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JP2807430B2 - Aluminum nitride sintered body and method for producing the same - Google Patents
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JP2807430B2 - Aluminum nitride sintered body and method for producing the same - Google Patents

Aluminum nitride sintered body and method for producing the same

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JP2807430B2
JP2807430B2 JP7237158A JP23715895A JP2807430B2 JP 2807430 B2 JP2807430 B2 JP 2807430B2 JP 7237158 A JP7237158 A JP 7237158A JP 23715895 A JP23715895 A JP 23715895A JP 2807430 B2 JP2807430 B2 JP 2807430B2
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sintering
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光男 加曽利
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、窒化アルミニウム
焼結体およびその製造方法に係り、さらに詳しくは、低
温焼結で緻密化が可能で、かつガラス封止や銅メタライ
ズが容易で、高抗折強度を有する窒化アルミニウム焼結
体およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aluminum nitride sintered body and a method for producing the same, and more particularly, to a method of compacting by low-temperature sintering, easy glass sealing and copper metallization, and a high resistance. The present invention relates to an aluminum nitride sintered body having a bending strength and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ICやLSIのような半導体素子
の高速化、高集積化等に伴って、回路基板や半導体パッ
ケージ等に対する要求特性も厳しくなりつつある。例え
ば、半導体素子から発生する熱を効率よく放散するため
に、高い熱伝導性が要求され、また半導体素子の熱的応
力による破壊等の危険性をできるだけ小さくするため
に、熱膨張係数が半導体素子のそれに近いことや高強度
を有することが要求されている。
2. Description of the Related Art In recent years, as semiconductor devices such as ICs and LSIs have become faster and more highly integrated, required characteristics of circuit boards, semiconductor packages, and the like have become more severe. For example, high thermal conductivity is required in order to efficiently dissipate heat generated from a semiconductor element, and the coefficient of thermal expansion of the semiconductor element is reduced in order to minimize the risk of breakage of the semiconductor element due to thermal stress. It is required to be close to that of the above and to have high strength.

【0003】ところで、回路基板やパッケージの絶縁材
料としてのセラミックス材料としては、アルミナ(Al2
O 3 )セラミックスがこれまで一般的に用いられてき
た。しかしながら、アルミナセラミックスは従来のプラ
スチック材料やガラス材料と比べれば熱伝導性が高いも
のの、熱伝導率が20W/m K 程度と不十分であると共に、
熱膨張係数が 7×10-6/Kとシリコンの熱膨張係数(4.5×
10-6/K)の約 2倍であるため、半導体素子の高集積化や
高速化に対応するには十分な特性を有しているとはいえ
ない。
As a ceramic material as an insulating material for circuit boards and packages, alumina (Al 2 O 3) is used.
O 3 ) Ceramics have been commonly used so far. However, alumina ceramics have higher thermal conductivity than conventional plastic and glass materials, but have insufficient thermal conductivity of about 20 W / m K,
The coefficient of thermal expansion is 7 × 10 -6 / K and the coefficient of thermal expansion of silicon (4.5 ×
10 -6 / K), which is not enough to support high integration and high speed of semiconductor devices.

【0004】このようなことから、アルミナセラミック
スに代って窒化アルミニウム(AlN)焼結体が注目さ
れ、多層回路基板の絶縁材料等への応用が多方面で研究
されている。AlN焼結体は熱膨張係数が 4.0×10-6/K
で、シリコンの熱膨張係数とほぼ等しく、半導体素子の
熱的応力を十分小さくできると共に、高熱伝導率を有す
ることから、半導体素子の高集積化や高速化に伴う発熱
量の増大にも十分対応できるものである。しかしなが
ら、窒化アルミニウムは共有結合性が強く、難焼結材料
であるため、緻密な焼結体を得るためには 2073K程度の
焼結温度が必要であった。
[0004] For these reasons, attention has been paid to aluminum nitride (AlN) sintered bodies in place of alumina ceramics, and applications of multilayered circuit boards to insulating materials and the like have been studied in various fields. AlN sintered body has a thermal expansion coefficient of 4.0 × 10 -6 / K
As the thermal expansion coefficient of silicon is almost equal to that of silicon, the thermal stress of the semiconductor element can be reduced sufficiently, and it has high thermal conductivity. You can do it. However, aluminum nitride has a strong covalent bond and is a difficult-to-sinter material, so a sintering temperature of about 2073K was required to obtain a dense sintered body.

【0005】今後、AlN焼結体の用途を拡大させるた
めには低コスト化が急務であり、その試みとして既存の
連続炉の使用を実現すべく、低温焼結が検討されてい
る。近年の研究開発の結果、AlN焼結助剤の改良によ
って、超微紛のAlN粉末等を用いなくとも 1873K前後
の温度まで焼結温度を低下させることが可能になりつつ
ある。
[0005] In the future, cost reduction is urgently needed in order to expand applications of the AlN sintered body, and low-temperature sintering is being studied as an attempt to realize the use of an existing continuous furnace. As a result of recent research and development, it has become possible to lower the sintering temperature to a temperature of about 1873 K without using an ultrafine AlN powder or the like by improving the AlN sintering aid.

