JP2894652B2 - 多環性オレフィンの製造方法 - Google Patents
多環性オレフィンの製造方法Info
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は多環性オレフィンの製造
方法に関する。本発明により得られる立体の制御された
多環性オレフィンは各種生理活性を有するテルペノイド
もしくはステロイドまたはそれらの合成中間体として有
用である。
方法に関する。本発明により得られる立体の制御された
多環性オレフィンは各種生理活性を有するテルペノイド
もしくはステロイドまたはそれらの合成中間体として有
用である。
【0002】
【従来の技術】従来、テルペノイドおよびステロイドの
合成において、2つの隣接する環の立体を制御しようと
する試みがなされてきている。例えば、3β,20−ジ
ヒドロキシプロスト−24−エンの全合成において、3
β−ヒドロキシ−4−エン構造のAB環を有する中間体
をニトロメタン中、トシルヒドラジドで処理して3α−
ヒドラジン誘導体とし、次いで酢酸中、酢酸ナトリウム
と加温することにより、5α−3エン構造のAB環を有
する中間体に変換する方法が知られている〔E.J.Corey
ら、ジャ−ナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
アティ−(Journalof American Chemical Society)、1
12 、6429-6431 (1990)参照〕。しかしながら、テルペ
ノイド骨格またはステロイド骨格を有する広範な化合物
の立体特異的な合成に適用できる方法はほとんど知られ
ていない。
合成において、2つの隣接する環の立体を制御しようと
する試みがなされてきている。例えば、3β,20−ジ
ヒドロキシプロスト−24−エンの全合成において、3
β−ヒドロキシ−4−エン構造のAB環を有する中間体
をニトロメタン中、トシルヒドラジドで処理して3α−
ヒドラジン誘導体とし、次いで酢酸中、酢酸ナトリウム
と加温することにより、5α−3エン構造のAB環を有
する中間体に変換する方法が知られている〔E.J.Corey
ら、ジャ−ナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
アティ−(Journalof American Chemical Society)、1
12 、6429-6431 (1990)参照〕。しかしながら、テルペ
ノイド骨格またはステロイド骨格を有する広範な化合物
の立体特異的な合成に適用できる方法はほとんど知られ
ていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】したがって、テルペノ
イドおよびステロイドの合成に適用可能な、多環性化合
物の新しい立体特異的な合成法の開発が望まれているの
が現状である。
イドおよびステロイドの合成に適用可能な、多環性化合
物の新しい立体特異的な合成法の開発が望まれているの
が現状である。
【0004】しかして、本発明の目的は、ヒドロインデ
ン骨格またはヒドロナフタレン骨格の環結合部位が立体
特異的に制御されたテルペノイド、ステロイドおよびそ
れらの合成中間体などの多環性オレフィンの製造方法を
提供することにある。
ン骨格またはヒドロナフタレン骨格の環結合部位が立体
特異的に制御されたテルペノイド、ステロイドおよびそ
れらの合成中間体などの多環性オレフィンの製造方法を
提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、下記一般式(I)
目的は、下記一般式(I)
【0006】
【化5】
【0007】(式中、R 1 は水素原子、置換基を有して
いてもよいアルキル基、アルコキシカルボニル基または
アシル基を表し、R 4 は水素原子またはアルキル基を表
し、R 21 、R 22 、R 31 、R 32 、R 51 、R 52 、R 61 、
R 62 、R 71 、R 72 、R 81 およびR 82 はそれぞれ水素原子
または有機基を表し、R 21 、R 22 、R 31 およびR 32 、ま
たはR 51 、R 52 、R 61 およびR 62 はそれぞれそれらが結
合している炭素原子と一緒になって環を形成していても
よく、mおよびnは0または1の整数を表す。)で示さ
れる多環性アリルフォルメートをパラジウム触媒の存在
下に還元することを特徴とする、下記一般式(III)
いてもよいアルキル基、アルコキシカルボニル基または
アシル基を表し、R 4 は水素原子またはアルキル基を表
し、R 21 、R 22 、R 31 、R 32 、R 51 、R 52 、R 61 、
R 62 、R 71 、R 72 、R 81 およびR 82 はそれぞれ水素原子
または有機基を表し、R 21 、R 22 、R 31 およびR 32 、ま
たはR 51 、R 52 、R 61 およびR 62 はそれぞれそれらが結
合している炭素原子と一緒になって環を形成していても
よく、mおよびnは0または1の整数を表す。)で示さ
れる多環性アリルフォルメートをパラジウム触媒の存在
下に還元することを特徴とする、下記一般式(III)
【0008】
【化6】
【0009】(式中、R 1 、R 4 、R 21 、R 22 、R 31 、R
32 、R 51 、R 52 、R 61 、R 62 、R 71 、R 72 、R 81 、
R 82 、mおよびnは前記定義のとおりである。)で示さ
れる多環性オレフィンの製造方法、および下記一般式
(II)
32 、R 51 、R 52 、R 61 、R 62 、R 71 、R 72 、R 81 、
R 82 、mおよびnは前記定義のとおりである。)で示さ
れる多環性オレフィンの製造方法、および下記一般式
(II)
【0010】
【化7】
【0011】(式中、R 1 、R 4 、R 21 、R 22 、R 31 、R
32 、R 51 、R 52 、R 61 、R 62 、R 71 、R 72 、R 81 、
R 82 、mおよびnは前記定義のとおりである。)で示さ
れる多環性アリルフォルメートをパラジウム触媒の存在
下に還元することを特徴とする、下記一般式(IV)
32 、R 51 、R 52 、R 61 、R 62 、R 71 、R 72 、R 81 、
R 82 、mおよびnは前記定義のとおりである。)で示さ
れる多環性アリルフォルメートをパラジウム触媒の存在
下に還元することを特徴とする、下記一般式(IV)
【0012】
【化8】
【0013】(式中、R 1 、R 4 、R 21 、R 22 、R 31 、R
