JP2825101B2 - Wafer frame moving device - Google Patents
Wafer frame moving deviceInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 ウエハ用フレームの移動装置に関し、 ウエハ用フレームを所定の姿勢で移動可能にして塵埃
の発生をなくすようにすることを目的とし、 ウエハ用フレームの環状部の第1の位置の下面に係合
する少なくとも1つの第1の支点部材と、ウエハ用フレ
ームの環状部の第2の位置の上面に上方から下方に移動
可能に係合する第2の支点部材と、該第1の支点部材及
び該第2の支点部材を支持して移動可能な支持手段とを
備えた構成とする。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Summary] The present invention relates to an apparatus for moving a wafer frame, wherein an object is to move the wafer frame in a predetermined posture so as to eliminate generation of dust. At least one first fulcrum member engaged with the lower surface of the first position of the first frame, and a second fulcrum member movably engaged with the upper surface of the annular portion of the wafer frame at the second position from the upper side to the lower side. And a supporting means movable to support the first fulcrum member and the second fulcrum member.
本発明はシリコンウエハ等をテープを介して取りつけ
たウエハ用フレームの移動装置に関する。The present invention relates to a wafer frame moving device in which a silicon wafer or the like is attached via a tape.
最近、集積回路部品(IC)はより微細化及び高集積化
されるようになってきており、それと同時に小さな塵埃
の混入が製品の品質に影響を与えるようになっている。
そのため、集積回路部品の製造工程においては、防塵対
策に細心の注意が払われている。Recently, integrated circuit components (ICs) have been miniaturized and highly integrated, and at the same time, the entry of small dust has affected the quality of products.
For this reason, in the manufacturing process of integrated circuit components, utmost care has been taken to prevent dust.
一般に、半導体の製造工程はエッチングや不純物拡散
等の処理を行う前工程と、ダイシングやボンディング等
の処理を行う後工程とからなる。従来は特に前工程にお
いて塵埃の混入の防止対策を完全に行っていたが、最近
では後工程でも塵埃の混入の防止対策を行うことが求め
られるようになってきている。In general, a semiconductor manufacturing process includes a pre-process for performing processes such as etching and impurity diffusion, and a post-process for performing processes such as dicing and bonding. Conventionally, measures for preventing dust from being mixed have been completely performed, particularly in the preceding process. Recently, measures for preventing dust from being mixed have been required even in the post-process.
前工程における処理が終了したシリコンウエハの後工
程で処理するために、ウエハ用フレームが使用されてい
る。ウエハ用フレームは環状の板状フレームであり、環
状部内が開口部分になっている。このウエハ用フレーム
の全面に粘着テープを貼り、ウエハ用フレームの環状部
内の開口部分にあらわれる粘着テープの粘着面にシリコ
ンウエハを取りつけるようになっている。このようにし
てシリコンウエハをウエハ用フレームに取りつけた状態
で、例えばダイシングやその他の処理に運ぶ。また、後
工程ではシリコンウエハを1個ずつ処理していたのでは
効率が悪いので、フレームキャリアに複数のウエハ用フ
レーム(及びシリコンウエハ)を装填し、フレームキャ
リアごと複数のシリコンウエハを処理するようになって
いる。このフレームキャリアはシリコンウエハを取りつ
けたウエハ用フレームを引き出し状に収める箱に似たも
のであり、箱の前面と底面が開口しているとともに、両
側面に平行な溝が設けられており、ウエハ用フレームの
外縁部をその溝に沿って引き出し状に出し入れできるよ
うになっている。A wafer frame is used for processing in a post-process of the silicon wafer after the process in the pre-process is completed. The wafer frame is an annular plate-shaped frame, and the inside of the annular portion is an opening. An adhesive tape is attached to the entire surface of the wafer frame, and the silicon wafer is attached to the adhesive surface of the adhesive tape that appears at the opening in the annular portion of the wafer frame. With the silicon wafer mounted on the wafer frame in this manner, it is carried to, for example, dicing or other processing. Further, since it is inefficient to process one silicon wafer at a time in the subsequent process, a plurality of wafer frames (and silicon wafers) are loaded on a frame carrier, and a plurality of silicon wafers are processed for each frame carrier. It has become. This frame carrier resembles a box that holds a wafer frame with a silicon wafer in a drawer shape.The front and bottom of the box are open, and parallel grooves are provided on both sides. The outer edge of the frame can be drawn in and out along the groove.