【0006】一方、半導体用パッケージ等として用いる
場合には、AlN焼結体のガラス封止性等を、また回路
基板等として用いる場合には、AlN焼結体の銅メタラ
イズ性を考慮する必要がある。すなわち、AlN焼結体
をQFP(クワァドフラッドパッケージ)等のパッケー
ジ材料に供する場合、半導体素子を搭載した後、この素
子を保護するためにキャップを使用したガラス封止を行
うことがあるため、ガラス封止性が良好であることが望
まれる。同様に、AlN焼結体に回路を形成する場合
に、一般的な銅メタライズを容易に適用し得ることが望
まれる。
On the other hand, when used as a semiconductor package or the like, it is necessary to consider the glass sealing property of the AlN sintered body, and when used as a circuit board or the like, it is necessary to consider the copper metallizing property of the AlN sintered body. is there. That is, when the AlN sintered body is used for a package material such as a QFP (quad flood package), after mounting the semiconductor element, glass sealing using a cap may be performed to protect the element. It is desired that the glass sealing property is good. Similarly, when a circuit is formed on an AlN sintered body, it is desired that general copper metallization can be easily applied.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のAl
N焼結体の低温焼成化技術としては、例えば希土類元素
化合物とアルカリ土類酸化物とを同時に添加する方法
(特開昭 61-117160号公報参照)が提案されており、こ
の方法では焼成温度が 1973K以下でも焼結は可能である
が、また表面にガラス封止に必要な成分が存在していな
いため、良好なガラス封止性を得ることはできない。
By the way, the conventional Al
As a low-temperature sintering technique for an N sintered body, for example, a method of simultaneously adding a rare earth element compound and an alkaline earth oxide (see JP-A-61-117160) has been proposed. However, sintering is possible even at 1973K or lower, but good glass sealing properties cannot be obtained because no components necessary for glass sealing exist on the surface.

【0008】また、AlN焼結体の低温焼結化、高密度
化、高熱伝導率化等を目的として、周期律表の4A族、
5A族、6A族、7A族および8A族の遷移金属元素か
ら選ばれる少なくとも 1種を添加する方法(特開昭 62-
153173号公報参照)が提案されており、この方法によれ
ば1873〜 1923Kの焼結温度でも緻密化は可能であるが、
ガラス封止性に劣ると共にグレース化も難しく、さらに
銅メタライズも困難であることが予想される。さらに、
周期律表の2A族元素および希土類金属の酸化物とBお
よび遷移金属を同時に添加する方法(特開平2-130064号
公報参照)も提案されているが、同様に良好なガラス封
止性を有するAlN焼結体を得ることは難しいと考えら
れる。
Further, for the purpose of low-temperature sintering, high-density, high thermal conductivity, etc. of the AlN sintered body, group 4A of the periodic table,
A method of adding at least one selected from transition metal elements of Group 5A, 6A, 7A and 8A (Japanese Patent Application Laid-Open No.
According to this method, densification is possible even at a sintering temperature of 1873 to 1923K,
It is expected that the glass sealing property is inferior, glazing is difficult, and copper metallization is also difficult. further,
A method of simultaneously adding an oxide of a Group 2A element and a rare earth metal of the periodic table, and B and a transition metal (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-130064) has also been proposed, but also has a good glass sealing property. It is considered difficult to obtain an AlN sintered body.

【0009】このように、従来のAlN焼結体において
は、低温焼結で高密度およびアルミナと比較して良好な
熱伝導性を達成した上で、ガラス封止性、銅メタライズ
性、抗折強度等を改善することが課題とされていた。
As described above, in the conventional AlN sintered body, after achieving high density and good thermal conductivity as compared with alumina by low-temperature sintering, glass sealing property, copper metallizing property, and bending It has been an issue to improve the strength and the like.

【0010】本発明は、このような課題に対処するため
になされたもので、1673〜 1873K程度の温度で緻密化さ
せることが可能で、アルミナと比較して良好な熱伝導性
を有し、かつガラス封止性、銅メタライズ性、抗折強度
が良好な窒化アルミニウム焼結体およびその製造方法を
提供することを目的としている。
[0010] The present invention has been made to address such problems, and can be densified at a temperature of about 1673 to 1873 K, has better thermal conductivity than alumina, Another object of the present invention is to provide an aluminum nitride sintered body having good glass sealing properties, copper metallizing properties, and bending strength, and a method for producing the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、1673〜 1
873K程度の低温焼成で緻密化することができ、焼結体表
面に助剤成分の大量のにじみ出しもなく、しかもアルミ
ナと同等程度まで熱伝導率を低下させずに、ガラスを用
いて容易に封止することができ、グレーズ化が容易で、
さらには銅メタライズが容易で、高抗折強度を有する窒
化アルミニウム焼結体を提供するために、窒化アルミニ
ウムへの添加物種および添加量について種々検討したと
ころ、AlN粉末にB元素、Si元素、O元素、Al元
素、周期律表の3A族元素および2A族元素の単体また
は化合物を合計で20重量% 以上65重量% 以下の範囲で添
加することによって、上記した目的が達成できることを
見出した。
Means for Solving the Problems The present inventors have developed 1673-1
It can be densified by firing at a low temperature of about 873K, does not exude a large amount of auxiliary components on the surface of the sintered body, and easily uses glass without lowering the thermal conductivity to the same level as alumina. Can be sealed, easy to glaze,
Further, in order to provide an aluminum nitride sintered body having an easy copper metallization and a high bending strength, various studies were made on the types and amounts of additives to aluminum nitride. It has been found that the above object can be achieved by adding a simple substance or a compound of an element, an Al element, a group 3A element and a group 2A element of the periodic table in a total range of 20% by weight or more and 65% by weight or less.

【0012】本発明はこのような知見に基いてなされた
もので、本発明の窒化アルミニウム焼結体は、AlN
と、B元素、O元素、Si元素、Al元素、周期律表の
3A族元素および2A族元素からなる構成物とを有する
窒化アルミニウム焼結体であって、前記構成物を20〜65
重量% の範囲で含有すると共に、前記構成物中のB元
素、Si元素、O元素、3A族元素および2A族元素の
組成比が(3A族元素):(2A族元素):(酸素):
(硼素):(珪素)=(16〜31):(4〜10):(9〜1
7):(0.4〜1.6):(0.3〜1.2)であり、かつ熱伝導率が4
0〜80W/m K であることを特徴としている。
The present invention has been made based on such findings, and the aluminum nitride sintered body of the present invention has
And a component comprising a B element, an O element, a Si element, an Al element, a Group 3A element and a Group 2A element of the periodic table, wherein the component is 20 to 65.
%, And the composition ratio of the B element, Si element, O element, 3A element and 2A element in the composition is (3A element): (2A element): (oxygen):
(Boron): (silicon) = (16-31): (4-10): (9-1)
7): (0.4 to 1.6): (0.3 to 1.2) and thermal conductivity of 4
It is characterized by being 0 to 80 W / m K.

