CHCl 3 ) νcm−1: 1850, 1830, 1765. Mass spectrum (m / z): 434 (M + ). Rf value: 0.28 (hexane / ethyl acetate = 3/1). Example 11 (3S * , 4R * , 7R * )-N-isopropyl 3-n-propyl-4,7-dihydroxy-5-oxo-8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene-1,2-dicarboxy Imide (Compound 51) Compound 18 (60 mg, 0.14 mmol) was treated with methylene chloride (2m
l), and N, N'-dicyclohexylcarbodiimide (DCC) (58 mg, 0.28 mmol) was added. After stirring at room temperature for 3 hours, the solvent was distilled off and silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 5/1). And then 1/1) to obtain 36 mg of compound 51 (yield 53%).
融点:125〜127℃ NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.88(q,J=7.3Hz,1H);
5.02(dd,J=7.7,4.4Hz,1H);4.12(quint,J=6.4Hz,1
H);4.02(d,J=8.9Hz,1H);3.65(b,1H);3.40(dd,J
=14.1,7.7Hz,1H);3.30(ABq,J=14.9Hz,2H);3.4〜3.
3(m,1H);2.78(b,1H);2.56(dd,J=14.1,4.4Hz,1
H);2.2〜2.1(m,1H);2.0〜1.8(m,1H);1.70(d,J=
7.3Hz,3H);1.4〜1.1(m,2H);1.19(d,J=6.4Hz,3H);
1.17(d,J=6.4H.3H);0.92(t,J=7.3Hz,3H). IRスペクトル(ヌジョール)νcm−1:3470,3310,1770,1
680. マススペクトル(m/z):349(M+);320;306(M−CO2+
1+). Rf値:0.17(ヘキサン/酢酸エチル=1/1). 実施例12 (3S*,4R*,7R*)−N−(4−クロロフェニル)3−
n−プロピル−4,7−ジヒドロキシ−5−オキソ−8
(Z)−エチリデン−1−シクロノネン−1,2−ジカル
ボキシイミド(化合物66)及び (3S*,4R*,7R*)−9(Z)−エチリデン−5,8−ジ
ヒドロキシ−1−(N−4−クロロフェニル)イミド−
3,6−ジオキソ−4−n−プロピル−シクロノネノ[2,1
−C]オキソレン(化合物67) コーネギスチン(82.1mg、0.266ミリモル)のエーテ
ル(1ml)溶液に4−クロロアニリン(136mg、1.06ミリ
モル)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)(110
mg、0.534ミリモル)を加え、室温で15時間撹拌し、更
に2時間30分加熱還流した。反応溶液を濾過し、濾液を
直接、薄層シリカゲルクロマトグラフィー用プレート
(メルク社製、Art.5744、20×20cm、厚さ0.5mm)、4
枚に吸着させ展開(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)し、
化合物66と化合物67の混合物92mgを得た。これを薄層シ
リカゲルクロマトグラフィー用プレート(メルク社製、
Art.5715、20×20cm、厚さ0.25mm)、5枚に吸着させ、
(ヘキサン/酢酸エチル=3:1)で5回展開、(ヘキサ
ン/酢酸エチル=2:1)で3回展開、(ヘキサン/酢酸
エチル=3:2)で2回展開させ、精製し、化合物67を24.
1mg(収率21%)、化合物66と67の混合物を33.6mg得
た。この混合物を分取クロマトグラフィー用シリカゲル
(富士ゲル販売株式会社製、ODSQ3、水−メタノール(1
/0→2/1→1/1→3/4と順次変えた。)により精製し、化
合物66を17.5mg(収率15%)得た。Melting point: 125-127 ° C NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.88 (q, J = 7.3 Hz, 1H);
5.02 (dd, J = 7.7,4.4Hz, 1H); 4.12 (quint, J = 6.4Hz, 1
H); 4.02 (d, J = 8.9Hz, 1H); 3.65 (b, 1H); 3.40 (dd, J
= 14.1, 7.7 Hz, 1H); 3.30 (ABq, J = 14.9 Hz, 2H); 3.4 to 3.
3 (m, 1H); 2.78 (b, 1H); 2.56 (dd, J = 14.1,4.4Hz, 1
H); 2.2-2.1 (m, 1H); 2.0-1.8 (m, 1H); 1.70 (d, J =
7.3Hz, 3H); 1.4 ~ 1.1 (m, 2H); 1.19 (d, J = 6.4Hz, 3H);
1.17 (d, J = 6.4H.3H); 0.92 (t, J = 7.3Hz, 3H). IR spectrum (nujol) vcm-1: 3470, 3310, 1770, 1
680. Mass Spectrum (m / z): 349 ( M +); 320; 306 (M-CO 2 +
1+ ). Rf value: 0.17 (hexane / ethyl acetate = 1/1). Example 12 (3S * , 4R * , 7R * )-N- (4-chlorophenyl) 3-
n-propyl-4,7-dihydroxy-5-oxo-8
(Z) -ethylidene-1-cyclononene-1,2-dicarboximide (compound 66) and (3S * , 4R * , 7R * )-9 (Z) -ethylidene-5,8-dihydroxy-1- (N -4-chlorophenyl) imide-
3,6-dioxo-4-n-propyl-cyclononeno [2,1
-C] Oxolene (Compound 67) In a solution of conegistin (82.1 mg, 0.266 mmol) in ether (1 ml), 4-chloroaniline (136 mg, 1.06 mmol), dicyclohexylcarbodiimide (DCC) (110
mg, 0.534 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 15 hours, and further heated under reflux for 2 hours and 30 minutes. The reaction solution is filtered, and the filtrate is directly applied to a thin-layer silica gel chromatography plate (manufactured by Merck, Art.5744, 20 × 20 cm, thickness 0.5 mm), 4
Adsorbed on a sheet and developed (hexane / ethyl acetate = 1/1)
92 mg of a mixture of compound 66 and compound 67 was obtained. This was used as a thin-layer silica gel chromatography plate (Merck,
Art.5715, 20 × 20cm, thickness 0.25mm)
Developed 5 times with (hexane / ethyl acetate = 3: 1), developed 3 times with (hexane / ethyl acetate = 2: 1), developed twice with (hexane / ethyl acetate = 3: 2), purified, and purified the compound. 67 to 24.
13.6 mg (yield: 21%) of a mixture of compounds 66 and 67 was obtained. This mixture was separated by silica gel for preparative chromatography (manufactured by Fujigel Sales Co., Ltd., ODSQ3,
/ 0 → 2/1 → 1/1 → 3/4. ) To obtain 17.5 mg (yield 15%) of compound 66.
[化合物66] 油状物。[Compound 66] Oil.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:7.40(dt,J=8.9,2.4Hz,
2H);7.35(dt,J=8.9,2.4Hz,2H);5.80(q,J=6.9Hz,1
H);5.08(dd,J=6.8,4.4Hz,1H);4.1〜4.0(b,2H);3.
5〜3.4(m,4H);3.19(d,J=14.5Hz,1H);2.50(dd,J=
14.1,4.4Hz,1H);2.20(m,1H);1.94(m,1H);1.68(d,
J=6.9Hz,3H);1.29(m,2H);0.93(t,J=6.8Hz,3H). IRスペクトル(KBr)νcm−1:3440,2950,2925,2870,170
0. マススペクトル(m/z):417(M+);399;374;356;345.13 C−NMR(ppm):212.3,169.3,142.5,139.0,135.0,133.
1,130.4,129.4,129.0,127.0,81.1,68.4,45.3,41.6,30.
9,26.3,21.6,13.9,13.4. Rf値:0.33(ヘキサン/酢酸エチル=1/1). [化合物67] 油状物。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 7.40 (dt, J = 8.9, 2.4 Hz,
2H); 7.35 (dt, J = 8.9,2.4Hz, 2H); 5.80 (q, J = 6.9Hz, 1
H); 5.08 (dd, J = 6.8, 4.4 Hz, 1H); 4.1-4.0 (b, 2H); 3.
5 to 3.4 (m, 4H); 3.19 (d, J = 14.5 Hz, 1H); 2.50 (dd, J =
14.1,4.4Hz, 1H); 2.20 (m, 1H); 1.94 (m, 1H); 1.68 (d,
J = 6.9 Hz, 3H); 1.29 (m, 2H); 0.93 (t, J = 6.8 Hz, 3H). IR spectrum (KBr) νcm-1: 3440, 2950, 2925, 2870, 170
0. Mass spectrum (m / z): 417 (M + ); 399; 374; 356; 345. 13 C-NMR (ppm): 212.3, 169.3, 142.5, 139.0, 135.0, 133.
1,130.4,129.4,129.0,127.0,81.1,68.4,45.3,41.6,30.
9,26.3,21.6,13.9,13.4. Rf value: 0.33 (hexane / ethyl acetate = 1/1). [Compound 67] Oil.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:7.3(s,4H);5.96(q,J
=6.5Hz,1H);5.10(b,1H);4.08(m,1H);3.5〜3.3
(m,5H);2.56(dd,J=14.1,4.4Hz,1H);2.44(b,1H);
2.20(m,1H);1.95(m,1H);1.71(d,J=6.5Hz,3H);1.
27(m,2H);0.93(t,J=7.3Hz,3H). IRスペクトル(KBr)νcm−1:3400,2920,2870,1775,167
5. マススペクトル(m/z):417(M+);399;388;374;344;32
8.13 C−NMR(ppm):211.6,116.3,151.7,150.1,142.2,134.
9,134.2,132.5,130.1,129.9,126.6,80.6,68.4,44.8,40.
