JP2794791B2 - 液晶パネルの製造方法 - Google Patents
液晶パネルの製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電極基板上に形成された透明電極の加工、
あるいは液晶層内の異物による液晶パネルの厚みの不整
の修正、導電性の異物による同一電極基板上の隣接した
電極間の短絡や対向電極間の短絡の修正を液晶注入後に
行うことを可能にする液晶パネルの製造方法に関するも
のである。
あるいは液晶層内の異物による液晶パネルの厚みの不整
の修正、導電性の異物による同一電極基板上の隣接した
電極間の短絡や対向電極間の短絡の修正を液晶注入後に
行うことを可能にする液晶パネルの製造方法に関するも
のである。
従来の技術 液晶パネルの製造において、異物による液晶パネルの
厚みの不整、導電性の異物による同一電極基板上の隣接
する電極間の短絡や対向電極間の短絡は、表示品位を下
げるために、著しく歩留りを低下させる。従って、液晶
注入後にレーザーを用いて液晶パネル内の透明電極の加
工や、異物によるパネルの厚みの不整の修正、導電性の
異物による電極間の短絡の修正が行われてきた。その
際、従来はレーザーとして発振波長が1.06μｍのイット
リウム・アルミニウム・ガーネット・レーザー（以後YA
Gレーザーと記述する。）が用いられてきた。（例え
ば、特開昭63−144320号公報） 発明が解決しようとする課題 しかしながら、発振波長が1.06μｍであるYAGレーザ
ーでは、波長の逆数に比例してレーザー光のエネルギー
が低くなるため、照射強度・照射時間を大きくする必要
があり、従ってレーザー光照射部の直径が50μｍ以上と
大きく、照射部の液晶に発生する気泡が大きくかつ多い
ために、広範囲で表示上のむらを起こすという課題を有
していた。また、レーザー光照射部に有機樹脂層が存在
する場合、有機樹脂の炭化の程度が大きく、照射部の周
囲の有機樹脂の盛り上がりの度合いも高いため、レーザ
ー光照射部で対向電極間の短絡や同一基板上の隣接する
電極間の短絡を引き起こす確率が高いという課題を有し
ていた。
厚みの不整、導電性の異物による同一電極基板上の隣接
する電極間の短絡や対向電極間の短絡は、表示品位を下
げるために、著しく歩留りを低下させる。従って、液晶
注入後にレーザーを用いて液晶パネル内の透明電極の加
工や、異物によるパネルの厚みの不整の修正、導電性の
異物による電極間の短絡の修正が行われてきた。その
際、従来はレーザーとして発振波長が1.06μｍのイット
リウム・アルミニウム・ガーネット・レーザー（以後YA
Gレーザーと記述する。）が用いられてきた。（例え
ば、特開昭63−144320号公報） 発明が解決しようとする課題 しかしながら、発振波長が1.06μｍであるYAGレーザ
ーでは、波長の逆数に比例してレーザー光のエネルギー
が低くなるため、照射強度・照射時間を大きくする必要
があり、従ってレーザー光照射部の直径が50μｍ以上と
大きく、照射部の液晶に発生する気泡が大きくかつ多い
ために、広範囲で表示上のむらを起こすという課題を有
していた。また、レーザー光照射部に有機樹脂層が存在
する場合、有機樹脂の炭化の程度が大きく、照射部の周
囲の有機樹脂の盛り上がりの度合いも高いため、レーザ
ー光照射部で対向電極間の短絡や同一基板上の隣接する
電極間の短絡を引き起こす確率が高いという課題を有し
ていた。
本発明は前記課題に鑑み、液晶注入後の液晶パネル内
のレーザーによる加工・修正で液晶パネルの表示むらを
起こさず、また対向電極間や隣接電極間の短絡を起こさ
ないような、液晶パネルの製造方法を提供することを目
的としている。
のレーザーによる加工・修正で液晶パネルの表示むらを
起こさず、また対向電極間や隣接電極間の短絡を起こさ
ないような、液晶パネルの製造方法を提供することを目
的としている。
課題を解決するための手段 本発明は前記課題を解決するために、液晶注入後に液
晶パネルの外部から、発振波長が0.4〜0.7μｍのレーザ
ーを用いて、レーザー光を局部的に照射して、透明電極
を加工し、液晶層内の異物を破壊し、あるいは導電性の
異物による電極間の短絡を切断するという液晶パネルの
製造方法を提供するものである。その際、0.4〜0.7μｍ
の発振波長のレーザーとして、キセノン・レーザー、YA
Gの２次高調波を用いたレーザーを使用することができ
る。
晶パネルの外部から、発振波長が0.4〜0.7μｍのレーザ
ーを用いて、レーザー光を局部的に照射して、透明電極
を加工し、液晶層内の異物を破壊し、あるいは導電性の
異物による電極間の短絡を切断するという液晶パネルの
製造方法を提供するものである。その際、0.4〜0.7μｍ