【0013】また、本発明の窒化アルミニウム焼結体の
製造方法は、AlN粉末に、少なくともΒ元素、Si元
素、O元素、周期律表の3A族元素および2A族元素の
単体または化合物を、これら各元素の主たる出発原料に
よる前記元素の組成比を(3A族元素):(2A族元
素):(酸素):(硼素):(珪素)=(16〜31):(4
〜10):(9〜17):(0.4〜1.6):(0.3〜1.2)を満足させ
つつ合計で20〜65重量%の範囲で添加して、焼結体原料
を調製する工程と、前記焼結体原料を1673〜1873K の温
度で焼成する工程とを有することを特徴としている。
Further, the method for producing an aluminum nitride sintered body of the present invention is characterized in that the AlN powder contains at least a Β element, a Si element, an O element, a simple substance or a compound of a group 3A element and a group 2A element of the periodic table, The composition ratio of the above elements based on the main starting material of each element is (3A element): (2A element): (oxygen): (boron): (silicon) = (16 to 31): (4
To 10): (9 to 17): (0.4 to 1.6): a step of adding a total of 20 to 65% by weight while satisfying (0.3 to 1.2) to prepare a sintered body raw material; Baking the raw material of the sintered body at a temperature of 1673 to 1873K.

【0014】本発明のAlN焼結体は、粒界相成分等と
してのB元素、O元素、Si元素、Al元素、周期律表
の3A族元素および2A族元素からなる構成物(副構成
物)を20〜65重量% の範囲で含有するものであり、この
副構成物は周期律表の3A族元素および2A族元素の少
なくとも一方を含むアルミネート化合物、B元素単体あ
るいはB元素を含む化合物(例えばAlボレート化合物
や希土類ボレート化合物等)、およびSi元素単体ある
いはSi元素を含む化合物等として存在するものであ
る。このような副構成物は、焼成時にはAlN焼結体の
低温焼結を可能にする成分として機能すると共に、焼結
後にはガラス封止性や銅メタライズ性、さらには抗折強
度の向上に寄与する。
The AlN sintered body of the present invention comprises a component (subcomponent) composed of a B element, an O element, a Si element, an Al element, a Group 3A element and a Group 2A element of the periodic table as a grain boundary phase component or the like. ) In an amount of from 20 to 65% by weight, and the sub-component is an aluminate compound containing at least one of a Group 3A element and a Group 2A element of the periodic table, a single B element or a compound containing a B element (For example, an Al borate compound or a rare earth borate compound), and a Si element alone or a compound containing a Si element. These sub-components function as components that enable low-temperature sintering of the AlN sintered body during sintering, and contribute to improvement in glass sealing properties, copper metallization properties, and bending strength after sintering. I do.

【0015】AlN焼結体中の副構成物量が20重量% 未
満であると、AlN焼結体表面に占める副構成相、主に
3A族元素や2A族元素のアルミネート化合物等の酸化
物、さらにはAlボレート化合物や希土類ボレート化合
物の占める面積が低下する。通常粒界相に存在する酸化
物やボレート化合物はガラスとの濡れ性が良好で、ガラ
ス封止に対して有効に作用するにもかかわらず、焼結体
表面での存在量が少ないとグレーズ化やガラス封止を容
易に行うことができず、さらには銅メタライズを良好に
行うことができない。つまり、AlN焼結体の酸化工程
等によって、ガラスの濡れ性が良好な層を常に形成する
ことが必要になってくる。副構成物量は40重量% 以上が
より好ましく、さらにガラス封止性を考慮すると50重量
% 以上が望ましい。
If the amount of sub-components in the AlN sintered body is less than 20% by weight, the sub-component phases occupying the surface of the AlN sintered body, mainly oxides such as aluminate compounds of Group 3A element and Group 2A element, Further, the area occupied by the Al borate compound or the rare earth borate compound decreases. Oxide and borate compounds usually present in the grain boundary phase have good wettability with glass and effectively act for sealing the glass, but when the abundance on the surface of the sintered body is small, glaze occurs. Or glass sealing cannot be performed easily, and further, copper metallization cannot be performed favorably. In other words, it is necessary to always form a layer having good wettability of glass by an oxidation step of the AlN sintered body. The amount of the sub-component is more preferably 40% by weight or more, and 50% by weight in consideration of the glass sealing property.
% Or more is desirable.

【0016】逆に、AlN焼結体中の副構成物量が65重
量% を超えると、焼結体の微構造の変化から、具体的に
は高熱伝導なAlN結晶粒が隣接するAlN結晶粒と大
きな面で接触しなくなり、熱伝導率がAl2 3の熱伝
導率と同程度となってしまい、高熱伝導性を特徴とする
AlNを用いる利点がなくなる。さらに、焼結体表面に
助剤成分が大量ににじみ出して表面平滑性等が損われ
る。
On the other hand, when the amount of sub-components in the AlN sintered body exceeds 65% by weight, the microstructure of the sintered body changes, and specifically, the high thermal conductive AlN crystal grains are separated from the adjacent AlN crystal grains. There is no contact on a large surface, and the thermal conductivity is almost the same as that of Al 2 O 3 , and the advantage of using AlN, which is characterized by high thermal conductivity, is lost. Further, a large amount of the auxiliary component oozes out on the surface of the sintered body, thereby impairing the surface smoothness and the like.

