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JP2856701B2 - Microwave circuit - Google Patents
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JP2856701B2 - Microwave circuit - Google Patents

Microwave circuit

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JP2856701B2
JP2856701B2 JP7331721A JP33172195A JP2856701B2 JP 2856701 B2 JP2856701 B2 JP 2856701B2 JP 7331721 A JP7331721 A JP 7331721A JP 33172195 A JP33172195 A JP 33172195A JP 2856701 B2 JP2856701 B2 JP 2856701B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はマイクロ波回路に係
り、特に誘電体共振器を用いた誘電体共振発振器(DR
O)やフィルタなどのマイクロ波回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microwave circuit, and more particularly to a dielectric resonance oscillator (DR) using a dielectric resonator.
O) and a microwave circuit such as a filter.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の誘電体共振器を用いたマイクロ波
回路について図面を参照して説明する。図10(a)は
従来の誘電体共振器を用いたマイクロ波回路の第1の例
を示す斜視図、図10(b)は図10(a)のA−A’
線に沿う断面図である。
2. Description of the Related Art A conventional microwave circuit using a dielectric resonator will be described with reference to the drawings. FIG. 10A is a perspective view showing a first example of a microwave circuit using a conventional dielectric resonator, and FIG. 10B is AA ′ of FIG. 10A.
It is sectional drawing which follows a line.

【0003】図10(a)及び(b)に示すように、こ
の従来のマイクロ波回路は、裏面に接地導体1を備えた
半導体基板2の表面にマイクロストリップ線路の中心導
体3が形成され、かつ、中心導体3の近傍に誘電体共振
器4が接着剤等で固定された構成である。
As shown in FIGS. 10A and 10B, in this conventional microwave circuit, a center conductor 3 of a microstrip line is formed on a surface of a semiconductor substrate 2 provided with a ground conductor 1 on a back surface. The dielectric resonator 4 is fixed near the center conductor 3 with an adhesive or the like.

【0004】図11(a)は従来の誘電体共振器を用い
たマイクロ波回路の第2の例を示す斜視図、図11
(b)は図11(a)のA−A’線に沿う断面図であ
る。
FIG. 11A is a perspective view showing a second example of a microwave circuit using a conventional dielectric resonator.
FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG.

【0005】図11(a)及び(b)に示すように、こ
の従来のマイクロ波回路は、裏面に接地導体1を備えた
半導体基板2の表面にマイクロストリップ線路の中心導
体3が形成され、かつ、中心導体3の近傍に支持台5を
介して誘電体共振器4が接着剤等で固定された構成であ
る。
As shown in FIGS. 11A and 11B, in this conventional microwave circuit, a center conductor 3 of a microstrip line is formed on the surface of a semiconductor substrate 2 having a ground conductor 1 on the back surface. Further, the dielectric resonator 4 is fixed to the vicinity of the center conductor 3 via a support 5 with an adhesive or the like.

【0006】支持台5は通常、石英ガラスなどを材料と
して成型により形成されたもので、あらかじめ誘電体共
振器4の裏面に接着材で取り付けられる。また、支持台
5の別の例としては、特開平7−38311号公報に記
載されているような、絶縁材料からなる厚膜体を半導体
基板2上に印刷形成したものでもよく、誘電体共振器4
はこの厚膜体上に接着剤により固着される。
The support base 5 is usually formed by molding using quartz glass or the like as a material, and is previously attached to the back surface of the dielectric resonator 4 with an adhesive. Further, as another example of the support 5, a thick film made of an insulating material may be printed on the semiconductor substrate 2 as described in JP-A-7-38311. Vessel 4
Is fixed on this thick film body with an adhesive.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】図10に示した従来の
マイクロ波回路の第1の例では、半導体基板2上に誘電
体共振器4を直接配置する構成であるため、誘電体共振
器4と接地導体1との距離が小さく、接地導体1の導体
損失に起因した共振系の無負荷Q値の低下が大きくなる
という問題がある。
In the first example of the conventional microwave circuit shown in FIG. 10, since the dielectric resonator 4 is directly arranged on the semiconductor substrate 2, the dielectric resonator 4 There is a problem that the distance between the ground conductor 1 and the ground conductor 1 is small, and the reduction of the no-load Q value of the resonance system due to the conductor loss of the ground conductor 1 increases.

【0008】半導体基板2の厚みを大きくすることによ
り無負荷Q値の低下は抑制できるが、同じマイクロスト
リップ線路の特性インピーダンスを得るためには中心導
体3の幅を大きくする必要が生じチップ面積の増大につ
ながる。さらに能動素子を集積化したモノリシック集積
回路の場合には、半導体基板厚の増大は放熱性の悪化や
バイアホール径の増大につながる。従って、半導体基板
2の厚みを自由に大きくすることはできない。
Although the reduction of the no-load Q value can be suppressed by increasing the thickness of the semiconductor substrate 2, it is necessary to increase the width of the center conductor 3 in order to obtain the same characteristic impedance of the microstrip line. Leads to an increase. Further, in the case of a monolithic integrated circuit in which active elements are integrated, an increase in the thickness of the semiconductor substrate leads to a deterioration in heat dissipation and an increase in the diameter of the via hole. Therefore, the thickness of the semiconductor substrate 2 cannot be freely increased.

【0009】一方、図11に示した従来のマイクロ波回
路の第2の例では、支持台5を介して誘電体共振器4を
固定する構成とすることにより、半導体基板2の厚みを
増大させること無く、誘電体共振器4と接地導体1の距
離を大きくすることができ、接地導体1の導体損失に起
因した無負荷Q値の低下を抑制できる。
On the other hand, in the second example of the conventional microwave circuit shown in FIG. 11, the thickness of the semiconductor substrate 2 is increased by fixing the dielectric resonator 4 via the support 5. Without this, the distance between the dielectric resonator 4 and the ground conductor 1 can be increased, and a decrease in the no-load Q value due to the conductor loss of the ground conductor 1 can be suppressed.

