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JP2853007B2 - Laser processing method of work and its device - Google Patents
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JP2853007B2 - Laser processing method of work and its device - Google Patents

Laser processing method of work and its device

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JP2853007B2
JP2853007B2 JP6083885A JP8388594A JP2853007B2 JP 2853007 B2 JP2853007 B2 JP 2853007B2 JP 6083885 A JP6083885 A JP 6083885A JP 8388594 A JP8388594 A JP 8388594A JP 2853007 B2 JP2853007 B2 JP 2853007B2
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laser processing
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ワークのレーザ加工位
置と加工度を加工の都度確認してレーザ加工を行う事が
出来るワークのレーザ加工方法とその装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for laser processing a work capable of performing laser processing by confirming the position and degree of laser processing of the work each time the processing is performed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来からワークの溶接や、ワーク表面に
文字刻印を行う方法として、レーザ加工が多用されてい
る。従来のレーザ加工はワークの加工位置にレーザ光の
焦点を合致させ、加工位置にレーザ光を照射してレーザ
切断加工、又はレーザ溶接加工、又はレーザ刻印加工そ
の他各種加工を行い、加工が完了すると加工状態を確認
する事なく、次の加工位置に移動して加工を行うという
方法をとっていた。それ故、ワークに加工位置が複数箇
所設定されている場合、一か所でも加工不良があるとワ
ーク全体が不良品となり製品の歩留まりを低下させる原
因となっていた。最近のワークは単純な部材でなく加工
度の高い複雑な構造のものが非常に多いために一か所の
溶接又は刻印不良のためにその製品全体が不良品となる
という事は製品全体のコストに大きな影響を与える事に
なり、歩留まり向上のためには、より高い加工精度が要
求されていた。また、ワークのレーザ加工による溶接を
行う場合、溶接部分の接触をとっておくこと肝要であ
る。即ち、溶接部分のワークの接触を取らずにレーザ加
工を行うと、レーザ光が入光する方のワークにエネルギ
が奪われ、反対側のワークにエネルギが入力されず、溶
接されずに逆にワークに孔が明くという現象が生じるこ
とになり、ワークを不良にするという問題もある。
2. Description of the Related Art Conventionally, laser processing has been frequently used as a method of welding a work or engraving a character on a work surface. Conventional laser processing focuses the laser light on the processing position of the workpiece, irradiates the processing position with laser light, performs laser cutting, laser welding, or laser engraving, and other various processing. The method of moving to the next processing position and performing processing without confirming the processing state has been adopted. Therefore, when a plurality of processing positions are set on a work, if there is any processing failure even at one position, the entire work becomes a defective product, which causes a reduction in product yield. Most of the recent work is not a simple member but a complex structure with a high degree of processing.Therefore, the whole product becomes defective due to poor welding or engraving at one place. In this case, higher processing accuracy was required to improve the yield. Also, when performing welding by laser processing of a workpiece, it is important to keep the welded portions in contact. In other words, if laser processing is performed without contacting the work of the welded part, energy is deprived to the work to which the laser beam enters, and energy is not input to the work on the opposite side, and conversely without welding. A phenomenon occurs in which a hole is formed in the work, and there is also a problem that the work is made defective.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の解決課題は、
レーザ加工による切断状態や溶接状態又は刻印状態を
加工後に改めてチェックし、加工不良の場合には再度レ
ーザ加工を行う事によって加工ミスをなくし製品の歩留
まり向上を図る事にあり、レーザ加工に先立ってワー
クの接触状態をチェックし、レーザ加工ミスそのものを
未然に防止するという点にある。
The problem to be solved by the present invention is as follows.
The cutting state, welding state or engraved state by laser processing is checked again after processing, and if processing is defective, laser processing is performed again to eliminate processing errors and improve product yield, and prior to laser processing The point is to check the contact state of the work and prevent the laser processing error itself.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
のワークのレーザ加工方法は、 パターン認識装置(1)にて、ワーク(2)のパターンを認
識し、 ワーク(2)のパターン上の基準位置(O)からの加工位置
(P)を演算し、 加工位置(P)とレーザ照射位置(R)とが一致するように
ワーク(2)又はレーザ照射装置(3)を移動させ、 レーザ照射位置(R)と加工位置(P)とが合致した処でレ
ーザ光(4)をワーク(2)の加工位置(P)に照射してワーク
(2)のレーザ加工を行い、 続いてパターン認識装置(1)にて前記レーザ加工位置
(P)のパターンを認識して予め制御装置(5)に入力されて
いる標準レーザ加工パターンと比較し、 パターン認識装置(1)にて制御装置(5)に取り込んだレ
ーザ加工パターンと標準レーザ加工パターンとを比較し
て、レーザ加工パターンが基準以内に収まっている場合
にはその位置のレーザ加工を完了して次のレーザ加工位
置に移動し、逆に取り込んだレーザ加工パターンが標準
レーザ加工パターンと比較して基準より外れている場合
には、基準レーザ加工パターンと比較して基準内に収ま
るまで再度レーザ光(4)を照射して再加工を行う事を特
徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a laser processing method for a work, wherein a pattern of a work (2) is recognized by a pattern recognition device (1). Processing position from upper reference position (O)
(P) is calculated, and the work (2) or the laser irradiation device (3) is moved so that the processing position (P) matches the laser irradiation position (R). (P) is matched with the laser beam (4) at the processing position (P) of the work (2).
The laser processing of (2) is performed, and then the laser processing position is determined by the pattern recognition device (1).
Recognize the pattern of (P), compare it with the standard laser processing pattern previously input to the control device (5), and use the pattern recognition device (1) to capture the laser processing pattern captured by the control device (5) and the standard laser processing pattern. Compare the processing pattern with the laser processing pattern and if the laser processing pattern is within the standard, complete the laser processing at that position, move to the next laser processing position, and reverse the captured laser processing pattern to the standard laser processing pattern. If the pattern is out of the reference as compared with the pattern, the laser beam (4) is irradiated again until the value falls within the reference as compared with the reference laser processing pattern, and reprocessing is performed.