【0017】そして、副構成物を形成するΒ元素、Si
元素、O元素、周期律表の3A族元素および2A族元素
の単体または化合物を、これら各元素の主たる出発原料
による元素の組成比(重量比)を(3A族元素):(2
A族元素):(酸素):(硼素):(珪素)=(16〜3
1):(4〜10):(9〜17):(0.4〜1.6):(0.3〜1.2)を
満足させてAlN粉末に添加した焼結体原料を用いるこ
とで、低温焼結による緻密化を再現性よく実現すること
が可能となる。言い換えると、本発明のAlN焼結体に
おける副構成物中のΒ元素、Si元素、O元素、周期律
表の3A族元素および2A族元素の組成比を(3A族元
素):(2A族元素):(酸素):(硼素):(珪素)
=(16〜31):(4〜10):(9〜17):(0.4〜1.6):(0.3
〜1.2)とすることで、緻密な焼結体が低温焼結で再現性
よく得られる。
[0017] Then, the element {Si, Si
The element, O element, simple substance or compound of Group 3A element and Group 2A element of the periodic table, and the compositional ratio (weight ratio) of the element based on the main starting material of each element (Group 3A element): (2
Group A element): (oxygen): (boron): (silicon) = (16-3)
1): (4 to 10): (9 to 17): (0.4 to 1.6): Densification by low-temperature sintering by using a sintered body material added to AlN powder satisfying (0.3 to 1.2) Can be realized with good reproducibility. In other words, the composition ratio of the Β element, the Si element, the O element, the group 3A element and the group 2A element in the periodic table in the sub-component in the AlN sintered body of the present invention is expressed by (group 3A element) :( group 2A element) ): (Oxygen): (boron): (silicon)
= (16-31): (4-10): (9-17): (0.4-1.6): (0.3
-1.2), a dense sintered body can be obtained with low temperature sintering with good reproducibility.

【0018】なお、AlN焼結体における副構成物中の
上記した各元素の組成比は、あくまでも各元素の主たる
出発原料に基く元素の組成比であることが好ましい。こ
こで言う各元素の主たる出発原料による元素量とは、例
えば3A族元素および2A族元素については、Β元素を
これら元素との化合物として添加する場合の3A族元素
および2A族元素は含まず、また酸素に関してはAlN
中に含まれる酸素量とアルミナ中の酸素量の合計であ
り、3A族元素、2A族元素、Si元素を酸化物として
添加する場合の酸素量は含まない。
It is preferable that the composition ratio of each of the above elements in the sub-structure in the AlN sintered body is a composition ratio of the element based on the main starting material of each element. The amounts of the main starting materials of the respective elements referred to here are, for example, the group 3A element and the group 2A element, which do not include the group 3A element and the group 2A element when the 添加 element is added as a compound with these elements. For oxygen, AlN
It is the sum of the amount of oxygen contained therein and the amount of oxygen in alumina, and does not include the amount of oxygen when a Group 3A element, a Group 2A element, or a Si element is added as an oxide.

【0019】また、本発明のAlN焼結体を回路基板等
として使用する場合、焼結体を均一に着色することが好
ましい。着色剤としては、周期律表の4A族、5A族、
6A族元素が有効であり、これらを元素換算で0.05〜
0.9重量% の範囲で含有することで、均一に着色するこ
とができる。
When the AlN sintered body of the present invention is used as a circuit board or the like, it is preferable to color the sintered body uniformly. As the coloring agent, 4A group, 5A group,
Group 6A elements are effective.
When it is contained in the range of 0.9% by weight, uniform coloring can be achieved.

【0020】このように、B元素、Si元素、O元素、
Al元素、周期律表の3A族元素および2A族元素から
なる副構成物を20〜65重量% の範囲で含有するAlN焼
結体は、1673〜 1873K程度の低温焼結で緻密化(例えば
3.29〜3.40g/cm3 )できると共に、40〜80W/m K という
アルミナに比較して良好な熱伝導率を有し、かつ良好な
ガラス封止性、銅メタライズ性、および良好な抗折強度
が得られる。
Thus, B element, Si element, O element,
An AlN sintered body containing an Al element, a subcomponent consisting of a Group 3A element and a Group 2A element of the periodic table in the range of 20 to 65% by weight is densified by low-temperature sintering at about 1673 to 1873K (for example,
3.29 ~ 3.40g / cm 3 ), good thermal conductivity compared with alumina of 40 ~ 80W / m K, good glass sealing property, copper metallizing property, and good bending strength Is obtained.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施するための形
態について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0022】まず、本発明のAlN焼結体を実現するた
めの製造方法について述べる。本発明のAlN焼結体
は、以下に示す製造方法を適用して作製することが好ま
しい。本発明のAlN焼結体を製造するために用いるA
lN粉末は、平均粒子径が0.02〜 1.0μm の範囲で、か
つ不純物酸素量が 0.6〜 2重量% の範囲のものが好まし
く、これら以外については特に限定されるものではな
い。平均粒子径が0.02〜 1.0μm のAlN粉末は、低温
焼結における緻密化に寄与する。より好ましい平均粒子
径は0.04〜 0.8μm の範囲である。なお、 0.1μm 以下
の超微粉はハンドリングが困難になると共に、不純物酸
素量が多くなる可能性があるため、そのような場合には
0.3〜 0.7μm のAlN粉末を使用するとよい。
First, a manufacturing method for realizing the AlN sintered body of the present invention will be described. The AlN sintered body of the present invention is preferably manufactured by applying the following manufacturing method. A used for producing the AlN sintered body of the present invention
The 1N powder preferably has an average particle size in the range of 0.02 to 1.0 μm and an impurity oxygen content in the range of 0.6 to 2% by weight. Other than these, there is no particular limitation. AlN powder having an average particle size of 0.02 to 1.0 μm contributes to densification in low-temperature sintering. A more preferred average particle size is in the range of 0.04 to 0.8 μm. In addition, ultra-fine powder of 0.1 μm or less is difficult to handle and may have a large amount of impurity oxygen.
It is preferable to use AlN powder of 0.3 to 0.7 μm.

