JP2801436B2 - Release film with antistatic performance - Google Patents
Release film with antistatic performanceInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は帯電防止性能を有する離
型フイルムに関し、さらに詳しくはポリエステルフイル
ムの片面または両面に特定の帯電防止層を設け、さらに
その上に硬化型シリコーンを用いた離型層を設けること
により、安定した帯電防止性能と優れた離型性を付与し
た離型フイルムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a release film having antistatic performance, and more particularly, to a release film using a polyester film having a specific antistatic layer on one or both sides thereof, and further using a curable silicone. The present invention relates to a release film provided with a layer to provide stable antistatic performance and excellent release properties.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、粘着剤、接着剤等の幅広い応用に
伴ない、その粘着面を保護するシリコーンコーティング
の紙やフイルムの利用が著しく伸びており、特に電子・
電気機器におけるマスキングテープやダイシングテープ
等の保護層に必要不可欠なものとなっている。また、プ
ラスチック、ゴム等の材料成形のうち、特に塩化ビニ
ル、エポキシ、ポリウレタン、ポリエステル樹脂等の成
形には硬化反応、冷却硬化するまでに成形性を保持する
ためシリコーンコーティングの紙やフイルムが応用され
ている。また、シリコーンの潤滑性に注目し表面の摩擦
係数の低いシリコーンコーティングフイルムがオーディ
オカセットのスリップシートとして大量に使用されてい
る。2. Description of the Related Art In recent years, with the wide application of pressure-sensitive adhesives and adhesives, the use of silicone-coated paper and films for protecting the pressure-sensitive adhesive surface has been remarkably growing.
It is indispensable for a protective layer such as a masking tape and a dicing tape in electric equipment. In addition, among materials such as plastics and rubbers, silicone-coated papers and films are applied to the molding of vinyl chloride, epoxy, polyurethane, polyester resin, etc., in order to maintain the moldability before curing and cooling and curing. ing. In addition, attention has been paid to the lubricity of silicone, and silicone-coated films having a low coefficient of friction on the surface have been widely used as slip sheets for audio cassettes.
【0003】これらシリコーンコーティングの紙やフイ
ルムに使用されるシリコーンは、一般に、表面粘着を防
止し、背面へのシリコーンの移行を出来るだけ少なくす
るように要求される。そのため、シリコーンとしては末
端に−OH基をもつポリジメチルシロキサンと末端に−
H基をもつポリジメチルシロキサン(ヒドロキシポリジ
メチルシロキサン)を有機錫触媒を用いて縮合反応さ
せ、3次元架橋構造を作るタイプのものや、末端にビニ
ル基を導入したポリジメチルシロキサンとヒドロキシポ
リジメチルシロキサンを有機触媒を用い付加反応させる
タイプのものが主として用いられる。[0003] The silicone used in these silicone-coated papers and films is generally required to prevent surface sticking and to minimize the migration of silicone to the backside. Therefore, as a silicone, polydimethylsiloxane having an -OH group at a terminal and-
Condensation reaction of H-group-containing polydimethylsiloxane (hydroxypolydimethylsiloxane) using an organotin catalyst to form a three-dimensional cross-linked structure, or polydimethylsiloxane and hydroxypolydimethylsiloxane with a vinyl group introduced into the terminal Are mainly used in which an addition reaction is carried out using an organic catalyst.
【0004】しかし、このようにして形成されたシリコ
ーン薄膜はそのシリコーン主鎖結合ならびに立体構造に
よって電荷の漏洩がなく、帯電しやすい欠点をもってい
る。それ故、このシリコーン薄膜をコーティングしたフ
イルムは当然帯電性が高く、種々の障害を生ずる。例え
ば、離型フイルムとして各種樹脂の成形基板として使用
する場合、剥離帯電量が多く、ゴミ等の付着が起こり、
繰返し使用した場合、これらは付着異物により成形樹脂
表面に欠陥を生じる。[0004] However, the silicone thin film thus formed has a drawback that charge is not leaked due to its silicone main chain bond and three-dimensional structure, and it is easily charged. Therefore, the film coated with the silicone thin film naturally has high chargeability and causes various obstacles. For example, when used as a mold film of various resins as a release film, the amount of peeling charge is large, adhesion of dust and the like occurs,
When used repeatedly, these may cause defects on the surface of the molded resin due to adhered foreign matter.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、温度に対
し安定な帯電防止性能を有し、かつ優れた離型性を有す
る離型フイルムを開発すべく鋭意研究した結果、本発明
に到達したものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have conducted intensive studies to develop a release film having stable antistatic properties against temperature and excellent release properties, and as a result, have reached the present invention. It was done.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明はプラ
スチックフイルムの片面または両面に、金属化合物と電
荷移動錯体を形成しているテトラアルコキシシラン及び
/またはその部分加水分解物を用いた帯電防止層を介し
て、硬化型シリコーンを用いた離型層が形成されている
ことを特徴とする帯電防止性能を有する離型フイルムで
ある。That is, the present invention provides an antistatic layer using a tetraalkoxysilane and / or a partially hydrolyzed product thereof, which forms a charge transfer complex with a metal compound, on one or both surfaces of a plastic film. A release film having antistatic performance, characterized in that a release layer using a curable silicone is formed through the release film.