9,30.4,27.0,21.3,13.8,13.5. Rf値:0.37(ヘキサン/酢酸エチル=1/1). 実施例11、12と同様にして以下の化合物を製造した。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 7.3 (s, 4H); 5.96 (q, J
= 6.5Hz, 1H); 5.10 (b, 1H); 4.08 (m, 1H); 3.5-3.3
(M, 5H); 2.56 (dd, J = 14.1,4.4Hz, 1H); 2.44 (b, 1H);
2.20 (m, 1H); 1.95 (m, 1H); 1.71 (d, J = 6.5 Hz, 3H); 1.
27 (m, 2H); 0.93 (t, J = 7.3 Hz, 3H). IR spectrum (KBr) νcm-1: 3400, 2920, 2870, 1775, 167
5. Mass spectrum (m / z): 417 (M + ); 399; 388; 374; 344; 32
8. 13 C-NMR (ppm) : 211.6,116.3,151.7,150.1,142.2,134.
9,134.2,132.5,130.1,129.9,126.6,80.6,68.4,44.8,40.
9,30.4,27.0,21.3,13.8,13.5. Rf value: 0.37 (hexane / ethyl acetate = 1/1). The following compounds were produced in the same manner as in Examples 11 and 12.
化合物52 (R3′=R6′=水酸基、R7′=t−ブチル基である化合
物) 収率:29%。 Compound 52 (a compound wherein R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl group and R 7 ′ = t-butyl group) Yield: 29%.
融点:87〜91℃。Melting point: 87-91C.
Rf値:0.40(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 化合物53 (R3′=R6′=アセトキシ基、R7′=イソプロピル基で
ある化合物) 収率:44%。Rf value: 0.40 (hexane / ethyl acetate = 1/2). Compound 53 (compound in which R 3 ′ = R 6 ′ = acetoxy group, R 7 ′ = isopropyl group) Yield: 44%.
融点:119〜121℃。Melting point: 119-121 ° C.
Rf値:0.49(ヘキサン/酢酸エチル=1/1). 化合物54 (R3′=R6′=水酸基、R7′=2,2−ジメトキシエチル
基である化合物) 収率:45%。Rf value: 0.49 (hexane / ethyl acetate = 1/1). Compound 54 (a compound wherein R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl group and R 7 ′ = 2,2-dimethoxyethyl group) Yield: 45%.
油状物。Oil.
Rf値:0.24(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 化合物55 (R3′=R6′=ジメチルイソプロピルシリルオキシ基、
R7′=メトキシ基である化合物) 収率:40%。Rf value: 0.24 (hexane / ethyl acetate = 1/2). Compound 55 (R 3 ′ = R 6 ′ = dimethylisopropylsilyloxy group,
Compound in which R 7 ′ = methoxy group) Yield: 40%.
油状物。Oil.
Rf値:0.47(ヘキサン/酢酸エチル=5/1). 化合物57 (R3′=R6′=ジメチルイソプロピルシリルオキシ基、
R7′=イソプロピル基である化合物) 収率:定量的。Rf value: 0.47 (hexane / ethyl acetate = 5/1). Compound 57 (R 3 ′ = R 6 ′ = dimethylisopropylsilyloxy group,
Compound in which R 7 ′ = isopropyl group) Yield: quantitative.
油状物。Oil.
Rf値=0.59(ヘキサン/酢酸エチル=10/1). 化合物58 (R3′=R6′=ジメチルフェニルシリルオキシ基、R7′
=イソプロピル基である化合物) 収率:48%。Rf value = 0.59 (hexane / ethyl acetate = 10/1). Compound 58 (R 3 ′ = R 6 ′ = dimethylphenylsilyloxy group, R 7 ′
= Compound having an isopropyl group) Yield: 48%.
油状物。Oil.
Rf値:0.52(ヘキサン/酢酸エチル=10/1). 化合物59 (R3′=R6′=水酸基、R7′=3−ヒドロキシプロピル
基である化合物) 収率:3%。Rf value: 0.52 (hexane / ethyl acetate = 10/1). Compound 59 (a compound wherein R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl group and R 7 ′ = 3-hydroxypropyl group) Yield: 3%.
油状物。Oil.
Rf値:0.48(酢酸エチル). 化合物61 (R3′=R6′=水酸基、R7′=水素原子である化合物) 収率:3%。Rf value: 0.48 (ethyl acetate). Compound 61 (a compound in which R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl group and R 7 ′ = hydrogen atom) Yield: 3%.
油状物。Oil.
Rf値:0.16(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 化合物62 (R3′=R6′=水酸基、R7′=メチル基である化合物) 収率:8%。Rf value: 0.16 (hexane / ethyl acetate = 1/2). Compound 62 (R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl group, R 7 ′ = methyl group) Yield: 8%.
油状物。Oil.
Rf値:0.30(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 化合物63 (R3′=R6′=アセトキシ基、R7′=メチル基である化
合物) 収率:8%。Rf value: 0.30 (hexane / ethyl acetate = 1/2). Compound 63 (compound in which R 3 ′ = R 6 ′ = acetoxy group, R 7 ′ = methyl group) Yield: 8%.
油状物。Oil.
Rf値:0.52(ヘキサン/酢酸エチル=1/1). 化合物64 (R3′=水酸基、R6′=ジメチルt−ブチルシリルオキ
シ基、R7′=メチル基である化合物) 収率:12%。Rf value: 0.52 (hexane / ethyl acetate = 1/1). Compound 64 (a compound in which R 3 ′ is a hydroxyl group, R 6 ′ is a dimethyl tert-butylsilyloxy group, and R 7 ′ is a methyl group) Yield: 12%.
油状物。Oil.
Rf値:0.35(ヘキサン/酢酸エチル=5/1). 化合物68 (R7′=フェニル基である化合物) 収率:43%。Rf value: 0.35 (hexane / ethyl acetate = 5/1). Compound 68 (a compound in which R 7 ′ is a phenyl group) Yield: 43%.
油状物。Oil.
Rf値[化合物69を1/4含有する混合物]: 0.45(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 化合物70 (R7′=2,4−ジフルオロフェニル基である化合物) 収率:54%。Rf value [mixture containing 1/4 of compound 69]: 0.45 (hexane / ethyl acetate = 1/2). Compound 70 (R 7 ′ = compound having 2,4-difluorophenyl group) Yield: 54%.
油状物。Oil.
Rf値:0.48(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 化合物71 (R7′=4−フルオロフェニル基である化合物) 収率:38%。Rf value: 0.48 (hexane / ethyl acetate = 1/2). Compound 71 (compound in which R 7 ′ = 4-fluorophenyl group) Yield: 38%.
油状物。Oil.
Rf値:0.45(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 化合物72 (R7′=2−フルオロ−4−クロロフェニル基である化
合物) 収率:22%。Rf value: 0.45 (hexane / ethyl acetate = 1/2). Compound 72 (compound in which R 7 ′ = 2-fluoro-4-chlorophenyl group) Yield: 22%.
油状物。Oil.
Rf値:0.43(ヘキサン/酢酸エチル=2/3). 化合物73 (R7′=2,4−ジクロロフェニル基である化合物) 収率:14%。Rf value: 0.43 (hexane / ethyl acetate = 2/3). Compound 73 (R 7 ′ = compound having 2,4-dichlorophenyl group) Yield: 14%.
油状物。Oil.
Rf値:0.43(ヘキサン/酢酸エチル=2/3). 化合物74 (R7′=ベンジル基である化合物) 収率:49%。Rf value: 0.43 (hexane / ethyl acetate = 2/3). Compound 74 (a compound wherein R 7 ′ = benzyl group) Yield: 49%.
油状物。Oil.
Rf値:0.55(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 化合物75 (R7′=4−メトキシベンジル基である化合物) 収率:42%。Rf value: 0.55 (hexane / ethyl acetate = 1/2). Compound 75 (a compound wherein R 7 ′ = 4-methoxybenzyl group) Yield: 42%.
油状物。Oil.
Rf値:0.48(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 化合物76 (R7′=メチルアミノ基である化合物) 収率:36%。Rf value: 0.48 (hexane / ethyl acetate = 1/2). Compound 76 (compound in which R 7 ′ = methylamino group) Yield: 36%.
融点:60〜62℃。Melting point: 60-62 [deg.] C.
化合物56 (R3′=R6′=ジメチルイソプロピルシリルオキシ基、
R7′=メトキシ基である化合物) 収率:17%。 Compound 56 (R 3 ′ = R 6 ′ = dimethylisopropylsilyloxy group,
Compound in which R 7 ′ = methoxy group) Yield: 17%.
油状物。Oil.
Rf値:0.56(ヘキサン/酢酸エチル=5/1). 化合物60 (R3′=R6′=水酸基、R7′=3−ヒドロキシプロピル
基である化合物) 収率:10%。Rf value: 0.56 (hexane / ethyl acetate = 5/1). Compound 60 (a compound in which R 3 ′ = R 6 ′ = hydroxyl group and R 7 ′ = 3-hydroxypropyl group) Yield: 10%.
油状物。Oil.
Rf値:0.35(酢酸エチル). 化合物65 (R3′=水酸基、R6′=ジメチルt−ブチルシリルオキ
シ基、R7′=メチル基である化合物) 収率:17%。Rf value: 0.35 (ethyl acetate). Compound 65 (a compound in which R 3 ′ is a hydroxyl group, R 6 ′ is a dimethyl tert-butylsilyloxy group, and R 7 ′ is a methyl group) Yield: 17%.
油状物。Oil.
Rf値:0.28(ヘキサン/酢酸エチル=5/1). 化合物67 (R7′=4−クロロフェニル基である化合物) 収率:21%。Rf value: 0.28 (hexane / ethyl acetate = 5/1). Compound 67 (R 7 ′ = compound having 4-chlorophenyl group) Yield: 21%.
油状物。Oil.
Rf値:0.37(ヘキサン/酢酸エチル=1/1). 化合物69 (R7′=フェニル基である化合物) 収率:43%。Rf value: 0.37 (hexane / ethyl acetate = 1/1). Compound 69 (compound in which R 7 ′ = phenyl group) Yield: 43%.