の発振波長のレーザーとして、キセノン・レーザー、YA
Gの２次高調波を用いたレーザーを使用することができ
る。
また、レーザー光の出力エネルギーの尖塔値を高める
ためにＱスイッチタイプのレーザーを用いることができ
る。
ためにＱスイッチタイプのレーザーを用いることができ
る。
更に、液晶からの気泡の発生を押さえるために前記レ
ーザー照射を２〜５気圧の高静圧雰囲気中で行うことが
できる。
ーザー照射を２〜５気圧の高静圧雰囲気中で行うことが
できる。
作用 本発明は、前記のように発振波長が0.4〜0.7μｍのレ
ーザー用いることによって、レーザー照射部の面積を小
さくすることができ、かつ電極基板や液晶での吸収が発
振波長1.06μｍのレーザー光よりも小さいため、レーザ
ー光を加工部位や異物に集中することができる。従っ
て、液晶からの気泡の発生、及び照射部位の破壊が押さ
えられ、液晶パネルの表示むらを起こさないようにする
ことが可能となる。
ーザー用いることによって、レーザー照射部の面積を小
さくすることができ、かつ電極基板や液晶での吸収が発
振波長1.06μｍのレーザー光よりも小さいため、レーザ
ー光を加工部位や異物に集中することができる。従っ
て、液晶からの気泡の発生、及び照射部位の破壊が押さ
えられ、液晶パネルの表示むらを起こさないようにする
ことが可能となる。
レーザー光照射部に有機樹脂層が存在する場合、波長
1.06μｍのレーザー光よりも波長0.4〜0.7μｍのレーザ
ー光の方が有機樹脂の吸収率が小さいために、有機樹脂
が炭化しにくく、盛り上がりも押さえられる。従って、
レーザー照射部の電極間の短絡を起こさずにすむことと
なる。
1.06μｍのレーザー光よりも波長0.4〜0.7μｍのレーザ
ー光の方が有機樹脂の吸収率が小さいために、有機樹脂
が炭化しにくく、盛り上がりも押さえられる。従って、
レーザー照射部の電極間の短絡を起こさずにすむことと
なる。
なお、キセノン・レーザーの発振波長は0.5μｍ、YAG
の２次高調波を用いたレーザーの発振波長は0.53μｍで
あり、波長域が0.4〜0.7μｍの中に存在している。
の２次高調波を用いたレーザーの発振波長は0.53μｍで
あり、波長域が0.4〜0.7μｍの中に存在している。
また、レーザーとしてＱスイッチタイプのものを用い
ることによって、レーザー出力エネルギーの尖塔値を高
くすることができ、電極の加工や異物の破壊を容易にす
ることが可能となるとともに、照射部の切断面が鋭利と
なって有機樹脂の盛り上がりを押さえることが可能とな
る。
ることによって、レーザー出力エネルギーの尖塔値を高
くすることができ、電極の加工や異物の破壊を容易にす
ることが可能となるとともに、照射部の切断面が鋭利と
なって有機樹脂の盛り上がりを押さえることが可能とな
る。
更に、２〜10気圧の高静圧をかけながらレーザーを照
射することにより、液晶からの気泡の発生を押さえるこ
とができ、また、発生した気泡も再び液晶中に溶け込む
こととなる。
射することにより、液晶からの気泡の発生を押さえるこ
とができ、また、発生した気泡も再び液晶中に溶け込む
こととなる。
実施例 以下、本発明の一実施例の液晶パネルの製造方法につ
いて、図面を参照しながら説明する。
いて、図面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の一実施例の液晶パネルの製造方法を
実施する製造装置の構成図を示すものであり、第３図は
白黒表示の液晶パネルの断面図を示すものであり、第４
図はカラー表示の液晶パネルの断面図を示すものであ
る。第１図において、１はレーザー発生装置、２はレー
ザー光、３は液晶パネルである。第３図において、21は
電極基板、22は透明電極、23は絶縁層、24は配向膜層、
25は液晶層、26は電極基板間の厚みを一定に保つ目的で
設けられたスペーサ、27は液晶をパネル内に保持する目
的で設けられたシールである。第４図において31a、31b
は電極基板、32は透明電極、33は絶縁層、34は配向膜
層、35は液晶層、36はスペーサ、37はシール、38はカラ
ーフィルタ、39は平滑層である。
実施する製造装置の構成図を示すものであり、第３図は
白黒表示の液晶パネルの断面図を示すものであり、第４
図はカラー表示の液晶パネルの断面図を示すものであ
る。第１図において、１はレーザー発生装置、２はレー
ザー光、３は液晶パネルである。第３図において、21は
電極基板、22は透明電極、23は絶縁層、24は配向膜層、
25は液晶層、26は電極基板間の厚みを一定に保つ目的で
設けられたスペーサ、27は液晶をパネル内に保持する目
的で設けられたシールである。第４図において31a、31b