【0023】また、ΑlN粉末に含まれる酸素は、Al
Nの焼結に寄与するものである。酸素量が 0.6重量% 未
満であると、AlΝの焼結性が低下し、一方酸素量が 2
重量% を超えると熱伝導率がAl2 Ο3 と同程度まで低
下してしまい、40W/m K 以上の熱伝導率の達成が困難と
なる。AlN粉末の酸素含有量は 0.7〜 1.5重量% の範
囲がさらに好ましく、望ましくは 0.8〜 1.3重量% の範
囲である。
The oxygen contained in the Α1N powder is Al
It contributes to the sintering of N. If the amount of oxygen is less than 0.6% by weight, the sinterability of Al 低下 decreases, while the amount of oxygen decreases by 2%.
It exceeds wt% thermal conductivity is lowered to the same level as Al 2 Ο 3, achievement of 40W / m K or more thermal conductivity becomes difficult. The oxygen content of the AlN powder is more preferably in the range of 0.7 to 1.5% by weight, and preferably in the range of 0.8 to 1.3% by weight.

【0024】上述したようなAlN粉末に、少なくとも
Β元素、Si元素、O元素、周期律表の3A族元素およ
び2A族元素の単体または化合物を合計で20〜65重量%
の範囲で添加して、焼結体原料を調製する。具体的に
は、焼結助剤としてScおよびYを含む希土類元素の単
体および/または化合物とアルカリ土類元素の単体およ
び/または化合物を添加し、さらに硼素の単体および/
または化合物、珪素の単体および/または化合物を添加
する。また、必要に応じてAlの酸化物等を添加する。
これらは合計で20〜65重量% の範囲で、AlN粉末に添
加される。なお、酸素は3A族元素や2A族元素の酸化
物、あるいはAlの酸化物等や、AlN粉末に含まれる
不純物酸素等として添加される。
In the AlN powder as described above, at least Β element, Si element, O element, simple substance or compound of group 3A element and group 2A element of the periodic table in a total amount of 20 to 65% by weight.
To prepare a sintered body raw material. Specifically, a simple substance and / or compound of a rare earth element containing Sc and Y and a simple substance and / or compound of an alkaline earth element are added as a sintering aid, and further a simple substance and / or a compound of boron are added.
Alternatively, a compound, a simple substance of silicon and / or a compound is added. Further, an oxide of Al or the like is added as needed.
These are added to the AlN powder in a total range of 20 to 65% by weight. Note that oxygen is added as an oxide of a Group 3A element or a Group 2A element, an oxide of Al, or impurity oxygen contained in AlN powder.

【0025】周期律表の3A族元素(ScおよびYを含
む希土類元素)としては、Sc、Y、La、Ce、P
r、Nd、Sm、Eu、Gd、Τb、Dy、Ηo、E
r、Τm、Yb、Luがいずれも使用することができ
る。周期律表の2A族元素(アルカリ土類元素)として
は、Ca、Mg、Sr、Ba、Beがいずれも使用する
ことができる。特に工業的には、YとCaが好ましく使
用される。これら元素は酸化物として添加することが特
に好ましく、また焼結条件下で酸化物となる化合物を用
いてもよい。つまり、炭酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、硫
酸塩、水酸化物等を使用することができる。さらに、3
A族元素や2A族元素は、ハロゲン化物、酸ハロゲン化
物、アセチリド化合物、炭化物、水素化物、窒化物、ケ
イ化物、硫化物等の形で添加してもよい。硼素は単体で
添加してもよいし、またAlボレート、希土類ボレー
ト、アルカリ土類ボレート等のボレート化合物、酸化
物、TiやW等の遷移金属との化合物等として添加して
もよい。珪素は単体で添加してもよいし、また窒化物、
酸化物、TiやW等の遷移金属との化合物等として添加
してもよい。
Examples of Group 3A elements (rare earth elements including Sc and Y) in the periodic table include Sc, Y, La, Ce and P.
r, Nd, Sm, Eu, Gd, Τb, Dy, Ηo, E
Any of r, Δm, Yb, and Lu can be used. As a Group 2A element (alkaline earth element) in the periodic table, any of Ca, Mg, Sr, Ba, and Be can be used. Particularly industrially, Y and Ca are preferably used. It is particularly preferable to add these elements as oxides, and compounds that become oxides under sintering conditions may be used. That is, carbonates, nitrates, oxalates, sulfates, hydroxides and the like can be used. In addition, 3
The group A element and the group 2A element may be added in the form of a halide, an acid halide, an acetylide compound, a carbide, a hydride, a nitride, a silicide, a sulfide, or the like. Boron may be added alone, or may be added as a borate compound such as Al borate, rare earth borate, or alkaline earth borate, an oxide, or a compound with a transition metal such as Ti or W. Silicon may be added alone, nitride,
It may be added as an oxide, a compound with a transition metal such as Ti or W, or the like.

【0026】上述した希土類元素化合物およびアルカリ
土類元素化合物の添加量、原料粉末中に含まれる酸素量
やAl酸化物の添加量、さらには硼素の単体もしくは化
合物や珪素の単体もしくは化合物の添加量は、合計量で
20〜65重量% を満足させると共に、低温焼結による緻密
化をより再現性よく実現するために、(希土類元素):
(アルカリ土類元素):(酸素):(硼素):(珪素)
=(16〜31):(4〜10):(9〜17):(0.4〜1.6):(0.3
〜1.2)の組成比(重量比)を満足させることが好まし
い。この組成の中心値は(希土類元素):(アルカリ土
類元素):(酸素):(硼素):(珪素)=23.6: 7.
1:11: 0.8:0.62である。この前後の値、すなわち上
記範囲内であれば低温焼結を容易に実現することができ
る。より好ましくは、(希土類元素):(アルカリ土類
元素):(酸素):(硼素):(珪素)=(18〜29):
(5〜9):(9〜15):(0.5〜1.4):(0.4〜1.0)であり、さ
らに好ましくは、(希土類元素):(アルカリ土類元
素):(酸素):(硼素):(珪素)=(20〜27):(6
〜8):(10:13):(0.5〜1.2):(0.4〜0.9)である。
The amount of the rare earth element compound and the alkaline earth element compound described above, the amount of oxygen and the amount of Al oxide contained in the raw material powder, and the amount of boron alone or a compound or silicon alone or the compound Is the total amount
In order to satisfy 20 to 65% by weight and to realize densification by low-temperature sintering with higher reproducibility, (rare earth elements):
(Alkaline earth element): (oxygen): (boron): (silicon)
= (16-31): (4-10): (9-17): (0.4-1.6): (0.3
~ 1.2) is preferably satisfied. The central value of this composition is (rare earth element) :( alkaline earth element) :( oxygen) :( boron) :( silicon) = 23.6: 7.
1: 11: 0.8: 0.62. Low values of sintering can be easily achieved if the values before and after this, that is, within the above range. More preferably, (rare earth element): (alkaline earth element): (oxygen): (boron): (silicon) = (18-29):
(5-9): (9-15): (0.5-1.4): (0.4-1.0), and more preferably (rare earth element): (alkaline earth element): (oxygen): (boron): (Silicon) = (20-27) :( 6
88): (10:13): (0.5 to 1.2): (0.4 to 0.9).

