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JP2896451B2 - Photosensitive material processing equipment - Google Patents
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JP2896451B2 - Photosensitive material processing equipment - Google Patents

Photosensitive material processing equipment

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JP2896451B2
JP2896451B2 JP14899792A JP14899792A JP2896451B2 JP 2896451 B2 JP2896451 B2 JP 2896451B2 JP 14899792 A JP14899792 A JP 14899792A JP 14899792 A JP14899792 A JP 14899792A JP 2896451 B2 JP2896451 B2 JP 2896451B2
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photosensitive material
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cathode
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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀感光材料
の現像処理装置において処理液に通電することにより前
記処理液の処理能力を回復する写真感光材料の処理装置
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for processing a photographic light-sensitive material, in which the processing ability of the processing liquid is restored by energizing the processing liquid in a developing apparatus for a silver halide light-sensitive material.

【0002】[0002]

【従来の技術】銀塩写真式複写機や自動現像機において
は、露光済の感光材料に対して湿式処理がなされる。こ
の処理では、通常、各処理槽に貯留された現像液、漂白
液・定着液(または漂白・定着液)に露光済の感光材料
を順次浸漬した後、感光材料に付着したそれらの処理液
を除去するために洗浄が行われる。
2. Description of the Related Art In a silver halide photographic copying machine and an automatic developing machine, wet processing is performed on an exposed photosensitive material. In this process, usually, the exposed photosensitive materials are sequentially immersed in a developer, a bleaching solution and a fixing solution (or a bleaching and fixing solution) stored in each processing tank, and then the processing solutions adhered to the photosensitive material are removed. Cleaning is performed to remove.

【0003】この洗浄においては、一定の洗浄効果を得
るための洗浄液(洗浄水等)の使用量をできるだけ少な
くすることが要請されている。洗浄液の使用量を節約す
るには洗浄槽の設置数を多くすればよいことが知られて
おり、このため、従来では、複数個(2〜9個程度)の
洗浄槽を横方向に並設し、感光材料を各洗浄槽を順次通
過させて洗浄を行う方法が採られていた。
In this cleaning, it is required that the amount of a cleaning liquid (cleaning water or the like) used for obtaining a certain cleaning effect be reduced as much as possible. It is known that the number of cleaning tanks should be increased in order to save the amount of cleaning liquid used. Therefore, conventionally, a plurality of (about 2 to 9) cleaning tanks are arranged side by side in the horizontal direction. However, a method has been adopted in which the photosensitive material is sequentially passed through each washing tank to perform washing.

【0004】しかるに、この方法では、数個の洗浄槽を
並設するため、装置が大型化して設置スペースが必要と
なり、しかも、洗浄に要する時間も長くなるという欠点
がある。このような欠点を解決するために複数の処理室
に区画された処理槽を有し、前記処理室に充填された処
理液中に感光材料を順次搬送することにより処理する感
光材料処理装置(例えば特開平1−267648、同2
−205846、同2−130548、同2−2058
47各号公報に記載)によって、装置の小型化、洗浄液
の使用量の減少、及び洗浄時間の短縮をすることができ
た。
However, in this method, since several washing tanks are arranged in parallel, there is a drawback that the apparatus becomes large, an installation space is required, and the time required for washing becomes long. In order to solve such a drawback, a photosensitive material processing apparatus having a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers and processing the photosensitive material by sequentially transporting the photosensitive material into a processing liquid filled in the processing chamber (for example, JP-A 1-267648, 2
-205846, 2-130548, 2-20558
47 publications), it was possible to reduce the size of the apparatus, reduce the amount of cleaning liquid used, and shorten the cleaning time.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな小型化された多室水洗処理では、感光材料から増感
色素や染料が溶出し、わずかずつではあるが、狭幅の通
路を通して水洗槽に蓄積されて行く。特に、水洗よりも
前段処理液の補充が少なく、かつオーバーフロー排出が
少ない時で、かつ水洗水が低補充処理でオーバーフロー
により排出される廃液が少ない場合には、色素や染料や
前段処理剤成分の濃い水洗水のオーバーフローが排出さ
れる。即ち、本来、現像や定着の際に洗い出されるはず
の感光材料中の増感色素や染料が水洗水中に溶出し、水
洗水中の色素や染料の濃度が高くなり、かつ前段処理剤
成分も濃いものがキャリーオーバされ水洗過程に大きな
負荷がかかってくる。このため、画像の劣化が生じやす
くなり、このような悪影響を防止するためには、水洗水
の性能が低下しないように水洗補充液の量を増加しなけ
ればならなく、更に補充液量の増加と共に廃液量も増加
してしまう。
However, in such a miniaturized multi-chamber rinsing process, the sensitizing dye or dye is eluted from the photographic material, and the sensitizing dye or dye is slightly but gradually narrowed into the rinsing tank through a narrow passage. Go accumulate. In particular, when the replenishment of the pretreatment liquid is less than that of the water washing, and when the overflow discharge is small, and when the washing water is less replenished due to the overflow in the low replenishment processing, the coloring matter, the dye, and the pretreatment agent components are reduced. The overflow of the strong washing water is discharged. That is, the sensitizing dyes and dyes in the photosensitive material that should be washed out during development and fixing are eluted into the washing water, the concentration of the dyes and dyes in the washing water is increased, and the pre-processing component is also concentrated. Things are carried over and a heavy load is imposed on the washing process. For this reason, image deterioration is likely to occur, and in order to prevent such adverse effects, the amount of the replenisher must be increased so that the performance of the wash water does not decrease. At the same time, the amount of waste liquid increases.