は電極基板、32は透明電極、33は絶縁層、34は配向膜
層、35は液晶層、36はスペーサ、37はシール、38はカラ
ーフィルタ、39は平滑層である。
以上のように構成された液晶パネルの製造装置による
液晶パネルの製造方法について、以下第１図、第３図及
び第４図を用いて説明する。
液晶パネルの製造方法について、以下第１図、第３図及
び第４図を用いて説明する。
第１図のレーザー発生装置１より発生したレーザー光
２は、発振波長が0.4〜0.7μｍのレーザー光であり、レ
ーザー発生装置１としてキセノン・レーザー（フルオラ
ッド製）を用いた場合、発振波長が0.5μｍ、出力尖塔
値0.5mJ、半値幅１μｓの単発パルスのレーザー光であ
る。このレーザー光２は、液晶パネル３に照射させる。
液晶パネルとして第３図で示される白黒表示の液晶パネ
ルを用いた場合、電極22の加工及び液晶層25内の異物の
破壊が行われる。また、液晶パネルとして第４図で示さ
れるカラー表示の液晶パネルを用いた場合、電極32の加
工及び液晶層35内の異物の破壊が行われる。
２は、発振波長が0.4〜0.7μｍのレーザー光であり、レ
ーザー発生装置１としてキセノン・レーザー（フルオラ
ッド製）を用いた場合、発振波長が0.5μｍ、出力尖塔
値0.5mJ、半値幅１μｓの単発パルスのレーザー光であ
る。このレーザー光２は、液晶パネル３に照射させる。
液晶パネルとして第３図で示される白黒表示の液晶パネ
ルを用いた場合、電極22の加工及び液晶層25内の異物の
破壊が行われる。また、液晶パネルとして第４図で示さ
れるカラー表示の液晶パネルを用いた場合、電極32の加
工及び液晶層35内の異物の破壊が行われる。
以上のように発振波長が0.4〜0.7μｍのレーザー光を
用いることにより、照射部の直径を最低2.5μｍまで絞
ることができる。そのため、第３図における絶縁層23、
配向膜層24及び第４図における絶縁層33、配向膜層34の
破壊される部分を少なくとも直径30μｍより小さく押さ
えることができ、配向乱れによる表示上の欠陥は問題と
ならなかった。そして、第３図における液晶層25、及び
第４図における液晶層35で発生する気泡も少なく、１昼
夜の静置により完全に消失した。更に、第４図における
カラーフィルタ38、平滑層39の炭化と照射周辺部の盛り
上がりはほとんどなく、第４図に示されるカラー表示の
液晶パネルの対向電極間及び隣接電極間の短絡は生じな
かった。
用いることにより、照射部の直径を最低2.5μｍまで絞
ることができる。そのため、第３図における絶縁層23、
配向膜層24及び第４図における絶縁層33、配向膜層34の
破壊される部分を少なくとも直径30μｍより小さく押さ
えることができ、配向乱れによる表示上の欠陥は問題と
ならなかった。そして、第３図における液晶層25、及び
第４図における液晶層35で発生する気泡も少なく、１昼
夜の静置により完全に消失した。更に、第４図における
カラーフィルタ38、平滑層39の炭化と照射周辺部の盛り
上がりはほとんどなく、第４図に示されるカラー表示の
液晶パネルの対向電極間及び隣接電極間の短絡は生じな
かった。
ここで、第１図の液晶パネル３として第４図に示され
るカラー表示の液晶パネルを用いた場合、レーザー光２
をカラーフィルタ38のない電極基板31a側から照射した
ほうが、カラーフィルタ38と平滑層39における吸収が少
なくなり好ましい。
るカラー表示の液晶パネルを用いた場合、レーザー光２
をカラーフィルタ38のない電極基板31a側から照射した
ほうが、カラーフィルタ38と平滑層39における吸収が少
なくなり好ましい。
なお、以上のような発明の効果は、キセノン・レーザ
ーに限定されるものではなく、YAGの２次高調波を用い
たレーザーのように、発振波長が0.4〜0.7μｍに入るレ
ーザーならば、同様の効果を持つ。また、用いるレーザ
ーの出力尖塔値が低い場合、Ｑスイッチタイプのレーザ
ーとして出力尖塔値を高めることで同様の効果を発揮さ
せることができる。
ーに限定されるものではなく、YAGの２次高調波を用い
たレーザーのように、発振波長が0.4〜0.7μｍに入るレ
ーザーならば、同様の効果を持つ。また、用いるレーザ
ーの出力尖塔値が低い場合、Ｑスイッチタイプのレーザ
ーとして出力尖塔値を高めることで同様の効果を発揮さ
せることができる。
次に、先述の実施例を改良した実施態様を図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
第２図は前述の実施例を改良した一実施態様における
液晶パネルの製造装置を示すものである。第２図におい
て11はレーザー発生装置、12はレーザー光、13は液晶パ