【0027】なお、(酸素)量はAlN粉末に含まれる
酸素量と添加するAl酸化物(Al2 3 )中の酸素量
との合計を示すものであり、希土類酸化物やアルカリ土
類酸化物等を用いたときの酸素量は上記組成比には含ま
れないものとする。同様に、着色剤としてWO3 等を用
いたときの酸素や硼素源にΒ2 3 を用いたときの酸素
等も、上記組成比には含まれないものとする。また、硼
素源として希土類ボレートやアルカリ土類ボレートを用
いる場合のこれらボレート化合物に含まれる希土類元素
やアルカリ土類元素の量も、上記組成比には含まれない
ものとする。ただし、全体量としては20〜65重量% の範
囲を満足しなければならない。上述した希土類元素、ア
ルカリ土類金属元素、硼素、珪素および酸素の単体また
は化合物は、40〜65重量% の範囲で添加することがより
好ましく、さらに好ましくは50〜65重量% の範囲であ
る。
The (oxygen) amount indicates the sum of the amount of oxygen contained in the AlN powder and the amount of oxygen in the added Al oxide (Al 2 O 3 ), and is a rare earth oxide or alkaline earth oxide. The amount of oxygen when a substance or the like is used is not included in the above composition ratio. Similarly, the composition ratio does not include oxygen when WO 3 or the like is used as a coloring agent or oxygen when Β 2 O 3 is used as a boron source. In the case where rare earth borates or alkaline earth borates are used as the boron source, the amounts of the rare earth elements and alkaline earth elements contained in these borate compounds are not included in the above composition ratio. However, the total amount must satisfy the range of 20 to 65% by weight. The above-mentioned rare earth element, alkaline earth metal element, boron, silicon and oxygen simple substance or compound are more preferably added in the range of 40 to 65% by weight, and still more preferably in the range of 50 to 65% by weight.

【0028】上述したようにして調製したAlN焼結体
原料粉末は、ボールミル等を用いて十分に混合する。焼
結体原料粉末には、必要に応じて焼結体の着色剤を添加
してもよい。着色剤としては、Τi、Zr、Hf、W、
Mo等の周期律表の4A族、6A族の遷移金属の単体、
酸化物、炭化物、弗化物、炭酸塩、シュウ酸塩、硝酸
塩、窒化物(Mn単体または化合物は用いない)等が挙
げられる。
The AlN sintered body raw material powder prepared as described above is sufficiently mixed using a ball mill or the like. A colorant for the sintered body may be added to the sintered body raw material powder as needed. As the coloring agent, Δi, Zr, Hf, W,
A simple substance of a transition metal belonging to Group 4A or 6A of the periodic table such as Mo;
Examples thereof include oxides, carbides, fluorides, carbonates, oxalates, nitrates, and nitrides (Mn alone or a compound is not used).

【0029】焼結には、常圧焼結法、ホットプレス法等
を適用することができる。常圧焼結法による場合は、焼
結体原料粉末にバインダを加え、混練、造粒、整粒を行
った後、所望の形状に成形する。成形法としては、金型
プレス、静水圧プレス、シート成形等が適用できる。次
いで、成形体を例えばN2 ガス気流中あるいは空気気流
中で加熱してバインダを除去した後、常圧焼結する。焼
結温度は使用する添加物の種類にもよるが、1673〜 187
3Kの範囲に設定することが好ましい。焼結温度が 1673K
未満であると、本発明による添加物組成を使用しても緻
密化が困難であり、一方 1873Kを超えると低温焼結によ
る製造コストの低減等の実現が困難となる。
For sintering, a normal pressure sintering method, a hot press method, or the like can be applied. In the case of the normal pressure sintering method, a binder is added to the raw material powder of the sintered body, kneaded, granulated, and sized, and then formed into a desired shape. As a molding method, a die press, an isostatic press, a sheet molding and the like can be applied. Next, the compact is heated in, for example, an N 2 gas stream or an air stream to remove the binder, and then sintered under normal pressure. The sintering temperature depends on the type of additive used.
It is preferable to set in the range of 3K. Sintering temperature 1673K
If it is less than 1, it is difficult to densify even if the additive composition according to the present invention is used, while if it exceeds 1873 K, it becomes difficult to realize a reduction in production cost due to low-temperature sintering.

【0030】上述した本発明の添加物組成(副構成物組
成)によれば、2A族元素や3A族元素の化合物等を単
独で添加するときよりも低温での焼結が可能となり、さ
らに前述した添加物の好ましい組成比、すなわち(希土
類元素):(アルカリ土類元素):(酸素):(硼
素):(珪素)=(16〜31):(4〜10):(9〜17):
(0.4〜1.6):(0.3〜1.2)を満足させることによって、こ
の組成範囲外の場合より低温で緻密化焼結が可能とな
る。焼結温度は1733〜〜 1863Kの範囲とすることが好ま
しく、さらに好ましくは1753〜 1853Kの範囲である。焼
結時間は 0.5〜 100時間の範囲とすることが好ましい。
より好ましくは 1〜60時間、さらに好ましくは 4〜30時
間である。
According to the additive composition (subcomponent composition) of the present invention described above, sintering can be performed at a lower temperature than when a compound of a group 2A element or a group 3A element is added alone. Preferred composition ratio of the added additive, that is, (rare earth element) :( alkaline earth element) :( oxygen) :( boron) :( silicon) = (16-31) :( 4-10) :( 9-17) :
(0.4 to 1.6): By satisfying (0.3 to 1.2), densification and sintering can be performed at a lower temperature than when the composition is out of this composition range. The sintering temperature is preferably in the range of 1733 to 1863K, more preferably 1753 to 1853K. The sintering time is preferably in the range of 0.5 to 100 hours.
The time is more preferably 1 to 60 hours, and further preferably 4 to 30 hours.

