JP2811360B2

JP2811360B2 - 情報記録媒体

Info

Publication number: JP2811360B2
Application number: JP2218703A
Authority: JP
Inventors: 孝仁三好; 孝史小林
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1990-08-20
Filing date: 1990-08-20
Publication date: 1998-10-15
Anticipated expiration: 2013-10-15
Also published as: JPH04102242A

Description

【発明の詳細な説明】［発明の分野］本発明は、レーザにより情報の記録または再生が可能
な情報記録媒体に関するものである。

［発明の技術的背景］近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されてい
る。この情報記録媒体は、一般に光ディスクと称され、
ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大
容量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディ
スク・メモリーとして使用され得るものである。さら
に、光カード、光テープなども情報記録媒体として知ら
れている。

ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク（コンパク
ト・ディスク（CD））などは再生専用の光ディスクとし
て既に実用化されており、情報の書き込み可能なDRAW
（Direct Read After Write）型光ディスク、あるいは
情報の書き換えが可能な消去可能型光ディスクについて
も開発が進んでおり、一部実用化されている。

このようなDRAW型情報記録媒体は、基本構造として、
プラスチック、ガラス等からなる円盤状の透明基板と、
この上に設けられたBi、Sn、In、Te等の金属または半金
属、あるいは色素からなる記録層とを有する。光ディス
クへの情報の記録（書き込み）は、たとえばレーザビー
ムを光ディスクに照射することにより行なわれる。

レーザの照射は、一般に記録または再生の際の塵埃に
よる読み誤りの発生などを緩和するため、通常透光性材
料で形成した基板を介して、記録層あるいは信号形成面
にレーザをフォーカスすることにより行なわれる。これ
は記録用光ディスクの場合でも、再生用光ディスクの場
合でも、同様に行なわれる。しかしながら、このように
基板側からレーザを照射することにより、記録または再
生時に塵埃等の影響を受け難い反面、基板表面でのレー
ザの反射による光量の損失が起こるとの問題がある。

このため、記録機能な情報記録媒体においては、記録
時に大きなレーザパワーを必要とし、また再生時には反
射信号量が小さくなるため、トラッキングエラーや読み
取りエラーが発生するとの問題がある。あるいは、基板
と記録層との間に屈折率の差が少ない場合は、フォーカ
シングが記録層ではなく基板に行なわれ易いとの問題も
ある。

このような問題を解決するため、基板の表面にMgF₂等
の材料からなる反射防止層を設けること（特開昭60−89
844号公報参照）や、MgF₂、3NaF・AlF₃等の材料からな
る反射防止層を設けること（特開昭60−138749号公報参
照）が提案されている。

上記のような反射防止層は、基板表面での反射率を低
下させることから、上記トラッキングエラーや読み取り
エラーの発生防止には有効であるが、反射防止層の材料
が無機化合物であるため、反射防止層を形成するのに真
空蒸着、スパッタリング等の真空成膜を行なう必要があ
る。このような無機化合物の蒸着膜は、工程基板との密
着性が充分でない、あるいは長期間保存した場合に変質
し易い、また表面が傷が付き易い等耐久性が充分でない
との問題がある。更に、上記のような蒸着による層形成
方法は、コスト高となる、工程が複雑になる等の製造上
の不利がある。

本発明者らは、ポリシロキサンからなる層を基板の表
面に設けると反射防止層として有効であり、ポリシロキ
サンからなる層はシロキサンを含有する溶液を塗布し、
乾燥することによって容易に形成できることを見出した
が、ポリシロキサンからなる層をポリカーボネート基板
の表面に高い密着力で形成させることが困難であった。
しかし、該基板とポリシロキサンからなる反射防止層と
の間に下塗層を介在させることによって上記の密着性の
問題を解決し、本発明を完成するに至った。