ネル、14は密封容器、15は窓、16は加圧装置である。前
述の実施例と同様に液晶パネル13として用いられる液晶
パネルの断面図は、第３図と第４図に示される。
液晶パネルの製造装置を示すものである。第２図におい
て11はレーザー発生装置、12はレーザー光、13は液晶パ
ネル、14は密封容器、15は窓、16は加圧装置である。前
述の実施例と同様に液晶パネル13として用いられる液晶
パネルの断面図は、第３図と第４図に示される。
以上のように構成された液晶パネルの製造装置による
液晶パネルの製造方法について以下第２図、第３図及び
第４図を用いて説明する。
液晶パネルの製造方法について以下第２図、第３図及び
第４図を用いて説明する。
前述の実施例との違いは、第２図における液晶パネル
13が密封容器14の中に置かれて、加圧装置16により２〜
10気圧の高静圧がかけられていることである。本実施例
では、密封容器14の内部を加圧装置16により４気圧の高
静圧にし液晶パネル13にかけることで、第３図における
液晶層25及び第４図における液晶層35に発生する気泡を
少なくすることができ、更に発生した気泡は短時間のう
ちに解消することができた。
13が密封容器14の中に置かれて、加圧装置16により２〜
10気圧の高静圧がかけられていることである。本実施例
では、密封容器14の内部を加圧装置16により４気圧の高
静圧にし液晶パネル13にかけることで、第３図における
液晶層25及び第４図における液晶層35に発生する気泡を
少なくすることができ、更に発生した気泡は短時間のう
ちに解消することができた。
10気圧より高い静圧では、液晶パネルの損傷を来すの
で好ましくない。また、２〜10気圧の高静圧のうち、よ
り好ましくは２〜５気圧であった。
で好ましくない。また、２〜10気圧の高静圧のうち、よ
り好ましくは２〜５気圧であった。
なお、密封容器14による加圧方法は、加圧装置16を用
いる方法に限定されるものではなく、例えば、空気を通
さない袋状のものの内部に液晶パネルを密封して密封容
器内を減圧することによっても本発明同様の効果を得る
ことができる。
いる方法に限定されるものではなく、例えば、空気を通
さない袋状のものの内部に液晶パネルを密封して密封容
器内を減圧することによっても本発明同様の効果を得る
ことができる。
発明の効果 以上のように本発明は、液晶パネルの製造方法として
発振波長が0.4〜0.7μｍのレーザー光を用いることによ
り、表示品位を損ねることなく液晶パネルの電極の加
工、液晶内の異物の破壊、導電性の異物による電極間の
短絡の切断を液晶注入後に行うことができる。すなわ
ち、レーザーの発振波長が0.4〜0.7μｍの範囲を適用す
ることにより、従来適用されていたYAGレーザーよりも
電極基板、液晶材料、有機樹脂での吸収率が低いため、
レーザー光を集中させて対象とする加工部位または異物
に集中させても、液晶層からの気泡の発生、照射部位の
破壊、有機樹脂の炭化等が抑制でき、レーザー光照射に
起因する液晶パネルの表示むらや照射部の短絡という副
作用の発生をなくすことができる。
発振波長が0.4〜0.7μｍのレーザー光を用いることによ
り、表示品位を損ねることなく液晶パネルの電極の加
工、液晶内の異物の破壊、導電性の異物による電極間の
短絡の切断を液晶注入後に行うことができる。すなわ
ち、レーザーの発振波長が0.4〜0.7μｍの範囲を適用す
ることにより、従来適用されていたYAGレーザーよりも
電極基板、液晶材料、有機樹脂での吸収率が低いため、
レーザー光を集中させて対象とする加工部位または異物
に集中させても、液晶層からの気泡の発生、照射部位の
破壊、有機樹脂の炭化等が抑制でき、レーザー光照射に
起因する液晶パネルの表示むらや照射部の短絡という副
作用の発生をなくすことができる。
このように、本発明の液晶パネルの製造方法は、液晶
パネル製造における歩留り向上に資するものであり、産
業上極めて有用である。
パネル製造における歩留り向上に資するものであり、産
業上極めて有用である。
第１図は本発明の一実施例における液晶パネルの製造装
置の構成図、第２図は第１図の製造装置を改良した一実
施態様における液晶パネルの製造装置の構成図、第３図
は第１図及び第２図における白黒表示の液晶パネルの断
面図、第４図は第１図及び第２図におけるカラー表示の
液晶パネルの断面図である。 1,11……レーザー発生装置、2,12……レーザー光、3,13
……液晶パネル、14……密封容器、15……窓、16……加
圧装置、21,31a,31b……電極基板、22,32……透明電
極、23,33……絶縁層、24,34……配向膜層、25,35……