【0031】一方、ホットプレス焼結法による場合は、
前述したボールミル等で混合した焼結体原料粉末をプレ
ス成形してもよいし、また直接ホットプレスしてもよ
い。この際の焼結温度条件等は、上述した常圧焼結と同
様である。
On the other hand, in the case of the hot press sintering method,
The raw material powder of the sintered body mixed by the above-mentioned ball mill or the like may be press-molded or directly hot-pressed. The sintering temperature conditions and the like at this time are the same as in the normal pressure sintering described above.

【0032】[0032]

【実施例】次に、本発明の具体的な実施例について説明
する。
Next, specific examples of the present invention will be described.

【0033】実施例1 不純物酸素量が1.00重量% で、平均一次粒子径が 0.6μ
m のAlN粉末50.7重量% に対して、平均粒径 0.1μm
、純度99.9重量% のY2 3 を 19.69重量% 、CaC
3 を 11.65重量% 、平均粒径 0.8μm のAl2 3
14.27重量% 、平均粒径 1μm のLaΒ6 を1.65重量%
、平均粒径 0.5μm のSi3 4 を0.66重量% 、およ
び着色剤としてWO3 を 0.3重量% 添加し、これらにn-
ブタノールを加えて湿式ボールミルにより解砕、混合し
た後、n-ブタノ一ルを除去して焼結体原料粉末とした。
Example 1 The amount of impurity oxygen was 1.00% by weight, and the average primary particle diameter was 0.6 μm.
5 μ% by weight of AlN powder
The Y 2 O 3 having a purity of 99.9 wt% 19.69 wt%, CaC
O 3 11.65% by weight, Al 2 O 3 having an average particle size of 0.8 μm
14.27% by weight, 1.65% by weight of La @ 6 having an average particle size of 1 μm
, 0.66% by weight of Si 3 N 4 having an average particle size of 0.5 μm, and 0.3% by weight of WO 3 as a colorant were added thereto.
After adding butanol, the mixture was pulverized and mixed by a wet ball mill, and then n-butanol was removed to obtain a sintered material powder.

【0034】続いて、上記焼結体原料粉末にアクリル系
バインダを 5重量% 添加して造粒した後、この造粒粉を
50MPa の一軸加圧下で成形して、凹型形状の成形体を作
製した。この成形体を空気雰囲気中で773Kまで加熱し
て、アクリル系バインダを除去した。次いで、脱バイン
ダ体をAlN焼結体からなる焼結容器中にセットし、グ
ラファイト製ヒータ炉で 1気圧の窒素ガス雰囲気下にて
1823Kで 6時間焼成して、AlN焼結体を得た。
Subsequently, after adding 5% by weight of an acrylic binder to the above-mentioned raw material powder of the sintered body and granulating, the granulated powder was
Molding was performed under uniaxial pressure of 50 MPa to produce a molded article having a concave shape. The molded body was heated to 773 K in an air atmosphere to remove the acrylic binder. Next, the binder removal body was set in a sintering vessel made of an AlN sintered body, and was heated under a nitrogen gas atmosphere of 1 atm in a graphite heater furnace.
The resultant was fired at 1823K for 6 hours to obtain an AlN sintered body.

【0035】得られたAlN焼結体は、黒色で色ムラや
焼きムラがなく、また清浄な表面を有していた。密度を
アルキメデス法で測定したところ、3.30g/cm3 と十分に
緻密化していた。また、AlN焼結体から直径10mm、厚
さ 3mmの円板を切り出し、294±2Kの室温下で JIS-R161
1に従ってレーザーフラッシュ法で熱伝導率を測定した
ところ、70W/m K と良好な値を示した。
The obtained AlN sintered body was black, had no color unevenness or uneven firing, and had a clean surface. When the density was measured by the Archimedes method, it was sufficiently dense to 3.30 g / cm 3 . In addition, a 10mm diameter and 3mm thick disk was cut out from the AlN sintered body and JIS-R161 was used at room temperature of 294 ± 2K.
When the thermal conductivity was measured by the laser flash method according to 1, it showed a good value of 70 W / m K.

【0036】また、得られた凹型AlN焼結体を 2個重
ねる形で、窒素雰囲気中でガラス封止を行った。封止に
用いたガラス組成は下記の表1に示す通りである。
Further, glass sealing was performed in a nitrogen atmosphere in a state where two of the obtained concave AlN sintered bodies were stacked. The glass composition used for sealing is as shown in Table 1 below.