【0010】しかし、誘電体共振器4と中心導体3の半
導体基板2表面に垂直な方向の距離(支持台5の厚み方
向の距離)が増大し、誘電体共振器4と中心導体3との
間の結合強度が低下するという問題がある。
However, the distance between the dielectric resonator 4 and the center conductor 3 in the direction perpendicular to the surface of the semiconductor substrate 2 (the distance in the thickness direction of the support base 5) increases, and the distance between the dielectric resonator 4 and the center conductor 3 is increased. There is a problem that the bonding strength between them decreases.

【0011】本発明は以上の点に鑑みなされたもので、
基板厚を厚くすることなく無負荷Q値を増大し得るマイ
クロ波回路を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points,
It is an object of the present invention to provide a microwave circuit capable of increasing a no-load Q value without increasing a substrate thickness.

【0012】また、本発明の他の目的は、誘電体共振器
と中心導体との結合強度の低下を抑制し得るマイクロ波
回路を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a microwave circuit capable of suppressing a decrease in coupling strength between a dielectric resonator and a center conductor.

【0013】更に、本発明の他の目的は、共振器の位置
ずれによる特性ばらつきを抑制し得るマイクロ波回路を
提供することにある。
Still another object of the present invention is to provide a microwave circuit capable of suppressing a characteristic variation due to a displacement of a resonator.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の請求項1に係るマイクロ波回路は、マイク
ロストリップ線路に誘電体共振器を磁気的に結合させた
マイクロ波回路において、マイクロストリップ線路の一
部を構成する基板の表面に、誘電体共振器の底面よりも
大なる表面を有する支持台を介して誘電体共振器を固定
し、かつ、マイクロストリップ線路の一部を構成する中
心導体を前記支持台の誘電体共振器に対してはみ出した
表面部分及び前記基板の表面のそれぞれに形成したもの
である。
To achieve the above object, a microwave circuit according to a first aspect of the present invention is a microwave circuit in which a dielectric resonator is magnetically coupled to a microstrip line. The surface of the substrate that constitutes a part of the microstrip line is higher than the bottom of the dielectric resonator.
The dielectric resonator was fixed via the support having a large surface , and the center conductor forming a part of the microstrip line was protruded from the dielectric resonator of the support .
It is formed on each of the surface portion and the surface of the substrate.

【0015】この発明では、支持台の上に誘電体共振器
を固定すると共にマイクロストリップ線路の中心導体を
支持台上に形成するようにしたため、基板厚を増大させ
ることなく、しかも誘電体共振器と中心導体の基板表面
に垂直な方向の距離を増大させることなく、誘電体共振
器を接地導体から遠ざけることができる。
According to the present invention, the dielectric resonator is fixed on the support and the center conductor of the microstrip line is formed on the support, so that the dielectric resonator is not increased without increasing the thickness of the substrate. The dielectric resonator can be kept away from the ground conductor without increasing the distance between the conductor and the center conductor in the direction perpendicular to the substrate surface.

【0016】また、上記の目的達成のため、本発明の請
求項2、3に係るマイクロ波回路は、請求項1に係るマ
イクロ波回路の支持台を、基板をエッチングすることに
より、あるいは基板上に堆積した絶縁膜により形成する
ことを特徴としている。
In order to achieve the above object, a microwave circuit according to claims 2 and 3 of the present invention is characterized in that the support for the microwave circuit according to claim 1 is mounted on the substrate by etching the substrate or on the substrate. It is characterized by being formed by an insulating film deposited on the substrate.

【0017】また、本発明の請求項4に係るマイクロ波
回路は、請求項1に係るマイクロ波回路における中心導
体を、トランジスタに接続してモノリシック集積回路化
されていることを特徴とする。
A microwave circuit according to a fourth aspect of the present invention is characterized in that the center conductor in the microwave circuit according to the first aspect is connected to a transistor to form a monolithic integrated circuit.

【0018】また、本発明の請求項5に係るマイクロ波
回路は、請求項1に係るマイクロ波回路における支持台
が形成されている基板を、少なくとも中心導体に接続さ
れた帰還用線路と、キャパシタが表面に形成された絶縁
性基板とし、中心導体がトランジスタチップに接続線を
介して接続されてハイブリッド集積回路化されているこ
とを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a microwave circuit, comprising: a substrate on which a support is formed in the microwave circuit according to the first aspect, comprising: a feedback line connected to at least a center conductor; Is an insulating substrate formed on the surface, and the central conductor is connected to the transistor chip via a connection line to form a hybrid integrated circuit.

【0019】更に、本発明の請求項6に係るマイクロ波
回路は、請求項1に係るマイクロ波回路における支持台
を、誘電体共振器との接合部分の一部が空洞部分とされ
ていることを特徴とする。この発明では、支持台を形成
する支持台の−部が誘電損失の小さい空気あるいは真空
とされる。
Further, in the microwave circuit according to a sixth aspect of the present invention, the support base in the microwave circuit according to the first aspect is such that a part of a joint portion with the dielectric resonator is a hollow portion. It is characterized by. According to the present invention, the negative portion of the support that forms the support is air or vacuum having a small dielectric loss.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0021】図1(a)は本発明の一実施の形態のマイ
クロ波回路の斜視図、同図(b)は同図(a)のA−
A’線に沿う断面図である。この実施の形態のマイクロ
波回路は、図1(a)及び(b)に示すように、接地導
体1と、接地導体1が裏面に形成された半導体基板2
と、中心導体3と、中心導体3の近傍に配置された円柱
状の誘電体共振器4と、支持台6から成る。
FIG. 1A is a perspective view of a microwave circuit according to an embodiment of the present invention, and FIG.
It is sectional drawing which follows the A 'line. As shown in FIGS. 1A and 1B, the microwave circuit of this embodiment includes a ground conductor 1 and a semiconductor substrate 2 having the ground conductor 1 formed on the back surface.
, A center conductor 3, a columnar dielectric resonator 4 arranged near the center conductor 3, and a support 6.