【0005】ワーク(2)をセットし、パターン認識装置
(1)を作動させてワーク(2)の表面パターンを認識させ、
その画像をデジタル信号化して制御装置(5)に取り込
む。制御装置(5)では、基準位置(O)に対する加工位置
(P)をX−Y座標(勿論、極座標でも可能)で決定し、
何らかの移動手段(10)を作動させてワーク(2)又はレー
ザ照射装置(3)を移動させ、レーザ照射位置(R)と加工位
置(P)とを一致させる。
A work (2) is set, and a pattern recognition device is set.
Operate (1) to recognize the surface pattern of work (2),
The image is converted into a digital signal and taken into the control device (5). In the control device (5), the machining position with respect to the reference position (O)
(P) is determined by XY coordinates (of course, polar coordinates are also possible),
The work (2) or the laser irradiation device (3) is moved by activating some moving means (10) so that the laser irradiation position (R) matches the processing position (P).

【0006】レーザ照射位置(R)が加工位置(P)に一致し
た所で、レーザ発生装置(6)を作動させレーザ光(4)を照
射して正確に加工位置(P)を加熱して溶接、穿孔乃至刻
印など所定の加工を行う。レーザ光(4)による加工が完
了すると、再度パターン認識装置(1)を作動させ、ワー
ク(2)の加工位置(P)の画像と既に制御装置(5)に入力さ
れている基準レーザ加工パターンと比較し、認識された
レーザ加工パターンが前記基準レーザ加工パターンに対
してほぼ許容範囲内で一致するかどうかを判定する。許
容範囲内であれば、加工完了となり、次の加工位置に移
動手段(10)を作動させて移動し、逆に許容範囲外であれ
ば、再度レーザ発生装置(6)を作動させてレーザ再加工
行う。これにより、再加工が完全に基準内になるまでレ
ーザ加工を繰り返す事になり、加工不良の発生が未然に
防がれ、高い歩留まり率を得る事が出来るようになる。
When the laser irradiation position (R) coincides with the processing position (P), the laser generator (6) is operated to irradiate the laser beam (4) to accurately heat the processing position (P). A predetermined process such as welding, drilling or engraving is performed. When the processing by the laser beam (4) is completed, the pattern recognition device (1) is operated again, and the image of the processing position (P) of the work (2) and the reference laser processing pattern already input to the control device (5). Then, it is determined whether or not the recognized laser processing pattern substantially matches the reference laser processing pattern within an allowable range. If it is within the allowable range, the processing is completed, and the moving means (10) is operated to move to the next processing position, and if it is out of the allowable range, the laser generator (6) is operated again to restart the laser. Perform processing. As a result, the laser processing is repeated until the reprocessing completely falls within the standard, and the occurrence of processing failure is prevented beforehand, and a high yield rate can be obtained.

【0007】本発明の請求項2は『レーザ再加工を行う
場合、制御装置(5)から指令によりレーザ発生装置(6)の
電源(7)にレーザ光(4)の出力調整を行わせる』事を特徴
とする。これにより、画像に合わせた出力が得られ、再
加工精度が向上し、再々加工を繰り返す事を防ぐ事がで
きるものである。
According to a second aspect of the present invention, "in the case of performing laser re-working, the power supply (7) of the laser generator (6) adjusts the output of the laser beam (4) according to a command from the controller (5)". It is characterized by things. As a result, an output suitable for the image is obtained, the re-processing accuracy is improved, and re-re-processing is prevented from being repeated.

【0008】本発明の請求項3は『再加工を行う場合、
前回の加工位置(P)からレーザ照射位置(R)をずらし、新
たなレーザ加工位置(P1)にてレーザ再加工を行う』事を
特徴とする。これにより、常に新しい位置で再加工が可
能となり、パターンの比較がより正確に行えるようにな
り、再加工の良否判断をより的確に行うことができるよ
うになる。
[0008] Claim 3 of the present invention states, "When performing rework,
The laser irradiation position (R) is shifted from the previous processing position (P), and laser reprocessing is performed at a new laser processing position (P1). " As a result, rework can always be performed at a new position, pattern comparison can be performed more accurately, and quality of rework can be more accurately determined.

【0009】請求項4は、ワーク(2)が導電性のもので
ある場合のワーク(2)のレーザ溶接加工方法で、『レー
ザ加工に先立って、重ね合わされた一対の導電性ワーク
(2)(2)の導通テストを行い、導通テストの結果両者(2)
(2)間に導通が取れていれば、レーザ加工を行う』事を
特徴とする。これにより、導電性ワーク(2)(2)間に間隙
の有無を予めチェックする事が出来、その結果、間隙が
ある場合にはレーザ加工を中止して不用意なレーザ加工
によってワーク(2)に損傷が発生する事を未然に防止す
ることが出来る。
A fourth aspect of the present invention is a laser welding method for a workpiece (2) when the workpiece (2) is conductive.
(2) Conduct the continuity test of (2), and as a result of the continuity test both (2)
(2) Perform laser processing if conduction is established between them. " This makes it possible to check in advance whether there is a gap between the conductive works (2) and (2) .As a result, when there is a gap, the laser processing is stopped and the work (2) is inadvertently laser-processed. It is possible to prevent the occurrence of damage to the vehicle.