液晶層、26,36……スペーサ、27,37……シール、38……
カラーフィルタ、39……平滑層。
置の構成図、第２図は第１図の製造装置を改良した一実
施態様における液晶パネルの製造装置の構成図、第３図
は第１図及び第２図における白黒表示の液晶パネルの断
面図、第４図は第１図及び第２図におけるカラー表示の
液晶パネルの断面図である。 1,11……レーザー発生装置、2,12……レーザー光、3,13
……液晶パネル、14……密封容器、15……窓、16……加
圧装置、21,31a,31b……電極基板、22,32……透明電
極、23,33……絶縁層、24,34……配向膜層、25,35……
液晶層、26,36……スペーサ、27,37……シール、38……
カラーフィルタ、39……平滑層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 炭田 祉朗 大阪府門真市大字門真1066番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−144320（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−46727（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−191804（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02F 1/1343 G02F 1/13 G02F 1/1335
Claims (2)
- 【請求項１】二枚の電極基板の対向面上にそれぞれ透明
電極を形成して対峙させ、その間に液晶を注入して液晶
パネルを形成した後に、発振波長が0.4〜0.7μｍのレー
ザーを用いて、レーザー光を局部的に照射して、透明電
極を加工し、液晶層内の異物を破壊し、または導電性の
異物による電極間の短絡を切断することを特徴とする液
晶パネルの製造方法。 - 【請求項２】二枚の電極基板の対向面上にそれぞれ透明
電極と少なくとも有機樹脂からなるカラーフィルタと平
滑層を形成して対峙させ、その間に液晶を注入して液晶
パネルを形成した後に、発振波長が0.4〜0.7μｍのレー
ザーを用いて、レーザー光を局部的に照射して、透明電
極を加工し、液晶層内の異物を破壊し、または導電性の
異物による電極間の短絡を切断することを特徴とする液
晶パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1145949A JP2794791B2 (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 液晶パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1145949A JP2794791B2 (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 液晶パネルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0311316A JPH0311316A (ja) | 1991-01-18 |
| JP2794791B2 true JP2794791B2 (ja) | 1998-09-10 |
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| JP (1) | JP2794791B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6256827B2 (ja) * | 2013-10-10 | 2018-01-10 | Ｔｉａｎｍａ Ｊａｐａｎ株式会社 | 液晶パネル及びその製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06100683B2 (ja) * | 1986-02-18 | 1994-12-12 | 凸版印刷株式会社 | カラ−フイルタ−の修正方法 |
| JPS63144320A (ja) * | 1986-12-09 | 1988-06-16 | Toshiba Corp | 液晶表示器の製造方法 |
-
1989
- 1989-06-08 JP JP1145949A patent/JP2794791B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0311316A (ja) | 1991-01-18 |
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