【0022】接地導体1、半導体基板2及び中心導体3
によりマイクロストリップ線路が構成される。支持台6
は、誘電体共振器4からはみ出した部分を有し、その一
部に中心導体3が形成されている。支持台6には中心導
体3の近傍に誘電体共振器4が接着剤等により固定され
ている。
Ground conductor 1, semiconductor substrate 2 and center conductor 3
Constitutes a microstrip line. Support 6
Has a portion protruding from the dielectric resonator 4, and the central conductor 3 is formed in a part thereof. The dielectric resonator 4 is fixed to the support 6 near the center conductor 3 with an adhesive or the like.

【0023】このように、この実施の形態のマイクロ波
回路では、無負荷Q値の劣化を抑制することを目的とし
て誘電体共振器4を接地導体1から遠ざけるために支持
台6の高さを高くしても、支持台6上に誘電体共振器4
と中心導体3の両方を乗せるようにしているため、誘電
体共振器4と中心導体3の半導体基板2の表面に垂直な
方向の距離が増大することはない。従って、半導体基板
2の基板厚を厚くしなくとも、しかも支持台6の高さを
高くしても結合強度の低下を抑制することができる。
As described above, in the microwave circuit according to the present embodiment, the height of the support 6 is increased in order to keep the dielectric resonator 4 away from the ground conductor 1 for the purpose of suppressing the deterioration of the no-load Q value. Even if the height is increased, the dielectric resonator 4
Since both the center conductor 3 and the center conductor 3 are placed, the distance between the dielectric resonator 4 and the center conductor 3 in the direction perpendicular to the surface of the semiconductor substrate 2 does not increase. Therefore, even if the thickness of the semiconductor substrate 2 is not increased, and even if the height of the support 6 is increased, a decrease in the bonding strength can be suppressed.

【0024】次に、図1のマイクロ波回路の製造方法の
一実施の形態の製造工程について図2(a)〜(d)と
共に説明する。この製造方法は、支持台6を半導体基板
で形成した点に特徴がある。まず、図2(a)に示すよ
うに半導体基板2のエッチングにより、図1の支持台6
に相当する支持台6aを形成する。次に図2(b)に示
すように、中心導体3を支持台6a上に形成する。続い
て、必要であれば研磨等により基板厚を調整した後、図
2(c)に示すように半導体基板2の裏面に接地導体1
を形成する。最後に図2(d)に示すように誘電体共振
器4を支持台6a上で、かつ、中心導体3の近傍に接着
剤等により固定する。
Next, the manufacturing process of the embodiment of the method for manufacturing the microwave circuit of FIG. 1 will be described with reference to FIGS. 2 (a) to 2 (d). This manufacturing method is characterized in that the support 6 is formed of a semiconductor substrate. First, as shown in FIG. 2A, by etching the semiconductor substrate 2, the support 6 shown in FIG.
Is formed. Next, as shown in FIG. 2B, the center conductor 3 is formed on the support 6a. Subsequently, if necessary, the substrate thickness is adjusted by polishing or the like, and then, as shown in FIG.
To form Finally, as shown in FIG. 2D, the dielectric resonator 4 is fixed on the support 6a and in the vicinity of the center conductor 3 with an adhesive or the like.

【0025】次に、図1のマイクロ波回路の製造方法の
他の実施の形態の製造工程について図3(a)〜(d)
と共に説明する。この製造方法は、支持台6を絶縁膜で
形成した点に特徴がある。まず、図3(a)に示すよう
に半導体基板2上に低損失の絶縁膜7を堆積する。次に
図3(b)に示すように絶縁膜7をエッチングすること
により、絶縁膜7からなる支持台6b(図1の支持台6
に相当する)を形成する。次に図3(c)に示すように
支持台6b上に中心導体3を形成する。続いて、必要で
あれば研磨等により基板厚を調整した後、図3(d)に
示すように半導体基板2の裏面に接地導体1を形成す
る。最後に図3(e)に示すように、支持台6b上で、
かつ、中心導体3の近傍に誘電体共振器4を固定する。
Next, another embodiment of the method of manufacturing the microwave circuit shown in FIG. 1 will be described with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (d).
It is explained together with. This manufacturing method is characterized in that the support 6 is formed of an insulating film. First, a low-loss insulating film 7 is deposited on the semiconductor substrate 2 as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 3 (b), the insulating film 7 is etched to form a support 6b made of the insulating film 7 (the support 6 in FIG. 1).
Is formed). Next, as shown in FIG. 3C, the center conductor 3 is formed on the support 6b. Subsequently, the ground conductor 1 is formed on the back surface of the semiconductor substrate 2 as shown in FIG. Finally, as shown in FIG. 3E, on the support 6b,
Further, the dielectric resonator 4 is fixed near the center conductor 3.

【0026】図2、図3どちらの製造方法の場合にも、
モノリシック集積回の場合には、図2及び図3に示した
工程の間にトランジスタや受動素子の製造工程が挿入さ
れる。
In either of the manufacturing methods shown in FIGS. 2 and 3,
In the case of monolithic integration, a process for manufacturing a transistor or a passive element is inserted between the processes shown in FIGS.