このようにしてフレームキャリアに複数のウエハ用フ
レーム(及びシリコンウエハ)を装填した場合、例えば
抜き取り検査等のために、複数のウエハ用フレームの中
から1個のウエハ用フレームを引き出す必要があった。When a plurality of wafer frames (and silicon wafers) are loaded in the frame carrier in this way, it is necessary to pull out one wafer frame from the plurality of wafer frames, for example, for sampling inspection. .
フレームキャリアからウエハ用フレームを引き出すた
めに、従来は第5図、又は第6図に示されるような移動
装置が使用されていた。第5図及び第6図において、フ
レームキャリア1は溝2を有し、シリコンウエハを取り
つけたウエハ用フレーム3が各溝2に挿入されている。
溝2の高さ方向の幅はウエハ用フレーム3の幅よりもわ
ずかに大きく、ウエハ用フレーム3は溝2の底部に載っ
ている。Conventionally, a moving device as shown in FIG. 5 or FIG. 6 has been used to pull out a wafer frame from a frame carrier. 5 and 6, the frame carrier 1 has a groove 2, and a wafer frame 3 on which a silicon wafer is mounted is inserted into each groove 2.
The width of the groove 2 in the height direction is slightly larger than the width of the wafer frame 3, and the wafer frame 3 rests on the bottom of the groove 2.
第5図の移動装置の場合には、枢着ピン5で連結され
た上下の爪6a,6bを有するグリッパ7が使用される。グ
リッパ7はフレームキャリア1の正面からウエハ用フレ
ーム3の前縁に向かって矢印aで示される方向に移動さ
れ、ウエハ用フレーム3の前縁をわずかに通過した位置
で上爪6aが下爪6bに向かって作動されてそれらの間にウ
エハ用フレーム3をつかみ、それからグリッパ7が矢印
aとは逆の方向に移動され、よってウエハ用フレーム3
を引き出す。In the case of the moving device shown in FIG. 5, a gripper 7 having upper and lower claws 6a and 6b connected by a pivot pin 5 is used. The gripper 7 is moved from the front of the frame carrier 1 toward the front edge of the wafer frame 3 in the direction indicated by the arrow a, and the upper claw 6a is moved to the lower claw 6b at a position slightly passing through the front edge of the wafer frame 3. To grip the wafer frame 3 between them, and then the gripper 7 is moved in the direction opposite to the arrow a, so that the wafer frame 3
Pull out.
第6図の移動装置の場合には、フレームキャリア1の
開口した底部の下方にベルトコンベア9が配置される。
フレームキャリア1は図示しない支持手段によって矢印
bで示される下方向に段々に下降可能になっており、こ
の下降動作にともなってウエハ用フレーム3がベルトコ
ンベア9に乗り、ベルトコンベア9を例えば矢印cの方
向に駆動することによってウエハ用フレーム3を移動す
る。In the case of the moving device shown in FIG. 6, a belt conveyor 9 is arranged below the open bottom of the frame carrier 1.
The frame carrier 1 can be gradually lowered in a downward direction indicated by an arrow b by supporting means (not shown). With this lowering operation, the wafer frame 3 rides on the belt conveyor 9 and moves the belt conveyor 9 to, for example, an arrow c. The wafer frame 3 is moved by driving in the direction of.
上記したように、ウエハ用フレーム3は環状の板状フ
レームであり、シリコンウエハはその環状部内の開口部
分において粘着テープに取りつけられている。第6図に
示す従来の移動装置では、ベルトコンベア9がウエハ用
フレーム3とともにシリコンウエハに接触し、ウエハ用
フレーム3及びシリコンウエハを擦ることによって塵埃
の発生の原因を作る。さらに、第6図に示す従来の移動
装置では、下段のウエハ用フレーム3から上段のウエハ
用フレーム3へ向かって順番に取り出すことしかでき
ず、抜き取り検査のために任意の位置のウエハ用フレー
ム3を取り出すことができない。As described above, the wafer frame 3 is an annular plate-shaped frame, and the silicon wafer is attached to the adhesive tape at the opening in the annular portion. In the conventional moving apparatus shown in FIG. 6, the belt conveyor 9 comes into contact with the silicon wafer together with the wafer frame 3 and rubs the wafer frame 3 and the silicon wafer to generate a dust. Further, the conventional moving device shown in FIG. 6 can only take out the wafer frame 3 from the lower wafer frame 3 to the upper wafer frame 3 in order. Can not be taken out.