油状物。Oil.
Rf値[化合物68を3/4含有する混合物]:0.45(ヘキサン
/酢酸エチル=1/2). 実施例13 (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4−アセトキ
シ−5−オキソ−7−ヒドロキシ−8(Z)−エチリデ
ン−1−シクロノネン−1,2−ジカルンボン酸無水物
(化合物77) 化合物44(213mg、0.46ミリモル)のアセトニトリル
(6ml)溶液にオラー試薬(68%HF、0.6ml)を加え、室
温で8時間撹拌した。水(15ml)を加え、酢酸エチルで
抽出、乾燥、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)に付し、化合物77
を129mg(収率81%)得た。Rf value [mixture containing 3/4 of compound 68]: 0.45 (hexane / ethyl acetate = 1/2). Example 13 (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4-acetoxy-5-oxo-7-hydroxy-8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene-1,2-dicarnbonic anhydride Compound (Compound 77) To a solution of compound 44 (213 mg, 0.46 mmol) in acetonitrile (6 ml) was added an Olar reagent (68% HF, 0.6 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. Water (15 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate, dried, concentrated, and then subjected to silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 1/1) to give Compound 77.
Was obtained in a yield of 129 mg (81%).
油状物。Oil.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.85(q,J=6.9Hz,1H);
5.06(dd,J=8.5,5.2Hz,1H);4.84(d,J=9.3Hz,1H);
3.49(ddd,J=9.3,5.6,4.0Hz,1H);3.45(d,J=15.7Hz,
1H);3.14(d,J=15.7Hz,1H);3.02(dd,J=14.9,8.5H
z,1H);2.72(dd,J=14.9,5.2Hz,1H);2.16(s,3H);2.
1〜1.9(m,1H);1.79(d,J=6.9Hz,3H);1.8〜1.7(m,2
H);1.4〜1.1(m,2H);0.92(t,J=7.2Hz,3H). IRスペクトル(CHCl3)νcm−1:3600,3400,2970,1830,1
770,1370. マススペクトル(m/z):351(M+1+);333;290;219;17
5;91. Rf値:0.46(ヘキサン/酢酸エチル=1/1) 実施例14 (3S*,4R*,7R*)−1,2−ジメトキシカルボニル−3
−n−プロピル−4,7−ジヒドロキシ−5−オキソ−8
(Z)−エチリデン−1−シクロノネン(化合物78) コーネギスチン(308mg、1ミリモル)のメタノール
(2ml)溶液にトリメチルシリルジアゾメタン(10%ヘ
キサン溶液、4ml、3.5ミリモル)を室温で加え、3時
間、室温で撹拌した。反応液を濃縮し、得られた粗目的
物を酢酸エチル−ヘキサン混液より再結晶し、化合物78
の純品を354mg(定量的)得た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.85 (q, J = 6.9 Hz, 1H);
5.06 (dd, J = 8.5, 5.2 Hz, 1H); 4.84 (d, J = 9.3 Hz, 1H);
3.49 (ddd, J = 9.3,5.6,4.0Hz, 1H); 3.45 (d, J = 15.7Hz,
1H); 3.14 (d, J = 15.7Hz, 1H); 3.02 (dd, J = 14.9,8.5H
z, 1H); 2.72 (dd, J = 14.9, 5.2 Hz, 1H); 2.16 (s, 3H); 2.
1 ~ 1.9 (m, 1H); 1.79 (d, J = 6.9Hz, 3H); 1.8 ~ 1.7 (m, 2
H); 1.4-1.1 (m, 2H); 0.92 (t, J = 7.2 Hz, 3H). IR spectrum (CHCl 3 ) νcm−1: 3600,3400,2970,1830,1
770, 1370. Mass spectrum (m / z): 351 (M + 1 + ); 333; 290; 219; 17
5; 91. Rf value: 0.46 (hexane / ethyl acetate = 1/1) Example 14 (3S * , 4R * , 7R * )-1,2-dimethoxycarbonyl-3
-N-propyl-4,7-dihydroxy-5-oxo-8
(Z) -Ethylidene-1-cyclononene (Compound 78) To a solution of conegistin (308 mg, 1 mmol) in methanol (2 ml) was added trimethylsilyldiazomethane (10% hexane solution, 4 ml, 3.5 mmol) at room temperature for 3 hours at room temperature. Stirred. The reaction solution was concentrated, and the obtained crude target product was recrystallized from a mixed solution of ethyl acetate-hexane to give Compound 78.
Was obtained in an amount of 354 mg (quantitative).
融点:132〜134.5℃。Melting point: 132-134.5C.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.62(q,J=7.0Hz,1H);
4.82(b,1H);4.51(t,J=8.7Hz,1H);4.17(d,J=7.6H
z,1H);3.76(s,3H);3.70(s,3H);3.4〜3.0(m,3H);
3.0〜2.6(m,2H);2.1〜1.9(m,1H);1.7(d,J=7.3Hz,
3H);1.5〜1.3(m,2H);1.3〜1.1(m,1H);0.86(t,J=
7.3Hz,3H). IRスペクトル(ヌジョール)νcm−1:3370,3300,1720,1
460. マススペクトル(m/z):354(M+);336;323;304;275;24
7;217. Rf値:0.44(ヘキサン/酢酸エチル=1/2) 実施例15 (3S*,4R*,7R*)−1−(N−イソプロピル)カルバ
モイル−2−メトキシカルボニル−3−n−プロピル−
4,7−ジヒドロキシ−5−オキソ−8(Z)−エチリデ
ン−1−シクロノネン(化合物79)及び (3S*,4R*,7R*)−1−(N−イソプロピル)カルバ
モイル−2−トリメチルシリルメトキシカルボニル−3
−n−プロピル−4,7−ジヒドロキシ−5−オキソ−8
(Z)−エチリデン−1−シクロノネン(化合物80) 化合物18(55mg、0.13ミリモル)の塩化メチレン(2m
l)溶液に撹拌下、トリメチルシリルジアゾメタン(10
%ヘキサン溶液、50mg、0.39ミリモル)を室温で滴下
し、更にメタノール1mlを加え室温で、3時間30分反応
させた。濃縮して得た油状物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル溶出)に付し、初めに化合物
80を11mg(収率19%)、次に化合物79を20mg(収率40
%)得た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.62 (q, J = 7.0 Hz, 1H);
4.82 (b, 1H); 4.51 (t, J = 8.7Hz, 1H); 4.17 (d, J = 7.6H
z, 1H); 3.76 (s, 3H); 3.70 (s, 3H); 3.4-3.0 (m, 3H);
3.0-2.6 (m, 2H); 2.1-1.9 (m, 1H); 1.7 (d, J = 7.3 Hz,
3H); 1.5-1.3 (m, 2H); 1.3-1.1 (m, 1H); 0.86 (t, J =
7.3Hz, 3H). IR spectrum (nujol) vcm-1: 3370, 3300, 1720, 1
460. Mass Spectrum (m / z): 354 (M + ); 336; 323; 304; 275; 24.
7; 217. Rf value: 0.44 (hexane / ethyl acetate = 1/2) Example 15 (3S * , 4R * , 7R * )-1- (N-isopropyl) carbamoyl-2-methoxycarbonyl-3-n- Propyl
4,7-dihydroxy-5-oxo-8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene (compound 79) and (3S * , 4R * , 7R * )-1- (N-isopropyl) carbamoyl-2-trimethylsilylmethoxycarbonyl -3
-N-propyl-4,7-dihydroxy-5-oxo-8
(Z) -ethylidene-1-cyclononene (Compound 80) Compound 18 (55 mg, 0.13 mmol) in methylene chloride (2 m
l) Trimethylsilyldiazomethane (10
% Hexane solution, 50 mg, 0.39 mmol) was added dropwise at room temperature, and 1 ml of methanol was further added, followed by reaction at room temperature for 3 hours and 30 minutes. The oily substance obtained by concentration was subjected to silica gel column chromatography (eluted with ethyl acetate),
11 mg (yield 19%) of 80, then 20 mg of compound 79 (40% yield)
%)Obtained.