【0010】本発明の請求項4は、前記方法を実施する
ための具体的装置で、 レーザ発生装置(6)と、 レーザ発生装置(6)で発生したレーザ光(4)をワーク
(2)の加工位置(P)に照射するレーザ照射装置(3)と、 レーザ発生装置(6)とレーザ照射装置(3)とを結ぶレー
ザトランスファ部材(8)と、 ワーク(2)を載置するワークテーブル(9)と、ワークテ
ーブル(9)又はレーザ照射装置(3)のいずれかを移動させ
る移動手段(10)と、 ワーク(2)のパターン認識用のパターン認識装置(1)
と、 ワーク(2)のレーザ加工前にあってはパターン認識装
置(1)を通して認識されたワーク(2)のパターンを処理し
て基準位置(0)から加工位置(P)迄の距離を演算し、移動
手段(10)を介してレーザ照射位置(R)とワーク加工位置
(P)とを一致させ、続いてレーザ光(4)をレーザ加工位置
(P)に照射してワーク(2)のレーザ加工を行わせ、レーザ
加工が終了すると再度パターン認識装置(1)にてレーザ
加工部分の加工パターンを認識して予め入力されている
標準レーザ加工パターンと比較し、基準内であればその
位置での加工を終了し、逆に基準外であれば再度レーザ
加工を行わせる制御装置(5)とで構成されている事を特
徴とするもので、これにより、本発明方法を実施する事
ができる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a concrete apparatus for carrying out the method, comprising: a laser generator (6); and a laser beam (4) generated by the laser generator (6).
A laser irradiation device (3) for irradiating the processing position (P) of (2), a laser transfer member (8) connecting the laser generator (6) and the laser irradiation device (3), and a work (2) are mounted. A work table (9) to be placed, a moving means (10) for moving either the work table (9) or the laser irradiation device (3), and a pattern recognition device (1) for pattern recognition of the work (2).
Before the laser processing of the work (2), the pattern of the work (2) recognized through the pattern recognition device (1) is processed to calculate the distance from the reference position (0) to the processing position (P). And the laser irradiation position (R) and the work processing position via the moving means (10).
(P) and the laser beam (4)
Irradiate (P) to perform laser processing of the work (2), and when the laser processing is completed, the pattern recognition device (1) recognizes the processing pattern of the laser processing part again and inputs the standard laser processing that has been input in advance. It is characterized by comprising a control device (5) that compares the pattern and terminates the processing at that position if it is within the reference, and conversely performs laser processing again if it is outside the reference. Thus, the method of the present invention can be carried out.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明を図示実施例に従って説明す
る。図1は本発明に係るレーザ加工装置(A)のブロック
回路図で、レーザ発生装置(6)はヤグロッド(YAGロ
ッド)(11)と、その両側に設置されたシャッタ(12)(13)
と、YAGロッド(11)に光りを投入する励起ランプ(14)
と、励起ランプ(14)を印加する電源(7)と、励起ランプ
(14)とYAGロッド(11)とを収納するハウジング(15)を
冷却するクーラ(16)と、光軸合わせ用のHe-Neレーザ(1
7)と、He-Neレーザ(17)から照射された光りの進行方向
を変える反射ミラー(18)と、反射ミラー(18)と図中左側
のシャッタ(12)との間に設置された全反射ミラー(19)
と、シャッタ(13)の前方に配置された出力ミラー(20)と
で構成されている。レーザ光(4)は、例えば、連続発
振、パルス発振、Qスイッチパルス発振、シングルモー
ドなどの手法により出力される。また、光学系(24)は、
例えば、シングルレンズ、ダブルレットレンズ、トリプ
ルレットレンズ、平凸レンズ、シリンドリカルレンズな
ど適宜なものが使用される。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. FIG. 1 is a block circuit diagram of a laser processing apparatus (A) according to the present invention. A laser generator (6) includes a yag rod (YAG rod) (11) and shutters (12) and (13) installed on both sides thereof.
And an excitation lamp (14) for applying light to the YAG rod (11)
And a power supply (7) for applying an excitation lamp (14), and an excitation lamp
A cooler (16) for cooling a housing (15) containing the (14) and the YAG rod (11), and a He-Ne laser (1
7), a reflecting mirror (18) for changing the traveling direction of the light emitted from the He-Ne laser (17), and all the mirrors installed between the reflecting mirror (18) and the shutter (12) on the left side in the figure. Reflection mirror (19)
And an output mirror (20) arranged in front of the shutter (13). The laser light (4) is output by a method such as continuous oscillation, pulse oscillation, Q-switch pulse oscillation, and single mode. Also, the optical system (24)
For example, an appropriate lens such as a single lens, a doublelet lens, a triplelet lens, a plano-convex lens, and a cylindrical lens is used.

【0012】パターン認識装置(1)は、例えばCCDカ
メラのようにワーク(2)の表面の画像を解析してデジタ
ル電気信号に変え、制御装置(5)内のCPU(27)に接続
されており、パターン認識装置(1)で取り込んだワーク
(2)のパターンをデジタル電気信号に変えCPU(27)に
送り込むようになっている。また、(21)はワーク照明用
の光源で、光ファイバーケーブル(22)を介してカプラ(2
5)に隣接して配置されている入光端子(23)にてレーザ照
射装置(3)に入光するようになっており、この入光した
光は、透過型全反射ミラー(26)を介して光学系(24)を通
過し、ワーク(2)上を照射するようになっている。
The pattern recognition device (1) analyzes an image on the surface of the work (2) like a CCD camera and converts it into a digital electric signal, and is connected to the CPU (27) in the control device (5). Work captured by the pattern recognition device (1)
The pattern (2) is converted into a digital electric signal and sent to the CPU (27). Reference numeral (21) denotes a light source for illuminating a work, and a coupler (2) is connected via an optical fiber cable (22).
The light input terminal (23) disposed adjacent to the light input terminal (5) is adapted to enter the laser irradiation device (3), and the incident light is transmitted through the transmission type total reflection mirror (26). The light passes through the optical system (24) through the light source and irradiates the work (2).