【0007】本発明におけるプラスチックフイルムとし
ては、例えばポリスチレン、ポリアクリル酸メチル、ポ
リカーボネート、ポリスルホン、ポリエステル等よりな
る透明なフイルム(含シート)を好ましく挙げることが
できる。これらのうちでは、ポリエステル二軸延伸フイ
ルムが好ましい。ポリエステルフイルムは、製膜段階ま
でに添加、含有される滑剤例えばクレー、カオリン、シ
リカ、炭酸カルシウム等の粒径、量を調節することによ
り、容易に透明性をコントロールでき、またその表面に
コーティングを実施するにあたり、耐溶剤性、耐熱性、
機械的性質にも優れている、という利点を有する。As the plastic film in the present invention, a transparent film (including a sheet) made of, for example, polystyrene, polymethyl acrylate, polycarbonate, polysulfone, polyester or the like can be preferably mentioned. Among these, a polyester biaxially stretched film is preferred. Polyester film can be easily controlled for transparency by adjusting the particle size and amount of lubricants, such as clay, kaolin, silica, calcium carbonate, etc., added and formed by the film forming stage, and the coating can be easily applied to the surface. In carrying out, solvent resistance, heat resistance,
It has the advantage of excellent mechanical properties.
【0008】本発明における帯電防止層は、金属化合物
と電荷移動錯体を形成しているテトラアルコキシシラン
及び/またはその部分加水分解物の塗液を用い、これを
プラスチックフイルムの片面または両面に塗付し、加熱
乾燥させることで形成する。この加熱乾燥において、雰
囲気中の水分によって塗布化合物が加水分解し、生成し
たシラノールは縮合反応を起して三次元結合の酸化ケイ
素の膜を形成する。これらの反応は知られており、模式
的に示すと次の通りである。[0008] The antistatic layer in the present invention uses a coating liquid of tetraalkoxysilane and / or a partial hydrolyzate thereof which forms a charge transfer complex with a metal compound, and is applied to one or both surfaces of a plastic film. Then, it is formed by heating and drying. In the heating and drying, the coating compound is hydrolyzed by moisture in the atmosphere, and the generated silanol causes a condensation reaction to form a three-dimensionally bonded silicon oxide film. These reactions are known and are shown schematically below.
【0009】[0009]
【化1】 Embedded image
【0010】金属化合物としては錯体の反応収率や、副
生成物などの点から2価金属の化合物(例えばハロゲン
化合物、酸化物、水酸化物、低級脂肪酸塩等)が好まし
く、この金属としてはMg,Ca,Sr,Mn,Co,
Ni,Fe,Cu,Zn,Cd,Hg,Sn,Pb,A
l等が好ましく挙げられる。また、テトラアルコキシシ
ランとしては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエ
トキシシラン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。The metal compound is preferably a divalent metal compound (eg, a halogen compound, an oxide, a hydroxide, a lower fatty acid salt, etc.) in view of the reaction yield of the complex and by-products. Mg, Ca, Sr, Mn, Co,
Ni, Fe, Cu, Zn, Cd, Hg, Sn, Pb, A
and the like. Examples of the tetraalkoxysilane include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, and the like.
【0011】錯体形成反応を酢酸塩を用いた場合につい
て模式的に示すと、次の通りである。The complex formation reaction in the case of using an acetate is schematically shown as follows.