［発明の目的］本発明は、塗布法により簡便に形成することができる
反射防止層を有する新規な情報記録媒体を提供すること
を目的とする。

また本発明は、ポリカーボネート基板との密着性に優
れた反射防止層が設けられた、高い反射率を有し且つ記
録信号を再生する際にトラッキングエラー等の再生エラ
ーなどが発生しない新規な情報記録媒体を提供すること
を目的とする。

さらに、本発明は、反射率の低下防止に加えて、ポリ
カーボネート基板との密着性に優れ、表面の傷付きを低
減でき、帯電防止性が優れほこりが付着し難いなどの光
ディスクを保護する機能においても優れた高強度の反射
防止層を有する情報記録媒体を提供することを目的とす
る。

［発明の要旨］本発明は、ポリカーボネート製の基板の一表面上に、
レーザにより情報の記録又は再生が可能な記録層が設け
られ、且つ該基板の記録層が設けられていない側の表面
に、下塗層を介して、ポリシロキサンからなり600〜400
0Åの膜厚を有する反射防止層が設けられていることを
特徴とする情報記録媒体である。

本発明の好適な実施態様は下記の通りである。

１）該下塗層が、ポリメチルメタクリレート、アクリル
酸エチル・メタクリル酸エステル共重合体、又はＮ−メ
チロールアクリルアミドであることを特徴とする上記情
報記録媒体。

２）上記記録層が、色素からなる層であることを特徴と
する上記情報記録媒体。

３）上記記録層上に、反射層が積層されていることを特
徴とする上記情報記録媒体。

４）上記記録層上に、反射層および保護層がこの順で積
層されていることを特徴とする上記情報記録媒体。

［発明の効果］本発明の情報記録媒体は、上記のようにポリカーボネ
ート基板の、記録層を有する表面とは反対側の表面であ
るレーザ光の入射側の基板表面に設けられた、特定の材
料からなり特定範囲の膜厚を有する反射防止層を有す
る。

本発明の情報記録媒体における反射防止層は、従来の
反射防止層を有する光ディスクと同様に、基板表面での
光の反射を防いで、記録層表面での反射率の低下を防止
する機能を有する。従って、情報を低いレーザーパワー
で記録することができ、且つトラッキング等のサーボ信
号あるいは情報信号等の再生信号のゲインを増大させる
ことができる。これにより、記録信号を再生する際、ト
ラッキングエラー等の再生エラーなどの発生を顕著に減
少させることができる。

更に、本発明の情報記録媒体における反射防止層は、
帯電防止性能をも有しており、基板との密着力も大き
く、そのために情報記録媒体のレーザ光入射側表面にご
みが付着し難く耐傷性に優れている。

［発明の詳細な記述］本発明の情報記録媒体は、ポリカーボネートの基板の
一表面上に記録層が設けられ、且つ基板の記録層が設け
られていない側の表面に、下塗層を介して反射防止層が
設けられた基本構成を有する。

本発明における基板は、ポリカーボネートから製造さ
れた基板である。

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改
善、接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層
の変質の防止の目的で、中間層が設けられてもよい。中
間層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレー
ト，アクリル酸エステル・メタクリル酸エステル共重合
体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルア
ルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・
スルホン酸共重合体、スチレン・ビニルトルエン共重合
体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロー
ス、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエス
テル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、
エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレンア、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、エポキシ樹脂等の高分
子物質；シランカップリング剤、チタネート系カップリ
ング剤などの有機物質；および無機誘電体（SiO₂、Zn
S、AlN、Si₃N₄等）、無機フッ化物（MgF₂）などの無機
物質を挙げることができる。

中間層は、例えば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ート、ディップコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。中間層の層厚は一般に0.005〜20μｍの
範囲にあり、好ましくは0.01〜10μｍの範囲である。

上記基板の記録層形成側表面（または中間層表面）
に、記録又は再生時のトラッキングを良好に行なうため
にプリグルーブ（トラッキング用溝）及びアドレス信号
等の情報を表わすプリピットが形成されている。

上記プリグルーブ及びプリピットは、射出成形あるい
は押出成形などにより基板表面に直接設けてもよい。ま
た、基板の表面上に、上記プリグルーブ及びプリピット
を形成するためのプリグルーブ層及プリピット層を設け
てもよい。