[化合物79] 油状物。[Compound 79] Oil.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.75(d,J=8.1Hz,1H);
5.39(q,J=14.1,7.2Hz,1H);5.07(b,1H);4.18(d,J
=8.9Hz,1H);3.96(six,J=6.9Hz,1H);3.67(s,3H);
3.49(dd,J=13.7,6.1Hz,1H);3.43(d,J=14.9Hz,1
H);3.32(m,1H);2.9(d,J=13.3Hz,1H);2.39(dd,J
=13.7,3.6Hz,1H);2.0〜1.8(m,1H);1.6〜1.4(m,1
H);1.58(d,J=6.9Hz,3H);1.4〜1.0(m,2H);1.11
(d,J=6.0Hz,3H);1.09(d,J=6.0Hz,3H);0.86(t,J
=6.9Hz,3H). IRスペクトル(液膜)νcm−1:3360,1712,1640,1520. マススペクトル(m/z):381(M+);363;353;338;320;30
8.13 C−NMRスペクトル(ppm):216.8,169.5,167.4,146.9,
135.5,133.1,127.3,81.8,68.5,51.7,46.3,44.0,41.6,3
2.5,30.8,22.5,22.4,14.0,13.0. Rf値:0.5(酢酸エチル). [化合物80] 油状物。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.75 (d, J = 8.1 Hz, 1H);
5.39 (q, J = 14.1,7.2Hz, 1H); 5.07 (b, 1H); 4.18 (d, J
= 8.9Hz, 1H); 3.96 (six, J = 6.9Hz, 1H); 3.67 (s, 3H);
3.49 (dd, J = 13.7,6.1Hz, 1H); 3.43 (d, J = 14.9Hz, 1
H); 3.32 (m, 1H); 2.9 (d, J = 13.3Hz, 1H); 2.39 (dd, J
= 13.7,3.6Hz, 1H); 2.0-1.8 (m, 1H); 1.6-1.4 (m, 1
H); 1.58 (d, J = 6.9Hz, 3H); 1.4 ~ 1.0 (m, 2H); 1.11
(D, J = 6.0Hz, 3H); 1.09 (d, J = 6.0Hz, 3H); 0.86 (t, J
= 6.9Hz, 3H). IR spectrum (liquid film) vcm-1: 3360, 1712, 1640, 1520. Mass spectrum (m / z): 381 (M + ); 363; 353; 338; 320; 30
8. 13 C-NMR spectrum (ppm): 216.8,169.5,167.4,146.9,
135.5,133.1,127.3,81.8,68.5,51.7,46.3,44.0,41.6,3
2.5, 30.8, 22.5, 22.4, 14.0, 13.0. Rf value: 0.5 (ethyl acetate). [Compound 80] Oil.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.6(m,1H);5.46(q,J
=6.9Hz,1H);5.1(t,J=4.8Hz,1H);4.24(dd,J=9.3H
z,1H);4.00(m,1H);4.0〜3.4(m,2H);3.47(m,1H);
3.38(d,J=14.1Hz,1H);3.4〜3.2(m,1H);2.49(dd,J
=14.5,4.4Hz,1H);1.64(d,J=7.3Hz,1H);1.6〜1.4
(m,1H);1.4〜1.21(m,2H);1.14(d,J=6.9Hz,3H);
1.10(d,J=6.9Hz,3H);0.88(t,J=7.3Hz);0.09(s,9
H). IRスペクトル(液膜)νcm−1:3350,1710,1640,1250. マススペクトル(m/z):453(M+);438;410;381;354;33
6;324. Rf値:0.64(酢酸エチル). 実施例16 (3S*,4R*,7R*)−1,2−ジメトキシカルボニル−3
−n−プロピル−4,7−ジヒドロキシ−5−オキソ−8
(Z)−エチリデン−1−シクロノネン(化合物78) コーネギスチン(308mg、1ミリモル)を水に溶解
し、1規定水酸化ナトリウム水でpH8に調整し、凍結乾
燥し白色結晶368mgを得た。この結晶をDMF(5ml)に溶
解し、沃化メチル(426mg、3ミリモル)を加え、室温
で6時間撹拌、水(10ml)にあけ、酢酸エチル(50ml)
で抽出、飽和塩化ナトリウム水(10ml×3回)で洗浄、
乾燥、濃縮、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1から1/2に順次変えた。)で精
製し、化合物78を158mg(45%)得た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.6 (m, 1H); 5.46 (q, J
= 6.9Hz, 1H); 5.1 (t, J = 4.8Hz, 1H); 4.24 (dd, J = 9.3H
z, 1H); 4.00 (m, 1H); 4.0-3.4 (m, 2H); 3.47 (m, 1H);
3.38 (d, J = 14.1 Hz, 1H); 3.4 to 3.2 (m, 1H); 2.49 (dd, J
= 14.5,4.4Hz, 1H); 1.64 (d, J = 7.3Hz, 1H); 1.6 ~ 1.4
(M, 1H); 1.4 to 1.21 (m, 2H); 1.14 (d, J = 6.9Hz, 3H);
1.10 (d, J = 6.9Hz, 3H); 0.88 (t, J = 7.3Hz); 0.09 (s, 9
H). IR spectrum (liquid film) νcm-1: 3350, 1710, 1640, 1250. Mass spectrum (m / z): 453 (M + ); 438; 410; 381; 354; 33
6; 324. Rf value: 0.64 (ethyl acetate). Example 16 (3S * , 4R * , 7R * )-1,2-dimethoxycarbonyl-3
-N-propyl-4,7-dihydroxy-5-oxo-8
(Z) -Ethylidene-1-cyclononene (compound 78) Cornegistin (308 mg, 1 mmol) was dissolved in water, adjusted to pH 8 with 1N aqueous sodium hydroxide, and lyophilized to obtain 368 mg of white crystals. The crystals were dissolved in DMF (5 ml), methyl iodide (426 mg, 3 mmol) was added, the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, poured into water (10 ml), and ethyl acetate (50 ml).
, And washed with saturated aqueous sodium chloride solution (10 ml x 3 times)
The residue was purified by drying, concentration, and silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 1/1 to 1/2) in order to obtain 158 mg (45%) of Compound 78.
融点:90〜91℃。Melting point: 90-91C.
実施例17 (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4,7−ジヒド
ロキシ−5−フェニルスルホニルヒドラゾノ−8(Z)
−エチリデン−1,2−ジカルボン酸無水物(化合物81) コーネギスチン(308mg、1ミリモル)のジオキサン
(5ml)溶液にフェニルスルホニルヒドラジン(175mg、
1ミリモル)を加え、室温で一夜撹拌した。反応物を氷
水に注加し、酢酸エチル抽出、乾燥、濃縮し、化合物81
を、白色粉末として462mg(定量的)得た。Example 17 (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4,7-dihydroxy-5-phenylsulfonylhydrazono-8 (Z)
-Ethylidene-1,2-dicarboxylic anhydride (Compound 81) To a solution of Cornegistin (308 mg, 1 mmol) in dioxane (5 ml) was added phenylsulfonylhydrazine (175 mg,
1 mmol) and stirred overnight at room temperature. The reaction mixture was poured into ice water, extracted with ethyl acetate, dried and concentrated to give Compound 81.
Was obtained as a white powder (462 mg, quantitative).
融点:88〜91℃。Melting point: 88-91C.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:10.3(s,1H);7.8〜7.5
(m,5H);5.8(d,J=5.2Hz,1H);5.62(q,1H,J=7.0Hz,
1H);5.20(d,J=3.5Hz,1H);4.38(bs,1H);3.89(dd,
J=10.5,5.2Hz,1H);3.4〜3.2(m,1H);3.15(ABq,J=1
6.9Hz,2H);2.80(dd,J=14.0,9.3Hz,1H);2.71(dd,J
=14.5,4.1Hz,1H);1.9〜1.6(m,2H);1.82(d,J=7.0H
z,3H);1.4〜1.0(m,2H);0.81(t,J=7.0Hz,3H). IRスペクトル(ヌジョール)νcm−1:3300,3302,2907,1
860,1820,1760,1700,1450. マススペクトル(m/z):444(M−H2O+);426;303. Rf値:0.16(ヘキサン/酢酸エチル=1/1). 実施例18 (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4,7−ジヒド
ロキシ−5−フェニルヒドラゾノ−8(Z)−エチリデ
ン−1−シクロノネン−1,2−ジカルボン酸無水物(化
合物82) コーネギスチン(154mg、0.5ミリモル)をクロロホル
ム(5ml)に溶解し、フェニルヒドラジン(54mg、0.5ミ
リモル)を加え、室温で3時間、撹拌した。濃縮して得
た油状物をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン/
酢酸エチル=1/1から1/2に順次変えた。)で精製し、白
色結晶の化合物82を138mg(69%)得た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 10.3 (s, 1H); 7.8 to 7.5
(M, 5H); 5.8 (d, J = 5.2Hz, 1H); 5.62 (q, 1H, J = 7.0Hz,
1H); 5.20 (d, J = 3.5Hz, 1H); 4.38 (bs, 1H); 3.89 (dd,
J = 10.5,5.2Hz, 1H); 3.4-3.2 (m, 1H); 3.15 (ABq, J = 1
6.9Hz, 2H); 2.80 (dd, J = 14.0,9.3Hz, 1H); 2.71 (dd, J
= 14.5,4.1Hz, 1H); 1.9-1.6 (m, 2H); 1.82 (d, J = 7.0H
z, 3H); 1.4-1.0 (m, 2H); 0.81 (t, J = 7.0 Hz, 3H). IR spectrum (nujol) νcm-1: 3300,3302,2907,1
. 860,1820,1760,1700,1450 mass spectrum (m / z): 444 ( M-H 2 O +); 426; 303 Rf value:. 0.16 (hexane / ethyl acetate = 1/1). Example 18 (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4,7-dihydroxy-5-phenylhydrazono-8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene-1,2-dicarboxylic anhydride Compound (Compound 82) Cornegistin (154 mg, 0.5 mmol) was dissolved in chloroform (5 ml), phenylhydrazine (54 mg, 0.5 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The oily substance obtained by concentration was subjected to silica gel chromatography (hexane /
Ethyl acetate was changed sequentially from 1/1 to 1/2. ) To give 138 mg (69%) of compound 82 as white crystals.
融点:76〜80℃。Melting point: 76-80 ° C.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:7.26〜7.17(m,2H);6.9
6〜6.80(m,3H);5.71(q,J=7.3Hz,1H);4.78(d,J=
4.0Hz,1H);4.5(d,J=9.3Hz,1H);3.45(dt,J=9.3,5.
6Hz,1H);3.27(ABq,J=16.5Hz,2H);3.06(dd,J=14.
9,7.3Hz,1H);2.65(dd,J=14.9,2.8Hz,1H);2.1〜1.9
(m,2H);1.87(d,J=7.3Hz,3H);1.3〜1.2(m,2H);0.