32 、R 51 、R 52 、R 61 、R 62 、R 71 、R 72 、R 81 、
R 82 、mおよびnは前記定義のとおりである。)で示さ
れる多環性オレフィンの製造方法を提供することによっ
て達成される。
32 、R 51 、R 52 、R 61 、R 62 、R 71 、R 72 、R 81 、
R 82 、mおよびnは前記定義のとおりである。)で示さ
れる多環性オレフィンの製造方法を提供することによっ
て達成される。
【0014】R 1 およびR 4 が表すアルキル基としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基など
の直鎖状または分岐状の炭素数1〜6の低級アルキル基
が好ましい。R 1 が表すアルキル基が有していてもよい
置換基としては、水酸基、保護された水酸基、ハロゲン
原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基などが
挙げられる。R 1 が表すアルコキシカルボニル基として
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブ
トキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基など
を挙げることができる。また、R 1 が表すアシル基とし
ては、アセチル基、プロパノイル基、p−メトキシベン
ゾイル基などが挙げられる。
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基など
の直鎖状または分岐状の炭素数1〜6の低級アルキル基
が好ましい。R 1 が表すアルキル基が有していてもよい
置換基としては、水酸基、保護された水酸基、ハロゲン
原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基などが
挙げられる。R 1 が表すアルコキシカルボニル基として
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブ
トキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基など
を挙げることができる。また、R 1 が表すアシル基とし
ては、アセチル基、プロパノイル基、p−メトキシベン
ゾイル基などが挙げられる。
【0015】R 21 、R 22 、R 31 、R 32 、R 51 、R 52 、R
61 、R 62 、R 71 、R 72 、R 81 およびR 82 がそれぞれ表す
有機基としては水酸基、保護された水酸基、アルキル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基などが挙げられ
る。また、R 21 、R 22 、R 31 およびR 32 、またはR 51 、
R 52 、R 61 およびR 62 はそれぞれそれらが結合している
炭素原子と一緒になって環を形成し、テルペノイド、ス
テロイドおよびそれらの合成中間体などの多環性オレフ
ィンの骨格を構成してもよい。
61 、R 62 、R 71 、R 72 、R 81 およびR 82 がそれぞれ表す
有機基としては水酸基、保護された水酸基、アルキル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基などが挙げられ
る。また、R 21 、R 22 、R 31 およびR 32 、またはR 51 、
R 52 、R 61 およびR 62 はそれぞれそれらが結合している
炭素原子と一緒になって環を形成し、テルペノイド、ス
テロイドおよびそれらの合成中間体などの多環性オレフ
ィンの骨格を構成してもよい。
【0016】上記多環性オレフィンとしては、例えば、
3a,7a−トランス−1β−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−7aβ−メチル−2,3,3a,6,7,7
a−ヘキサヒドロインデン等のヒドロインデン骨格を有
する化合物、4a,8a−トランス−1β−t−ブチル
ジメチルシリルオキシ−8aβ−メチル−1,2,3,
4,4a,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン等の
ヒドロナフタレン骨格を有する化合物または5α−コレ
スト−3−エンおよび17−t−ブチルジメチルシリル
オキシ−5α−アンドロスタ−3−エン等のステロイド
骨格を有する化合物などが挙げられる。
3a,7a−トランス−1β−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−7aβ−メチル−2,3,3a,6,7,7
a−ヘキサヒドロインデン等のヒドロインデン骨格を有
する化合物、4a,8a−トランス−1β−t−ブチル
ジメチルシリルオキシ−8aβ−メチル−1,2,3,
4,4a,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン等の
ヒドロナフタレン骨格を有する化合物または5α−コレ
スト−3−エンおよび17−t−ブチルジメチルシリル
オキシ−5α−アンドロスタ−3−エン等のステロイド
骨格を有する化合物などが挙げられる。
【0017】パラジウム触媒としては、パラジウムアセ
チルアセトナート、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、
硝酸パラジウム、ビス(アセトニトリル)パラジウムク
ロライド、トリス(ジベンジリデンアセトン)パラジウ
ム・クロロホルムなどのパラジウム塩が挙げられるが、
これらのパラジウム触媒はトリブチルホスフィン、トリ
ヘキシルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシ
クロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ト
リトリルホスフィンなどのホスフィン、またはトリメチ
ルホスファイト、トリエチルホスファイトなどのホスフ
ァイトと組合せて用いることが適当であり、必要に応じ
てさらにトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ンなどの塩基を併用することが好ましい。特に、パラジ
ウムアセチルアセトナートまたは酢酸パラジウムとトリ
ブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリオク
チルホスフィンなどのトリアルキルホスフィンとを等モ