【0027】図4は本発明のマイクロ波回路をMMIC
(Microwave Monolithic Integrated Circuit)誘電体
共振発振器(DRO)に適用した場合の一例の平面図を
示す。図4に示すDROは、裏面に接地導体を有する半
導体基板2、中心導体3、支持台6、誘電体共振器4、
バイアホール10、抵抗体11、MIMキャパシタ1
2、バイアスパッド13、出力パッド14、整合用オー
プンスタブ15、帰還用線路16、1/4波長線路1
7、ゲート電極18、ドレイン電極19、ソース電極2
0、活性層21から構成される。
FIG. 4 shows a microwave circuit according to the present invention as an MMIC.
(Microwave Monolithic Integrated Circuit) A plan view of an example when applied to a dielectric resonance oscillator (DRO) is shown. The DRO shown in FIG. 4 includes a semiconductor substrate 2 having a ground conductor on the back surface, a center conductor 3, a support 6, a dielectric resonator 4,
Via hole 10, resistor 11, MIM capacitor 1
2. Bias pad 13, output pad 14, matching open stub 15, feedback line 16, 1/4 wavelength line 1.
7, gate electrode 18, drain electrode 19, source electrode 2
0, an active layer 21.

【0028】ゲート電極18、ドレイン電極19、ソー
ス電極20及び活性層21により電界効果トランジスタ
(FET)が構成される。中心導体3の一端はゲート電
極18に接続され、他端は抵抗体11に接続されてい
る。また、ドレイン電極19はMIMキャパシタ12を
介して帰還用線路16により中心導体3に接続されてい
る。
The gate electrode 18, the drain electrode 19, the source electrode 20, and the active layer 21 constitute a field effect transistor (FET). One end of the center conductor 3 is connected to the gate electrode 18 and the other end is connected to the resistor 11. Further, the drain electrode 19 is connected to the center conductor 3 by the feedback line 16 via the MIM capacitor 12.

【0029】このDROは、帰還用線路16により帰還
をかけ、負性抵抗を発生させる並列帰還型の発振回路で
ある。大きな無負荷Q値と適当な値の温度係数を有する
誘電体共振器4を装荷することにより、位相雑音が小さ
く、高い温度安定性を有する発振回路を実現できる。バ
イアスパッド13からFETのゲート電極18及びドレ
イン電極19に直流電圧が印加される。抵抗体11は寄
生発振防止のために、MIMキャパシタ12は直流電流
阻止のために付加されている。
The DRO is a parallel feedback type oscillation circuit that performs feedback by the feedback line 16 and generates a negative resistance. By loading the dielectric resonator 4 having a large unloaded Q value and a temperature coefficient of an appropriate value, an oscillation circuit having small phase noise and high temperature stability can be realized. A DC voltage is applied from the bias pad 13 to the gate electrode 18 and the drain electrode 19 of the FET. The resistor 11 is added to prevent parasitic oscillation, and the MIM capacitor 12 is added to block DC current.

【0030】図5は本発明のマイクロ波回路をHIC
(Hybrid Integrated Circuit)誘電体共振発振器(D
RO)に適用した場合の一例の平面図を示す。同図に示
すように、このDROは、中心導体3、誘電体共振器
4、支持台6、抵抗体11、MIMキャパシタ12、出
力パッド14、整合用オープンスタブ15、帰還用線路
16、1/4波長線路17が形成された絶縁性基板22
と、ゲート電極18、ドレイン電極19、ソース電極2
0、活性層21を有するFETチップ25と、チップコ
ンデンサ24とが金属ブロック23上に固定されること
により構成され、それぞれが金線26により電気的に接
続されている。
FIG. 5 shows a microwave circuit according to the present invention using an HIC.
(Hybrid Integrated Circuit) Dielectric Resonant Oscillator (D
(RO) is a plan view of an example when applied to (RO). As shown in the figure, this DRO is composed of a center conductor 3, a dielectric resonator 4, a support 6, a resistor 11, a MIM capacitor 12, an output pad 14, a matching open stub 15, a feedback line 16, 1 / Insulating substrate 22 on which four-wavelength line 17 is formed
And the gate electrode 18, the drain electrode 19, and the source electrode 2
The FET chip 25 having the active layer 21 and the chip capacitor 24 are fixed on the metal block 23, and are electrically connected to each other by the gold wire 26.

【0031】図6は本発明のマイクロ波回路を調整ビス
を有するシールドケースに実装した場合の一実施の形態
を示す断面図である。本発明のマイクロ波回路のように
誘電体共振器4を用いた回路のチップは通常、図6に示
したような調整ビス27を有するシールドケース28に
実装して用いられる。
FIG. 6 is a sectional view showing an embodiment in which the microwave circuit of the present invention is mounted on a shield case having adjustment screws. A chip of a circuit using the dielectric resonator 4 like the microwave circuit of the present invention is usually mounted on a shield case 28 having an adjusting screw 27 as shown in FIG.

【0032】図7(a)は本発明になるマイクロ波回路
の他の実施の形態を示す断面図、同図(b)はその平面
図を示す。この実施の形態のマイクロ波回路において
は、支持台5の一部に空洞部分29を形成している。空
洞部分29は、図2(a)に示した製造工程におけるエ
ッチングで、支持台6の形成時に形成できる。この場合
は、支持台6を形成する支持台の一部が空洞部分29に
より誘電損失の小さい空気あるいは真空とされる。
FIG. 7A is a cross-sectional view showing another embodiment of the microwave circuit according to the present invention, and FIG. 7B is a plan view thereof. In the microwave circuit of this embodiment, a hollow portion 29 is formed in a part of the support 5. The hollow portion 29 can be formed at the time of forming the support 6 by etching in the manufacturing process shown in FIG. In this case, a part of the support that forms the support 6 is made into air or vacuum with a small dielectric loss by the hollow portion 29.