92(t,J=7.3Hz,3H). マススペクトル(m/z):398(M+);380;362;336;305;29
0. IRスペクトル(ヌジョール)νcm−1:3400,3350,1850,1
825,1760,1720,1600,1500. Rf値:0.58(ベンゼン/メタノール/酢酸=8/1/1). 実施例19 (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4,7−ジヒド
ロキシ−5−オキソ−8−(1,2−エポキシ)プロピル
−1−シクロノネン−1,2−ジカルボン酸無水物(化合
物83) コーネギスチン(152mg、0.49ミリモル)の塩化メチ
レン溶液にメタクロル過安息香酸(130mg、0.74ミリモ
ル)を、0℃、窒素雰囲気下に加えた。4.5時間、0℃
で撹拌後、炭酸水素ナトリウム水溶液(10ml)を加え、
塩化メチレンで抽出、乾燥、濃縮後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/1から1
/2に変えた。)精製により、無色固体の化合物83を19mg
(12%)得た。NMR spectrum (CDCl 3) δppm: 7.26~7.17 ( m, 2H); 6.9
6 to 6.80 (m, 3H); 5.71 (q, J = 7.3 Hz, 1H); 4.78 (d, J =
4.0 Hz, 1H); 4.5 (d, J = 9.3 Hz, 1H); 3.45 (dt, J = 9.3, 5.
6 Hz, 1H); 3.27 (ABq, J = 16.5 Hz, 2H); 3.06 (dd, J = 14.
9,7.3Hz, 1H); 2.65 (dd, J = 14.9,2.8Hz, 1H); 2.1 ~ 1.9
(M, 2H); 1.87 (d, J = 7.3 Hz, 3H); 1.3-1.2 (m, 2H);
92 (t, J = 7.3 Hz, 3H). Mass spectrum (m / z): 398 (M + ); 380; 362; 336; 305; 29
0. IR spectrum (nujol) νcm-1: 3400,3350,1850,1
825,1760,1720,1600,1500. Rf value: 0.58 (benzene / methanol / acetic acid = 8/1/1). Example 19 (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4,7-dihydroxy-5-oxo-8- (1,2-epoxy) propyl-1-cyclononene-1,2-dicarboxylic Acid Anhydride (Compound 83) To a solution of Cornegistine (152 mg, 0.49 mmol) in methylene chloride was added metachloroperbenzoic acid (130 mg, 0.74 mmol) at 0 ° C. under a nitrogen atmosphere. 4.5 hours, 0 ° C
After stirring with, an aqueous solution of sodium hydrogen carbonate (10 ml) was added,
After extraction with methylene chloride, drying and concentration, silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 1/1 to 1
Changed to / 2. ) By purification, 19 mg of compound 83 as a colorless solid
(12%) obtained.
融点:122〜125℃。Melting point: 122-125 ° C.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:4.2〜4.1(m,2H);4.1〜
4.0(m,1H);3.73(s,1H);3.44(dd,J=14.9,7.0Hz);
3.42(t,J=7.6Hz,1H);3.29(q,J=5.6Hz,1H);2.95
(d,J=14.5Hz,1H);2.62(d,J=14.5Hz,1H);2.59(d
d,J=14.5,2.4Hz,1H);1.97(q,J=7.6Hz,2H);1.38
(d,J=5.6Hz,3H);1.3〜1.2(m,2H);0.94(t,J=7.2H
z,3H). IRスペクトル(KBr)νcm−1:3400,2980,1835,1770,172
0,1450. マススペクトル(m/z):324(M+);306;277;221;206;16
7. Rf値:0.41(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 実施例20 (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4,5,7−トリ
ヒドロキシ−8(Z)−エチリデン−1,2−ジカルボン
酸無水物[極性の小さい異性体(化合物84)と極性の大
きい異性体(化合物85)] コーネギスチン(308mg、1ミリモル)のジオキサン
(10ml)溶液に室温でシアン化水素化ホウ素ナトリウム
を加え、室温で3時間後、更に2時間加熱還流した。反
応終了後、反応物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出、
乾燥、濃縮し、得られた190mgの粗目的物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/
2)に付した。最初に、化合物84を34mg(10%)、次に
化合物85を44mg(14%)得た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 4.2 to 4.1 (m, 2H);
4.0 (m, 1H); 3.73 (s, 1H); 3.44 (dd, J = 14.9,7.0Hz);
3.42 (t, J = 7.6Hz, 1H); 3.29 (q, J = 5.6Hz, 1H); 2.95
(D, J = 14.5Hz, 1H); 2.62 (d, J = 14.5Hz, 1H); 2.59 (d
d, J = 14.5, 2.4Hz, 1H); 1.97 (q, J = 7.6Hz, 2H); 1.38
(D, J = 5.6Hz, 3H); 1.3-1.2 (m, 2H); 0.94 (t, J = 7.2H
z, 3H). IR spectrum (KBr) νcm-1: 3400, 2980, 1835, 1770, 172
0,1450. Mass spectrum (m / z): 324 (M + ); 306; 277; 221; 206; 16
7. Rf value: 0.41 (hexane / ethyl acetate = 1/2). Example 20 (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4,5,7-trihydroxy-8 (Z) -ethylidene-1,2-dicarboxylic anhydride [small polar isomer] (Compound 84) and Highly Polar Isomer (Compound 85)] To a solution of conegistin (308 mg, 1 mmol) in dioxane (10 ml) was added sodium borohydride at room temperature, and after 3 hours at room temperature, the mixture was further heated under reflux for 2 hours. . After completion of the reaction, the reaction product was poured into ice water, and extracted with ethyl acetate.
After drying and concentrating, 190 mg of the crude product obtained was subjected to silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 1 /
Appended to 2). First, 34 mg (10%) of compound 84 and then 44 mg (14%) of compound 85 were obtained.
[化合物84] 融点:130〜136℃。[Compound 84] Melting point: 130-136 ° C.
NMRスペクトル(重アセトン+重水)δppm:5.66(q,J=
6.9Hz,1H);4.67(d,J=7.7Hz,1H);4.22(dd,J=5.6,
1.6Hz,1H);4.06(dd,J=10.1,5.6Hz,1H);3.77(d,J=
5.2Hz,1H);3.38(ABq,J=17.7Hz,2H);3.09(dt,J=1
0.1,3.6Hz,1H);2.4〜2.2(m,1H);1.9〜1.7(m,1H);
1.83(d,J=7.3Hz,3H);1.5〜1.2(m,1H);1.3〜1.1
(m,2H);0.88(t,J=7.3Hz,3H). IRスペクトル(KBr)νcm−1:3400,1830,1760,1630. マススペクトル(m/z):310;292;274;246;233;217;205. Rf値:0.28(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). [化合物85] アモルファス。NMR spectrum (deuterized acetone + deuterated water) δ ppm: 5.66 (q, J =
6.9Hz, 1H); 4.67 (d, J = 7.7Hz, 1H); 4.22 (dd, J = 5.6,
1.66, 1H); 4.06 (dd, J = 10.1, 5.6Hz, 1H); 3.77 (d, J =
5.2Hz, 1H); 3.38 (ABq, J = 17.7Hz, 2H); 3.09 (dt, J = 1
0.1,3.6Hz, 1H); 2.4-2.2 (m, 1H); 1.9-1.7 (m, 1H);
1.83 (d, J = 7.3 Hz, 3H); 1.5 to 1.2 (m, 1H); 1.3 to 1.1
(M, 2H); 0.88 (t, J = 7.3 Hz, 3H). IR spectrum (KBr) νcm-1: 3400, 1830, 1760, 1630. Mass spectrum (m / z): 310; 292; 274; 246; 233; 217; 205. Rf value: 0.28 (hexane / ethyl acetate = 1 / 2). [Compound 85] Amorphous.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.98(q,J=7.3Hz,1H);
4.93(dd,J=10.5,5.2Hz,1H);3.91(d,J=10.9Hz,1
H);3.76(dd,J=10.5,2.0Hz,1H);3.24(s,2H);3.2〜
3.1(m,1H);3.04(dt,J=10.9,4.0Hz,1H);2.32(m,1
H);2.0〜1.7(m,2H);1.75(d,J=7.3Hz,3H);1.4〜1.
1(m,2H);0.91(t,J=6.9Hz,3H). IRスペクトル(KBr)νcm−1:3400,1820,1750,1630. マススペクトル(m/z):310;292;274;256;246;231;217. Rf値:0.18(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 実施例21 (3S*,4R*,7R*)−3−n−プロピル−4,5−ジヒド
ロキシ−7−ジメチル−t−ブチルシリルオキシ−8
(Z)−エチリデン−1−シクロノネン−1,2−ジカル
ボン酸無水物(化合物86) 原料として化合物4(127mg、0.3ミリモル)を用いた
以外は実施例18と同様にして、化合物86を21.5mg(17
%)得た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.98 (q, J = 7.3 Hz, 1H);
4.93 (dd, J = 10.5,5.2Hz, 1H); 3.91 (d, J = 10.9Hz, 1
H); 3.76 (dd, J = 10.5, 2.0 Hz, 1H); 3.24 (s, 2H);
3.1 (m, 1H); 3.04 (dt, J = 10.9, 4.0 Hz, 1H); 2.32 (m, 1
H); 2.0-1.7 (m, 2H); 1.75 (d, J = 7.3 Hz, 3H); 1.4-1.
1 (m, 2H); 0.91 (t, J = 6.9 Hz, 3H). IR spectrum (KBr) νcm-1: 3400, 1820, 1750, 1630. Mass spectrum (m / z): 310; 292; 274; 256; 246; 231; 217. Rf value: 0.18 (hexane / ethyl acetate = 1 / 2). Example 21 (3S * , 4R * , 7R * )-3-n-propyl-4,5-dihydroxy-7-dimethyl-t-butylsilyloxy-8
(Z) -Ethylidene-1-cyclononene-1,2-dicarboxylic anhydride (Compound 86) In the same manner as in Example 18 except that Compound 4 (127 mg, 0.3 mmol) was used as a raw material, 21.5 mg of Compound 86 was used. (17
%)Obtained.
