JP2805136B2 - Photodisintegrable transparent resin film - Google Patents
Photodisintegrable transparent resin filmInfo
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光崩壊性透明樹脂フイ
ルムに関し、詳しくは、太陽光の照射によつて自然に光
崩壊する塩化ビニル系透明樹脂フイルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】塩化ビニル系樹脂よりなるフイルムやテ
ープは、種々の農業用資材として広く用いられている。
例えば、接木は、特開昭６１−９５０７２号公報に詳細
に記載されているように、農業において広く採用されて
いるが、この接木用テープは、従来、接木部分を結束し
て後、３〜５か月後に手作業によつて取り除かれてい
る。そのために、この作業は、手間と時間を要し、数か
月の太陽光の照射によつて、自然崩壊するような接木テ
ープが強く要求されている。
【０００３】かかる要求に応えるために、上記した公開
公報ほか、特開昭６１−９５０４７号公報に光崩壊性の
塩化ビニル系樹脂フイルムが提案されている。これら光
崩壊性フイルムは、アクリロニトリル−ブタジエン共重
合体や鉄化合物を塩化ビニル系樹脂に混合し、これをフ
イルムにやテープに成形してなるものであるが、尚、光
崩壊性が十分でない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の光崩
壊性樹脂フイルムにおける上記した問題を解決するため
になされたものであつて、初期には要求される物性を有
すると共に、所定期間経過後には、自然環境下に速やか
に光崩壊し、しかも透明である塩化ビニル系樹脂フイル
ムを提供することを目的とする。
【０００５】本発明による光崩壊性透明樹脂フイルム
は、重合度６００〜２５００の塩化ビニルの単独重合体
又はその共重合体１００重量部、スチレン−ブタジエン
−スチレンブロツク共重合体１５〜３０重量部、有機酸
の遷移金属塩２〜５重量部、及び長石系鉱物からなる透
明な充填剤５０〜２００重量部を含有することを特徴と
する。
【０００６】本発明による光崩壊性透明樹脂フイルム
は、このように、樹脂フイルムに光崩壊性を与える光崩
壊性成分として、スチレン−ブタジエン−スチレンブロ
ツク共重合体と有機酸の遷移金属塩とを含有すると共
に、長石系鉱物からなる透明な充填剤を多量に含有する
点に特徴を有し、これによつて、透明であり、しかも、
いわば柔らかく光崩壊させるようにすることができる。
【０００７】先ず、本発明による光崩壊性樹脂フイルム
において、基材樹脂は塩化ビニルの単独重合体又はその
共重合体であつて、共重合体単量体成分としては、例え
ば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ラウリン酸ビニ
ル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル
類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸ブチル等のメタクリル酸エステル類、マレイン酸
ジエチル、マレイン酸ジブチル等のマレイン酸ジエステ
ル類、フマル酸ジエチル、フマル酸ジブチル等のフマル
酸ジエステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルブチル
エーテル、ビニルオクチルエーテル等のビニルアルキル
エーテル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等
のシアン化ビニル類、エチレン、プロピレン、スチレン
等のα−オレフイン類、塩化ビニリデン、臭化ビニリデ
ン、フツ化ビニリデン等のハロゲン化ビニリデン類を挙
げることができる。これらの共重合体単量体成分は、そ
の共重合体において、３０重量％以下、好ましくは２０
重量％以下の範囲で含有される。
【０００８】本発明において用いるかかる塩化ビニルの