【0013】レーザ照射装置(3)は、前述のように凸レ
ンズその他各種レンズ系を組み合わせた光学系(24)で構
成されており、カプラ(25)を介してレーザ発生装置(6)
とレーザ照射装置(3)とがレーザトランスファ部材(8)で
接続され、レーザ光(4)がレーザ照射装置(3)に入力する
ようになっている。本実施例では、このレーザ照射装置
(3)とパターン認識装置(1)とは一体型になっており、本
実施例では後述する移動手段(10)に設置されているもの
である。
The laser irradiation device (3) is composed of an optical system (24) combining a convex lens and other various lens systems as described above, and is provided with a laser generator (6) via a coupler (25).
And the laser irradiation device (3) are connected by a laser transfer member (8), and the laser light (4) is input to the laser irradiation device (3). In this embodiment, the laser irradiation device
(3) and the pattern recognition device (1) are integrated, and in this embodiment, are installed on a moving means (10) described later.

【0014】(26)は、レーザ照射装置(3)の光学系(24)
内に組込まれた透過型の全反射型ミラーで、カプラ(25)
からレーザ照射装置(3)内に入力したレーザ光(4)並びに
照明用光、光軸合わせ用のレーザ光を全反射するように
なっており、更にパターン認識装置(1)へ入力する光の
光軸とが一致している。従って、レーザ光(4)のレーザ
照射位置(R)をパターン認識装置(1)が正確に捕らえれ
ば、その位置は加工位置(P)であり、そのポイントにレ
ーザ光(4)を集中させる事ができる。
(26) The optical system (24) of the laser irradiation device (3)
This is a transmission-type total reflection mirror built in the coupler (25).
The laser light (4) input into the laser irradiation device (3), the illumination light, and the laser light for optical axis alignment are totally reflected from the laser irradiation device (3), and the light input to the pattern recognition device (1) is further reflected. The optical axis matches. Therefore, if the pattern recognition device (1) accurately captures the laser irradiation position (R) of the laser light (4), that position is the processing position (P), and the laser light (4) is concentrated at that point. Can do things.

【0015】移動手段(10)は例えばXYテーブルのよう
なもので、ワーク(2)が例えばベルトコンベアのような
搬送装置上に乗せられて、間欠移動するような場合には
パターン認識装置(1)とレーザ照射装置(3)が移動手段(1
0)に設置され、XY方向(XYZ方向でも可)に動くよ
うになっている。逆に、ワーク(2)が前述のような搬送
ベルトに設置されず、バッチ式に手でワークテーブル
(9)に設置されるような場合には、ワークテーブル(9)を
前記移動手段(10)上に設置するようにしても良い。可動
範囲並びにピッチは限定されないが、半導体パターンや
電子部品の加工を行う場合は、例えば2〜5mm程度の
比較的小さいものである。
The moving means (10) is, for example, an XY table. When the work (2) is placed on a transfer device such as a belt conveyor and moves intermittently, the pattern recognition device (1) is used. ) And the laser irradiation device (3)
0), and moves in the XY directions (XYZ directions are also possible). Conversely, the work (2) is not set on the conveyor belt as described above,
In the case where the work table (9) is installed, the work table (9) may be installed on the moving means (10). Although the movable range and the pitch are not limited, when processing a semiconductor pattern or an electronic component, it is relatively small, for example, about 2 to 5 mm.

【0016】制御装置(5)はCPU(27)、ROM(28)、
RAM(29)、駆動装置(30)、CRT(31)及びキーボード
(32)で構成されており、ROM(28)にはレーザ加工装置
(A)の加工手順が全てプログラミングされている。RA
M(29)にはパターン認識装置(1)から取り込んだワーク
(2)の信号が記憶されるようになっている。駆動装置(3
0)は移動手段(10)の制御用のものでCPU(27)に接続さ
れ、CPU(27)の指令の元に移動手段(10)を移動させる
ようになっている。CRT(31)はパターン認識装置(1)
で取り込んだワーク(2)のパターンを映し出すためのも
のである。キーボード(32)はCPU(27)の条件設定をオ
ペレーターが手で入力するためのものである。
The control device (5) includes a CPU (27), a ROM (28),
RAM (29), drive (30), CRT (31) and keyboard
(32), and the ROM (28) has a laser processing device
All of the processing procedures in (A) are programmed. RA
Work taken in from M1 (29)
The signal of (2) is stored. Drive (3
Numeral 0) is for controlling the moving means (10), is connected to the CPU (27), and moves the moving means (10) under the command of the CPU (27). CRT (31) is a pattern recognition device (1)
This is for displaying the pattern of the work (2) captured by. The keyboard (32) is for the operator to manually input the condition settings of the CPU (27).

【0017】ワーク(2)に刻印を施すような場合には、
単に加工位置(P)にレーザ光(4)を照射すればよいが、溶
接を行う場合には重ね合わされ加工位置(P)が互いに接
触していてワーク(2)(2)間に間隙がないことが重要であ
る。もし、ワーク(2)(2)間に間隙がある場合には、前述
のようにレーザ光(4)が入光する方のワーク(2)にエネル
ギが奪われ、反対側のワーク(2)にエネルギが入力され
ず、溶接されずに逆に入光側のワーク(2)に孔が明くと
いう現象が生じることになり、ワーク(2)を不良にす
る。
When engraving the work (2),
It is sufficient to simply irradiate the processing position (P) with the laser beam (4), but when performing welding, the processing positions (P) are overlapped and the processing positions (P) are in contact with each other and there is no gap between the workpieces (2) and (2) This is very important. If there is a gap between the works (2) and (2), as described above, the work (2) to which the laser beam (4) enters receives energy, and the work (2) on the opposite side No energy is input to the work, and a phenomenon that a hole is made in the work (2) on the light incident side without welding is caused, thereby making the work (2) defective.