融点:75〜80℃。Melting point: 75-80C.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.53(q,J=6.8Hz,1H);
4.90(dd,J=8.9,4.8Hz,1H);4.27(dd,J=10.1,6.9Hz,
1H);3.82(d,J=17.3Hz,1H);3.62(dt,J=6.9,2.4Hz,
1H);3.0〜2.9(m,1H);2.93(d,J=17.3Hz,1H);2.1〜
1.6(m,4H);1.76(dd,J=6.9,2.0Hz,3H);1.3〜1.1
(m,2H);0.90(t,J=7.3Hz,3H);0.86(s,9H);0.04
(d,J=2.0Hz,6H). IRスペクトル(KBr)νcm−1:3450,1820,1760,1620. マススペクトル(m/z):423(M−1+);409;390;381;36
7;349;331;321;303;275. Rf値:0.2(ヘキサン/酢酸エチル=3/1). 実施例22 (3S*,4R*,7R*)−1,2−ジメトキシカルボニル−3
−n−プロピル−4,7−ジアセトキシ−5−オキソ−8
(Z)−エチリデン−1−シクロノネン(化合物87) 化合物78(60mg、0.17ミリモル)を無水酢酸(1ml)
に溶解し、ピリジン(13.4mg、0.17ミリモル)を加え、
室温で1時間撹拌した後、濃縮し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=5/1から2/1
に変えた。)で精製し、化合物87を73.8mg(99.4%)得
た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.53 (q, J = 6.8 Hz, 1H);
4.90 (dd, J = 8.9, 4.8 Hz, 1H); 4.27 (dd, J = 10.1, 6.9 Hz,
1H); 3.82 (d, J = 17.3Hz, 1H); 3.62 (dt, J = 6.9,2.4Hz,
1H); 3.0 ~ 2.9 (m, 1H); 2.93 (d, J = 17.3Hz, 1H); 2.1 ~
1.6 (m, 4H); 1.76 (dd, J = 6.9, 2.0 Hz, 3H); 1.3 to 1.1
(M, 2H); 0.90 (t, J = 7.3 Hz, 3H); 0.86 (s, 9H); 0.04
(D, J = 2.0Hz, 6H). IR spectrum (KBr) νcm−1: 3450, 1820, 1760, 1620. Mass spectrum (m / z): 423 (M−1 + ); 409; 390; 381; 36
7; 349; 331; 321; 303; 275. Rf value: 0.2 (hexane / ethyl acetate = 3/1). Example 22 (3S * , 4R * , 7R * )-1,2-dimethoxycarbonyl-3
-N-propyl-4,7-diacetoxy-5-oxo-8
(Z) -Ethylidene-1-cyclononene (Compound 87) Compound 78 (60 mg, 0.17 mmol) was treated with acetic anhydride (1 ml).
And pyridine (13.4 mg, 0.17 mmol) was added.
After stirring at room temperature for 1 hour, the mixture was concentrated and subjected to silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 5/1 to 2/1).
Changed to ) To give 73.8 mg (99.4%) of compound 87.
融点:147〜148℃。Melting point: 147-148 [deg.] C.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.85(dd,J=9.7,4.4Hz,
1H);5.65(q,J=7.3Hz,1H);5.04(d,J=10.9Hz,1H);
3.74(s,3H);3.70(s,3H);3.35(dd,J=15.7,9.7Hz,1
H);3.26(ABq,J=14.9Hz,2H);3.3〜3.2(m,1H);2.63
(dd,J=15.7,4.4Hz,1H);2.16(s,3H);2.05(s,3H);
1.8〜1.5(m,1H);1.5〜1.3(m,1H);1.63(d,J=6.9H
z,3H);1.3〜1.1(m,2H);0.89(t,J=6.9Hz,3H). IRスペクトル(ヌジョール)νcm−1:1740,1730,1460. マススペクトル(m/z):438(M+);407;378;364;346;33
6;319;304;286;297;257;247;217. Rf値:0.35(ヘキサン/酢酸エチル=1/1). 実施例23 (3S*,4R*,7R*)−1−(N−イソプロピル)カルバ
モイル−2−メトキシカルボニル−3−n−プロピル−
4,7−ジアセトキシ−5−オキソ−8(Z)−エチリデ
ン−1−シクロノネン(化合物88) 化合物79(26mg、0.068ミリモル)を塩化メチレン(1
ml)に溶解し、無水酢酸(0.5ml)、ピリジン(1滴)
を加え、室温で12時間反応させた後、濃縮し、得られた
油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン/酢酸エチル=1/2)で精製し、化合物88を25mg(79
%)得た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.85 (dd, J = 9.7, 4.4 Hz,
1H); 5.65 (q, J = 7.3Hz, 1H); 5.04 (d, J = 10.9Hz, 1H);
3.74 (s, 3H); 3.70 (s, 3H); 3.35 (dd, J = 15.7,9.7Hz, 1
H); 3.26 (ABq, J = 14.9Hz, 2H); 3.3-3.2 (m, 1H); 2.63
(Dd, J = 15.7,4.4Hz, 1H); 2.16 (s, 3H); 2.05 (s, 3H);
1.8-1.5 (m, 1H); 1.5-1.3 (m, 1H); 1.63 (d, J = 6.9H
z, 3H); 1.3-1.1 (m, 2H); 0.89 (t, J = 6.9 Hz, 3H). IR spectrum (nujol) νcm−1: 1740, 1730, 1460. Mass spectrum (m / z): 438 (M + ); 407; 378; 364; 346; 33
6; 319; 304; 286; 297; 257; 247; 217. Rf value: 0.35 (hexane / ethyl acetate = 1/1). Example 23 (3S * , 4R * , 7R * )-1- (N-isopropyl) carbamoyl-2-methoxycarbonyl-3-n-propyl-
4,7-Diacetoxy-5-oxo-8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene (Compound 88) Compound 79 (26 mg, 0.068 mmol) was treated with methylene chloride (1
acetic anhydride (0.5 ml), pyridine (1 drop)
After reacting at room temperature for 12 hours, the mixture was concentrated, and the obtained oil was purified by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 1/2) to give 25 mg of compound 88 (79
%)Obtained.
油状物。Oil.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.96(dd,J=8.9,5.2Hz,
1H);5.71(q,J=6.9Hz.1H);5.52(d,J=8.1Hz,1H);
5.02(d,J=10.9Hz,1H);4.1〜3.9(m,1H);3.7(s,3
H);3.33(dd,J=16.1,8.9Hz,1H);3.4〜3.3(m,2H);
3.18(d,J=13.7Hz,2H);2.55(dd,J=15.7,5.2Hz,1
H);2.18(s,3H);2.09(s,3H);1.8〜1.6(m,1H);1.6
〜1.4(m,1H);1.62(d,J=6.9Hz,3H);1.4〜1.2(m,2
H);1.12(d,J=6.5Hz,3H);1.09(d,J=6.5Hz,3H);0.
89(t,J=7.3Hz,3H) IRスペクトル(液膜)νcm−1:3400,1740,1720,1662,15
15,1370. マススペクトル(m/z):465(M+);450;437;422;406;39
0;378;362;351;304;277;260;217. Rf値:0.43(ヘキサン/酢酸エチル=1/2). 実施例24 (3S*,4R*,7R*)−1,2−ジメトキシカルボニル−3
−n−プロピル−4,7−ジ(トリメチルシリルオキシ)
−8(Z)−エチリデン−1−シクロノネン(化合物8
9) 化合物78(276mg、0.78ミリモル)のDMF(5ml)溶液
にイミダゾール(159mg、2.34ミリモル)とトリメチル
シリルクロライド(254mg、2.34ミリモル)を室温で加
え、2時間撹拌した。反応物を氷水に注加し、酢酸エチ
ル抽出、乾燥、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘキサン/酢酸エチル=10/1)で精製し、化合
物89を311mg(80%)得た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.96 (dd, J = 8.9, 5.2 Hz,
1H); 5.71 (q, J = 6.9Hz.1H); 5.52 (d, J = 8.1Hz, 1H);
5.02 (d, J = 10.9Hz, 1H); 4.1-3.9 (m, 1H); 3.7 (s, 3
H); 3.33 (dd, J = 16.1, 8.9 Hz, 1H); 3.4-3.3 (m, 2H);
3.18 (d, J = 13.7Hz, 2H); 2.55 (dd, J = 15.7,5.2Hz, 1
H); 2.18 (s, 3H); 2.09 (s, 3H); 1.8-1.6 (m, 1H); 1.6
~ 1.4 (m, 1H); 1.62 (d, J = 6.9Hz, 3H); 1.4 ~ 1.2 (m, 2
H); 1.12 (d, J = 6.5 Hz, 3H); 1.09 (d, J = 6.5 Hz, 3H);
89 (t, J = 7.3Hz, 3H) IR spectrum (liquid film) νcm-1: 3400,1740,1720,1662,15
15,1370. Mass spectrum (m / z): 465 (M + ); 450; 437; 422; 406; 39
0; 378; 362; 351; 304; 277; 260; 217. Rf value: 0.43 (hexane / ethyl acetate = 1/2). Example 24 (3S * , 4R * , 7R * )-1,2-dimethoxycarbonyl-3
-N-propyl-4,7-di (trimethylsilyloxy)
-8 (Z) -ethylidene-1-cyclononene (compound 8
9) To a solution of compound 78 (276 mg, 0.78 mmol) in DMF (5 ml) was added imidazole (159 mg, 2.34 mmol) and trimethylsilyl chloride (254 mg, 2.34 mmol) at room temperature and stirred for 2 hours. The reaction product was poured into ice water, extracted with ethyl acetate, dried, concentrated, and purified by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 10/1) to obtain 311 mg (80%) of compound 89.