ル用いることが好ましい。
チルアセトナート、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、
硝酸パラジウム、ビス(アセトニトリル)パラジウムク
ロライド、トリス(ジベンジリデンアセトン)パラジウ
ム・クロロホルムなどのパラジウム塩が挙げられるが、
これらのパラジウム触媒はトリブチルホスフィン、トリ
ヘキシルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシ
クロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ト
リトリルホスフィンなどのホスフィン、またはトリメチ
ルホスファイト、トリエチルホスファイトなどのホスフ
ァイトと組合せて用いることが適当であり、必要に応じ
てさらにトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ンなどの塩基を併用することが好ましい。特に、パラジ
ウムアセチルアセトナートまたは酢酸パラジウムとトリ
ブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリオク
チルホスフィンなどのトリアルキルホスフィンとを等モ
ル用いることが好ましい。
【0018】パラジウム触媒は多環性アリルフォルメー
トに対して0.0001〜1当量の範囲で使用するのが
好ましく、0.01〜0.2当量の範囲で使用するのが
より好ましい。
トに対して0.0001〜1当量の範囲で使用するのが
好ましく、0.01〜0.2当量の範囲で使用するのが
より好ましい。
【0019】反応は通常0℃〜120℃の範囲の温度で
行うのが好ましく、0℃〜室温の範囲の温度で行うのが
より好ましい。反応は有機溶媒の存在下または不存在化
に行われ、有機溶媒としては、例えばヘキサン、ベンゼ
ンなどの炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、クロロホルムなどが使用可能であるが、テトラヒド
ロフランを使用するのが好ましい。
行うのが好ましく、0℃〜室温の範囲の温度で行うのが
より好ましい。反応は有機溶媒の存在下または不存在化
に行われ、有機溶媒としては、例えばヘキサン、ベンゼ
ンなどの炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、クロロホルムなどが使用可能であるが、テトラヒド
ロフランを使用するのが好ましい。
【0020】原料となる多環性アリルフォルメ−トは対
応する公知化合物であるアリルアルコ−ルをフォルミル
化することにより合成できる。このフォルミル化は一般
的なエステル化反応と同様にして行うことができる。例
えば、アリルアルコ−ルにピリジンの存在下にギ酸・酢
酸混合酸無水物を作用させることにより対応するアリル
フォルメ−トを得ることができる〔ヘルブェチカ・キミ
カ・アクタ(Helv. Chim. Acta)、37、45 (1954)参
照〕。
応する公知化合物であるアリルアルコ−ルをフォルミル
化することにより合成できる。このフォルミル化は一般
的なエステル化反応と同様にして行うことができる。例
えば、アリルアルコ−ルにピリジンの存在下にギ酸・酢
酸混合酸無水物を作用させることにより対応するアリル
フォルメ−トを得ることができる〔ヘルブェチカ・キミ
カ・アクタ(Helv. Chim. Acta)、37、45 (1954)参
照〕。
【0021】上記方法により得られる多環性アリルフォ
ルメートはその立体構造によりα−フォルメート(I)
とβ−フォルメート(II)とに分類される。本発明に
おいてα−フォルメート(I)を原料として使用した場
合には多環性オレフィンのβ−水素体(III)が得ら
れ、またβ−フォルメート(II)を原料として使用し
た場合には多環性オレフィンのα−水素体(IV)が得
られる。すなわち、本発明における反応によれば、水素
原子が環平面に対しフォルミルオキシ基と逆の面から、
二重結合の移動を伴いながら基質を攻撃して多環性オレ
フィンが得られる。
ルメートはその立体構造によりα−フォルメート(I)
とβ−フォルメート(II)とに分類される。本発明に
おいてα−フォルメート(I)を原料として使用した場
合には多環性オレフィンのβ−水素体(III)が得ら
れ、またβ−フォルメート(II)を原料として使用し
た場合には多環性オレフィンのα−水素体(IV)が得
られる。すなわち、本発明における反応によれば、水素
原子が環平面に対しフォルミルオキシ基と逆の面から、
二重結合の移動を伴いながら基質を攻撃して多環性オレ
フィンが得られる。
【0022】このようにして得られた多環性オレフィン
の反応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応にお
いて用いられる単離・精製方法と同様にして行うことが
できる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエ
ーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸、重曹水、食
塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、さら
に必要に応じて再結晶・クロマトグラフィ−などにより
精製し、多環性オレフィンを単離する。
の反応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応にお
いて用いられる単離・精製方法と同様にして行うことが
できる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエ
ーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸、重曹水、食
塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、さら
に必要に応じて再結晶・クロマトグラフィ−などにより
精製し、多環性オレフィンを単離する。
【0023】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例により限定されるもの
ではない。
するが、本発明はこれらの実施例により限定されるもの
ではない。
【0024】 実施例1 アルゴン雰囲気下、パラジウムアセチルアセトナート4
5.7mgとテトラヒドロフラン2mlからなる混合液
に室温でトリブチルホスフィン0.037mlを加え、