プリグルーブ層等の材料としては、アクリル酸のモノ
エステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエス
テルのうちの少なくとも一種のモノマー（またはオリゴ
マー）と光重合開始剤との混合物を用いることができ
る。

プリグルーブ層等の形成は、まず精密に作られた母型
（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステルおよび重
合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層
上に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線
の照射により液液層を硬化させて基板と液相とを固着さ
せる。次いで、基板を母型から剥離することによりプリ
グルーブ層等の設けられた基板が得られる。プリグルー
ブ層の層厚は一般に0.1〜100μｍの範囲にあり、好まし
くは0.1〜50μｍの範囲である。

プリグルーブ及びプリピットを形成した基板（または
プリグルーブ層等）上に、前記中間層を形成する材料と
同様の材料を使用して、記録層を形成するための塗布液
中の溶剤から保護するための耐溶剤層を設けてもよい。

基板の一表面上には、色素を含む記録層が設けられて
いる。基板側からレーザ光を照射して記録層に再生用の
ピットを形成することにより、記録層に情報を記録す
る。

本発明に使用される色素は特に限定されるものではな
く、どのようなものでも良い。例えば、シアニン系色
素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、
ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウ
ム系色素、スクワリリウム系色素、Ni,Crなどの金属錯
塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、
トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、
アルミニウム系色素、ジインモニウム系色素、ニトロソ
系色素、ロイコ系色素、クロンコニウム系色素、等々の
色素を挙げることができる。

これらの色素は、ライト・ワンス（WO）型に限らず、
リライタブル（RW）型（又は可逆型）のものであっても
よい。

これらの色素のうちでも記録再生用レーザとして近赤
外光を発振する半導体レーザの利用が実用化されている
点から、700〜900nmの近赤領域の光に対する吸収率が高
い色素が好ましい。

特に、シアニン系色素、アズレニウム系色素及びスク
ワリリウム系色素が好ましく、シアニン系色素の中で
も、ナフトインドレニン系色素及びイミダゾキノキサリ
ン系色素が好ましい。

これらは色素は単独でもあるいは二種以上の混合物と
して用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる場合
に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系色素又はジ
インモニウム系色素をクエンチャーとして一緒に用いる
ことが好ましい。その場合、クエンチャーとして金属錯
塩系色素などを全色素１モルに対して0.001〜0.3モルの
割合で含むことが好ましい。

上記の溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、エチルベンゼンなどのような芳香族炭化水素系溶
剤；ヘキサン、オクタン、ノナン、シクロヘキサンなど
のような脂肪族炭化水素系溶剤；酢酸のような有機酸系
溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、エチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、セロソルブ
アセテートなどのようなエステル系溶剤；アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノンなどのようなケトン系溶剤；ジクロルメタン、
1,2−ジクロルエタン、クロロホルム、メチルクロロホ
ルム、トリクレン、四塩化炭素、テトラクロロエチレン
などのようなハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロ
フラン、エチレエーテル、イソプロピルエーテル、ジオ
キサン、ダイグライムなどのようなエーテル系溶剤；エ
タノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−
ブタノール、アミルアルコール、ジアセトンアルコー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、ベンジルアルコールなどのような
アルコール系溶剤；ジメチルホルムアミドのようなアミ
ド系溶剤;2、２、３、３、テトラフロロプロパノールな
どのようなフッ素化アルコール、フッ素置換ケトン、フ
ッ素置換エステル、フッ素置換アミド、フッ素置換エー
テル、フッ素置換芳香族炭化水素、フッ素置換脂肪族炭
化水素などのようなフッ素系溶剤などを挙げることがで
きる。