油状物。Oil.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.38(q,J=7.3Hz,1H);
5.02(dd,J=8.5,6.5HZ,1H);4.11(d,J=4.4Hz,1H);
3.70(s,6H);3.42(dd,J=15.3,8.9Hz,1H);3.19(dd,
J=9.7,4.0Hz,1H);3.15(ABq,J=14.5Hz,2H);2.49(d
d,J=15.3,6.5Hz,1H);1.8〜1.7(m,1H);1.67(d,J=
7.3Hz,3H);1.4〜1.2(m,1H);0.87(t,J=6.8Hz,3H);
0.12(s,9H);0.11(s,9H). IRスペクトル(ヌジョール)νcm−1:1720,1460. マススペクトル(m/z):498(M+);408;259. Rf値:0.53(ヘキサン/酢酸エチル=3/1). 実施例25 (3S*,4R*,7R*)−1,2−ジメトキシカルボニル−3
−n−プロピル−4,7−ジ(ジメチルイソプロピルシリ
ルオキシ)−5−オキソ−8(Z)−エチリデン−1−
シクロノネン(化合物90) 及び (3S*,4R*,7R*)−1,2−ジメトキシカルボニル−3
−n−プロピル−4−ヒドロキシ−5−オキソ−7−ジ
メチルイソプロピルシリルオキシ−8(Z)−エチリデ
ン(化合物91) 化合物78(87.4mg、0.25ミリモル)のDMF(3ml)溶液
に初めにジメチルイソプロピルシリルクロライド(109m
g、0.86ミリモル)を加え、次いでイミダゾール(58.7m
g、0.86ミリモル)を加え一夜室温で撹拌した。以下実
施例21と同様に処理し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘキサン/酢酸エチル=10/1で溶出)に付し、
第一溶出物として化合物90を10mg(5%)、第二溶出物
として化合物91を99mg(86%)得た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.38 (q, J = 7.3 Hz, 1H);
5.02 (dd, J = 8.5,6.5HZ, 1H); 4.11 (d, J = 4.4Hz, 1H);
3.70 (s, 6H); 3.42 (dd, J = 15.3,8.9Hz, 1H); 3.19 (dd,
J = 9.7,4.0Hz, 1H); 3.15 (ABq, J = 14.5Hz, 2H); 2.49 (d
d, J = 15.3, 6.5Hz, 1H); 1.8 to 1.7 (m, 1H); 1.67 (d, J =
7.3Hz, 3H); 1.4 ~ 1.2 (m, 1H); 0.87 (t, J = 6.8Hz, 3H);
0.12 (s, 9H); 0.11 (s, 9H). IR spectrum (Nujol) vcm-1: 1720, 1460. Mass spectrum (m / z): 498 (M + ); 408; 259. Rf value: 0.53 (hexane / ethyl acetate = 3/1). Example 25 (3S * , 4R * , 7R * )-1,2-dimethoxycarbonyl-3
-N-propyl-4,7-di (dimethylisopropylsilyloxy) -5-oxo-8 (Z) -ethylidene-1-
Cyclononene (compound 90) and (3S * , 4R * , 7R * )-1,2-dimethoxycarbonyl-3
-N-propyl-4-hydroxy-5-oxo-7-dimethylisopropylsilyloxy-8 (Z) -ethylidene (compound 91) A solution of compound 78 (87.4 mg, 0.25 mmol) in DMF (3 ml) was first added with dimethylisopropyl. Silyl chloride (109m
g, 0.86 mmol) and then imidazole (58.7m
g, 0.86 mmol) and stirred overnight at room temperature. Thereafter, the same treatment as in Example 21 was performed, and the mixture was subjected to silica gel column chromatography (elution with hexane / ethyl acetate = 10/1).
10 mg (5%) of compound 90 was obtained as the first eluate, and 99 mg (86%) of compound 91 was obtained as the second eluate.
[化合物90] 油状物。[Compound 90] Oily substance.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.36(q,J=7.3Hz,1H);
4.98(dd,J=7.7,6.9Hz,1H);4.13(d,J=10.1Hz,1H);
3.70(s,6H);3.42(dd,J=14.9,8.0Hz,1H);3.24(dt,
J=10.1,3.2Hz,1H);3.16(s,2H);2.47(dd,J=14.9,
6.5Hz,1H);1.8〜1.7(m,1H);1.66(d,J=7.3Hz,3H);
1.4〜1.3(m,1H);1.4〜1.1(m,2H);0.97(d,J=6.8H
z);0.95(d,J=6.9Hz,3H);1.0〜0.7(m,2H);0.87
(d,J=6.4Hz,3H);0.75(s,6H);0.05(s,3H);0.02
(s,3H). IRスペクトル(ヌジョール)νcm−1:1720,1460. マススペクトル(m/z):554(M−1+);511;436;259;10
1. Rf値:0.73(ヘキサン/酢酸エチル=3/1). [化合物91] 油状物。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.36 (q, J = 7.3 Hz, 1H);
4.98 (dd, J = 7.7, 6.9 Hz, 1H); 4.13 (d, J = 10.1 Hz, 1H);
3.70 (s, 6H); 3.42 (dd, J = 14.9,8.0Hz, 1H); 3.24 (dt,
J = 10.1,3.2Hz, 1H); 3.16 (s, 2H); 2.47 (dd, J = 14.9,
6.5Hz, 1H); 1.8-1.7 (m, 1H); 1.66 (d, J = 7.3Hz, 3H);
1.4-1.3 (m, 1H); 1.4-1.1 (m, 2H); 0.97 (d, J = 6.8H
z); 0.95 (d, J = 6.9 Hz, 3H); 1.0-0.7 (m, 2H); 0.87
(D, J = 6.4Hz, 3H); 0.75 (s, 6H); 0.05 (s, 3H); 0.02
(S, 3H). IR spectrum (nujol) νcm−1: 1720, 1460. Mass spectrum (m / z): 554 (M−1 + ); 511; 436; 259; 10
1. Rf value: 0.73 (hexane / ethyl acetate = 3/1). [Compound 91] Oil.
NMRスペクトル(CDCl3)δppm:5.57(q,J=6.9Hz,1H);
5.06(dd,J=10.1,5.6Hz,1H);4.22(d,J=10.1Hz,1
H);3.70(s,3H);3.68(s,3H);3.32(dd,J=16.5,10.
1Hz,1H);3.19(ABq,J=13.7Hz,2H);3.05(dt,J=10.
1,3.2Hz,1H);2.67(dd,J=16.5,4.8Hz,1H);1.9〜1.7
(m,1H);1.71(d,J=5.6Hz,6H);0.87(t,J=6.9Hz,3
H);1.1〜0.8(m,1H);0.09(s,3H);0.05(s,3H). IRスペクトル(ヌジョール)νcm−1:3370,3300,1720,1
460. マススペクトル(m/z):454(M+);257;101. Rf値:0.63(ヘキサン/酢酸エチル=3/1). 製剤例1 水和剤 化合物18、25重量部、ドデシルベンゼンスルホン酸塩
2.5重量部、リグニンスルホン酸塩2.5重量部および珪藻
土70重量部をよく粉砕混和して水和剤を得た。NMR spectrum (CDCl 3 ) δ ppm: 5.57 (q, J = 6.9 Hz, 1H);
5.06 (dd, J = 10.1,5.6Hz, 1H); 4.22 (d, J = 10.1Hz, 1H
H); 3.70 (s, 3H); 3.68 (s, 3H); 3.32 (dd, J = 16.5, 10.
1 Hz, 1H); 3.19 (ABq, J = 13.7 Hz, 2H); 3.05 (dt, J = 10.
1,3.2Hz, 1H); 2.67 (dd, J = 16.5,4.8Hz, 1H); 1.9 ~ 1.7
(M, 1H); 1.71 (d, J = 5.6Hz, 6H); 0.87 (t, J = 6.9Hz, 3
H); 1.1-0.8 (m, 1H); 0.09 (s, 3H); 0.05 (s, 3H). IR spectrum (nujol) vcm-1: 3370, 3300, 1720, 1
460. Mass spectrum (m / z): 454 (M + ); 257; 101. Rf value: 0.63 (hexane / ethyl acetate = 3/1). Formulation Example 1 wettable powder compound 18, 25 parts by weight, dodecylbenzene sulfonate
2.5 parts by weight, 2.5 parts by weight of lignin sulfonate and 70 parts by weight of diatomaceous earth were thoroughly pulverized and mixed to obtain a wettable powder.
製剤例2 水和剤 化合物19、10重量部、ドデシルベンゼンスルホン酸塩
3重量部、ポリビニルアルコール2重量部、珪藻土20重
量部及びクレー65重量部を均一に混合し、粉砕して水和
剤を得た 製剤例3 水和剤 化合物20、50重量部、ポリオキシエチレンノニルフェ
ニルエーテル2重量部、合成珪酸10重量部及び硫酸アン
モニウム38重量部を均一に混和して水和剤を得た 製剤例4 乳剤 化合物39、30重量部、乳化剤ソルポールSM100(東邦
化学登録商標名)10重量部およびキシレン60重量部をよ
く混合して乳剤を得た。Formulation Example 2 wettable powder Compound 19, 10 parts by weight, dodecylbenzenesulfonate 3 parts by weight, polyvinyl alcohol 2 parts by weight, diatomaceous earth 20 parts by weight, and clay 65 parts by weight are uniformly mixed and pulverized to obtain a wettable powder. Formulation Example 3 obtained Wettable powder 20, 20 parts by weight of compound, 2 parts by weight of polyoxyethylene nonylphenyl ether, 10 parts by weight of synthetic silicic acid and 38 parts by weight of ammonium sulfate were uniformly mixed to obtain a wettable powder. Emulsion Emulsion was obtained by thoroughly mixing 39 parts by weight of Compound 39, 10 parts by weight of emulsifier Solpol SM100 (trade name of Toho Chemical) and 60 parts by weight of xylene.