5分間撹拌し、触媒溶液を調製した。1β−t−ブチル
ジメチルシリルオキシ−7aβ−メチル−2,3,5,
6,7,7a−ヘキサヒドロインデン−5β−イル フ
ォルメート155mgをテトラヒドロフラン0.5ml
に溶解し、室温で撹拌しながら、上記の触媒溶液0.4
mlを加え、30分間撹拌した。得られた反応液を、ジ
エチルエーテルを溶離液として用いてフロリジル濾過
し、溶出液を減圧下に濃縮した。得られた濃縮液を塩化
メチレンに溶解し、副生した異環性ジエンを0℃で少過
剰のm−クロル過安息香酸で処理することにより除去し
た。その後、上記塩化メチレン溶液に、撹拌しながらチ
オ硫酸ナトリウム水溶液を加え分液した。有機層を重曹
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで減圧
下に濃縮した。得られた濃縮液をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィ−で精製することにより、下記の物性を有
する3a,7a−トランス−1β−t−ブチルジメチル
シリルオキシ−7aβ−メチル−2,3,3a,6,
7,7a−ヘキサヒドロインデンを109.1mg得た
(収率82%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.017(s,3H),0.023(s,3H),
0.730(s,3H),0.890(s,9H),
1.250−2.150(m,9H),3.651(d
d,J=8.98,7.15Hz,1H),5.500
−5.620(m,2H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: −4.82,−4.50,10.59,18.11,2
4.12,24.31,25.86,31.20,3
3.97,42.77,42.85,80.39,12
6.64,128.16
5.7mgとテトラヒドロフラン2mlからなる混合液
に室温でトリブチルホスフィン0.037mlを加え、
5分間撹拌し、触媒溶液を調製した。1β−t−ブチル
ジメチルシリルオキシ−7aβ−メチル−2,3,5,
6,7,7a−ヘキサヒドロインデン−5β−イル フ
ォルメート155mgをテトラヒドロフラン0.5ml
に溶解し、室温で撹拌しながら、上記の触媒溶液0.4
mlを加え、30分間撹拌した。得られた反応液を、ジ
エチルエーテルを溶離液として用いてフロリジル濾過
し、溶出液を減圧下に濃縮した。得られた濃縮液を塩化
メチレンに溶解し、副生した異環性ジエンを0℃で少過
剰のm−クロル過安息香酸で処理することにより除去し
た。その後、上記塩化メチレン溶液に、撹拌しながらチ
オ硫酸ナトリウム水溶液を加え分液した。有機層を重曹
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで減圧
下に濃縮した。得られた濃縮液をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィ−で精製することにより、下記の物性を有
する3a,7a−トランス−1β−t−ブチルジメチル
シリルオキシ−7aβ−メチル−2,3,3a,6,
7,7a−ヘキサヒドロインデンを109.1mg得た
(収率82%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.017(s,3H),0.023(s,3H),
0.730(s,3H),0.890(s,9H),
1.250−2.150(m,9H),3.651(d
d,J=8.98,7.15Hz,1H),5.500
−5.620(m,2H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: −4.82,−4.50,10.59,18.11,2
4.12,24.31,25.86,31.20,3
3.97,42.77,42.85,80.39,12
6.64,128.16
【0025】 実施例2 実施例1において、1β−t−ブチルジメチルシリルオ
キシ−7aβ−メチル−2,3,5,6,7,7a−ヘ
キサヒドロインデン−5β−イル フォルメート155
mgの代わりに1β−t−ブチルジメチルシリルオキシ
−7aβ−メチル−2,3,5,6,7,7a−ヘキサ
ヒドロインデン−5α−イル フォルメート155mg
を用い、反応時間を0.5時間から2.5時間に変えた
以外は実施例1と同様に反応および分離精製することに
より、下記の物性を有する3a,7a−シス−1β−t
−ブチルジメチルシリルオキシ−7aβ−メチル−2,
3,3a,6,7,7a−ヘキサヒドロインデンを7
5.8mg得た(収率57%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.026(s,3H),0.032(s,3H),
0.892(s,12H),1.170−1.560
(m,4H),1.900−2.180(m,5H),
3.773(dd,J=7.60,5.84Hz,1
H),5.540−5.640(m,2H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: −4.88,−4.44,18.09,20.44,2
1.93,25.86,28.59,29.65,3
2.41,42.99,43.29,78.30,12
4.30,131.56
キシ−7aβ−メチル−2,3,5,6,7,7a−ヘ
キサヒドロインデン−5β−イル フォルメート155
mgの代わりに1β−t−ブチルジメチルシリルオキシ
−7aβ−メチル−2,3,5,6,7,7a−ヘキサ
ヒドロインデン−5α−イル フォルメート155mg
を用い、反応時間を0.5時間から2.5時間に変えた
以外は実施例1と同様に反応および分離精製することに
より、下記の物性を有する3a,7a−シス−1β−t
−ブチルジメチルシリルオキシ−7aβ−メチル−2,
3,3a,6,7,7a−ヘキサヒドロインデンを7
5.8mg得た(収率57%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.026(s,3H),0.032(s,3H),
0.892(s,12H),1.170−1.560
(m,4H),1.900−2.180(m,5H),
3.773(dd,J=7.60,5.84Hz,1
H),5.540−5.640(m,2H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: −4.88,−4.44,18.09,20.44,2