単独重合体又はその共重合体は、主として、カレンダー
加工によるフイルムへの成形性を確保するために、その
平均重合度が６００〜２５００の範囲にあることが必要
であり、特に、好ましくは、７００〜１３００の範囲で
ある。重合度が上記範囲をはずれるときは、いずれもカ
レンダー加工によるフイルムへの成形が困難である。但
し、本発明による樹脂フイルムは、その加工法において
限定されるものではない。
【０００９】本発明による光崩壊性樹脂フイルムは、上
記のような塩化ビニルの単独重合体又は共重合体と共
に、光崩壊性成分として、スチレン−ブタジエン−スチ
レンブロツク共重合体と有機酸の遷移金属塩とを含有す
る。スチレン−ブタジエン−スチレンブロツク共重合体
は、本来、比較的劣化しやすいので、樹脂フイルムにか
かる共重合体を含有させることによつて、樹脂フイルム
の光崩壊性を促進する。また、有機酸の遷移金属塩は、
重合体の劣化を触媒的に促進する。
【００１０】上記有機酸の遷移金属塩としては、例え
ば、鉄、マンガン、銅、コバルト等の遷移金属塩が好ま
しく用いられる。
【００１１】上記スチレン−ブタジエン−スチレンブロ
ツク共重合体は、塩化ビニルの単独重合体又はその共重
合体１００重量部に対して、通常、１５〜３０重量部の
範囲で配合され、また、上記有機酸の遷移金属塩は、塩
化ビニルの単独重合体又はその共重合体１００重量部に
対して、通常、２〜５重量部の範囲で配合される。
【００１２】本発明による樹脂フイルムは、上記スチレ
ン−ブタジエン−スチレンブロツク共重合体の光劣化を
促進するために、光反応開始剤を含有していてもよい。
このような光反応開始剤としては、従来より知られてい
る任意のものを用いることができるが、例えば、「イル
ガキユア６５１」（チバ・ガイギー社製）として市販さ
れているベンジルジメチルケタールを好ましい一例とし
て挙げることができる。光反応開始剤は、通常、光反応
性化合物１００重量部に対して、0.１〜５重量部の範囲
で用いられる。
【００１３】本発明による光崩壊性樹脂フイルムは、更
に、長石系鉱物からなる透明な充填剤を塩化ビニルの単
独重合体又はその共重合体１００重量部に対して５０〜
２００重量部の範囲で含有する。このように樹脂フイル
ムに長石系鉱物からなる透明な充填剤を多量に含有させ
ることによつて、フイルムは自然環境下に放置されたと
き、柔らかく崩壊するのみならず、その内部を透視する
ことができるので、農業資材として有用である。
【００１４】即ち、本発明は、樹脂フイルムが光崩壊す
る機構によつては何ら制限されるものではないが、樹脂
フイルムが充填剤を含有しない場合は、上記スチレン−
ブタジエン−スチレンブロツク共重合体が光照射によつ
て樹脂フイルム中において重合し、又は樹脂フイルム中
の重合体に架橋共重合する結果、樹脂フイルムが硬くな
り、数か月間にわたつて、自然環境下に放置された後
は、例えば、僅かな折曲げ等の外力を加えることによつ
て、容易に破壊される。
【００１５】しかしながら、本発明に従つて、樹脂フイ
ルムに上記のように光崩壊性成分と共に充填剤を含有さ
せることによつて、樹脂フイルムは、硬く、脆いがため
に、外力によつて容易に破壊されて崩壊するのではな
く、いわば土塊のようにぼろぼろに柔らかく崩壊するの
である。
【００１６】本発明においては、上記のような光崩壊性
成分を含む塩化ビニルの単独重合体又はその共重合体を
カレンダー加工等によつてフイルムに成形するに際し
て、前記スチレン−ブタジエン−スチレンブロツク共重
合体の熱重合を防止するために、塩化ビニルの単独重合
体又はその共重合体の樹脂配合物にヒドロキノン等の熱
重合禁止剤を含有させることが好ましい。更に、成形時
の熱安定性を確保するために、樹脂配合物は、安定剤を
含有していてもよい。かかる安定剤としては、従来より
塩化ビニル系樹脂成形品の製造に用いられている任意の
安定剤を用いることができ、具体例として、例えば、種
々のリン脂肪酸塩、リンメルカプチド、バリウム−亜鉛
系安定剤、カドミウム−亜鉛系安定剤、マグネシウム−
亜鉛系安定剤等を挙げることができる。これら安定剤
は、通常、塩化ビニル重合体又は共重合体１００重量部
について、0.１〜１０重量部の範囲で用いられる。