【0033】[0033]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0034】図1(a)の斜視図及び同図(b)の断面
図に示す本発明のマイクロ波回路では、20μm厚の金
から成る接地導体1、40μm厚のGaAsから成る半
導体基板2、2μm厚で30μm幅の金から成る中心導
体3、半径650μm、高さ550μmの円柱型のBa
(Mg,Ta)O3から成る誘電体共振器4、及び10
μm厚のGaAsから成る支持台6から構成される。
In the microwave circuit of the present invention shown in the perspective view of FIG. 1A and the cross-sectional view of FIG. 1B, a ground conductor 1 made of 20 μm thick gold, a semiconductor substrate 2 made of 40 μm thick GaAs, Center conductor 3 made of gold having a thickness of 2 μm and a width of 30 μm, a cylindrical Ba having a radius of 650 μm and a height of 550 μm
Dielectric resonators 4 and 10 made of (Mg, Ta) O 3
It is composed of a support 6 made of GaAs having a thickness of μm.

【0035】本発明のマイクロ波回路における支持台6
を半導体基板で形成する場合の製造工程では、まず図2
(a〉に示すように600μm厚のGaAsから成る半
導体基板2の表面に、硫酸系エッチャント等を用いたエ
ッチングにより10μm厚の支持台6aを形成する。こ
の際、支持台6aのパターニングにフォトレジストを用
いたリソグラフィー技術を用いる。
The support 6 in the microwave circuit of the present invention
In the manufacturing process for forming a semiconductor substrate on a semiconductor substrate, first, FIG.
As shown in (a), a 10 μm-thick support 6a is formed by etching using a sulfuric acid-based etchant or the like on the surface of a 600 μm-thick GaAs semiconductor substrate 2. At this time, a photoresist is used for patterning the support 6a. The lithography technique using is used.

【0036】次に図2(b)に示すように、2μm厚の
金から成る中心導体3を支持台6a上に形成する。この
工程は例えば、Ti/Pt/Auなどから成る0.5μ
m程度の金属薄膜をスパッタにより形成する工程と、中
心導体3のパターニングの為のリソグラフィー工程と、
中心導体3となる金をメッキする工程と、フォトレジス
トを有機溶剤により除去する工程と、金属薄膜をミリン
グにより除去する工程から構成される。
Next, as shown in FIG. 2B, a center conductor 3 made of gold having a thickness of 2 μm is formed on the support 6a. In this step, for example, 0.5 μm of Ti / Pt / Au is used.
a process of forming a metal thin film of about m by sputtering, a lithography process for patterning the center conductor 3,
The method includes a step of plating gold serving as the central conductor 3, a step of removing the photoresist with an organic solvent, and a step of removing the metal thin film by milling.

【0037】その後研磨とエッチングにより基板厚を4
0μmとし、図2(c)に示すようにメッキにより20
μm厚の金から成る接地導体1を、半導体基板2の裏面
にメッキ等により形成する。
Thereafter, the substrate thickness is reduced to 4 by polishing and etching.
0 μm, and 20 μm by plating as shown in FIG.
A ground conductor 1 made of gold having a thickness of μm is formed on the back surface of the semiconductor substrate 2 by plating or the like.

【0038】最後に図2(d)に示すように誘電体共振
器4を接着剤等により支持台6a上に固定する。
Finally, as shown in FIG. 2D, the dielectric resonator 4 is fixed on the support 6a with an adhesive or the like.

【0039】次に、本発明のマイクロ波回路において、
支持台6を絶縁膜で形成する製造工程では、まず、図3
(a)に示すように半導体基板2上にSiO2などから
成る絶縁膜7をプラズマCVD法などにより5μm程度
堆積する。
Next, in the microwave circuit of the present invention,
In a manufacturing process for forming the support 6 with an insulating film, first, FIG.
As shown in FIG. 1A, an insulating film 7 made of SiO 2 or the like is deposited on a semiconductor substrate 2 to a thickness of about 5 μm by a plasma CVD method or the like.

【0040】次に、図3(b)に示すようにバッファド
弗酸等をエッチャントとしたエッチングにより絶縁膜7
から成る支持台6bを形成する。この際、支持台6bの
パターニングにフォトレジストを用いたリソグラフイー
技術を用いる。
Next, as shown in FIG. 3B, the insulating film 7 is etched by using buffered hydrofluoric acid or the like as an etchant.
Is formed. At this time, a lithographic technique using a photoresist is used for patterning the support 6b.

【0041】次に、図3(c)に示すように、2μm厚
の金から成る中心導体3を支持台6b上に形成する。こ
の工程は例えば、Ti/Pt/Auなどから成る0.5
μm程度の金属薄膜をスパッタにより形成する工程と、
中心導体のパターニングの為のリソグラフイー工程と、
中心導体となる金をメッキする工程と、フォトレジスト
を有機溶剤により除去する工程と、金属薄膜をミリング
により除去する工程から構成される。
Next, as shown in FIG. 3C, a center conductor 3 made of gold having a thickness of 2 μm is formed on the support 6b. This step is performed, for example, with 0.5 of Ti / Pt / Au or the like.
forming a metal thin film of about μm by sputtering;
A lithographic step for patterning the center conductor;
It comprises a step of plating gold as a central conductor, a step of removing the photoresist with an organic solvent, and a step of removing the metal thin film by milling.

【0042】その後研磨とエッチングにより基板厚も4
0μmとし、図3(d)に示すようにメッキにより20
μm厚の金から成る接地導体1を、半導体基板2の裏面
にメッキ等により形成する。
After that, the substrate thickness is also reduced to 4 by polishing and etching.
0 μm, and as shown in FIG.
A ground conductor 1 made of gold having a thickness of μm is formed on the back surface of the semiconductor substrate 2 by plating or the like.