【0006】本発明の目的は、多室処理装置を用い低補
充処理を行っても水洗槽に負荷のかからない感光材料処
理装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a photosensitive material processing apparatus in which a washing tank is not loaded even when a low replenishment process is performed using a multi-chamber processing apparatus.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記(1)〜(7)により達成される。 (1) 複数の処理室に区画された処理槽を有し、前記
処理室に充填された処理液中に感光材料を順次搬送する
ことにより処理する感光材料処理装置において、少なく
とも1つの処理室を隔膜で仕切り、該隔膜の両側の各処
理液に接して通電される陰極及び陽極を設置し、前記陽
極の上方にハロゲン捕捉手段を備えたことを特徴とする
感光材料処理装置。 (2) 複数の処理室に区画された処理槽を有し、前記
処理室に充填された処理液中に感光材料を順次搬送する
ことにより処理する感光材料処理装置において、少なく
とも1つの処理室を隔膜で仕切り、該隔膜の両側の各処
理液に接して通電される陰極及び陽極を設置し、前記陽
極は、該処理室へ感光材料が搬入してくる側の部分に設
置されていることを特徴とする感光材料処理装置。 (3) 複数の処理室に区画された処理槽を有し、前記
処理室に充填された処理液中に感光材料を順次搬送する
ことにより処理する感光材料処理装置において、最下室
の処理室を隔膜で上下に仕切り、該隔膜の上方部分に感
光材料の搬入口と搬出口を設け、感光材料が上方部分の
該搬入口から該搬出口へと通過していく、該隔膜の上方
で処理液に接する陰極と該隔膜の下方で処理液に接する
陽極とを設置し、両電極に通電する手段を備えたことを
特徴とする感光材料処理装置。 (4) 前記隔膜の端部に気体通過用通路を設けたこと
を特徴とする前記(3)に記載の感光材料処理装置。 (5) 複数の処理室に区画された処理槽を有し、前記
処理室に充填された処理液中に感光材料を順次搬送する
ことにより処理する感光材料処理装置において、通電さ
れる陽極と陰極とを備え該陰極の下方に排出口を形成し
た通電槽を、最下室の処理室と接続し、該処理室内の処
理液を前記陽極側から前記陰極側に向けて移動するよう
に循環させる送液手段を備えたことを特徴とする感光材
料処理装置。 (6) 複数の処理室に区画された処理槽を有し、前記
処理室に充填された処理液中に感光材料を順次搬送する
ことにより処理する感光材料処理装置において、前記処
理槽を複数の処理室に区画する隔壁に、液圧の変動で開
閉する弁を設けたことを特徴とする感光材料処理装置。 (7) 複数の処理室に区画された処理槽を有し、前記
処理室に充填された処理液中に感光材料を順次搬送する
ことにより処理する感光材料処理装置において、最下室
の処理室が下端に排出口を有する傾斜した底面を有し、
前記処理室内に前記底面側から順に陽極、隔膜、陰極を
設け、両電極に通電する手段を備えたことを特徴とする
感光材料処理装置。
The above object of the present invention is attained by the following (1) to (7). (1) In a photosensitive material processing apparatus which has a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers and sequentially processes a photosensitive material in a processing solution filled in the processing chamber, at least one processing chamber is provided. A photosensitive material processing apparatus, comprising a partition, a cathode and an anode which are energized in contact with each processing solution on both sides of the partition, and a halogen capturing means above the anode. (2) In a photosensitive material processing apparatus having a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers and processing the photosensitive material by sequentially transporting the photosensitive material into a processing solution filled in the processing chamber, at least one processing chamber is provided. Partitioning by a diaphragm, a cathode and an anode which are energized in contact with each processing solution on both sides of the diaphragm are provided, and the anode is provided at a portion where the photosensitive material is carried into the processing chamber. Characteristic photosensitive material processing equipment. (3) In a photosensitive material processing apparatus having a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers and processing the photosensitive material by sequentially transporting the photosensitive material into a processing solution filled in the processing chamber, a processing chamber at a lowermost chamber Are separated into upper and lower parts by a diaphragm, and an entrance and an exit of the photosensitive material are provided in an upper part of the diaphragm, and the photosensitive material passes from the entrance of the upper part to the exit, and is processed above the diaphragm. A photosensitive material processing apparatus comprising: a cathode in contact with the solution; and an anode below the diaphragm, in contact with the processing solution, and means for supplying current to both electrodes. (4) The photosensitive material processing apparatus according to (3), wherein a gas passage is provided at an end of the diaphragm. (5) An anode and a cathode which are energized in a photosensitive material processing apparatus which has a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers and sequentially processes the photosensitive material in a processing solution filled in the processing chamber. A current supply tank having a discharge port below the cathode is connected to the lowermost processing chamber, and the processing liquid in the processing chamber is circulated so as to move from the anode side to the cathode side. A photosensitive material processing apparatus comprising a liquid feeding means. (6) In a photosensitive material processing apparatus having a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers and processing the photosensitive material by sequentially transporting the photosensitive material into a processing solution filled in the processing chamber, the processing tank may include a plurality of processing tanks. A photosensitive material processing apparatus, wherein a valve that opens and closes due to a change in liquid pressure is provided on a partition wall partitioned into a processing chamber. (7) In a photosensitive material processing apparatus having a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers and processing by sequentially transporting the photosensitive material into a processing solution filled in the processing chamber, a lowermost processing chamber Has an inclined bottom surface with a discharge port at the lower end,
An apparatus for processing a photosensitive material, comprising: an anode, a diaphragm, and a cathode provided in the processing chamber in this order from the bottom side, and a means for energizing both electrodes.