1.93,25.86,28.59,29.65,3
2.41,42.99,43.29,78.30,12
4.30,131.56
【0026】 実施例3 実施例1において、1β−t−ブチルジメチルシリルオ
キシ−7aβ−メチル−2,3,5,6,7,7a−ヘ
キサヒドロインデン−5β−イル フォルメート155
mgの代わりに、1β−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−8aβ−メチル−1,2,3,4,6,7,8,8
a−オクタヒドロナフタレン−6β−イル フォルメー
ト162mgを用い、反応時間を0.5時間から2.0
時間に変えた以外は実施例1と同様に反応および分離精
製することにより、下記の物性を有する4a,8a−ト
ランス−1β−t−ブチルジメチルシリルオキシ−8a
β−メチル−1,2,3,4,4a,7,8,8a−オ
クタヒドロナフタレンを128.8mg得た(収率92
%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.028(s,6H),0.770(s,3H),
0.888(s,9H),1.090−2.100
(m,11H),3.238(dd,J=7.70,
7.69Hz,1H),5.280−5.330(m,
1H),5.520−5.590(m,1H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: −4.82,−3.79,9.66,18.09,2
3.20,24.59,25.90,26.59,3
0.98,33.43,38.18,43.02,7
8.52,125.95,130.26
キシ−7aβ−メチル−2,3,5,6,7,7a−ヘ
キサヒドロインデン−5β−イル フォルメート155
mgの代わりに、1β−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−8aβ−メチル−1,2,3,4,6,7,8,8
a−オクタヒドロナフタレン−6β−イル フォルメー
ト162mgを用い、反応時間を0.5時間から2.0
時間に変えた以外は実施例1と同様に反応および分離精
製することにより、下記の物性を有する4a,8a−ト
ランス−1β−t−ブチルジメチルシリルオキシ−8a
β−メチル−1,2,3,4,4a,7,8,8a−オ
クタヒドロナフタレンを128.8mg得た(収率92
%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.028(s,6H),0.770(s,3H),
0.888(s,9H),1.090−2.100
(m,11H),3.238(dd,J=7.70,
7.69Hz,1H),5.280−5.330(m,
1H),5.520−5.590(m,1H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: −4.82,−3.79,9.66,18.09,2
3.20,24.59,25.90,26.59,3
0.98,33.43,38.18,43.02,7
8.52,125.95,130.26
【0027】 実施例4 実施例1において、1β−t−ブチルジメチルシリルオ
キシ−7aβ−メチル−2,3,5,6,7,7a−ヘ
キサヒドロインデン−5β−イル フォルメート155
mgの代わりに、1β−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−8aβ−メチル−1,2,3,4,6,7,8,8
a−オクタヒドロナフタレン−6α−イル フォルメー
ト162mgを用い、反応時間を0.5時間から1.0
時間に変えた以外は実施例1と同様に反応および分離精
製することにより、下記の物性を有する4a,8a−シ
ス−1β−t−ブチルジメチルシリルオキシ−8aβ−
メチル−1,2,3,4,4a,7,8,8a−オクタ
ヒドロナフタレンを125mg得た(収率89%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.036(s,3H),0.039(s,3H),
0.891(s,9H),0.940(s,3H),
1.080−2.150(m,11H),3.620
(dd,J=9.53,4.03Hz,1H),5.3
50−5.410(m,1H),5.600−5.67
0(m,1H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: −4.82,−3.74,14.12,18.12,2
0.93,22.57,25.86,28.19,3
1.03,31.61,36.59,41.33,7
0.51,126.62,131.91
キシ−7aβ−メチル−2,3,5,6,7,7a−ヘ
キサヒドロインデン−5β−イル フォルメート155
mgの代わりに、1β−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−8aβ−メチル−1,2,3,4,6,7,8,8
a−オクタヒドロナフタレン−6α−イル フォルメー
ト162mgを用い、反応時間を0.5時間から1.0
時間に変えた以外は実施例1と同様に反応および分離精
製することにより、下記の物性を有する4a,8a−シ
ス−1β−t−ブチルジメチルシリルオキシ−8aβ−
メチル−1,2,3,4,4a,7,8,8a−オクタ
ヒドロナフタレンを125mg得た(収率89%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.036(s,3H),0.039(s,3H),
0.891(s,9H),0.940(s,3H),
1.080−2.150(m,11H),3.620
(dd,J=9.53,4.03Hz,1H),5.3
50−5.410(m,1H),5.600−5.67
0(m,1H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: −4.82,−3.74,14.12,18.12,2
0.93,22.57,25.86,28.19,3
1.03,31.61,36.59,41.33,7
0.51,126.62,131.91
【0028】 実施例5 アルゴン雰囲気下、酢酸パラジウム28.0mgとテト
ラヒドロフラン2mlからなる混合液に室温でトリブチ
ルホスフィン0.031mlを加え、5分間撹拌し、触
媒溶液を調製した。コレスト−4−エン−3β−イル
フォルメート207mgをテトラヒドロフラン0.5m
lに溶解し、室温で撹拌しながら、上記の触媒溶液0.