【００１７】また、本発明による光崩壊性樹脂フイルム
は、従来より塩化ビニル系樹脂の成形品の製造に用いら
れる任意の可塑剤を含有していてもよい。このような可
塑剤の具体例として、例えば、フタル酸ジブチル、フタ
ル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ−２
−エチルヘキシル、フタル酸オクチルデシル、フタル酸
ジイソデシル、フタル酸ブチルベンジルや、高級アルコ
ールフタル酸エステル等のフタル酸エステル系、トリメ
リト酸トリ−２−エチルヘキシル等のトリメリト酸エス
テル系、アジピン酸ジ−２−エチルヘキシル、アゼライ
ン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン酸ジブチル、セ
バシン酸ジ−２−エチルヘキシル等の脂肪酸エステル
系、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリクレ
ジル等のリン酸エステル系、更には、ポリエステル系可
塑剤やエポキシ化大豆油を挙げることができる。
【００１８】これら可塑剤は、特に限定されるものでは
ないが、通常、塩化ビニルの単独重合体又はその共重合
体１００重量部に対して、１００重量部以下の範囲で配
合される。
【００１９】本発明による光崩壊性樹脂フイルムは、以
上のような成分を通常の方法にてフイルムに成形するこ
とによつて得ることができる。通常、カレンダー加工に
よることが好ましいが、しかし、ゾル法、押出法等によ
ることもできる。また、本発明において、フイルムはテ
ープをも含み、その厚さは、通常、２０〜５００μｍの
範囲であることが好ましい。
【００２０】
【発明の効果】以上のように、本発明による光崩壊性透
明樹脂フイルムは、光崩壊性成分として、スチレン−ブ
タジエン−スチレンブロツク共重合体と有機酸の遷移金
属塩とを含有する共に、長石系鉱物からなる透明な充填
剤を多量に含有するので、透明であり、しかも、太陽光
の存在する自然環境条件下にて、通常、３〜５か月経過
後には、手で触れる等の外力を加えことによつて、土塊
のように、柔らかく容易に崩壊する。従つて、前述した
ように、本発明による樹脂フイルムからなるテープを接
木テープに用いた場合、その結びめをいちいち手作業に
て解く手間なしに、容易に接木テープを取り外すことが
できる。
【００２１】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明による光崩壊性
主フイルムを具体的に説明する。
実施例１
ポリ塩化ビニル（平均重合度１１００）１００重量部、
Ｂａ−Ｚｎ系安定剤1.５重量部、フタル酸６０重量部、
光反応開始剤「イルガキユア６５１」（熱重合禁止剤と
してのヒドロキノン４００ｐｐｍを含有する。）0.６重
量部、スチレン−ブタジエン−スチレンブロツク共重合
体１５重量部、ステアリン酸コバルト2.０重量部、及び
充填剤として透明な長石系鉱物（白石工業（株）製 Min
ex＃４）１５０重量部からなる配合物をカレンダー加工
にて厚さ１００μｍの透明なフイルムに成形した。
【００２２】このフイルムに耐候性試験機「ユブコン」
にて紫外線を照射し、フイルムの光崩壊性を評価した。
１００時間の照射によつて、フイルムは僅かに劣化し、
１５０時間の照射後には、フイルムは、僅かの外力によ
つて、ぼろぼろに崩壊した。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photo-degradable transparent resin film, and more particularly, to a vinyl chloride-based transparent resin film which is naturally photo-degraded by irradiation with sunlight. About. [0002] Films and tapes made of vinyl chloride resin are widely used as various agricultural materials.