【0008】[0008]

【作用】このような構成の感光材料処理装置によれば、
処理室に隔膜をはさんで陽極と陰極を設け通電すること
により、前浴から持ち込まれる感光材料から溶出する増
感色素や染料を分解除去でき、水洗槽の負荷を軽減でき
る。特に低補充処理に多室処理装置を用いた場合に顕著
である。
According to the photosensitive material processing apparatus having such a configuration,
By providing an anode and a cathode with a diaphragm interposed in the processing chamber and energizing, it is possible to decompose and remove sensitizing dyes and dyes eluted from the photosensitive material brought in from the pre-bath and reduce the load on the washing tank. This is particularly noticeable when a multi-chamber processing apparatus is used for low replenishment processing.

【0009】即ち、水洗水の補充量を少なく更に廃液量
も減少でき、得られる画像も良好となる。隔膜をはさん
で陽極と陰極を設け通電する処理室は多室処理装置の最
下室が好ましく、通電により陽極では酸化反応が起こ
り、前浴(定着または漂白定着液)から持ち込まれた臭
素イオンや塩素イオンがハロゲンガスとなり、かつ水の
電解で一部酸素ガスの発生と酸が発生することにより、
該ガスと酸性の液が相乗的に働いて着色水洗中の増感色
素を著しく脱色させ、更に陽極では酸化反応により、水
洗により蓄積しつつある色素、染料及びハイポを分解
し、硫化銀の沈澱物を生じる。つまり、本発明は低補充
の水洗工程で水洗水の再生を可能とすることで、少量の
水洗水でも十分に不要物を洗浄でき、感光材料への汚染
を防ぐことができる。また、洗浄されるべき不要物を通
電により、利用可能な物質とし、更に銀を硫化銀の沈澱
物とすることで、銀の回収を容易にした。陰極では通電
により還元反応が起こり、アルカリの発生と一部銀イオ
ンの還元析出が起こる。アルカリの発生と還元的雰囲気
は陽極で発生したハロゲンガス、酸素ガスを不活性化
し、中和する。
That is, the replenishing amount of the washing water can be reduced and the amount of waste liquid can be reduced, and the obtained image can be improved. The lowermost chamber of a multi-chamber processing apparatus is preferably used as a processing chamber in which an anode and a cathode are provided with a diaphragm interposed, and the lowermost chamber of a multi-chamber processing apparatus. Oxidation reaction occurs at the anode by energization, and bromine ions brought in from a pre-bath (fixing or bleach-fixing solution) And chlorine ions become halogen gas, and part of oxygen gas generation and acid generation by water electrolysis,
The gas and the acidic solution work synergistically to remarkably decolor the sensitizing dye during the color washing, and furthermore, at the anode, an oxidation reaction decomposes the dye, dye and hypo which are accumulating due to the washing, and precipitates silver sulfide. Produces things. In other words, the present invention enables the washing water to be regenerated in the washing step with low replenishment, so that unnecessary substances can be sufficiently washed even with a small amount of washing water, and contamination of the photosensitive material can be prevented. In addition, the recovery of silver was facilitated by turning unnecessary substances to be washed into usable substances by applying electricity, and further forming silver as a precipitate of silver sulfide. At the cathode, a reduction reaction occurs by energization, and generation of alkali and partial reduction precipitation of silver ions occur. The generation of alkali and the reducing atmosphere inactivate and neutralize the halogen gas and oxygen gas generated at the anode.