4mlを加え、2時間撹拌した。得られた反応液を、ジ
エチルエーテルを溶離液として用いてフロリジル濾過
し、溶出液を減圧下に濃縮した。濃縮残渣を塩化メチレ
ンに溶解し、副生したジエンを0℃で少過剰のm−クロ
ル過安息香酸で処理することにより除去した。その後、
上記塩化メチレン溶液に、撹拌しながらチオ硫酸ナトリ
ウム水溶液を加え分液した。有機層を重曹水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで減圧下に濃縮し
た。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィ−で精製することにより、下記の物性を有する5α
−コレスト−3−エンを148mg得た(収率80
%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.668(s,3H),0.772(s,3H),
0.865(d,J=6.60Hz,3H),0.86
9(d,J=6.60Hz,3H),0.910(d,
J=6.60Hz,3H),0.920−2.080
(m,29H),5.250−5.300(m,1
H),5.500−5.560(m,1H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: 11.87,12.17,18.67,21.08,2
2.57,22.82,23.52,23.87,2
4.19,27.50,28.02,28.27,3
2.10,34.14,34.90,35.61,3
5.83,36.20,39.53,40.11,4
2.75,45.92,53.43,56.32,5
6.55,125.41,131.48
ラヒドロフラン2mlからなる混合液に室温でトリブチ
ルホスフィン0.031mlを加え、5分間撹拌し、触
媒溶液を調製した。コレスト−4−エン−3β−イル
フォルメート207mgをテトラヒドロフラン0.5m
lに溶解し、室温で撹拌しながら、上記の触媒溶液0.
4mlを加え、2時間撹拌した。得られた反応液を、ジ
エチルエーテルを溶離液として用いてフロリジル濾過
し、溶出液を減圧下に濃縮した。濃縮残渣を塩化メチレ
ンに溶解し、副生したジエンを0℃で少過剰のm−クロ
ル過安息香酸で処理することにより除去した。その後、
上記塩化メチレン溶液に、撹拌しながらチオ硫酸ナトリ
ウム水溶液を加え分液した。有機層を重曹水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで減圧下に濃縮し
た。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィ−で精製することにより、下記の物性を有する5α
−コレスト−3−エンを148mg得た(収率80
%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.668(s,3H),0.772(s,3H),
0.865(d,J=6.60Hz,3H),0.86
9(d,J=6.60Hz,3H),0.910(d,
J=6.60Hz,3H),0.920−2.080
(m,29H),5.250−5.300(m,1
H),5.500−5.560(m,1H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: 11.87,12.17,18.67,21.08,2
2.57,22.82,23.52,23.87,2
4.19,27.50,28.02,28.27,3
2.10,34.14,34.90,35.61,3
5.83,36.20,39.53,40.11,4
2.75,45.92,53.43,56.32,5
6.55,125.41,131.48
【0029】 実施例6 コレスト−4−エン−3α−イル フォルメート202
mgをテトラヒドロフラン0.5mlに溶解し、室温で
撹拌しながら、実施例5にて調製した触媒溶液0.4m
lを加え、2時間撹拌した。得られた反応液を、ジエチ
ルエーテルを溶離液として用いてフロリジル濾過し、溶
出液を減圧下に濃縮した。濃縮残渣を塩化メチレンに溶
解し、副生したジエンを0℃で少過剰のm−クロル過安
息香酸で処理することにより除去した。その後、上記塩
化メチレン溶液に、撹拌しながらチオ硫酸ナトリウム水
溶液を加え分液した。有機層を重曹水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、次いで減圧下に濃縮した。得ら
れた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−で
精製することにより、下記の物性を有する5β−コレス
ト−3−エンを165mg得た(収率89%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.661(s,3H),0.862(d,J=6.6
0Hz,3H),0.865(d,J=6.60Hz,
3H),0.900(d,J=6.60Hz,3H),
0.950(s,3H),0.960−2.050
(m,29H),5.310−5.360(m,1
H),5.620−5.690(m,1H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: 12.00,18.70,21.50,22.42,2
2.56,22.80,22.96,23.82,2
4.30,27.50,27.69,28.02,2
8.31,33.53,34.03,35.63,3
5.80,36.19,39.53,40.33,4
0.89,42.68,43.50,56.28,5
6.34,126.98,132.39
mgをテトラヒドロフラン0.5mlに溶解し、室温で
撹拌しながら、実施例5にて調製した触媒溶液0.4m
lを加え、2時間撹拌した。得られた反応液を、ジエチ
ルエーテルを溶離液として用いてフロリジル濾過し、溶
出液を減圧下に濃縮した。濃縮残渣を塩化メチレンに溶
解し、副生したジエンを0℃で少過剰のm−クロル過安
息香酸で処理することにより除去した。その後、上記塩
化メチレン溶液に、撹拌しながらチオ硫酸ナトリウム水
溶液を加え分液した。有機層を重曹水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、次いで減圧下に濃縮した。得ら