第5図に示す従来の移動装置では、ウエハ用フレーム
3をフレームキャリア1の溝2に対して平行に取り出す
ことができないという問題があった。即ち、上下のウエ
ハ用フレーム3間の間隔が比較的に小さいので、グリッ
パ7の上下の爪6a,6bの寸法も制約されて、グリッパ7
をフレームキャリア1内に深く挿入することができず、
グリッパ7はその移動方向(矢印a)で見たウエハ用フ
レーム3の前縁部のみをつかむようになる。ウエハ用フ
レーム3はステンレス鋼製でかなり重いので、ウエハ用
フレーム3の前縁部のみをつかむとウエハ用フレーム3
の後方部分が垂れるようになる。なお、グリッパ7をフ
レームキャリア1内に深く挿入するのは困難である。こ
のようにして、第5図に示されるようにウエハ用フレー
ム3を傾斜した状態で引き出すとき、ウエハ用フレーム
3の後方部分がフレームキャリア1の溝2の底部を擦る
ようになり、塵埃の発生の原因となっていた。特に、ウ
エハ用フレーム3がステンレス鋼製であり、フレームキ
ャリア1がアルミニウム製の場合には、フレームキャリ
ア1が削れやすく、微小な切粉がシリコンウエハに付着
することがあった。The conventional moving device shown in FIG. 5 has a problem that the wafer frame 3 cannot be taken out in parallel with the groove 2 of the frame carrier 1. That is, since the distance between the upper and lower wafer frames 3 is relatively small, the dimensions of the upper and lower claws 6a and 6b of the gripper 7 are also restricted, and the gripper 7
Cannot be inserted deeply into the frame carrier 1,
The gripper 7 grips only the front edge of the wafer frame 3 viewed in the moving direction (arrow a). Since the wafer frame 3 is made of stainless steel and is quite heavy, if only the front edge of the wafer frame 3 is gripped, the wafer frame 3
The rear part of the hangs. It is difficult to insert the gripper 7 deep into the frame carrier 1. In this way, when the wafer frame 3 is pulled out in an inclined state as shown in FIG. 5, the rear portion of the wafer frame 3 rubs against the bottom of the groove 2 of the frame carrier 1, and dust is generated. Was the cause. In particular, when the wafer frame 3 is made of stainless steel and the frame carrier 1 is made of aluminum, the frame carrier 1 is easily shaved, and fine chips may adhere to the silicon wafer.
本発明の目的はウエハ用フレームを所定の姿勢で移動
可能にして塵埃の発生をなくすようにしたウエハ用フレ
ームの移動装置を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an apparatus for moving a wafer frame in which the wafer frame can be moved in a predetermined posture so as to eliminate generation of dust.
本発明によるウエハ用フレームの移動装置は、環状の
板状ウエハ用フレームに貼ったテープに該ウエハ用フレ
ームの環状部内の開口部分においてウエハを取りつける
ようにしたウエハ用フレームの移動装置であって、該ウ
エハ用フレームの環状部の第1の位置の下面に係合する
少なくとも1つの第1の支点部材と、該ウエハ用フレー
ムの環状部の第2の位置の上面に上方から下方に移動可
能に係合する第2の支点部材と、該第1の支点部材及び
該第2の支点部材を支持して移動可能な支持手段を備
え、該第1の位置が該第2の位置よりも内奥側に設けら
れたことを特徴とするものである。An apparatus for moving a wafer frame according to the present invention is a wafer frame moving apparatus that attaches a wafer to a tape attached to an annular plate-shaped wafer frame at an opening in an annular portion of the wafer frame, At least one first fulcrum member engaged with the lower surface of the annular portion of the wafer frame at the first position, and movable from above to below on the upper surface of the annular portion of the wafer frame at the second position. A second fulcrum member engaged with the first fulcrum member and a supporting means movable to support the first fulcrum member and the second fulcrum member, wherein the first position is deeper than the second position. It is characterized by being provided on the side.