【0010】また、隔膜をはさんで陽極と陰極を設置し
た場合、隔膜に接している液の前浴の成分の多い側の処
理液に陽極を設けるのが好ましい。このことは前浴成分
のハロゲンの発生、チオ硫酸イオンの分解、酸素の発生
を促進する。その後陽極側で中和を行うことにより水洗
水を効率よく再生できる。また、最下室の処理室を隔膜
で上下に仕切り、隔膜の上方に陰極を隔膜の下方に陽極
を設けた場合、下方陽極では効率的に酸の発生、ハロゲ
ンガスの発生および、酸素の発生がおこり、これらの相
乗作用で色素、染料、前段成分の分解が促進され、分解
沈澱成分は下方に沈澱する。一方発生したハロゲンガス
は上昇して上方陰極で中和不活性化される。従って、感
光材料が隔膜の上方を搬送されるため、色素、染料およ
びチオ硫酸イオンの比較的少ない再生水で処理されるこ
とになり効率の良い水洗が行われる。この場合はかなり
の部分で銀イオンは陰極で還元析出される。また、最下
室の処理室を隔膜で上下に仕切った場合、隔膜の端部に
気体通過用通路を設けるのが好ましく、溶液が該気体通
過用通路を移動し液循環でき、効率良く水洗水を再生で
きる。
When an anode and a cathode are provided with a diaphragm interposed therebetween, it is preferable that the anode is provided in the processing solution on the side of the pre-bath of the liquid in contact with the diaphragm which contains a large amount of components. This promotes the generation of halogen in the pre-bath component, the decomposition of thiosulfate ions, and the generation of oxygen. Thereafter, by performing neutralization on the anode side, washing water can be efficiently regenerated. When the lowermost processing chamber is vertically divided by a diaphragm, and a cathode is provided above the diaphragm and an anode is provided below the diaphragm, the lower anode efficiently generates acid, halogen gas, and oxygen. The decomposition of the pigment, the dye, and the former component is promoted by the synergistic action of these, and the decomposed sediment component precipitates downward. On the other hand, the generated halogen gas rises and is neutralized and inactivated at the upper cathode. Therefore, since the photosensitive material is conveyed above the diaphragm, the photosensitive material is treated with regenerated water having a relatively small amount of dyes, dyes and thiosulfate ions, so that efficient water washing is performed. In this case, silver ions are reduced and deposited at the cathode at a considerable portion. Further, when the lowermost processing chamber is vertically divided by a diaphragm, it is preferable to provide a gas passage at the end of the diaphragm, so that the solution can move through the gas passage and circulate the liquid, and the water can be washed efficiently. Can be played.