【0012】[0012]
【化2】 Embedded image
【0013】金属化合物と電荷移動錯体を形成している
テトラアルコキシシラン及び/またはその部分加水分解
物は市場から入手することができ、例えばコルコートE
C920,コルコートEC851等を挙げることができ
る。これらは、電荷移動錯体を形成していないテトラア
ルコキシシラン及び/またはその部分加水分解物に比し
て、長期の耐久性、表面固有抵抗の安定性にすぐれてい
る、という利点を有する。The tetraalkoxysilane forming a charge transfer complex with the metal compound and / or a partial hydrolyzate thereof can be obtained from the market.
C920, Colcoat EC851, and the like. These have an advantage that they are superior in long-term durability and stability of surface resistivity as compared with tetraalkoxysilane and / or a partial hydrolyzate thereof which does not form a charge transfer complex.
【0014】本発明における離型層は、硬化型シリコー
ンの塗液を用い、これを帯電防止層の上に塗布し、硬化
させることで形成する。硬化型シリコーンとしては、例
えば縮合反応系のもの、付加反応系のもの、ラジカル反
応系のもの、紫外線もしくは電子線硬化系のもの、シリ
ルイソシアネートの加アルコール反応系のものなどいず
れの反応系のものも用いることができる。シリコーンの
硬化反応を示すと、次の通りである。The release layer in the present invention is formed by using a coating liquid of a curable silicone, applying the coating liquid on the antistatic layer, and curing the coating. As the curable silicone, for example, any of a reaction system such as a condensation reaction system, an addition reaction system, a radical reaction system, an ultraviolet or electron beam curing system, and an alcohol addition reaction system of silyl isocyanate can be used. Can also be used. The curing reaction of silicone is as follows.
【0015】[0015]
【化3】 Embedded image
【0016】[0016]
【化4】 Embedded image
【0017】[0017]
【化5】 Embedded image
【0018】電子線は紫外線よりもエネルギーが強く、
紫外線硬化の場合のように開始剤を用いずともラジカル
による架橋反応が起こる。Electron beams have higher energy than ultraviolet rays.
A radical crosslinking reaction occurs without using an initiator as in the case of ultraviolet curing.
【0019】上記縮合反応系のシリコーンとしては、例
えば、末端OH基をもつポリジメチルシロキサンと末端
に−H基をもつポリジメチルシロキサン(ヒドロキシポ
リジメチルシロキサン)を有機錫触媒(例えば有機錫ア
シレート触媒)を用いて縮合反応させ、3次元架橋構造
をつくるものが挙げられる。付加反応系のシリコーンと
しては、例えば末端にビニル基を導入したポリジメチル
シロキサンとヒドロキシポリジメチルシロキサンを白金
触媒を用い付加反応させ、3次元架橋構造をつくるもの
が挙げられる。紫外線硬化系のシリコーンとしては、例
えば最も基本的なタイプとして通常のシリコーンゴム架
橋と同じラジカル反応を利用するもの、アクリル基を導
入して光硬化させるもの、紫外線でオニウム塩を分解し
て強酸を発生させこれでエポキシ基を開環させて架橋さ
せるもの、ビニルシロキサンへのチオールの付加反応で
架橋するもの等が挙げられる。加アルコール反応型シリ
コーンとは、ケイ素官能型シリルイソシアネートとアル
コールの反応を利用するものである。該シリルイソシア
ネートはアルコールと速やかに反応するが安定なウレタ
ン化合物の形成は無くSi−N結合が開裂し、3次元架
橋構造をつくるものが挙げられる。As the silicone of the condensation reaction system, for example, a polydimethylsiloxane having a terminal OH group and a polydimethylsiloxane having a terminal -H group (hydroxypolydimethylsiloxane) may be an organic tin catalyst (for example, an organic tin acylate catalyst). To form a three-dimensional crosslinked structure by a condensation reaction. Examples of the addition reaction type silicone include those which form a three-dimensional crosslinked structure by performing an addition reaction between polydimethylsiloxane having a vinyl group introduced at a terminal and hydroxypolydimethylsiloxane using a platinum catalyst. Examples of the UV-curable silicone include, for example, the most basic types which utilize the same radical reaction as ordinary silicone rubber crosslinking, those which are photocured by introducing an acrylic group, and those which decompose onium salts by ultraviolet rays to form strong acids. Examples thereof include those which are generated and crosslinked by opening the epoxy group with this, and those which are crosslinked by the addition reaction of thiol to vinyl siloxane. The alcohol-addition reaction type silicone utilizes a reaction between a silicon-functional silyl isocyanate and an alcohol. The silyl isocyanate reacts promptly with an alcohol but does not form a stable urethane compound, and the Si—N bond is cleaved to form a three-dimensional crosslinked structure.