【0037】[0037]

【表1】 封止したAlN焼結体を、 5気圧のへリウムガスで満た
しチャンバ中に40分間放置した後、チャンバ内を 0.1Pa
オーダで真空に引いて、再び空気を 1気圧まで導入し
た。このへリウム洗浄工程を 3回行った後、試料をチャ
ンバから取り出し、空気中で30分間放置した。このよう
に処理した後、へリウムリーク試験(ファインリーク検
知)を行った。へリウムリーク量の検出は質量分析計で
行った。その結果、 1.0×10-10 atm ・cc・ s-1未満と
良好な値を示した。さらに、グロスリーク試験を行っ
た。具体的には、393Kに加温した住友3M社製フロリナ
ート40番中に試料を入れて 3分間放置したが気泡の発生
はなく、グロスリークも確認されなかった。このよう
に、本発明のAlN焼結体はガラス封止性に優れること
が確認された。なお、銅メタライズ性についても良好な
結果が得られた。
[Table 1] After filling the sealed AlN sintered body with helium gas at 5 atm and leaving it in the chamber for 40 minutes,
A vacuum was drawn on the order and air was introduced again to 1 atm. After performing this helium washing step three times, the sample was taken out of the chamber and left in the air for 30 minutes. After such treatment, a helium leak test (fine leak detection) was performed. The amount of helium leak was detected by a mass spectrometer. As a result, a favorable value of less than 1.0 × 10 −10 atm · cc · s −1 was shown. Further, a gross leak test was performed. Specifically, the sample was placed in Sumitomo 3M Fluorinert No. 40 heated to 393K and left for 3 minutes, but no bubbles were generated and no gross leak was observed. Thus, it was confirmed that the AlN sintered body of the present invention was excellent in glass sealing property. In addition, favorable results were also obtained for copper metallization.

【0038】実施例2〜38、比較例1〜9 表2〜表4に示すAlN粉末および添加物を用いて、表
6および表7に示す焼結条件(温度および時間)を適用
する以外は、実施例1と同様な方法でAlN焼結体を作
製した。なお、表5は添加物の組成比(希土類元素:ア
ルカリ土類元素:酸素:硼素:珪素)等を示すものであ
る。得られた各AlN焼結体の特性を実施例1と同様に
して測定した。その結果を表6および表7に併せて示
す。なお、表6および表7における表面状態が良好と
は、色ムラや焼きムラがなく、しかも目視で表面に多大
な析出物が見られないことを意味している。
Examples 2 to 38, Comparative Examples 1 to 9 Except that the sintering conditions (temperature and time) shown in Tables 6 and 7 were applied using AlN powders and additives shown in Tables 2 to 4. An AlN sintered body was manufactured in the same manner as in Example 1. Table 5 shows the composition ratio of the additives (rare earth element: alkaline earth element: oxygen: boron: silicon) and the like. The characteristics of each of the obtained AlN sintered bodies were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Tables 6 and 7. The good surface condition in Tables 6 and 7 means that there is no color unevenness or uneven printing, and that a large amount of precipitate is not visually observed on the surface.

【0039】[0039]

【表2】 [Table 2]

【表3】 [Table 3]

【表4】 [Table 4]

【表5】 [Table 5]

【表6】 [Table 6]

【表7】 [Table 7]

【表8】 [Table 8]

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の窒化アル
ミニウム焼結体は、1673〜 1873K前後の低温焼結で緻密
化が可能であると共に、40W/m K 以上の熱伝導率と高抗
折強度を有しており、かつガラス封止や銅メタライズを
良好に行うことができる。従って、回路基板やパッケー
ジ基体等として好適な窒化アルミニウム焼結体を提供す
ることが可能となる。
As described above, the aluminum nitride sintered body of the present invention can be densified by low-temperature sintering at around 1673 to 1873 K, and has a thermal conductivity of 40 W / m K or more and a high resistance. It has folding strength and can perform glass sealing and copper metallization satisfactorily. Therefore, it is possible to provide an aluminum nitride sintered body suitable as a circuit board, a package base, or the like.

【0041】[0041]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上野 文雄 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株式会社東芝 研究開発センター内 (56)参考文献 特開 昭62−176961(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C04B 35/581──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Fumio Ueno 1st, Komukai Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Toshiba R & D Center (56) References JP-A-62-176961 (JP, A) ( 58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) C04B 35/581

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 AlNと、B元素、Si元素、O元素、
Al元素、周期律表の3A族元素および2A族元素から
なる構成物とを有する窒化アルミニウム焼結体であっ
て、前記構成物を20〜65重量% の範囲で含有すると共
に、前記構成物中のB元素、O元素、Si元素、3A族
元素および2A族元素の組成比が(3A族元素):(2
A族元素):(酸素):(硼素):(珪素)=(16〜3
1):(4〜10):(9〜17):(0.4〜1.6):(0.3〜1.2)で
あり、かつ熱伝導率が40〜80W/m K であることを特徴と
する窒化アルミニウム焼結体。
An AlN, a B element, a Si element, an O element,
What is claimed is: 1. An aluminum nitride sintered body comprising: an Al element; a composition comprising a Group 3A element and a Group 2A element of the periodic table, wherein said composition is contained in the range of 20 to 65% by weight, and The composition ratio of B element, O element, Si element, 3A element and 2A element of (3A element): (2
Group A element): (oxygen): (boron): (silicon) = (16-3)
1): (4 to 10): (9 to 17): (0.4 to 1.6): (0.3 to 1.2) and a thermal conductivity of 40 to 80 W / mK Union.
【請求項2】 AlN粉末に、少なくともΒ元素、Si
元素、O元素、周期律表の3A族元素および2A族元素
の単体または化合物を、これら各元素の主たる出発原料
による前記元素の組成比を(3A族元素):(2A族元
素):(酸素):(硼素):(珪素)=(16〜31):(4
〜10):(9〜17):(0.4〜1.6):(0.3〜1.2)を満足させ
つつ合計で20〜65重量% の範囲で添加して、焼結体原料
を調製する工程と、 前記焼結体原料を1673〜 1873Kの温度で焼成する工程と
を有することを特徴とする窒化アルミニウム焼結体の製
造方法。
2. An AlN powder containing at least a Β element and Si
The element, the O element, the simple substance or the compound of the group 3A element and the group 2A element of the periodic table, and the composition ratio of the element based on the main starting material of each element are (group 3A element) :( group 2A element) :( oxygen ) :( boron) :( silicon) = (16-31) :( 4
To 10): (9 to 17): (0.4 to 1.6): a step of adding a total of 20 to 65% by weight while satisfying (0.3 to 1.2) to prepare a sintered body raw material; Baking the raw material of the sintered body at a temperature of 1673 to 1873K.
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