【0011】また、通電される陽極と陰極とを備え該陰
極の下方に排出口を形成した通電槽を、最下室の処理室
と接続し、該処理室内の処理液を前記陽極側から前記陰
極側に向けて移動するように循環させる送液手段を備え
た場合、処理室とは別の通電槽を設けたことで、析出物
または浮遊物などを容易に水洗水から除去でき、更に通
電によって液のpHの変動による感光材料への悪影響を
防止できる。また、陽極は粒状のカーボンが好ましく、
陽極が粒状のため表面積が増加し効率良く酸化反応がで
き、陰極の下方に設けた排出口により、析出物の除去が
容易となる。
In addition, an energizing tank having an anode and a cathode to be energized and having a discharge port formed below the cathode is connected to a lowermost processing chamber, and a processing liquid in the processing chamber is supplied from the anode side to the processing chamber. When a liquid supply means for circulating so as to move toward the cathode is provided, a separate energizing tank separate from the processing chamber allows precipitates or suspended matter to be easily removed from the washing water, and further energized. This can prevent adverse effects on the photosensitive material due to fluctuations in the pH of the solution. Also, the anode is preferably granular carbon,
Since the anode is granular, the surface area increases and an oxidation reaction can be performed efficiently, and the discharge port provided below the cathode facilitates removal of precipitates.

【0012】また、処理槽を複数の処理室に区画する隔
癖に、液圧の変動で開閉する弁を設けた場合、最終室の
溢出を防止できる。また、最下室の処理室が下端に排出
口を有する傾斜した底面を有し、前記処理室内に前記底
面側から順に陽極、隔膜、陰極を設けた場合、傾斜した
底面の下端に沈澱物が集まり、下端に設けた排出口から
容易に除去できる。
Further, when a valve that opens and closes due to a change in liquid pressure is provided in a habit of dividing the processing tank into a plurality of processing chambers, overflow of the final chamber can be prevented. Further, when the lowermost processing chamber has an inclined bottom surface having a discharge port at the lower end, and an anode, a diaphragm, and a cathode are sequentially provided from the bottom surface side in the processing chamber, a precipitate is formed at the lower end of the inclined bottom surface. They can be collected and easily removed from the outlet provided at the lower end.

【0013】更に、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて、通電を行うために通電室(通電する槽)を区画
するのに用いる隔膜としては、陽イオン交換膜、陰イオ
ン交換膜、その他の透過性膜が挙げられる。これらのう
ち陰イオン交換膜が好ましく用いられるが、その陰イオ
ン交換膜は陰イオンを選択的に透過するものであれば、
いずれのものを用いてもよく、市販のものをそのまま用
いることができる。このような陰イオン交換膜として
は、Selemion AWV/AMR(旭硝子製)、
Aciplex A201、A172(旭化成製)、N
eosepta AM−1〜3(徳山曹達製)、Ion
ac MA−3148(Ionac Chemical
s製)、Nepton AR103PZL(Ionic
s製)なども用いることもできる。
Further, the present invention will be described in detail. In the present invention, examples of the diaphragm used to divide an energization chamber (an energization tank) for energization include a cation exchange membrane, an anion exchange membrane, and other permeable membranes. Of these, an anion exchange membrane is preferably used, and the anion exchange membrane may selectively transmit anions.
Any of these may be used, and commercially available ones can be used as they are. Examples of such an anion exchange membrane include Salemion AWV / AMR (manufactured by Asahi Glass),
Aciplex A201, A172 (made by Asahi Kasei), N
eosepta AM-1-3 (manufactured by Tokuyama Soda), Ion
ac MA-3148 (Ionac Chemical
s), Nepton AR103PZL (Ionic
s) can also be used.

【0014】透過性膜としては、蓄電池に使われている
ユミクロン隔膜(湯浅電池製);檜垣寅雄著「ファイン
エレクトロニクスと高機能材料」(CMC社刊、198
3年)の125〜132頁に記載の固体電解質壁;多孔
性ポリマー板(例えばキサントンの多孔性フィルム又は
繊維布)、多孔性ポリエステル繊維布(例えば東レ製ウ
ェルキー);ウレタン、ポリエチエン、ポリプロピレン
等の発泡材料壁などの透過性膜が用いられる。
As the permeable membrane, a Yummicron diaphragm used in a storage battery (manufactured by Yuasa Battery); Torao Higaki, "Fine Electronics and Highly Functional Materials" (CMC, 198)
3 years), pp. 125-132; porous polymer plates (for example, xanthone porous film or fiber cloth), porous polyester fiber cloth (for example, Toray's well key); urethane, polyethene, polypropylene, etc. A permeable membrane, such as a foam material wall, is used.