【0018】そこで、一対のワーク(2)(2)が金属又は半
導体のような導通体の場合には、図3に示すように、ワ
ーク(2)(2)に触針のような導通手段(34)を接触させ、加
工位置(P)での両者(2)(2)の導通をレーザ加工に先立っ
てチェックし、制御装置(5)にデータとして取り込んで
おく。導通状態が許容範囲内であれば、レーザ加工を開
始することになるが、そうでなければレーザ加工を行わ
ず作業者に通報する。また、導通テストを行うに当たっ
て、ワーク(2)(2)を押圧手段(33)によって加圧し、強制
的に導通を取るようにしてもよい。導通性の悪いものに
あっては、単に押圧手段(33)により強制的にワーク(2)
(2)を接触させ、レーザ加工を開始するようにしてもよ
い。
Therefore, when the pair of works (2) and (2) are conductive bodies such as metal or semiconductor, as shown in FIG. 3, the works (2) and (2) are connected to conductive means such as stylus. (34) is brought into contact, the continuity between the two (2) and (2) at the processing position (P) is checked prior to laser processing, and the data is taken into the control device (5) as data. If the conduction state is within the allowable range, the laser processing is started, but if not, the operator is notified without performing the laser processing. In conducting the continuity test, the workpieces (2) and (2) may be pressurized by the pressing means (33) to forcibly establish continuity. For objects with poor conductivity, simply press the work (2)
(2) may be contacted to start laser processing.

【0019】次に本発明の作用について説明する。ワー
ク(2)をワークテーブル(9)上にセットし、ワーク(2)が
導通性可能なものであれば、導通テストを行い、導通が
取れている事を確認した後にパターン認識装置(1)を作
動させる。これによりワーク(2)の表面のパターンはパ
ターン認識装置(1)によって認識され、その画像がデジ
タル信号化されてCPU(27)に送り出される。この電気
信号はCPU(27)を介してCRT(31)に送られて、例え
ば図5に示すような回路パターンがCRT(31)に映し出
される。なお、パターン認識装置(1)は透過性全反射ミ
ラー(26)を透過し、光学系(24)を通してワーク(2)のパ
ターンが描かれている表面を観察している。
Next, the operation of the present invention will be described. Set the work (2) on the work table (9), and if the work (2) is conductive, conduct a continuity test to confirm that the continuity is established, and then check the pattern recognition device (1) Activate Thus, the pattern on the surface of the work (2) is recognized by the pattern recognition device (1), and the image is converted into a digital signal and sent to the CPU (27). This electric signal is sent to the CRT (31) via the CPU (27), and a circuit pattern as shown in FIG. 5, for example, is displayed on the CRT (31). The pattern recognition device (1) transmits through the transmissive total reflection mirror (26) and observes the surface of the work (2) on which the pattern is drawn through the optical system (24).

【0020】CRT(31)に映し出された図5のワーク
(2)の映像では、基準位置(O)に対するある位置{例えば
加工位置(P)}を決める場合を表しており、基準位置(O)
とこれに対する加工位置(P)がX−Y座標で決定されて
表示されるようになっている。これにより演算された距
離に等しい量だけXYテーブルのような移動手段(10)が
XY方向に移動してワーク(2)又はレーザ照射装置(3)の
位置を移動させてレーザ照射装置(3)のレーザ照射位置
(R)を加工位置(P)に一致させる。本装置の機能は位置決
めのみに限られず、例えば図6のように2点間の距離と
方向を演算したり、図7のように複数箇所の距離計測を
行う事も可能である。
The work shown in FIG. 5 projected on the CRT (31)
In the video of (2), a case where a certain position (for example, a processing position (P)) with respect to the reference position (O) is determined is shown, and the reference position (O)
And the processing position (P) corresponding thereto are determined and displayed on the XY coordinates. The moving means (10) such as an XY table moves in the XY directions by an amount equal to the distance calculated thereby to move the position of the work (2) or the laser irradiating device (3) to thereby irradiate the laser irradiating device (3). Laser irradiation position
(R) is matched with the processing position (P). The function of the present apparatus is not limited to positioning only. For example, it is also possible to calculate the distance and direction between two points as shown in FIG. 6, or to measure the distance at a plurality of points as shown in FIG.

【0021】レーザ照射位置(R)が加工位置(P)に一致し
た所で、レーザ発生装置(6)を作動させレーザ光(4)を照
射する。レーザ光(4)は一方のカプラ(25)、レーザトラ
ンスファ部材(8)から他方のカプラ(25)を通ってレーザ
照射装置(3)内に入り、透過性全反射ミラー(26)で全反
射した後、光学系(24)を通って加工位置(P)に集光さ
れ、正確に加工位置(P)を加熱する。この場合、入力エ
ネルギを適宜調節する事により照射位置を加熱して溶接
したり、切断又は穿孔、刻印をする事ができる。
When the laser irradiation position (R) coincides with the processing position (P), the laser generator (6) is operated to irradiate a laser beam (4). The laser light (4) enters the laser irradiation device (3) from one coupler (25) and the laser transfer member (8) through the other coupler (25), and is totally reflected by the transmissive total reflection mirror (26). After that, the light is condensed at the processing position (P) through the optical system (24) and accurately heats the processing position (P). In this case, by appropriately adjusting the input energy, the irradiation position can be heated and welded, cut, perforated, or stamped.

【0022】レーザ光(4)の照射時間はあらかじめ設定
されており、CPU(27)により制御される。レーザ光
(4)による加工が完了すると、再度パターン認識装置(1)
を作動させ、ワーク(2)の加工位置(P)の情報を採取す
る。図8はレーザ加工されたワーク(2)の加工位置(P)の
位置の画像である。図8に示されるような画像がパター
ン認識装置(1)を通じてCPU(27)に取り込まれ、既に
ROM(28)に入力されている基準レーザ加工パターンと
比較される。認識されたレーザ加工パターンとROM(2
8)にあらかじめ記憶されている基準レーザ加工パターン
とがほぼ許容範囲内で一致する場合には加工完了とな
り、次の加工位置に移動手段(10)を作動させて移動する
事になる。そしてここで前回と同様の加工が行われる。
The irradiation time of the laser beam (4) is set in advance and is controlled by the CPU (27). Laser light
When the processing by (4) is completed, the pattern recognition device (1)
Is operated to collect information on the processing position (P) of the work (2). FIG. 8 is an image of the processing position (P) of the laser-processed work (2). An image as shown in FIG. 8 is taken into the CPU (27) through the pattern recognition device (1), and is compared with the reference laser processing pattern already input to the ROM (28). Recognized laser processing pattern and ROM (2
When the reference laser processing pattern stored in advance in 8) substantially matches within the allowable range, the processing is completed, and the moving means (10) is operated to move to the next processing position. Then, processing similar to the previous processing is performed here.