For example, grafting is widely used in agriculture as described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-95072. Five months later they were manually removed. For this reason, this work requires time and effort, and there is a strong demand for a grafting tape that naturally collapses when irradiated with sunlight for several months. In order to meet such a demand, a photo-degradable vinyl chloride resin film has been proposed in JP-A-61-95047, in addition to the above-mentioned publication. These photodisintegrable films are obtained by mixing an acrylonitrile-butadiene copolymer or an iron compound with a vinyl chloride resin, and molding this into a film or a tape, but the photodisintegrability is still insufficient. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems in the conventional photo-degradable resin film, and has the physical properties required at the beginning. It is an object of the present invention to provide a transparent vinyl chloride resin film that quickly degrades in a natural environment after a lapse of a predetermined period , and is transparent . The photodegradable transparent resin film according to the present invention comprises 100 parts by weight of a vinyl chloride homopolymer or copolymer having a polymerization degree of 600 to 2500, styrene-butadiene.
-Styrene block copolymer 15 to 30 parts by weight, organic acid
Transition metal salts 2-5 parts by weight, and permeability consisting of feldspar minerals
It is characterized by containing 50 to 200 parts by weight of a clear filler. The photodegradable transparent resin film according to the present invention comprises styrene-butadiene-styrene bromide as a photodegradable component for imparting photodegradability to the resin film.
It is characterized in that it contains a Tsuku copolymer and a transition metal salt of an organic acid and contains a large amount of a transparent filler composed of feldspar-based minerals .
In other words, it can be made to softly decay. First, in the photo-degradable resin film according to the present invention, the base resin is a homopolymer of vinyl chloride or a copolymer thereof, and the monomer components of the copolymer include, for example, vinyl acetate and propion. Vinyl esters such as vinyl acrylate and vinyl laurate; acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate and butyl acrylate; methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate and butyl methacrylate; and maleic acid Maleic acid diesters such as diethyl and dibutyl maleate; fumaric acid diesters such as diethyl fumarate and dibutyl fumarate; vinyl alkyl ethers such as vinyl methyl ether, vinyl butyl ether and vinyl octyl ether; acrylonitrile and methacrylonitrile; Vinyl cyanides Ethylene, propylene, alpha-olefins of styrene such as, vinylidene chloride, vinylidene bromide, and halogenated vinylidene such as vinylidene fluoride. These copolymer monomer components are contained in the copolymer in an amount of 30% by weight or less, preferably 20% by weight or less.
% By weight or less. The homopolymer of vinyl chloride or its copolymer used in the present invention has an average degree of polymerization in the range of 600 to 2500 mainly in order to secure the formability of the film by calendering. Is necessary, and particularly preferably, it is in the range of 700 to 1300. When the polymerization degree is out of the above range, it is difficult to form a film by calendering. However, the processing method of the resin film according to the present invention is not limited. The photodisintegrable resin film according to the present invention, together with the above-mentioned vinyl chloride homopolymer or copolymer, comprises styrene-butadiene-styrene as a photodisintegrable component.
It contains a Lemblock copolymer and a transition metal salt of an organic acid . Styrene-butadiene-styrene block copolymers are inherently relatively susceptible to deterioration, and therefore, by incorporating such copolymers in resin films, photodegradability of the resin films is promoted. The transition metal salt of an organic acid is
Catalytically promotes polymer degradation. [0010] The transition metal salt of the organic acid, for example, iron, manganese, copper, transition metal salts such as cobalt are used <br/> properly preferred. The above styrene-butadiene-styrene bromide
The Tsuk copolymer is usually blended in a range of 15 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of a vinyl chloride homopolymer or a copolymer thereof , and the transition metal salt of the organic acid is vinyl chloride. Is usually blended in an amount of 2 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the homopolymer or copolymer thereof. [0012] The resin film according to the present invention, the styrene
In order to promote the photodegradation of the styrene-butadiene-styrene block copolymer, a photoreaction initiator may be contained.