製剤例5 乳剤 化合物51、10重量部をキシレン75重量部に溶解し、こ
れにパラコールKRS(日本乳化剤株式会社製)15重量部
を均一に混合し乳剤を得た。Formulation Example 5 Emulsion 10 parts by weight of Compound 51 were dissolved in 75 parts by weight of xylene, and 15 parts by weight of Parachol KRS (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) were uniformly mixed to obtain an emulsion.
製剤例6 粒剤 化合物77、5重量部、ホワイトカーボン1重量部、リ
グニンスルホン酸塩5重量部およびクレー89重量部をよ
く粉砕混合し、水を加えてよく練り合わせた後、造粒乾
燥して粒剤を得た。Formulation Example 6 Granules Compound 77, 5 parts by weight, 1 part by weight of white carbon, 5 parts by weight of lignin sulfonate and 89 parts by weight of clay are thoroughly pulverized and mixed, kneaded well with water, and granulated and dried. Granules were obtained.
製剤例7 粒剤 化合物77、1重量部を、メタノール10重量部に溶解
し、これを10〜48メッシュに篩分した軽石粒99重量部に
吸収させた。乾固してメタノールを揮散させ、当該化合
物1%を含有する粒剤を得た。Formulation Example 7 Granules Compound 77, 1 part by weight, was dissolved in 10 parts by weight of methanol, and this was absorbed into 99 parts by weight of pumice particles sieved to 10 to 48 mesh. After drying, methanol was volatilized to obtain granules containing 1% of the compound.
製剤例8 液剤 化合物22、10部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム2重量部及び水88重量部を溶解させて液剤を得た。Formulation Example 8 Liquid Preparation A liquid preparation was obtained by dissolving 22, 10 parts of compound, 2 parts by weight of sodium dodecylbenzenesulfonate and 88 parts by weight of water.
製剤例9 液剤 化合物24、10部、ナトリウムラウリルサルフェート2
重量部及びメタノール88重量部を溶解させて液剤を得
た。Formulation Example 9 Solution 24, 10 parts of compound, sodium lauryl sulfate 2
A solution was obtained by dissolving parts by weight and 88 parts by weight of methanol.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 237/24 C07C 237/24 323/61 323/61 C07D 209/52 C07D 209/52 307/93 307/93 C07F 7/18 C07F 7/18 A // A01N 37/08 A01N 37/08 37/36 37/36 37/42 37/42 37/44 37/44 37/50 37/50 (72)発明者 小笹 誠 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式 会社内 (72)発明者 中島 睦男 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共 株式会社内 (56)参考文献 特許2644818(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07C 1/00 - 409/44 C07D 209/52,307/93 C07F 7/18 A01N 37/00 - 37/52 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C07C 237/24 C07C 237/24 323/61 323/61 C07D 209/52 C07D 209/52 307/93 307/93 C07F 7/18 C07F 7/18 A // A01N 37/08 A01N 37/08 37/36 37/36 37/42 37/42 37/44 37/44 37/50 37/50 (72) Inventor Makoto Ozasa Yasu-gun, Shiga Prefecture 1041, Yasu, Yasumachi Sankyo Co., Ltd. (72) Inventor Mutsumi Nakajima 1-258 Hiromachi, Shinagawa-ku, Tokyo Sankyo Co., Ltd. (56) References Patent 2644818 (JP, B2) (58) Fields investigated ( Int.Cl. 6 , DB name) C07C 1/00-409/44 C07D 209 / 52,307 / 93 C07F 7/18 A01N 37/00-37/52 CA (STN) REGISTRY (STN)
Claims (1)
はカルバモイル基を示すか、一緒になって、一般式 (式中、X、Y及びZは、同一又は異なって、酸素原子
又はイミノ基を示す。)を有する基を示し、 R3及びR6は、同一又は異なって、水酸基、メルカプト
基、アミノ基又はハロゲン原子を示し、 R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子又は水酸基を
示すか、R4とR5が一緒になって、オキソ基又はイミノ基
を示し、 Aは、酸素原子又は単結合を示す。]で表わされる化合
物或いは、その化合物分子内の水酸基、メルカプト基、
アミノ基、カルボキシ基、カルバモイル基或いは/並び
にイミノ基が保護された化合物及びそれらの塩; 但し、3−n−プロピル−4,7−ジヒドロキシ−5−オ
キソ−8−エチリデン−1−シクロノネン−1,2−ジカ
ルボン酸無水物と3−n−プロピル−4,7−ジヒドロキ
シ−5−オキソ−8−エチリデン−1−シクロノネン−
1,2−ジカルボン酸及びこれらの塩を除き; 上記の水酸基又は/及びメルカプト基の保護基が、下記
のA群、B群及びC群より選択された保護基であり; 上記のアミノ基、カルボキシ基、カルバモイル基或いは
/並びにイミノ基の保護基が、下記のA群より選択され
た保護基であり; A群が、 低級アルキル基;シリル低級アルキル基;脂肪族アシル
基;芳香族アシル基;低級アルコキシ脂肪族アシル基;
アリールオキシ脂肪族アシル基;アラルキル基;アラル
キルカルボニル基;芳香族アシル低級アルキル基;ジ置
換低級アルコキシチオホスフィニル基;ジ置換低級アル
コキシホスフィニル基;ジ置換低級アルコキシホスフィ
ニル低級アルキル基;ジ置換低級アルコキシチオホスフ
ィニル低級アルキル基;低級アルカンスルホニル基;弗
素化された低級アルカンスルホニル基;アリールスルホ
ニル基;低級アルカンスルホニル低級アルキル基;弗素
化された低級アルカンスルホニル低級アルキル基;アリ
ールスルホニル低級アルキル基;アルコキシカルボニル
基;アルケニルオキシカルボニル基;アリールオキシカ
ルボニル基;アラルキルオキシカルボニル基;低級アル
ケニル基;低級アルキニル基;低級アルコキシ低級アル
キル基;ピラニル基;フラニル基;置換されていてもよ
いカルバモイル基;置換されていてもよいアミノスルホ
ニル低級アルキル基;置換されていてもよいスルホンア
ミド基;カルボキシ低級アルキル基;及び保護されたカ
ルボキシ低級アルキル基(当該カルボキシ低級アルキル
基のカルボキシ基の保護基が、低級アルキル基、ハロゲ
ノ低級アルキル基、アラルキル基、低級アルコキシ低級
アルキル基、脂肪族アシルオキシメチル基又は1−低級
アルコキシカルボニルオキシエチル基である。)であ
り; B群が、 ヘテロアリールカルボニル基;ヘテロアリールチオカル
ボニル基;及びシリル基であり; C群が、 2価の保護基として、オキソメチレン;チオキソメチレ
ン;低級アルキリデン基;アラルキリデン基;アルコキ
シエチリデン基;2価のスルホニル基;2価のホスフィニル
基;2価のチオホスフィニル基;及び2価のシリル基であ
る。(1) General formula [Wherein, R 1 and R 2 are the same or different and represent a carboxy group or a carbamoyl group, or together form a general formula (Wherein X, Y and Z are the same or different and each represent an oxygen atom or an imino group), and R 3 and R 6 are the same or different and are a hydroxyl group, a mercapto group, or an amino group. Or a halogen atom, R 4 and R 5 are the same or different and each represent a hydrogen atom or a hydroxyl group, or R 4 and R 5 together represent an oxo group or an imino group, and A represents an oxygen atom Or a single bond. Or a hydroxyl group, a mercapto group in the compound molecule,
A compound in which an amino group, a carboxy group, a carbamoyl group or / and an imino group is protected and a salt thereof; provided that 3-n-propyl-4,7-dihydroxy-5-oxo-8-ethylidene-1-cyclononene-1 , 2-Dicarboxylic anhydride and 3-n-propyl-4,7-dihydroxy-5-oxo-8-ethylidene-1-cyclononene-
Except for 1,2-dicarboxylic acid and salts thereof, wherein the protecting group for the hydroxyl group and / or the mercapto group is a protecting group selected from the following group A, group B and group C; A protecting group for a carboxy group, a carbamoyl group and / or an imino group is a protecting group selected from the following group A; group A is a lower alkyl group; a silyl lower alkyl group; an aliphatic acyl group; A lower alkoxyaliphatic acyl group;
Aryloxy aliphatic acyl group; aralkyl group; aralkylcarbonyl group; aromatic acyl lower alkyl group; di-substituted lower alkoxythiophosphinyl group; di-substituted lower alkoxyphosphinyl group; di-substituted lower alkoxyphosphinyl lower alkyl group. Disubstituted lower alkoxythiophosphinyl lower alkyl group; lower alkane sulfonyl group; fluorinated lower alkane sulfonyl group; aryl sulfonyl group; lower alkane sulfonyl lower alkyl group; fluorinated lower alkane sulfonyl lower alkyl group; Sulfonyl lower alkyl group; alkoxycarbonyl group; alkenyloxycarbonyl group; aryloxycarbonyl group; aralkyloxycarbonyl group; lower alkenyl group; lower alkynyl group; lower alkoxy lower alkyl group; A carbamoyl group which may be substituted; an aminosulfonyl lower alkyl group which may be substituted; a sulfonamide group which may be substituted; a carboxy lower alkyl group; and a protected carboxy lower alkyl group; The protecting group for the carboxy group of the carboxy lower alkyl group is a lower alkyl group, a halogeno lower alkyl group, an aralkyl group, a lower alkoxy lower alkyl group, an aliphatic acyloxymethyl group or a 1-lower alkoxycarbonyloxyethyl group. Group B is a heteroarylcarbonyl group; a heteroarylthiocarbonyl group; and a silyl group; group C is an oxomethylene; thioxomethylene; a lower alkylidene group; an aralkylidene group; an alkoxyethylidene group as a divalent protecting group. ; Divalent sulfonyl group; 2 A divalent phosphinyl group; a divalent thiophosphinyl group; and a divalent silyl group.
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