【0023】逆に、パターン認識装置(1)によって採取
された加工後のレーザ加工パターンが、ROM(28)にあ
らかじめ記憶されている標準レーザ加工パターンと比較
して小さく加工が不十分な場合(逆に、加工が過剰であ
って加工パターンが大きすぎる場合も同様)、採取され
たレーザ加工パターンが前記標準パターンと比較して、
許容範囲外である場合には、再度レーザ発生装置(6)を
作動させてレーザ再加工行う。
Conversely, when the processed laser processing pattern obtained by the pattern recognition device (1) is smaller than the standard laser processing pattern stored in the ROM (28) in advance, and the processing is insufficient ( Conversely, the same applies when the processing is excessive and the processing pattern is too large), and the collected laser processing pattern is compared with the standard pattern,
If it is out of the allowable range, the laser generator (6) is operated again to perform laser rework.

【0024】この場合、前回の加工場所と同一の地点を
再度レーザ加工しても良いが、前回の加工位置(P)から
若干ずらし、加工位置(P)の隣接位置(P1)にレーザ光(4)
を照射しても良い。この時、レーザ光(4)による再加工
を行う場合、標準パターンと採取した加工パターンとを
比較して加工不足(過剰)の度合いをCPU(27)で演算
してその不足量(過剰量)を推定し、電源(7)の出力を
上げ(又は下げ)再加工が適切な加工規模になるように
制御する事も勿論可能である。
In this case, the same point as the previous processing location may be laser-processed again. However, the laser beam (S1) is slightly shifted from the previous processing position (P), and is shifted to the position (P1) adjacent to the processing position (P). Four)
May be irradiated. At this time, in the case of performing re-machining with the laser beam (4), the CPU (27) calculates the degree of insufficient machining (excess) by comparing the standard pattern and the sampled machining pattern, and calculates the insufficient quantity (excess quantity). It is, of course, possible to estimate the power and increase (or decrease) the output of the power supply (7) so as to control the reprocessing to an appropriate processing scale.

【0025】再加工が終了すると再度パターン認識装置
(1)にて再加工部分の加工パターンを採取し、前述と同
様、CPU(27)にてとワーク(2)の加工パターンと基準
パターンとを比較する。再加工が基準内であれば、前述
のように次の位置に移動するのであるが、もし不良であ
れば再加工動作を繰り返し、再加工が完全に基準内にな
るまでレーザ加工を繰り返す事になる。なお繰り返し回
数を規制し、一定以上の繰り返しを行ってもなお基準以
内に入らない場合には、アラームを出し作業者に装置の
点検を促すようにする事も可能である。
When the rework is completed, the pattern recognition device is again
In (1), the processing pattern of the reworked portion is collected, and the processing pattern of the work (2) is compared with the reference pattern in the CPU (27) in the same manner as described above. If the rework is within the standard, it moves to the next position as described above, but if it is defective, repeat the rework operation and repeat the laser processing until the rework is completely within the standard. Become. In addition, it is also possible to regulate the number of repetitions and, if the repetition is not less than the standard even after performing a certain number of repetitions, an alarm is issued to urge the operator to check the device.

【0026】前記実施例ではパターン認識装置(1)とレ
ーザ照射装置(3)を移動手段(10)に設置し、パターン認
識装置(1)とレーザ照射装置(3)をXY方向に移動手段(1
0)にて移動するようになっていたが、逆にレーザ照射装
置(3)とパターン認識装置(1)を固定し、ワーク(2)を載
置しているワークテーブル(9)を移動手段(10)にセット
しワーク(2)側をXY方向に移動させるようにしても良
い事は言うまでもない。前者の場合はワーク(2)の連続
加工ができる点でメリットがある。尚、レーザ加工の設
定条件、その他を変更したい場合には、キーボード(32)
にて必要なデータをCPU(27)に送り込みデータを書き
直すようにすれば良い。
In the above embodiment, the pattern recognizing device (1) and the laser irradiating device (3) are installed on the moving means (10), and the pattern recognizing device (1) and the laser irradiating device (3) are moved in the XY directions by the moving means ( 1
However, the laser irradiation device (3) and the pattern recognition device (1) were fixed, and the work table (9) on which the work (2) was placed was moved by moving means. Needless to say, the work (2) may be moved in the X and Y directions by setting it to (10). The former case has an advantage in that the work (2) can be continuously processed. If you want to change the setting conditions of laser processing, etc., use the keyboard (32)
The necessary data may be sent to the CPU (27) to rewrite the data.

【0027】又、調整においてパターン認識装置(1)と
レーザ発生装置(6)のレーザ光(4)の光軸を一致させてお
く必要があるが、光軸合わせにはHe-Neレーザ(17)が使
用される。即ち、He-Neレーザ(17)から出たレーザ光(4)
は反射ミラー(18)にて反射され、全反射ミラー(19)、シ
ャッタ(12)、YAGロッド(11)、シャッタ(13)、出力ミ
ラー(20)を通って透過性全反射ミラー(26)に反射され、
光学系(24)を通ってワーク(2)の加工位置(P)に達する。
ここでHe-Neレーザ(17)のレーザ光とパターン認識装置
(1)の光軸とが一致しておれば(換言すれば、加工位置
(P)とHe-Neレーザ(17)のレーザ光の照射位置とが一致す
ると)、ヤグロッド(11)のレーザ光(4)の光軸とパター
ン認識装置(1)の光軸とが一致している事になる。
In the adjustment, the optical axes of the laser light (4) of the pattern recognition device (1) and the laser generator (6) need to be matched, but the He-Ne laser (17 ) Is used. That is, the laser light (4) emitted from the He-Ne laser (17)
Is reflected by a reflection mirror (18), passes through a total reflection mirror (19), a shutter (12), a YAG rod (11), a shutter (13), and an output mirror (20), and is a transmissive total reflection mirror (26). Reflected on
It reaches the processing position (P) of the work (2) through the optical system (24).
Here, the laser light of the He-Ne laser (17) and the pattern recognition device
If the optical axis of (1) matches (in other words, the processing position
(P) coincides with the irradiation position of the laser beam of the He-Ne laser (17)), the optical axis of the laser beam (4) of the yag rod (11) matches the optical axis of the pattern recognition device (1). It will be.