【0043】最後に図3(e)に示すように誘電体共振
器4を接着剤等により支持台6b上に固定する。
Finally, as shown in FIG. 3E, the dielectric resonator 4 is fixed on the support 6b with an adhesive or the like.

【0044】図2、図3どちらの製造方法の場合にも、
モノリシック集積回路の場合には、図2、図3に示した
工程の間にトランジスタや受動素子の製造工程が挿入さ
れる。
In either of the manufacturing methods shown in FIGS. 2 and 3,
In the case of a monolithic integrated circuit, a manufacturing process of a transistor or a passive element is inserted between the processes shown in FIGS.

【0045】次に、図4に示した本発明のマイクロ波回
路をMMIC誘電体共振発振器(DRO)に適用した場
合の実施例について説明する。裏面に20μm厚の金か
ら成る接地導体を有し40μm厚のGaAsから成る半
導体基板2、2μm厚で30μm幅の金から成る中心導
体3、10μm厚のGaAsから成る支持台6、半径6
50μm、高さ550μmの円柱型のBa(Mg,T
a)O3から成る誘電体共振器4、30μm角のバイア
ホール10、エピタキシャル層とAu/Ge/Ni/A
uオーミック金属から成る抵抗体11、SiNxを誘電
膜に用いたMIMキャパシタ12、バイアスパッド1
3、出力パッド14、整合用オープンスタブ15、帰還
用線路16、1/4波長線路17、Ti/Alから成る
ゲート電極18、Au/Ge/Ni/Auオーミック金
属から成るドレイン電極19及びソース電極20、活性
層21から構成される。
Next, an embodiment in which the microwave circuit of the present invention shown in FIG. 4 is applied to an MMIC dielectric resonance oscillator (DRO) will be described. A semiconductor substrate 2 made of GaAs having a thickness of 40 μm having a ground conductor made of gold having a thickness of 20 μm on the back surface; a center conductor 3 made of gold having a thickness of 30 μm and a width of 30 μm;
50 μm, 550 μm height cylindrical Ba (Mg, T
a) Dielectric resonator 4 made of O 3 , 30 μm square via hole 10, epitaxial layer and Au / Ge / Ni / A
u Ohmic metal resistor 11, MIM capacitor 12 using SiNx for dielectric film, bias pad 1
3, output pad 14, matching open stub 15, feedback line 16, quarter wavelength line 17, gate electrode 18 made of Ti / Al, drain electrode 19 made of Au / Ge / Ni / Au ohmic metal, and source electrode 20 and an active layer 21.

【0046】次に、図5に示した本発明のマイクロ波回
路をHIC誘電体共振発振器(DRO)に適用した場合
の実施例について説明する。このDROは、中心導体
3、支持台6、誘電体共振器4、抵抗体11、MIMキ
ャパシタ12、出力パッド13、整合用オープンスタブ
15、帰還用線路13、1/4波長線路17が形成され
た100μm厚のアルミナから成る絶縁性基板22と、
ゲート電極18、ドレイン電極19、ソース電極20、
活性層21を有するFETチップ25と、チップコンデ
ンサ24とが、5mm厚の銅表面に金をメッキした金属
ブロック23上に固定されることにより構成され、それ
ぞれが直径10μm程度の金線26を数本用いて電気的
に接続されている。支持台6は、アルミナから成る絶縁
性基板22のエッチングにより形成されている。
Next, an embodiment in which the microwave circuit of the present invention shown in FIG. 5 is applied to a HIC dielectric resonance oscillator (DRO) will be described. In this DRO, a center conductor 3, a support 6, a dielectric resonator 4, a resistor 11, a MIM capacitor 12, an output pad 13, a matching open stub 15, a feedback line 13, and a 1/4 wavelength line 17 are formed. An insulating substrate 22 made of alumina having a thickness of 100 μm;
A gate electrode 18, a drain electrode 19, a source electrode 20,
An FET chip 25 having an active layer 21 and a chip capacitor 24 are configured by being fixed on a metal block 23 in which a 5 mm-thick copper surface is plated with gold, each of which has a gold wire 26 having a diameter of about 10 μm. It is electrically connected using this. The support 6 is formed by etching an insulating substrate 22 made of alumina.

【0047】次に、図6に示した本発明のマイクロ波回
路を調整ビスを有するシールドケースに実装した実施の
形態の実施例について説明する。本発明のマイクロ波回
路のように誘電体共振器を用いた回路のチップは通常、
図6に示したような調整ビス27を有するシールドケー
ス28に実装して用いられる。シールドケース28は、
5mm厚の銅表面に金をメッキした金属により成り、密
閉構造としている。調整ビス27は、ネジ式で上下可動
の構造としている。
Next, an example of an embodiment in which the microwave circuit of the present invention shown in FIG. 6 is mounted on a shield case having adjustment screws will be described. Circuit chips using a dielectric resonator, such as the microwave circuit of the present invention, are usually
It is used by being mounted on a shield case 28 having an adjustment screw 27 as shown in FIG. The shield case 28
It is made of metal with a 5 mm thick copper surface plated with gold, and has a closed structure. The adjusting screw 27 has a screw-type vertically movable structure.

【0048】次に、図7に示した本発明のマイクロ波回
路の実施例について説明する。このマイクロ波回路の寸
法、材料等は図1に示したマイクロ波回路と同じであ
る。ただし、支持台6の一部に半径500μm、深さは
支持台高さと同じ空洞部分29が形成されている。この
空洞部分29は、図2(a)に示した製造工程における
支持台6aのパターニングを変更することにより形成で
きる。
Next, an embodiment of the microwave circuit of the present invention shown in FIG. 7 will be described. The dimensions, materials, and the like of this microwave circuit are the same as those of the microwave circuit shown in FIG. However, a hollow portion 29 having a radius of 500 μm and a depth equal to the height of the support base is formed in a part of the support base 6. This hollow portion 29 can be formed by changing the patterning of the support 6a in the manufacturing process shown in FIG.