上記の構成では、第1の支点部材と第2の支点部材と
がウエハ用フレームの環状部の外縁から内部側へ向かう
線から見て異なった第1の位置及び第2の位置でウエハ
用フレームに係合する。第1の位置及び第2の位置はウ
エハ用フレームの全体から見ると第1の支点部材と第2
の支点部材の挿入方向に対して前縁側に偏った位置にあ
るが、第1の位置は第2の位置よりも内奥側にある。従
って、第1の支点部材が第1の位置でウエハ用フレーム
の下面に係合すると、ウエハ用フレームは第1の位置よ
り前方部分が持ち上げられて後方部分が垂れた姿勢にな
るが、それからさらに第2の支点部材が第1の位置より
も前にある第2の位置でウエハ用フレームの上面に上方
から下方に移動しつつ係合すると、ウエハ用フレームが
第1の支点部材を支点として旋回し、後方部分が持ち上
がって所定の姿勢をとるようになる。これによって、ウ
エハ用フレーム及びそれに取りつけられたウエハは他の
部材に擦ることなく移動されることができる。In the above configuration, the first fulcrum member and the second fulcrum member are different in the first position and the second position when viewed from a line extending from the outer edge to the inner side of the annular portion of the wafer frame. Engages. When viewed from the whole of the wafer frame, the first position and the second position are the first fulcrum member and the second fulcrum member.
Is located at a position deviated to the front edge side with respect to the insertion direction of the fulcrum member, but the first position is located on the inner side of the second position. Accordingly, when the first fulcrum member is engaged with the lower surface of the wafer frame at the first position, the front portion of the wafer frame is lifted from the first position and the rear portion hangs down. When the second fulcrum member is engaged with the upper surface of the wafer frame while moving downward from above at the second position before the first position, the wafer frame pivots about the first fulcrum member as a fulcrum. Then, the rear portion is lifted to take a predetermined posture. As a result, the wafer frame and the wafer attached thereto can be moved without rubbing against other members.
第1図及び第2図は本発明の実施例によるウエハ用フ
レームの移動装置を示し、第3図はウエハ用フレームを
装填するフレームキャリアを示している。1 and 2 show an apparatus for moving a wafer frame according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 shows a frame carrier for loading the wafer frame.
第1図から第3図において、ウエハ用フレーム10は円
形又は丸みのある正方形の形状の環状の板状フレームで
あり、ウエハ用フレーム10の外形形状に相当する粘着テ
ープ12がウエハ用フレーム10に貼られ、その中心部にシ
リコンウエハ14が置かれる。シリコンウエハ14は粘着テ
ープ12の粘着力により固定される。例えば、このシリコ
ンウエハ14をウエハ用フレーム10ごとダイシング工程に
かけることができ、この場合には、切断されたシリコン
チップがばらばらになることなく元の位置で粘着テープ
12に保持される。なお、ウエハ用フレーム10はダイシン
グ工程等において位置決めピン(図示せず)と係合する
基準スリット10a,10bを備えている。1 to 3, a wafer frame 10 is an annular plate frame having a circular or rounded square shape, and an adhesive tape 12 corresponding to the outer shape of the wafer frame 10 is attached to the wafer frame 10. A silicon wafer 14 is placed at the center of the sheet. The silicon wafer 14 is fixed by the adhesive force of the adhesive tape 12. For example, the silicon wafer 14 can be subjected to a dicing process together with the wafer frame 10, and in this case, the adhesive tape is used at the original position without the cut silicon chips being separated.
It is kept at 12. The wafer frame 10 includes reference slits 10a and 10b that engage with positioning pins (not shown) in a dicing process or the like.
第3図において、フレームキャリア16は2個の側板1
8,20を複数のクロスロッド22で連結してなるものであ
る。各側板18,20の内面には複数の平行な溝24が設けら
れ、ウエハ用フレーム10の対向側縁部が両側の溝24に挿
入されるようになっている。ウエハ用フレーム10の大き
さは、直径(或いは一辺)212mm、厚さ1.2mmである。こ
れに対して、各溝24間のピッチは4.76mmであり、フレー
ムキャリア16に支持されたときの上下のウエハ用フレー
ム10間の間隙は3.56mmである。これは、例えばウエハ用
フレーム10を爪によってつかむ場合には爪の厚さが3.56
mm以下(爪の上下運動があればそれよりもかなり小さく
なる)でなければならないことを意味し、爪をフレーム
キャリア16の奥深く挿入することが難しいのでフレーム
キャリア16の前縁部に係合するようにしなければならな
いことを意味する。また、各溝24の断面は略V字形であ
り、底部が水平になっていて、最大開口部となるVの開
口部の幅は3mmである。従って、各溝24内でのウエハ用
フレーム10の最大許容持ち上げ量は1.8mm(Vのせばま
った部位ではさらに小さくなる)である。従って、フレ
ームキャリア16に支持されたウエハ用フレーム10を移動
する場合、ウエハ用フレーム10をつかんで上方にある程
度持ち上げて、それから水平方向に移動することは実質
的に難しい。In FIG. 3, the frame carrier 16 has two side plates 1.