上記記録層は上記のような色素と溶剤とから色素溶液
を調製し、この色素溶液を例えば、スプレー法、スピン
コート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコー
ト法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などの方法
によって塗布し、乾燥することによって形成することが
できる。特にスピンコート法により形成することが好ま
しく、その際、上記色素溶液中の上記色素の濃度は0.5
〜15重量％、特に１〜10重量％、更に特に1.5〜８重量
％であることが好ましい。

上記色素溶液中には、さらに酸化防止剤、UV吸収剤、
可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加し
てもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラ
チン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。

上記色素溶液をスピンコート法により基板上に塗布す
るに際しては、それ自体公知の装置及び方法を使用して
行なうことができる。上記色素溶液を、一般に０〜100
℃、特に５〜80℃、更に特に10〜60℃の温度で塗布する
ことが好ましい。基板の回転数は、色素溶液を塗布する
ときは、一般に10〜1000r.p.m.、特に100〜500r.p.m.に
することが好ましく、色素塗膜を乾燥するときは、一般
に300〜10000r.p.m.、特に500〜7000r.p.m.、更に特に7
00〜40000r.p.m.にすることが好ましい。

本発明の情報記録媒体の、記録層が設けられない側の
基板の表面には、下塗層が設けられている。

下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリ
レート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン
・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ
−メチロールアクリルアミド、スチレン・スルホ酸共重
合体、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスル
ホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニ
ル、塩素化ポオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、
酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニ
ル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、エポキシ樹脂等の高分子物質；シランカップ
リング剤、チタネート系カップリング剤などの有機物質
を挙げることができる。特に、ポリメチルメタクリレー
ト、アクリル酸エステル・メタクリル酸エステル共重合
体、Ｎ−メチロールアクリルアミドなどが好ましい。

この下塗層の層厚は、0.01〜0.5μｍの範囲内である
ことが好ましい。この下塗層は、前記の基板と記録層と
の間に設けてもよい中間層の場合と同様の方法で形成す
ることができる。

下塗層を設けないで、ポリカーボネート基板の表面に
直接ポリシロキサンからなる反射防止層を形成させる
と、基板と反射防止層との密着力が小さく、反射防止層
が剥離し易い。

この下塗層の上に、ポリシロキサンからなり、600〜4
000Å、好ましくは1000〜30000Åの膜厚を有する反射防
止層が設けられている。

この反射防止層の形成は、シロキサン系化合物を含む
液性材料（コロイド分散液、懸濁液、溶液等）を、上記
色素溶液の塗布について記載した方法と同様の方法で基
板の当該表面に塗布し、塗膜を常温又は昇温させた温度
で乾燥することによって行なうことができる。塗膜の乾
燥中にシロキサン系化合物が縮合し、主として網状構造
を有するポリシロキサンからなる反射防止層が形成され
る。この反射防止層は基板がプラスチックである場合に
は投錨効果により基板の表面に強く密着する。また、こ
の反射防止層の屈折率は、約1.30〜1.45である。シロキ
サン系化合物を含む液性材料としては、例えば、太陽物
産株式会社から発売されているシロキサン系帯電防止剤
［コルコート（登録商標）］を挙げることができる。

本発明の情報記録媒体においては、反射防止層の膜厚
が600〜40000Åの範囲内であることが必要である。反射
防止層の好ましい膜厚は、1000〜3000Åの範囲内であ
る。反射防止層の膜厚が上記範囲よりも小さいと情報記
録媒体の反射率は低く、反射防止層を全く設けないもの
の反射率と同程度であり、上記範囲よりも大きい場合も
同様に反射率が低くなる。

下塗層の上に反射防止層を形成する際に、下塗層が完
全に乾燥した後に反射防止層形成材料を塗布してもよい
が、下塗層が完全に乾燥する前の溶剤が若干残留してい
る状態の下塗層の上に反射防止層形成材料を塗布する
と、反射防止層の密着力が更に増大することがある。

なお、反射防止層の形成は、基板上に記録層、所望に
より、反射層、保護層等を形成した後、該基板の記録層
が設けられていない側に設けても良いし、記録層を設け
る前に基板の記録層が設けられない側に先に設けても良
い。