【0049】図8はマイクロ波回路の一実施の形態の無
負荷Q値の支持台高さ依存性を計算により求めたグラフ
である。図10に示した従来のマイクロ波回路のように
誘電体共振器4を基板2上に直接配置した場合は支持台
高さが0に相当する。図8からわかるように、支持台高
さを増大することにより無負荷Q値は増大する。この点
で、本発明のマイクロ波回路及び図11に示した従来の
マイクロ波回路は、いずれも支持台を有しているから支
持台を有しない図10に示した従来のマイクロ波回路に
対して有利である。
FIG. 8 is a graph obtained by calculating the dependency of the no-load Q value on the height of the support base in one embodiment of the microwave circuit. When the dielectric resonator 4 is directly disposed on the substrate 2 as in the conventional microwave circuit shown in FIG. 10, the height of the support stand is equal to zero. As can be seen from FIG. 8, the unloaded Q value increases by increasing the height of the support base. In this regard, the microwave circuit of the present invention and the conventional microwave circuit shown in FIG. 11 both have a support, and therefore have no support, compared to the conventional microwave circuit shown in FIG. It is advantageous.

【0050】図9は本発明のマイクロ波回路の一実施の
形態と図11に示した従来のマイクロ波回路の外部Q値
の支持台高さ依存性を計算により求めたグラフである。
外部Q値は、マイクロストリップ線路と誘電体共振器の
結合の強度を表し、外部Q値が小さい程結合強度が大き
い。
FIG. 9 is a graph showing an embodiment of the microwave circuit of the present invention and the dependency of the external Q value on the height of the support base of the conventional microwave circuit shown in FIG. 11 by calculation.
The external Q value indicates the strength of the coupling between the microstrip line and the dielectric resonator, and the smaller the external Q value, the greater the coupling strength.

【0051】実線Iは中心導体3を支持台6上に形成し
た本発明の一実施の形態のマイクロ波回路における外部
Q値と支持台高さとの特性を示し、点線IIは中心導体
3を基板2上に形成した図11に示した従来のマイクロ
波回路における外部Q値と支持台高さとの特性を示す。
The solid line I shows the characteristics of the external Q value and the height of the support in the microwave circuit according to one embodiment of the present invention in which the center conductor 3 is formed on the support 6, and the dotted line II shows the characteristic of the center conductor 3 on the substrate. 11 shows the characteristics of the external Q value and the height of the support base in the conventional microwave circuit shown in FIG.

【0052】図9に示すように、支持台高さの増大に従
い、従来のマイクロ波回路の外部Q値が増大するのに対
し、本発明の一実施の形態のマイクロ波回路における外
部Q値は減少している。すなわち、支持台高さの増大に
従い、従来のマイクロ波回路の結合強度は減少し、本発
明のマイクロ波回路の結合強度は増大している。これ
は、図1に示した本発明の実施の形態では、支持台6上
に誘電体共振器4と中心導体3の両方を乗せることによ
り、支持台6の高さを高くしても誘電体共振器4と中心
導体3の半導体基板2の表面に垂直な方向の距離を増大
させることなく、誘電体共振器4を接地導体1から遠ざ
けることができるためである。
As shown in FIG. 9, while the external Q value of the conventional microwave circuit increases as the height of the support base increases, the external Q value of the microwave circuit according to one embodiment of the present invention is is decreasing. That is, as the height of the support base increases, the coupling strength of the conventional microwave circuit decreases, and the coupling strength of the microwave circuit of the present invention increases. This is because, in the embodiment of the present invention shown in FIG. 1, by mounting both the dielectric resonator 4 and the center conductor 3 on the support 6, even if the height of the support 6 is increased, the dielectric This is because the dielectric resonator 4 can be kept away from the ground conductor 1 without increasing the distance between the resonator 4 and the center conductor 3 in the direction perpendicular to the surface of the semiconductor substrate 2.

【0053】なお、本発明は以上の実施の形態に限定さ
れるものではなく、例えば支持台6の幅は、誘電体共振
器4の幅よりも狭くてもよい。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, the width of the support 6 may be smaller than the width of the dielectric resonator 4.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
支持台上に誘電体共振器と中心導体の両方を乗せること
により、基板厚を増大させることなく、しかも誘電体共
振器と中心導体の半導体基板表面に垂直な方向の距離を
増大させることなく、誘電体共振器を接地導体から遠ざ
けることができるため、基板厚の増大と結合強度の低下
を同時に回避しながら無負荷Q値の劣化を抑制できる。
As described above, according to the present invention,
By placing both the dielectric resonator and the center conductor on the support, without increasing the substrate thickness, and without increasing the distance between the dielectric resonator and the center conductor in the direction perpendicular to the semiconductor substrate surface, Since the dielectric resonator can be kept away from the ground conductor, deterioration of the no-load Q value can be suppressed while simultaneously preventing an increase in the substrate thickness and a decrease in the coupling strength.

【0055】また、本発明によれば、支持台を形成する
支持台の−部が誘電損失の小さい空気あるいは真空とさ
れるため、支持台の誘電損失に起因する無負荷Q値の劣
化を抑制できる。
Further, according to the present invention, since the negative part of the support base forming the support base is made of air or vacuum having a small dielectric loss, deterioration of the no-load Q value due to the dielectric loss of the support base is suppressed. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のマイクロ波回路の一実施の形態の斜視
図及び断面図である。
FIG. 1 is a perspective view and a cross-sectional view of an embodiment of a microwave circuit according to the present invention.