8 and 20 are connected by a plurality of cross rods 22. A plurality of parallel grooves 24 are provided on the inner surface of each of the side plates 18 and 20, and the opposing side edges of the wafer frame 10 are inserted into the grooves 24 on both sides. The size of the wafer frame 10 is 212 mm in diameter (or one side) and 1.2 mm in thickness. On the other hand, the pitch between the grooves 24 is 4.76 mm, and the gap between the upper and lower wafer frames 10 when supported by the frame carrier 16 is 3.56 mm. This is because, for example, when the wafer frame 10 is gripped by a nail, the thickness of the nail is 3.56.
mm or less (if the vertical movement of the claw is much smaller than that), it is difficult to insert the claw deep into the frame carrier 16 so that it engages with the front edge of the frame carrier 16 That means you have to. The cross section of each groove 24 is substantially V-shaped, the bottom is horizontal, and the width of the V opening, which is the maximum opening, is 3 mm. Accordingly, the maximum allowable lifting amount of the wafer frame 10 in each groove 24 is 1.8 mm (it becomes even smaller at the portion where V is tightly fitted). Therefore, when moving the wafer frame 10 supported by the frame carrier 16, it is substantially difficult to grasp the wafer frame 10 and lift it upward to some extent, and then move in the horizontal direction.
第1図及び第2図において、本発明によるウエハ用フ
レーム10の移動装置は、フレームキャリア16から任意の
位置のウエハ用フレーム10を取り出すのに適するもので
ある。この移動装置は、サポートアーム30に取りつけら
れたサポートプレート32を有し、サポートアーム30を図
示しないエアシリンダ等の駆動源に連結し、サポートプ
レート32がウエハ用フレーム10とほぼ平行にその環状部
の外縁から内部側(矢印A)へあるいは逆に内部側から
外縁へ移動可能になっている。サポートプレート32はウ
エハ用フレーム10の直径(又は一辺)とほぼ同じ幅を有
している。1 and 2, the apparatus for moving the wafer frame 10 according to the present invention is suitable for taking out the wafer frame 10 at an arbitrary position from the frame carrier 16. This moving device has a support plate 32 attached to a support arm 30, and connects the support arm 30 to a driving source such as an air cylinder (not shown). From the outer edge to the inner side (arrow A) or vice versa. The support plate 32 has a width substantially equal to the diameter (or one side) of the wafer frame 10.
サポートプレート32には3個の支点部材34,36,38が移
動方向Aの方向に向いて取りつけられている。2個の外
側の支点部材34,36はそれぞれサポートプレート32の各
端部近くに配置され、中央の支点部材38はサポートプレ
ート32の中央部に取りつけられている。この移動装置が
第3図のフレームキャリア16からウエハ用フレーム10を
取り出すために使用されるときに、外側の支点部材34,3
6がフレームキャリア16の側板18,20のわずかに内寄りの
位置においてウエハ用フレーム10の環状部の丸みのある
部位に係合し、中央の支点部材38がウエハ用フレーム10
の環状部の正面中央部に係合するようになっている。外
側の支点部材34,36は中央の支点部材38よりも長くなっ
ており、外側の支点部材34,36は中央の支点部材38より
も内奥側の位置においてウエハ用フレーム10に係合する
ことになる。外側の支点部材34,36がウエハ用フレーム1
0の環状部の丸みのある部位に係合するように構成する
ことにより、外側の支点部材34,36及び中央の支点部材3
8をともに上下のウエハ用フレーム10間に深く挿入する
ことなく且つウエハ用フレーム10の前縁部に係合させる
ことができる。On the support plate 32, three fulcrum members 34, 36, 38 are attached in the direction of movement A. Two outer fulcrum members 34 and 36 are located near each end of the support plate 32, respectively, and a central fulcrum member 38 is attached to the center of the support plate 32. When this moving device is used to remove the wafer frame 10 from the frame carrier 16 in FIG. 3, the outer fulcrum members 34, 3
6 engages with the rounded portion of the annular portion of the wafer frame 10 at a position slightly inward of the side plates 18 and 20 of the frame carrier 16, and the central fulcrum member 38
To be engaged with the front central portion of the annular portion. The outer fulcrum members 34 and 36 are longer than the central fulcrum member 38, and the outer fulcrum members 34 and 36 are engaged with the wafer frame 10 at a position deeper than the central fulcrum member 38. become. The outer fulcrum members 34 and 36 are the wafer frame 1
The outer fulcrum members 34 and 36 and the central fulcrum member 3 are configured to engage with the rounded portion of the
8 can be engaged with the front edge of the wafer frame 10 without being inserted deeply between the upper and lower wafer frames 10.