【0020】硬化型シリコーンとしてはその重合度が5
0〜50,000程度のものが望ましく、これらの具体
例としてはダウコーニング社製のDK−Q8−701,
−770,−778,−779;信越化学(株)製のK
S−774,−778,−841,−837,X−62
−2087,−2113,X−24−8301,X−2
2−343,−160C;東芝シリコーン(株)製のT
PR−6721,−6700,−6720,XS−56
−707,−619,YSR−3022,TUV600
0;東レシリコーン(株)製のSRX−211,−34
5,SD−7220,−7223,−7229;松本製
薬工業(株)製のSIC−003,SI−130,−2
20,−310,−400等を挙げることができる。The curable silicone has a degree of polymerization of 5
Desirable is about 0 to 50,000. Specific examples of these are DK-Q8-701, manufactured by Dow Corning.
-770, -778, -779; K manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
S-774, -778, -841, -837, X-62
-2087, -2113, X-24-8301, X-2
2-343, -160C; T made by Toshiba Silicone Co., Ltd.
PR-6721, -6700, -6720, XS-56
-707, -619, YSR-3022, TUV600
0; SRX-211, -34 manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.
5, SD-7220, -7223, -7229; SIC-003, SI-130, -2 manufactured by Matsumoto Pharmaceutical Co., Ltd.
20, -310, and -400.
【0021】プラスチックフイルムの上に帯電防止性下
塗り層及びその塗膜上に硬化シリコーン層を設けるに当
り、コーティングの方法としてはバーコート法、ドクタ
ーブレード法、リバースロールコート法、グラビアロー
ルコート法等の従来から知られている方法が利用でき
る。In providing an antistatic undercoat layer on a plastic film and a cured silicone layer on the coating film, the coating method includes a bar coating method, a doctor blade method, a reverse roll coating method, a gravure roll coating method and the like. Can be used.
【0022】塗膜の乾燥及び硬化(熱硬化、紫外線硬化
等)は、それぞれ個別又は同時に行うことができる。同
時に行うときにはプラスチックフイルムの耐熱性(熱的
寸法安定性)にもよるが、120℃以上で行なうことが
好ましい。Drying and curing (thermal curing, ultraviolet curing, etc.) of the coating film can be performed individually or simultaneously. The simultaneous treatment is preferably carried out at 120 ° C. or higher, although it depends on the heat resistance (thermal dimensional stability) of the plastic film.
【0023】本発明の離型のフイルムは、次の特徴を有
する。 1) 硬化シリコン膜の上塗り層の低表面エネルギーに
より、他の種々の物質と密着することなく良好な離型性
を有する。 2) 金属化合物と電荷移動錯体を形成しているテトラ
アルコキシシラン及び/またはその部分加水分解物によ
り形成された下塗り層により、硬化シリコーンの上塗り
層表面の表面固有抵抗値を1×108 〜1×1013Ω/
□に下げることができ帯電障害を回避できる。The release film of the present invention has the following features. 1) Due to the low surface energy of the overcoating layer of the cured silicon film, it has good releasability without adhering to various other substances. 2) The undercoat layer formed of a tetraalkoxysilane and / or a partial hydrolyzate thereof which forms a charge transfer complex with the metal compound can reduce the surface resistivity of the cured silicone overcoat layer surface to 1 × 10 8 -1. × 10 13 Ω /
It can be reduced to □, and charging failure can be avoided.
【0024】[0024]
【実施例】以下、実施例を掲げて本発明を更に詳細に説
明する。なおフイルムの各種特性の測定は下記の方法に
より行った。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. The measurement of various characteristics of the film was performed by the following methods.
【0025】(1)表面固有抵抗値 ASTM D−257に準拠した超絶縁抵抗計(黄河電
機製RM−214)にて表面固有抵抗を測定する。(1) Surface Specific Resistance The surface specific resistance is measured with a super insulation resistance meter (RM-214, manufactured by Huanghe Electric) conforming to ASTM D-257.
【0026】(2)離型性 硬化シリコーン上塗り層上にポリエステル粘着テープ
(ニット−31B)を貼り合せ、2kgの圧着ローラーで
圧着後20分放置したのち、テープ幅(1インチ)に裁
断し、インストロン型引張り試験機にて180°方向に
剥離し、その時の抵抗値(g/インチ)をもって表示す
る。(2) Release Property A polyester adhesive tape (nit-31B) was stuck on the cured silicone overcoat layer, left to stand for 20 minutes after being pressed by a 2 kg pressure roller, and cut into a tape width (1 inch). It is peeled in the direction of 180 ° by an Instron type tensile tester, and the resistance value (g / inch) at that time is indicated.