【図2】図1のマイクロ波回路の製造工程の一例を説明
する断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating an example of a manufacturing process of the microwave circuit of FIG.

【図3】図1のマイクロ波回路の製造工程の他の例を説
明する断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating another example of the manufacturing process of the microwave circuit in FIG. 1;

【図4】本発明のマイクロ波回路をMMICの誘電体共
振発振器に適用した一例の平面図である。
FIG. 4 is a plan view of an example in which the microwave circuit of the present invention is applied to a dielectric resonance oscillator of an MMIC.

【図5】本発明のマイクロ波回路をHICの誘電体共振
発振器に適用した一例の平面図である。
FIG. 5 is a plan view of an example in which the microwave circuit of the present invention is applied to a dielectric resonance oscillator of a HIC.

【図6】本発明のマイクロ波回路の実装方法を示す断面
図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a method for mounting a microwave circuit according to the present invention.

【図7】本発明のマイクロ波回路の他の実施の形態の断
面図及び平面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view and a plan view of another embodiment of the microwave circuit of the present invention.

【図8】無負荷Q値の支持台高さ依存性を示すグラフで
ある。
FIG. 8 is a graph showing the dependence of the no-load Q value on the height of the support base.

【図9】外部Q値の支持台高さ依存性を本発明のマイク
ロ波回路と従来のマイクロ波回路とを対比して示すグラ
フである。
FIG. 9 is a graph showing the dependency of the external Q value on the height of the support base, comparing the microwave circuit of the present invention with a conventional microwave circuit.

【図10】従来のマイクロ波回路の一例の斜視図及び断
面図である。
FIG. 10 is a perspective view and a cross-sectional view of an example of a conventional microwave circuit.

【図11】従来のマイクロ波回路の他の例の斜視図及び
断面図である。
FIG. 11 is a perspective view and a sectional view of another example of a conventional microwave circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 接地導体 2 半導体基板 3 中心導体 4 誘電体共振器 6、6a、6b 支持台 7 絶縁膜 12 MIMキャパシタ 15 整合用オープンスタブ 16 帰還用線路 17 1/4波長線路 18 ゲート電極 19 ドレイン電極 20 ソース電極 21 活性層 22 絶縁性基板 23 金属ブロック 24 チップコンデンサ 25 FETチップ 26 金線 27 調整ビス 28 シールドケース 29 空洞部分 REFERENCE SIGNS LIST 1 ground conductor 2 semiconductor substrate 3 center conductor 4 dielectric resonator 6, 6 a, 6 b support 7 insulating film 12 MIM capacitor 15 matching open stub 16 return line 17 波長 wavelength line 18 gate electrode 19 drain electrode 20 source Electrode 21 Active layer 22 Insulating substrate 23 Metal block 24 Chip capacitor 25 FET chip 26 Gold wire 27 Adjustment screw 28 Shield case 29 Hollow part

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01P 7/10 H03B 5/18Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H01P 7/10 H03B 5/18

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 マイクロストリップ線路に誘電体共振器
を磁気的に結合させたマイクロ波回路において、 前記マイクロストリップ線路の一部を構成する基板の表
面に、前記誘電体共振器の底面よりも大なる表面を有す
支持台を介して誘電体共振器を固定し、かつ、前記
マイクロストリップ線路の一部を構成する中心導体を前
記支持台の該誘電体共振器に対してはみ出した表面部分
及び前記基板の表面のそれぞれに形成したことを特徴と
するマイクロ波回路。
1. A microwave circuit in which a dielectric resonator is magnetically coupled to a microstrip line, wherein a surface of a substrate constituting a part of the microstrip line is larger than a bottom surface of the dielectric resonator. Have a surface
That through the support base to fix the dielectric resonators, and the surface portion protruding center conductor forming a part relative to the support base of the dielectric resonator of the microstrip line <br/> And a microwave circuit formed on each of the surfaces of the substrate.
【請求項2】 前記支持台は、前記基板のエッチングに
より形成されていることを特徴とする請求項1記載のマ
イクロ波回路。
2. The microwave circuit according to claim 1, wherein said support base is formed by etching said substrate.
【請求項3】 前記支持台は、前記基板上に堆積された
絶縁膜により形成されていることを特徴とする請求項1
記載のマイクロ波回路。
3. The apparatus according to claim 1, wherein the support is formed of an insulating film deposited on the substrate.
The microwave circuit as described.
【請求項4】 前記中心導体は、トランジスタに接続さ
れてモノリシック集積回路化されていることを特徴とす
る請求項1記載のマイクロ波回路。
4. The microwave circuit according to claim 1, wherein said center conductor is connected to a transistor to form a monolithic integrated circuit.
【請求項5】 前記支持台が形成されている基板は、少
なくとも前記中心導体に接続された帰還用線路と、キャ
パシタが表面に形成された絶縁性基板であり、前記中心
導体がトランジスタチップに接続線を介して接続されて
ハイブリッド集積回路化されていることを特徴とする請
求項1記載のマイクロ波回路。
5. The substrate on which the support base is formed is at least a feedback line connected to the center conductor and an insulating substrate having a capacitor formed on a surface thereof, and the center conductor is connected to a transistor chip. 2. The microwave circuit according to claim 1, wherein the microwave circuit is connected via a line to form a hybrid integrated circuit.
【請求項6】 前記支持台は、前記誘電体共振器との接
合部分の一部が空洞部分とされていることを特徴とする
請求項1乃至3のうちいずれか一項記載のマイクロ波回
路。
6. The microwave circuit according to claim 1, wherein a part of a joining portion of the support table with the dielectric resonator is a hollow portion. .
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