さらに、外側の支点部材34,36はウエハ用フレーム10
の下面に係合し、中央の支点部材38はウエハ用フレーム
10の上面に係合するようになっている。サポートプレー
ト32には前後方向に貫通する穴40が設けられており、こ
の中央の支点部材38は穴40を通して配置され、その後方
部において、サポートプレート32に固定された固定部32
aに枢着ピン42によって旋回可能に連結されている。サ
ポートプレート32にはエアシリンダ又はソレノイドアク
チュエータ等の駆動手段44が取りつけられており、この
駆動手段44の作動部分が中央の支点部材38に係合し、通
常は中央の支点部材38をサポートプレート32に対して小
さな角度をなす上昇位置に保持し、ウエハ用フレーム10
をつかむときに中央の支点部材38を上方から下方に所定
のストロークだけ移動させるようになっている。Further, the outer fulcrum members 34 and 36 are
And the center fulcrum member 38 is attached to the wafer frame.
It is designed to engage with the upper surface of 10. The support plate 32 is provided with a hole 40 penetrating in the front-rear direction. The central fulcrum member 38 is disposed through the hole 40, and a fixing portion 32 fixed to the support plate 32 is provided at a rear portion thereof.
It is pivotally connected to a by a pivot pin 42. A drive means 44 such as an air cylinder or a solenoid actuator is attached to the support plate 32, and an operating portion of the drive means 44 is engaged with a central fulcrum member 38. Usually, the central fulcrum member 38 is attached to the support plate 32. To a raised position at a small angle to the wafer frame 10
The center fulcrum member 38 is moved downward from above by a predetermined stroke.
さらに、サポートプレート32には中央の支点部材38の
下方の位置にストッパ46が設けられており、ストッパ46
はサポートプレート32と同じ位置でウエハ用フレーム10
の下面に係合するようになっている。なお、外側の支点
部材34,36はそれぞれ丸棒で作られ、長さ方向の位置を
調節可能にサポートプレート32に取りつけられる。外側
の支点部材34,36を丸棒で作ることによって、かなり重
いウエハ用フレーム10を支持するときの強度を与えるよ
うになっている。中央の支点部材38及びストッパ46は板
材で作られる。外側の支点部材34,36を形成する丸棒は
先端部の段面34a,36aから先が上半分を平坦にされ、且
つその下側の表面に先細のテーパーを設けてある。段面
34a,36aはウエハ用フレーム10の環状部の丸みに対応し
て傾斜している。Further, the support plate 32 is provided with a stopper 46 at a position below the center fulcrum member 38.
Is the same position as the support plate 32 and the wafer frame 10
To be engaged with the lower surface of the. The outer fulcrum members 34 and 36 are each made of a round bar, and are attached to the support plate 32 so that the position in the length direction can be adjusted. By forming the outer fulcrum members 34 and 36 with round bars, the strength when supporting the considerably heavy wafer frame 10 is provided. The central fulcrum member 38 and the stopper 46 are made of a plate material. The round bar forming the outer fulcrum members 34, 36 has an upper half that is flattened from the step surfaces 34a, 36a at the tip end, and has a tapered taper on the lower surface. Step surface
34a and 36a are inclined corresponding to the roundness of the annular portion of the wafer frame 10.
次に第4A図から第4C図を参照してこの移動装置が第3
図のフレームキャリア16からウエハ用フレーム10を取り
出す作用について説明する。Next, referring to FIG. 4A to FIG.
The operation of taking out the wafer frame 10 from the frame carrier 16 shown in the figure will be described.