As such a photoreaction initiator, any conventionally known photoreaction initiator can be used. For example, a preferred example is benzyldimethyl ketal commercially available as "Irgakiurea 651" (manufactured by Ciba-Geigy). It can be mentioned as. The photoreaction initiator is usually used in an amount of 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photoreactive compound. The photodegradable resin film according to the present invention further comprises a transparent filler comprising a feldspar-based mineral in an amount of 50 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of a homopolymer of vinyl chloride or a copolymer thereof.
It is contained in the range of 200 parts by weight. By including a large amount of a transparent filler made of a feldspar-based mineral in a resin film, the film not only disintegrates softly but also sees through when left in a natural environment.
It can be useful as agricultural material . That is, the present invention is not limited by the mechanism by which the resin film undergoes photodisintegration, but when the resin film contains no filler, the styrene-
The butadiene-styrene block copolymer is polymerized in the resin film by light irradiation or cross-linked to the polymer in the resin film, and as a result, the resin film becomes hard, and for several months under natural environment. After being left for a while, it is easily broken by applying an external force such as a slight bending. However, according to the present invention, by including the filler together with the photo-degradable component in the resin film as described above, the resin film is hard and brittle, so that the resin film is easily subjected to external force. rather than collapse destroyed, so to speak to disintegrate ragged soft as clod
It is . In the present invention, when a vinyl chloride homopolymer or a copolymer thereof containing the above photodegradable component is formed into a film by calendering or the like, the styrene-butadiene-styrene block copolymer is used. In order to prevent thermal polymerization of the polymer, it is preferable to include a thermal polymerization inhibitor such as hydroquinone in a resin compound of a homopolymer of vinyl chloride or a copolymer thereof. Furthermore, in order to ensure thermal stability during molding, the resin composition may contain a stabilizer. As such a stabilizer, any stabilizer conventionally used in the production of a vinyl chloride resin molded article can be used, and specific examples thereof include various phosphorus fatty acid salts, phosphorus mercaptide, barium-zinc based stabilizers. Agent, cadmium-zinc stabilizer, magnesium-
Zinc stabilizers and the like can be mentioned. These stabilizers are usually used in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the vinyl chloride polymer or copolymer. Further, the photo-degradable resin film according to the present invention may contain an optional plasticizer conventionally used for producing a molded article of a vinyl chloride resin. Specific examples of such a plasticizer include, for example, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, and di-2 phthalate.
-Ethylhexyl, octyldecyl phthalate, diisodecyl phthalate, butylbenzyl phthalate, phthalic acid esters such as higher alcohol phthalic acid esters, trimellitic acid esters such as tri-2-ethylhexyl trimellitate, di-2-adipic acid Fatty acid esters such as ethylhexyl, di-2-ethylhexyl azelate, dibutyl sebacate and di-2-ethylhexyl sebacate; phosphate esters such as tri-2-ethylhexyl phosphate and tricresyl phosphate; and polyesters Plasticizers and epoxidized soybean oil can be mentioned. Although not particularly limited, these plasticizers are usually blended in an amount of 100 parts by weight or less based on 100 parts by weight of a homopolymer of vinyl chloride or a copolymer thereof. The photo-degradable resin film according to the present invention can be obtained by molding the above components into a film by a usual method. Usually, calendering is preferred, but it is also possible to employ a sol method, an extrusion method or the like. In the present invention, the film also includes a tape, and the thickness thereof is preferably preferably in the range of 20 to 500 μm. As described above, the photo-degradable transparent material according to the present invention is used.
Light resin film has styrene-butyl as a photo-degradable component.