【0028】図9はシーム溶接の場合で、図8に示すス
ポット溶接を連続的に微小距離移動させながら、レーザ
加工施して行く場合である。この場合一般的に気密性を
必要とするシーム溶接の場合、ナゲットの重なりは80%
であり、気密性をさほど必要としないシーム溶接の場合
では、ナゲットの重なりは50%程度である。そこでシー
ム溶接時におけるナゲットの重なり基準模様をROM(2
8)に記憶させておき、パターン認識装置(1)にて採取し
たワーク(2)上のシーム溶接のパターンとROM(28)に
予め記憶させたシーム溶接の基準パターンとを比較し、
ナゲットの重なり具合をチェックして両者の重なり具合
がほぼ一致する場合には、当該シーム溶接加工が良好に
行われたと判断する。
FIG. 9 shows the case of seam welding, in which the spot welding shown in FIG. 8 is laser-processed while continuously moving by a very small distance. In this case, in the case of seam welding that generally requires airtightness, the nugget overlap is 80%
In the case of seam welding that does not require much airtightness, the nugget overlap is about 50%. Therefore, the nugget overlap reference pattern during seam welding is stored in ROM (2
8), comparing the seam welding pattern on the work (2) collected by the pattern recognition device (1) with the seam welding reference pattern stored in the ROM (28) in advance,
The degree of overlap of the nuggets is checked, and when the degree of overlap is substantially the same, it is determined that the seam welding has been successfully performed.

【0029】逆に、ナゲットの重なり具合、又はビード
の幅その他各種溶接に必要な条件が備わっているかどう
かを画像比較して、予め設定されている要件が基準内で
あれば前述のように溶接完了であり、基準外であればス
ポット溶接の場合と同様再加工を行う事になる。このよ
うにしてレーザ加工の行われた部分を逐一画像比較を行
い、良好にレーザ加工が行われた事を確認して次の溶接
位置に移動する事になる。それ故溶接不良の発生が未然
に防がれ、高い歩留まり率を得る事が出来る。なお、前
記レーザ加工は、ワーク(2)の加工位置(P)にアシストガ
スを噴射し、アシストガス雰囲気中で行われる。アシス
トガスとしては、例えば活性ガスとしては酸素ガスが使
用され、不活性ガスとしては窒素、アルゴンガスなどが
一般的に使用される。
Conversely, the images are compared to determine whether the nugget overlap condition, bead width, and other conditions necessary for welding are provided. If the predetermined requirements are within the standard, welding is performed as described above. It is completed, and if it is out of the standard, rework will be performed as in the case of spot welding. The laser-processed portion is compared with the image one by one, and it is confirmed that the laser processing has been performed satisfactorily. Then, the portion is moved to the next welding position. Therefore, occurrence of poor welding can be prevented beforehand, and a high yield rate can be obtained. The laser processing is performed in an assist gas atmosphere by injecting an assist gas into a processing position (P) of the work (2). As the assist gas, for example, oxygen gas is used as an active gas, and nitrogen, argon gas or the like is generally used as an inert gas.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明は、上記のようにレーザ加工によ
る切断状態や溶接状態又は刻印状態を加工後に改めてチ
ェックし、加工不良の場合には再度レーザ加工を行うよ
うにしているので、全数加工チェックが行え、加工ミス
による不良発生を著しく減少させる事ができ、製品の歩
留まり向上を図る事ができるという利点がある。また、
レーザ加工に先立って導通テストを行うことにより、レ
ーザ加工による加工ミスを未然に防止する事も可能であ
る。
According to the present invention, as described above, the cutting state, welding state, or engraved state by laser processing is checked again after processing, and if processing is defective, laser processing is performed again. Checks can be performed, and the occurrence of defects due to processing errors can be significantly reduced, and there is an advantage that the yield of products can be improved. Also,
By conducting a continuity test prior to laser processing, it is possible to prevent processing errors due to laser processing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るレーザ加工装置のブロック回路
図。
FIG. 1 is a block circuit diagram of a laser processing apparatus according to the present invention.

【図2】本発明に係るワークのレーザ加工状態を示す概
略斜視図。
FIG. 2 is a schematic perspective view showing a laser processing state of the work according to the present invention.

【図3】本発明に使用されるレーザ照射装置。FIG. 3 is a laser irradiation apparatus used in the present invention.

【図4】図3の側面図。FIG. 4 is a side view of FIG. 3;

【図5】本発明に係るパターン認識装置により認識さ
れ,CRTに映し出されたワークの画像図面。
FIG. 5 is an image drawing of a work recognized by a pattern recognition device according to the present invention and projected on a CRT.

【図6】本発明に係るパターン認識装置により認識さ
れ,CRTに映し出されたワークの他の画像図面。
FIG. 6 is another image drawing of the work recognized by the pattern recognition device according to the present invention and projected on a CRT.

【図7】本発明に係るパターン認識装置により認識さ
れ,CRTに映し出されたワークのその他の画像図面。
FIG. 7 is another image drawing of the work recognized by the pattern recognition device according to the present invention and projected on a CRT.