本発明の情報記録媒体の記録層の上に、更に反射層を
設けてもよい。

反射層の材料としては、Be、Ｂ、Ｃ、Sc、Rb、Sr、A
s、Os、Tl、At、Fr、Ra、Mg、Se、Ｙ、Ti、Zr、Hf、
Ｖ、Nb、Ta、Cr、Mo、Ｗ、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、R
h、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、S
i、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi、Sbなどの金属及び半金属
を挙げることができる。これらの中でもＣ、Au、Zn、C
u、Pt、Al、Ni、In及びステンレス鋼が特に好ましい。
これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以
上の組合せでまたは合金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッ
タリングまたはイオンプレーティングすることにより記
録層の上に形成することができる。特に、スパッタリン
グによって反射層を成膜することが好ましい。反射層の
層厚は一般には100〜3000Å、好ましくは400〜2000Åの
範囲にある。

反射層として貴金属反射層を設けた場合は、その上に
Alなどの金属密着層又は有機物の密着層を設けることが
できる。

この反射層の上に、情報記録媒体全体、特に記録層及
び反射層を物理的及び化学的に保護する目的で保護層を
設けてもよい。

保護層に用いられる材料の例としては、無機物質とし
ては、SiO、SiO₂、Si₃N₄、MgF₂、SnO₂等を挙げることが
できる。また、有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げることができ、好まし
くはUV硬化性樹脂である。

保護層は、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを
適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布
液を塗布し、乾燥することによって形成することができ
る。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布
し、UV光を照射して硬化させることによって保護層を形
成することができる。UV硬化性樹脂としては、ウレタン
（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレー
ト、ポリエステル（メタ）アクリレート等の（メタ）ア
クリレートのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エステ
ル等のモノマー類等と光重合開始剤等との通常のUV硬化
性樹脂を使用することができる。これらの塗布液中に
は、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添
加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の材料とし
てUV硬化性樹脂を用いることが好ましい。

保護層の層厚は一般には0.1〜100μｍ、好ましくは0.
5〜20μｍの範囲にある。

上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押
出加工で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層
の上にラミネートすることにより形成することができ
る。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法
により設けられてもよい。

本発明の情報記録媒体への情報の記録は、情報記録媒
体を定線速度（好ましくは1.2〜2.8m/秒、特に好ましく
は1.2〜1.4m/秒）にて回転させながら、基板側から該プ
レグルーブの底部にレーザ光を照射してグルーブ上にあ
る記録層に再生用のビットを形成して信号を記録するこ
とにより行なう。信号としてはCDフォーマットのEFM信
号を記録することが本発明の効果を得る上で好ましい。
一般に、記録光としては750〜850nmの範囲の発振波長を
有する半導体レーザビームが用いられる。本発明の情報
記録媒体では、10mW以下のレーザパワーで記録すること
ができる。

上記の記録後のビットは、基板及び／又は色素がレー
ザ光の照射により発熱し、溶融、蒸発、昇華、変形或る
いは変質することにより、基板−色素間に凸状、波状、
凹状等の変化が起こったり、色素内で変化が起こった
り、色素−金属反射層間で変化が起こったりするなどの
形態のものである。

上記記録方法により、本発明の情報記録媒体にCDフォ
ーマット信号などを定線速度で記録を行うことにより、
信号の変調度、再生C/Nなどの優れた記録再生特性を得
ることができる。また本発明の光ディスクは高反射率を
有するので、記録されたCDフォーマット信号を市販のCD
プレーヤーを用いて再生することができる。

以下に、本発明の実施例及び比較例を記載する。ただ
し、これらの各例は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ほぼ全面にプリグルーブが設けられた円盤状のポリカ
ーボネート基板（外径:120mm、内径:15mm、厚さ:1.2m
m、トラックピッチ:1.6μｍ、グルーブの半値幅:0.55μ
ｍ、グルーブの深さ:90nm）を用意した。