第4A図に示されるように、外側の支点部材34,36及び
中央の支点部材38は矢印Aの方向にフレームキャリア16
に挿入される。第4B図に示されるように、外側の支点部
材34,36がウエハ用フレーム10の下面に係合し且つ中央
の支点部材38がウエハ用フレーム10の上面に係合する位
置(第2図に示される位置)にもたらされる。このと
き、中央の支点部材38は上昇位置にあってウエハ用フレ
ーム10に実質的に当接していず、外側の支点部材34,36
はウエハ用フレーム10の前方部分をわずかに持ち上げ且
つ後方部分は溝24の底部に着いた傾斜状態にする。As shown in FIG. 4A, the outer fulcrum members 34 and 36 and the central fulcrum member 38
Is inserted into. As shown in FIG. 4B, the positions where the outer fulcrum members 34 and 36 engage with the lower surface of the wafer frame 10 and the central fulcrum member 38 engages with the upper surface of the wafer frame 10 (see FIG. 2). Position shown). At this time, the central fulcrum member 38 is in the raised position and does not substantially contact the wafer frame 10, and the outer fulcrum members 34, 36
Raises the front part of the wafer frame 10 slightly and makes the rear part inclined to the bottom of the groove 24.
第4C図に示されるように、そこで駆動手段44を作動さ
せ、中央の支点部材38を上方から下方に所定のストロー
クだけ移動させる。すると中央の支点部材38はウエハ用
フレーム10の上面に上方から下方に移動しつつ係合し、
ウエハ用フレーム10が外側の支点部材34,36を支点とし
て旋回し、後方部分が持ち上がって溝24と平行な所定の
姿勢をとるようになる。そこで外側の支点部材34,36及
び中央の支点部材38を矢印Aとは反対の方向に移動し
て、ウエハ用フレーム10をフレームキャリア16から取り
出し、所望の位置へ運ぶことができる。よってウエハ用
フレーム10及びそれに取りつけられたシリコンウエハ14
は実質的に溝24に擦ることなく移動されることができ、
また、フレームキャリア16のあらゆるウエハ用フレーム
10を任意に取り出すことができる。また、中央の支点部
材38と対向するストッパ46が設けられていると、ウエハ
用フレーム10を中央の支点部材38とストッパ46との間に
挟持し、ウエハ用フレーム10が所定の姿勢をとった状態
を確実に維持しつつ移動できるようになる。As shown in FIG. 4C, the driving means 44 is actuated to move the central fulcrum member 38 from above to below by a predetermined stroke. Then, the central fulcrum member 38 is engaged with the upper surface of the wafer frame 10 while moving downward from above,
The wafer frame 10 turns around the outer fulcrum members 34 and 36 as a fulcrum, and the rear portion is lifted to take a predetermined posture parallel to the groove 24. Then, the outer fulcrum members 34 and 36 and the central fulcrum member 38 can be moved in the direction opposite to the arrow A to take out the wafer frame 10 from the frame carrier 16 and carry it to a desired position. Therefore, the wafer frame 10 and the silicon wafer 14 attached thereto
Can be moved without substantially rubbing the groove 24,
In addition, any wafer frame of the frame carrier 16
10 can be taken out arbitrarily. When the stopper 46 facing the center fulcrum member 38 is provided, the wafer frame 10 is sandwiched between the center fulcrum member 38 and the stopper 46, and the wafer frame 10 takes a predetermined posture. It is possible to move while reliably maintaining the state.
以上説明したように、本発明によれば、ウエハ用フレ
ームの環状部の第1の位置の下面に係合する少なくとも
1つの第1の支点部材と、ウエハ用フレームの環状部の
第2の位置の上面に上方から下方に移動可能に係合する
第2の支点部材と、該第1の支点部材及び該第2の支点
部材を支持して移動可能な支持手段とを備え、該第1の
位置が該第2の位置よりも内奥側に設けられた構成とし
たので、ウエハ用フレームを第1の支点部材を支点とし
て旋回し、後方部分が持ち上がって所定の姿勢をとるよ
うにして支持することができ、よって他の部材に擦るこ
となく移動されることができる。As described above, according to the present invention, at least one first fulcrum member engaged with the lower surface of the first position of the annular portion of the wafer frame, and the second position of the annular portion of the wafer frame. A second fulcrum member movably engaged with the upper surface of the first fulcrum member from above to below, and support means movable to support the first fulcrum member and the second fulcrum member. Since the position is provided on the inner side with respect to the second position, the wafer frame is pivoted with the first fulcrum member as a fulcrum, and the rear portion is lifted to take a predetermined posture. And thus can be moved without rubbing against other members.