【図8】本発明におけるレーザによるスポット加工の画
像図面。
FIG. 8 is an image drawing of spot processing by a laser according to the present invention.

【図9】本発明におけるレーザによるシーム加工の画像
図面。
FIG. 9 is an image drawing of seam processing by a laser according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

(1)…パターン認識装置 (2)…ワーク (3)…レーザ照射装置 (4)…レーザ光 (5)…制御装置 (0)…パターン上の基準位置 (P)…ワークの加工位置 (R)…レーザ照射位置 (1)… Pattern recognition device (2)… Work (3)… Laser irradiation device (4)… Laser beam (5)… Control device (0)… Reference position on pattern (P)… Working position of work (R ) ... Laser irradiation position

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 パターン認識装置にて、ワークの
パターンを認識し、ワークのパターン上の基準位置から
の加工位置を演算し、加工位置とレーザ照射位置とが一
致するようにワーク又はレーザ照射装置を移動させ、レ
ーザ照射位置と加工位置とが合致した処でレーザ光をワ
ークの加工位置に照射してレーザ加工を行い、続いてパ
ターン認識装置にて前記レーザ加工部分のパターンを認
識して予め制御装置に入力されている標準レーザ加工パ
ターンと比較し、パターン認識装置にて制御装置に取り
込んだレーザ加工パターンと標準レーザ加工パターンと
を比較して、レーザ加工パターンが基準以内に収まって
いる場合にはその位置のレーザ加工を完了して次のレー
ザ加工位置に移動し、逆に取り込んだレーザ加工パター
ンが標準レーザ加工パターンと比較して基準より外れて
いる場合には、基準レーザ加工パターンと比較して基準
内に収まるまでレーザ再加工を行う事を特徴とするワー
クのレーザ加工方法。
1. A pattern recognizing device that recognizes a pattern of a work, calculates a processing position from a reference position on the pattern of the work, and calculates a processing position and a laser irradiation device so that the processing position matches the laser irradiation position. Is moved, and laser processing is performed by irradiating a laser beam to the processing position of the work at a place where the laser irradiation position and the processing position match, and then the pattern of the laser processing part is recognized by a pattern recognition device, and When the laser processing pattern is within the standard, compared with the standard laser processing pattern input to the controller and comparing the laser processing pattern captured by the pattern recognition device with the standard laser processing pattern Completes the laser processing at that position, moves to the next laser processing position, and reverses the captured laser processing pattern to the standard laser processing pattern. A laser processing method for a workpiece, characterized in that, when the laser beam is out of the standard compared with the reference laser processing, the laser is re-processed until the laser beam is within the standard compared with the reference laser processing pattern.
【請求項2】 レーザ再加工を行う場合、制御装
置から指令によりレーザ発生装置の電源にレーザの出力
調整を行わせる事を特徴としている請求項1に記載のワ
ークのレーザ加工方法。
2. The laser processing method for a workpiece according to claim 1, wherein when performing laser reprocessing, a laser power is adjusted by a power supply of the laser generator in accordance with a command from a control device.
【請求項3】 レーザ再加工を行う場合、前回の
加工位置からレーザ照射位置をずらし、新たなレーザ加
工位置にてレーザ再加工を行う事を特徴とする請求項1
又は2のいずれかに記載のワークのレーザ加工方法。
3. When laser reworking is performed, the laser irradiation position is shifted from the previous processing position, and laser reworking is performed at a new laser processing position.
Or the laser processing method for a workpiece according to any one of the above.
【請求項4】 ワークが導電性のものである場合
に、レーザ加工に先立って、重ね合わされた一対の導電
性ワークの導通テストを行い、導通テストの結果両者間
に導通が取れていれば、レーザ加工を行う事を特徴とす
る請求項1乃至3のいずれかに記載のワークのレーザ加
工方法。
4. When the workpiece is conductive, prior to laser processing, a continuity test is performed on a pair of superposed conductive workpieces. 4. The laser processing method for a workpiece according to claim 1, wherein the laser processing is performed.
【請求項5】 レーザ発生装置と、レーザ発生装
置で発生したレーザ光をワークの加工位置に照射するレ
ーザ照射装置と、レーザ発生装置とレーザ照射装置とを
結ぶレーザトランスファ部材と、ワークを載置するワー
クテーブルと、ワークテーブル又はレーザ照射装置のい
ずれかを移動させる移動手段と、ワークパターン認識用
のパターン認識装置と、ワークのレーザ加工前にあって
はパターン認識装置を通して認識されたワークのパター
ンを処理して基準位置から加工位置迄の距離を演算し、
移動手段を介してレーザ照射位置とワーク加工位置とを
一致させ、続いてレーザ光をレーザ加工位置に照射して
ワークのレーザ加工を行わせ、レーザ加工が終了すると
再度パターン認識装置にてレーザ加工部分の加工パター
ンを認識して予め入力されている標準レーザ加工パター
ンと比較し、基準内であればその位置での加工を終了
し、逆に基準外であれば再度レーザ加工を行わせる制御
装置とで構成されている事を特徴とするワークのレーザ
加工装置。
5. A laser generator, a laser irradiator for irradiating a laser beam generated by the laser generator to a processing position of a work, a laser transfer member connecting the laser generator and the laser irradiator, and a work mounted thereon. Work table, a moving means for moving either the work table or the laser irradiation device, a pattern recognition device for work pattern recognition, and a pattern of the work recognized through the pattern recognition device before the laser processing of the work. To calculate the distance from the reference position to the machining position,
The laser irradiation position and the work processing position are made to coincide with each other via the moving means, and then the laser light is irradiated to the laser processing position to perform laser processing on the work. When the laser processing is completed, the laser processing is performed again by the pattern recognition device. A control device that recognizes the processing pattern of the part, compares it with a standard laser processing pattern that has been input in advance, ends processing at that position if it is within the reference, and performs laser processing again if it is outside the reference A laser processing apparatus for a work, comprising:
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