れた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−で
精製することにより、下記の物性を有する5β−コレス
ト−3−エンを165mg得た(収率89%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.661(s,3H),0.862(d,J=6.6
0Hz,3H),0.865(d,J=6.60Hz,
3H),0.900(d,J=6.60Hz,3H),
0.950(s,3H),0.960−2.050
(m,29H),5.310−5.360(m,1
H),5.620−5.690(m,1H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: 12.00,18.70,21.50,22.42,2
2.56,22.80,22.96,23.82,2
4.30,27.50,27.69,28.02,2
8.31,33.53,34.03,35.63,3
5.80,36.19,39.53,40.33,4
0.89,42.68,43.50,56.28,5
6.34,126.98,132.39
【0030】 実施例7 17−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4−アンドロ
ステン−3β−イルフォルメート216mgをテトラヒ
ドロフラン0.7mlに溶解し、室温で撹拌しながら、
実施例5にて調製した触媒溶液0.37mlを加え、
1.5時間撹拌した。得られた反応液を、ジエチルエー
テルを溶離液として用いてフロリジル濾過し、溶出液を
減圧下に濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ−で精製することにより、下記の物性を有す
る17−t−ブチルジメチルシリルオキシ−5α−アン
ドロスタ−3−エンを192.2mg得た(収率99.
1%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.001(s,3H),0.010(s,3H),
0.708(s,3H),0.778(s,3H),
0.879(s,9H),0.800−2.090
(m,20H),3.548(dd,J=8.43,
8.43Hz,1H),5.250−5.300(m,
1H),5.520−5.580(m,1H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: −4.81,−4.50,11.49,11.90,1
8.11,20.70,23.52,23.53,2
5.87,27.38,30.95,31.71,3
4.16,35.00,35.70,37.25,4
3.47,46.03,50.76,53.73,8
1.87,125.45,131.40
ステン−3β−イルフォルメート216mgをテトラヒ
ドロフラン0.7mlに溶解し、室温で撹拌しながら、
実施例5にて調製した触媒溶液0.37mlを加え、
1.5時間撹拌した。得られた反応液を、ジエチルエー
テルを溶離液として用いてフロリジル濾過し、溶出液を
減圧下に濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ−で精製することにより、下記の物性を有す
る17−t−ブチルジメチルシリルオキシ−5α−アン
ドロスタ−3−エンを192.2mg得た(収率99.
1%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: 0.001(s,3H),0.010(s,3H),
0.708(s,3H),0.778(s,3H),
0.879(s,9H),0.800−2.090
(m,20H),3.548(dd,J=8.43,
8.43Hz,1H),5.250−5.300(m,
1H),5.520−5.580(m,1H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: −4.81,−4.50,11.49,11.90,1
8.11,20.70,23.52,23.53,2
5.87,27.38,30.95,31.71,3
4.16,35.00,35.70,37.25,4
3.47,46.03,50.76,53.73,8
1.87,125.45,131.40
【0031】 実施例8 17−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4−アンドロ
ステン−3α−イルフォルメート75mgをテトラヒド
ロフラン0.5mlに溶解し、室温で撹拌しながら、実
施例5にて調製した触媒溶液0.13mlを加え、1.
5時間撹拌した。得られた反応液を、ジエチルエーテル
を溶離液として用いてフロリジル濾過し、溶出液を減圧
下に濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィ−で精製することにより、下記の物性を有する1
7−t−ブチルジメチルシリルオキシ−5β−アンドロ
スタ−3−エンを63.4mg得た(収率94.6
%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: −0.007(s,3H),0.000(s,3H),
0.698(s,3H),0.874(s,9H),
0.955(s,3H),0.750−2.070
(m,20H),3.534(dd,J=8.42,
8.42),5.300−5.360(m,1H),
5.620−5.690(m,1H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: −4.82,−4.51,11.31,18.12,2
1.11,22.39,22.97,23.59,2
5.87,27.10,27.55,30.98,3
3.63,34.10,35.71,37.48,4
1.20,43.37,43.55,50.48,8
1.91,127.01,132.34
ステン−3α−イルフォルメート75mgをテトラヒド
ロフラン0.5mlに溶解し、室温で撹拌しながら、実
施例5にて調製した触媒溶液0.13mlを加え、1.