Transition Gold of Tadiene - Styrene Block Copolymer and Organic Acid
Transparent packing composed of feldspar minerals while containing genus salts
Since it contains a large amount of the agent , it is transparent, and under natural environmental conditions where sunlight is present, usually after 3 to 5 months, by applying an external force such as touching with a hand, It disintegrates softly and easily, like a clod. Therefore, as described above, when the tape made of the resin film according to the present invention is used for the grafting tape, the grafting tape can be easily removed without the trouble of manually untiing the tie. EXAMPLES The photodisintegrable main film according to the present invention will be specifically described below with reference to examples. Example 1 100 parts by weight of polyvinyl chloride (average degree of polymerization 1100)
1.5 parts by weight of a Ba-Zn-based stabilizer, 60 parts by weight of phthalic acid,
0.6 parts by weight of a photoreaction initiator "Irgakiurea 651" (containing 400 ppm of hydroquinone as a thermal polymerization inhibitor), 15 parts by weight of a styrene-butadiene-styrene block copolymer, 2.0 parts by weight of cobalt stearate, And transparent feldspar mineral (Shiraishi Kogyo Co., Ltd. Min)
ex # 4) A blend of 150 parts by weight was formed into a transparent film having a thickness of 100 μm by calendering. The film is subjected to a weather resistance tester "Yubcon"
The film was irradiated with ultraviolet light to evaluate the photodisintegrability of the film.
After 100 hours of irradiation, the film deteriorates slightly.
After 150 hours of irradiation, the film collapsed by a slight external force.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ //(Ｃ０８Ｌ 27/06 53:02） (56)参考文献 特開 昭61−95072（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−100141（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−40839（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−95047（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−75639（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C08L 27/06 C08L 53/02 C08K 3/34 C08K 5/098──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI // (C08L 27/06 53:02) (56) References JP-A-61-95072 (JP, A) JP-A-50- 100141 (JP, A) JP-A-48-40839 (JP, A) JP-A-61-95047 (JP, A) JP-A-48-75639 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. 6 , DB name) C08L 27/06 C08L 53/02 C08K 3/34 C08K 5/098
Claims (1)
又はその共重合体１００重量部、スチレン−ブタジエン
−スチレンブロツク共重合体１５〜３０重量部、有機酸
の遷移金属塩２〜５重量部、及び長石系鉱物からなる透
明な充填剤５０〜２００重量部を含有することを特徴と
する光崩壊性透明樹脂フイルム。 ２．光反応開始剤を含有することを特徴とする請求項１
に記載の光崩壊性透明樹脂フイルム。 (57) [Claims] 100 parts by weight of a vinyl chloride homopolymer or a copolymer thereof having a polymerization degree of 600 to 2500, styrene-butadiene
-Styrene block copolymer 15 to 30 parts by weight, organic acid
Transition metal salts 2-5 parts by weight, and permeability consisting of feldspar minerals
A photo-degradable transparent resin film comprising 50 to 200 parts by weight of a clear filler. 2. 2. A photoreaction initiator is contained.
3. The photo-degradable transparent resin film according to 1.).
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP7090765A JP2805136B2 (en) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | Photodisintegrable transparent resin film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7090765A JP2805136B2 (en) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | Photodisintegrable transparent resin film |
Related Parent Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP62080807A Division JPH085975B2 (en) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | Photodegradable resin film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07278390A JPH07278390A (en) | 1995-10-24 |
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ID=14007708
Family Applications (1)
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| JP7090765A Expired - Lifetime JP2805136B2 (en) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | Photodisintegrable transparent resin film |
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|---|---|
| JP (1) | JP2805136B2 (en) |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS50100141A (en) * | 1974-01-10 | 1975-08-08 | ||
| JPS6195047A (en) * | 1984-09-25 | 1986-05-13 | Mitsubishi Monsanto Chem Co | Photodegradable tape |
| JPS6195072A (en) * | 1984-09-26 | 1986-05-13 | Mitsubishi Monsanto Chem Co | Photodegradable halogen-containing resin composition |
-
1995
- 1995-04-17 JP JP7090765A patent/JP2805136B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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| JPH07278390A (en) | 1995-10-24 |
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