一方、下記構造式を有する色素を2,2,3,3−テトラフロロ−１−プロパノ
ールに溶解して、色素を1.7重量％含有する色素溶液を
調製した。

この色素溶液を24℃に維持し、上記の基板の片側表面
上に上記色素溶液をスピンコート法により基板回転数20
0r.p.m.の速度で３秒間塗布した後、回転数1000r.p.m.
で５秒間乾燥して記録層を形成した。

形成された記録層の上に、480W、ターゲット−基板距
離95mm、ガス圧2Pa、レート2nm/秒の条件下で、AuをDC
スパッタリングして膜厚が1000ÅのAuからなる反射層を
形成した。

上記反射層上に、保護層としてUV硬化性樹脂（商品
名:3070、スリーボンド社製）をスピンコート法により
回転数1500r.p.m.の速度で塗布した後、高圧水銀灯にて
紫外線を照射して硬化させ、層厚２μｍの保護層を形成
した。

次いで、基板の記録層を設けない側の表面に、ポリメ
チルメタクリレートを４重量％含有するアルコール／グ
リコールエチル溶液を、スピンコート法により塗布し、
約24℃で乾燥して、膜厚0.1〜0.2μｍの下塗層を形成し
た。

次に、溶剤臭が若干残った状態の下塗層の上に、シロ
キサン系帯電防止剤（太陽物産（株）発売、商品名「コ
ルコートＮ−103X」）をスピンコート法により塗布し、
室温（約24℃）で約30分間乾燥して、膜厚2000Åの反射
防止層を形成した。

反射防止層の膜厚は、切断面をSEMで観察する破壊検
査による方法により測定した。

このようにして、基板の片側に、色素記録層、反射層
及び保護層が設けられ、基板の反射側に反射防止層が設
けられた情報記録媒体を製造した。

この情報記録媒体について、下記の評価方法により、
グルーブ反射率及び密着力を測定した。評価結果を第１
表に記載する。

［情報記録媒体の評価］１）グルーブ反射率（％）未記録部分のグルーブにレーザーを照射し、入射レー
ザー光量に対して、反射光量を再生信号検出センサーで
検出して、その検出した出力から求めた。

２）密着力反射防止層を、ナイフで表面に100個の基盤目を形成
し、その表面にセロテープ（ニチバン（株）製）を密着
させた後、表面に対して45度の方向に引っ張って剥離し
た。基盤目部分の反射防止層の内、セロテープにより剥
離された基盤目の個数で密着力を示す。

［比較例１］反射防止層及び下塗層を設けなかった他は実施例１に
おけると同様にして、情報記録媒体を製造した。

この情報記録媒体について実施例１におけると同様に
して評価した。その結果を第１表に示す。

［比較例２］反射防止層の膜厚を500Åに変えた他は実施例１にお
けると同様にして、情報記録媒体を製造した。

［比較例３］下塗層を設けなかった他は実施例１におけると同様に
して、情報記録媒体を製造した。

第１表の結果から明らかなように、実施例で得られた
本発明の情報記録媒体は、グルーブ反射率が高く反射防
止層の密着力も十分高い。これに対して、比較例１で得
られた反射防止層を有しない情報記録媒体はグルーブ反
射率が低く、比較例２で得られた本発明の範囲外の小さ
い膜厚の反射防止層を有する情報記録媒体は、グルーブ
反射率が比較例１で得られた情報記録媒体のグルーブ反
射率と同程度に低く、反射防止層がその機能を果たして
いないものであった。また、比較例３で得られた、下塗
層を設けなかった情報記録媒体は、密着力の評価で反射
防止層が全部剥離され、反射防止層の密着力が極めて低
いものであった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 7/24 538

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】ポリカーボネート製の基板の一表面上に、
レーザにより情報の記録又は再生が可能な記録層が設け
られ、且つ該基板の記録層が設けられていない側の表面
に、下塗層を介して、ポリシロキサンからなり600〜400
0Åの膜厚を有する反射防止層が設けられていることを
特徴とする情報記録媒体。