5時間撹拌した。得られた反応液を、ジエチルエーテル
を溶離液として用いてフロリジル濾過し、溶出液を減圧
下に濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィ−で精製することにより、下記の物性を有する1
7−t−ブチルジメチルシリルオキシ−5β−アンドロ
スタ−3−エンを63.4mg得た(収率94.6
%)。 1 H −NMRスペクトル(400MHz、CDCl 3 )
δ: −0.007(s,3H),0.000(s,3H),
0.698(s,3H),0.874(s,9H),
0.955(s,3H),0.750−2.070
(m,20H),3.534(dd,J=8.42,
8.42),5.300−5.360(m,1H),
5.620−5.690(m,1H) 13 C −NMR(100MHz、CDCl 3 )δ: −4.82,−4.51,11.31,18.12,2
1.11,22.39,22.97,23.59,2
5.87,27.10,27.55,30.98,3
3.63,34.10,35.71,37.48,4
1.20,43.37,43.55,50.48,8
1.91,127.01,132.34
【0032】
【発明の効果】本発明によれば、ヒドロインデン骨格ま
たはヒドロナフタレン骨格の環結合部位が立体特異的に
制御されたテルペノイド、ステロイドまたはそれらの合
成中間体などの多環性オレフィンを製造することができ
る。
たはヒドロナフタレン骨格の環結合部位が立体特異的に
制御されたテルペノイド、ステロイドまたはそれらの合
成中間体などの多環性オレフィンを製造することができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 1/22 C07C 1/22 13/48 13/48 43/18 43/18 C07F 7/18 C07F 7/18 A C07J 1/00 C07J 1/00 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07C 13/465 B01J 27/13 B01J 27/25 B01J 31/04 B01J 31/12 C07C 1/22 C07C 13/48 CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式(I) 【化1】 (式中、R 1 は水素原子、置換基を有していてもよいア
ルキル基、アルコキシカルボニル基またはアシル基を表
し、R 4 は水素原子またはアルキル基を表し、R 21 、R
22 、R 31 、R 32 、R 51 、R 52 、R 61 、R 62 、R 71 、
R 72 、R 81 およびR 82 はそれぞれ水素原子または有機基
を表し、R 21 、R 22 、R 31 およびR 32 、またはR 51 、R
52 、R 61 およびR 62 はそれぞれそれらが結合している炭
素原子と一緒になって環を形成していてもよく、mおよ
びnは0または1の整数を表す。)で示される多環性ア
リルフォルメートをパラジウム触媒の存在下に還元する
ことを特徴とする、下記一般式(III) 【化2】 (式中、R 1 、R 4 、R 21 、R 22 、R 31 、R 32 、R 51 、R
52 、R 61 、R 62 、R 71 、R 72 、R 81 、R 82 、mおよびn
は前記定義のとおりである。)で示される多環性オレフ
ィンの製造方法。 - 【請求項2】 下記一般式(II) 【化3】 (式中、R 1 は水素原子、置換基を有していてもよいア
ルキル基、アルコキシカルボニル基またはアシル基を表
し、R 4 は水素原子またはアルキル基を表し、R 21 、R
22 、R 31 、R 32 、R 51 、R 52 、R 61 、R 62 、R 71 、
R 72 、R 81 およびR 82 はそれぞれ水素原子または有機基
を表し、R 21 、R 22 、R 31 およびR 32 、またはR 51 、R
52 、R 61 およびR 62 はそれぞれそれらが結合している炭
素原子と一緒になって環を形成していてもよく、mおよ
びnは0または1の整数を表す。)で示される多環性ア
リルフォルメートをパラジウム触媒の存在下に還元する
ことを特徴とする、下記一般式(IV) 【化4】 (式中、R 1 、R 4 、R 21 、R 22 、R 31 、R 32 、R 51 、R
52 、R 61 、R 62 、R 71 、R 72 、R 81 、R 82 、mおよびn
は前記定義のとおりである。)で示される多環性オレフ
ィンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3237453A JP2894652B2 (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 多環性オレフィンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3237453A JP2894652B2 (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 多環性オレフィンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0551329A JPH0551329A (ja) | 1993-03-02 |
| JP2894652B2 true JP2894652B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=17015572
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3237453A Expired - Fee Related JP2894652B2 (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 多環性オレフィンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2894652B2 (ja) |
-
1991
- 1991-08-22 JP JP3237453A patent/JP2894652B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0551329A (ja) | 1993-03-02 |
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