【0027】(3)摩擦係数 ASTM D−1894に準拠し、プラスチックフイル
ムの処理面と非処理との静摩擦(μs)および動摩擦係
数(μd)を測定する。(3) Coefficient of friction According to ASTM D-1894, the static friction (μs) and the dynamic friction coefficient (μd) between the treated surface and the non-treated plastic film are measured.
【0028】[0028]
【比較例1】ポリシロキサンの部分加水分解物であるコ
ルコート社(株)商品名コルコートPをイソプロピルア
ルコール(IPA)により希釈し、固形分1.5%の溶
液を調製した。Comparative Example 1 Colcoat P (trade name, manufactured by Colcoat Co., Ltd.), which is a partial hydrolyzate of polysiloxane, was diluted with isopropyl alcohol (IPA) to prepare a solution having a solid content of 1.5%.
【0029】この塗液をポリエステルフイルム(厚さ5
0μm)のフイルムに塗布量6g/m2 (wet)でコーテ
ィングし、乾燥温度120℃、滞留時間1分で乾燥させ
た。This coating solution was applied to a polyester film (thickness 5
(0 μm) film was coated at a coating amount of 6 g / m 2 (wet), and dried at a drying temperature of 120 ° C. and a residence time of 1 minute.
【0030】さらに硬化型シリコーン[東芝シリコーン
(株)商品名TPR−6700]100重量部に硬化剤
[東芝シリコーン(株)商品名CM−670]2重量部
を加え、メチルエチルケトン(MEK),トルエンの溶
剤で希釈し、固形分1.5%の溶液を調製し、これを、
上記コルコートPを塗設したフイルム上に塗布量12g
/m2 (wet)でコーティングし、乾燥温度140℃、滞
留時間1分で乾燥させた。Further, 2 parts by weight of a curing agent [Toshiba Silicone Co., Ltd. CM-670] was added to 100 parts by weight of a curable silicone [Toshiba Silicone Co., Ltd. TPR-6700], and methyl ethyl ketone (MEK) and toluene were added. Dilute with a solvent to prepare a 1.5% solids solution,
A coating amount of 12 g on the film coated with Colcoat P
/ M 2 (wet) and dried at a drying temperature of 140 ° C. for a residence time of 1 minute.
【0031】得られた離型フイルムの特性を表1に示
す。Table 1 shows the properties of the release film thus obtained.
【0032】[0032]
【実施例1】金属化合物を含むテトラアルコキシシラン
の部分加水分解物であるコルコート社(株)商品名コル
コートEC−620をIPAにより希釈し、固形分1.
5%の溶液を調製した。Example 1 Colcoat EC-620 (trade name), which is a partial hydrolyzate of tetraalkoxysilane containing a metal compound, was diluted with IPA to obtain a solid content of 1.
A 5% solution was prepared.
【0033】この塗液をポリエステルフイルム(厚さ5
0μm)のフイルムに塗布量6g/m2 (wet)でコーテ
ィングし、乾燥温度120℃、滞留時間1分で乾燥させ
た。This coating solution was applied to a polyester film (thickness 5
(0 μm) film was coated at a coating amount of 6 g / m 2 (wet), and dried at a drying temperature of 120 ° C. and a residence time of 1 minute.
【0034】さらに付加反応型シリコーン[東芝シリコ
ーン(株)商品名TPR−6700]100重量部に硬
化剤[東芝シリコーン(株)商品名CM−670]2重
量部を加え、MEK,トルエンの溶剤で希釈して固形分
1.5%の溶液を調製し、これを、上記コルコートEC
−920を塗設したフイルム上に塗布量12g/m
2 (wet)でコーティングし、乾燥温度120℃、滞留時
間1分で乾燥させた。Further, 2 parts by weight of a curing agent [trade name: CM-670, trade name of Toshiba Silicone Co., Ltd.] is added to 100 parts by weight of addition reaction type silicone [TPR-6700, trade name of Toshiba Silicone Co., Ltd.], and a solvent of MEK and toluene is used. The solution was diluted to prepare a solution having a solid content of 1.5%.
-920 g / m on a film coated with -920
2 (wet) and dried at a drying temperature of 120 ° C. for a residence time of 1 minute.