第1図は本発明の実施例の移動装置及びウエハ用フレー
ムを示す斜視図、第2図は移動装置でウエハ用フレーム
をつかんだ位置を示す第1図と同様の斜視図、第3図は
フレームキャリアを示す斜視図、第4A図から第4C図は第
1図の装置の作動を説明する説明図、第5図は従来の移
動装置を示す図、第6図は従来の他の移動装置を示す図
である。 10……ウエハ用フレーム、12……テープ、 14……シリコンウエハ、16……フレームキャリア、 24……溝、32……サポートプレート、 34,36……外側の支点部材、 38……中央の支点部材、44……駆動手段、 46……ストッパ。FIG. 1 is a perspective view showing a moving device and a wafer frame according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view similar to FIG. 1 showing a position where the wafer frame is gripped by the moving device, and FIG. FIGS. 4A to 4C are perspective views showing a frame carrier, FIGS. 4A to 4C are explanatory views for explaining the operation of the apparatus shown in FIG. 1, FIG. 5 is a view showing a conventional moving apparatus, and FIG. FIG. 10 ... wafer frame, 12 ... tape, 14 ... silicon wafer, 16 ... frame carrier, 24 ... groove, 32 ... support plate, 34, 36 ... outer fulcrum member, 38 ... center A fulcrum member, 44 ... driving means, 46 ... stopper.
Claims (4)
たテープ(12)に該ウエハ用フレームの環状部内の開口
部分においてウエハ(14)を取りつけるようにしたウエ
ハ用フレームの移動装置であって、該ウエハ用フレーム
の環状部の第1の位置の下面に係合する少なくとも1つ
の第1の支点部材(34,36)と、該ウエハ用フレームの
環状部の第2の位置の上面に上方から下方に移動可能に
係合する第2の支点部材(38)と、該第1の支点部材及
び該第2の支点部材を支持して移動可能な支持手段(3
2)とを備え、該第1の位置が該第2の位置よりも内奥
側に設けられたウエハ用フレームの移動装置。An apparatus for moving a wafer frame, wherein a wafer (14) is attached to a tape (12) attached to an annular plate-like wafer frame (10) at an opening in an annular portion of the wafer frame. And at least one first fulcrum member (34, 36) engaging with a lower surface of the annular portion of the wafer frame at a first position, and an upper surface of the annular portion of the wafer frame at a second position. A second fulcrum member (38) movably engaged with the first fulcrum member and the second fulcrum member from above to below;
2) The apparatus for moving a wafer frame, wherein the first position is provided on the inner side of the second position.
行に該ウエハ用フレームの環状部の外縁から内部側へあ
るいは内部側から外縁へ移動可能に設けられている請求
項1に記載のウエハ用フレームの移動装置。2. The wafer according to claim 1, wherein said supporting means is provided so as to be movable from an outer edge of said annular portion of said wafer frame to an inner side or from the inner side to an outer edge substantially in parallel with said wafer frame. Frame moving device.
じ幅を有し、該第2の支点部材が該支持手段の中央部に
取りつけられ、該少なくとも1つの第1の支点部材がそ
れぞれ該支持手段の各端部近くに配置された2個の第1
の支点部材からなり、該2個の第1の支点部材が該第2
の支点部材よりも先に延びた位置にある請求項2に記載
のウエハ用フレームの移動装置。3. The support means has substantially the same width as the wafer frame, the second fulcrum member is mounted at a central portion of the support means, and the at least one first fulcrum member is respectively mounted on the support means. Two first ones located near each end of the support means
And the two first fulcrum members are the second fulcrum members.
The wafer frame moving device according to claim 2, wherein the wafer frame moving device is located at a position extending beyond the fulcrum member.
を該第2の支点部材に対向して支持する第3の支点部材
を、該支持手段に設けた請求項1に記載のウエハ用フレ
ームの移動装置。4. The wafer according to claim 1, wherein a third fulcrum member for supporting the lower surface of the wafer frame at the second position in opposition to the second fulcrum member is provided on the support means. Frame moving device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13384690A JP2825101B2 (en) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | Wafer frame moving device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13384690A JP2825101B2 (en) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | Wafer frame moving device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0429351A JPH0429351A (en) | 1992-01-31 |
| JP2825101B2 true JP2825101B2 (en) | 1998-11-18 |
Family
ID=15114404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13384690A Expired - Lifetime JP2825101B2 (en) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | Wafer frame moving device |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP2825101B2 (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1990
- 1990-05-25 JP JP13384690A patent/JP2825101B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0429351A (en) | 1992-01-31 |
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