【0035】得られた離型フイルムの特性を表1に示
す。Table 1 shows the characteristics of the obtained release film.
【0036】[0036]
【実施例2】縮合反応型シリコーン[東芝シリコーン
(株)商品名YSR−3022]100重量部に硬化剤
[東芝シリコーン(株)商品名YC−6831]5重量
部を加え、MEK,メチルイソブチルケトン(MIB
K),キシレンの溶剤で希釈して固形分1.5%の溶液
を調製した。実施例1と同様に、この塗液を前記コルコ
ートEC−920を塗設したフイルム上にコーティング
した。Example 2 To 100 parts by weight of a condensation reaction type silicone [Toshiba Silicone Co., Ltd. trade name YSR-3022], 5 parts by weight of a curing agent [Toshiba Silicone Co., Ltd. trade name YC-6831] were added, and MEK, methyl isobutyl ketone was added. (MIB
K), and diluted with a solvent of xylene to prepare a solution having a solid content of 1.5%. In the same manner as in Example 1, this coating solution was coated on a film provided with the above-mentioned Colcoat EC-920.
【0037】得られた離型フイルムの特性を表1に示
す。Table 1 shows the properties of the release film thus obtained.
【0038】[0038]
【実施例3】加アルコール反応型シリコーンとしてシラ
ントリイソシアネート化合物とポリジメチルシロキサン
の混合物であるイソシアネートシリコーン[松本製薬工
業(株)商品名オルガチックスSIC−003]をIP
Aにより希釈し、固形分1.5%の溶液を調製した。実
施例1と同様に、この塗液を前記コルコートEC−92
0を塗設したフイルム上にコーティングした。Example 3 An isocyanate silicone [Matsumoto Pharmaceutical Co., Ltd. product name, Orgatics SIC-003], which is a mixture of a silane triisocyanate compound and polydimethylsiloxane, was used as the alcohol-reaction type silicone.
A was diluted with A to prepare a solution having a solid content of 1.5%. In the same manner as in Example 1, this coating solution was applied to the Colcoat EC-92.
0 was coated on the coated film.
【0039】得られた離型フイルムの特性を表1に示
す。Table 1 shows the characteristics of the obtained release film.
【0040】[0040]
【実施例4】紫外線硬化型シリコーン[東芝シリコーン
(株)商品名TUV6000]を実施例1で塗設したコ
ルコートEC−920のフイルム上に1μmの厚みにコ
ーティングし、8KW(160W/cm)オゾン発生高圧
水銀ランプで10cmの距離から2000mj/cm2 のUV
を2秒間照射し、硬化させた。Example 4 UV curable silicone [TUV6000 (Toshiba Silicone Co., Ltd.)] was coated on Colcoat EC-920 film coated in Example 1 to a thickness of 1 μm, and 8 KW (160 W / cm) ozone was generated. UV from a distance of 10cm in the high-pressure mercury lamp of 2000mj / cm 2
For 2 seconds to cure.
【0041】得られた離型フイルムの特性を表1に示
す。Table 1 shows the properties of the obtained release film.
【0042】[0042]
【表1】 [Table 1]
【0043】表1より明らかなように、本発明の離型フ
イルムは安定した帯電防止性と離型性を兼ね備えたフイ
ルムである。As apparent from Table 1, the release film of the present invention is a film having both stable antistatic properties and release properties.
【0044】[0044]
【発明の効果】本発明によれば、湿度に対し安定な帯電
防止性能を有し、かつ優れた離型性を有する離型フイル
ムを提供することができる。According to the present invention, it is possible to provide a release film having a stable antistatic property against humidity and excellent release properties.
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B32B 1/00 - 35/00 C08J 7/04 C09J 7/02 - 7/04 C09K 3/16Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) B32B 1/00-35/00 C08J 7/04 C09J 7/02-7/04 C09K 3/16
Claims (1)
に、金属化合物と電荷移動錯体を形成しているテトラア
ルコキシシラン及び/またはその部分加水分解物を用い
た帯電防止層を介して、硬化型シリコーンを用いた離型
層が形成されていることを特徴とする帯電防止性能を有
する離型フイルム。A curable silicone is used on one or both surfaces of a plastic film via an antistatic layer using a tetraalkoxysilane and / or a partial hydrolyzate thereof forming a charge transfer complex with a metal compound. A release film having antistatic performance, wherein a release layer is formed.
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|---|---|---|---|
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| JP3204622A JP2801436B2 (en) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | Release film with antistatic performance |
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ID=16493526
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