【0015】なお、本発明においては、上記の陰イオン
交換膜は、陰イオンを選択的に透過させる膜を総称する
ものとし、このような意味において、孔径0.2〜20
μmの多孔性セラミックスの膜状体も包含するものとす
る。通電のために用いる電極として、その一方である陰
極は、長時間の使用に耐えうる電気伝導体または半導体
であればいずれでもよく、例えば、ステンレス鋼、アル
ミニウム、銀、ニッケル、銅、亜鉛、真鍮、チタン等の
金属材料が挙げられ、特にステンレス鋼が好ましい。ま
た、陽極としては、不溶性の材質でかつ電気伝導体であ
ればよく、具体的には炭素(黒鉛)、二酸化鉛、白金、
金、チタン鋼が挙げられ、場合によってはステンレス鋼
を用いてもよい。両電極の形状は、槽内に設置しやすい
板状か網目入りの板状または突起付きの板状が好まし
い。大きさは、槽容量により適宜選択すればよい。更
に、板状の電極を極めて薄く形成して可撓性を持たせる
ことにより、容易に巻回することができ、液中に浸漬さ
せたり空中に出したりする動作が容易になる。また、こ
のような構成により、液中への電極の浸漬深さを調整し
て、実質的な電極面積を調整することができる。
In the present invention, the above-mentioned anion-exchange membrane is a general term for a membrane that selectively allows anions to pass therethrough.
It also includes a porous ceramic film having a thickness of μm. As an electrode used for conducting electricity, one of the cathodes may be any electric conductor or semiconductor that can withstand long-term use, such as stainless steel, aluminum, silver, nickel, copper, zinc, and brass. And metal materials such as titanium, and stainless steel is particularly preferable. The anode may be made of an insoluble material and an electric conductor, specifically, carbon (graphite), lead dioxide, platinum,
Examples thereof include gold and titanium steel. In some cases, stainless steel may be used. The shape of both electrodes is preferably a plate-like shape, a mesh-like plate-like shape, or a plate-like shape with projections, which can be easily installed in the tank. The size may be appropriately selected according to the tank capacity. Furthermore, by forming the plate-shaped electrode extremely thin and having flexibility, the electrode can be easily wound, and the operation of immersing in a liquid or taking out into the air becomes easy. Further, with such a configuration, it is possible to adjust the immersion depth of the electrode in the liquid to adjust the substantial electrode area.

【0016】本発明に用いられるハロゲン化銀カラー写
真感光材料は、脱銀処理後、水洗及び/又は安定工程を
経るのが一般的である。水洗工程での水洗水量は、感光
材料の特性(例えばカプラー等使用素材による)、用
途、更には水洗水温、水洗タンクの数(段数)、向流、
順流等の補充方式、その他種々の条件によって広範囲に
設定し得る。この場合多室処理槽を用いてかつ前記本発
明の請求項1〜7の構成の示すような通電機構を設けた
処理槽を用いて水洗することにより、効率良く水洗する
ことができる。
The silver halide color photographic light-sensitive material used in the present invention generally undergoes a washing and / or stabilizing step after desilvering. The amount of rinsing water in the rinsing process depends on the characteristics of the photosensitive material (for example, depending on the material used such as a coupler), the use, the rinsing water temperature, the number of rinsing tanks (number of stages), countercurrent,
It can be set in a wide range according to a replenishment method such as a forward flow and other various conditions. In this case, efficient water washing can be achieved by using a multi-chamber treatment tank and using a treatment tank provided with an energizing mechanism as described in the above-described configuration of the present invention.

【0017】又、前記本発明の請求項1〜7の構成の処
理槽は、水洗工程、安定処理工程に用いるのが好ましい
がケースによっては他の処理工程で用いてもよい。例え
ば脱銀工程でより具体的には漂白定着処理の工程には水
洗と同様に使用できる。本発明に用いられる感光材料と
しては、カラー感光材料の他、黒白感光材料がある。例
えば、カラーペーパー、カラー反転ペーパー、撮影用カ
ラーネガフィルム、カラー反転フィルム、映画用ネガも
しくはポジフィルム、直接ポジカラー感光材料などの他
に、Xレイフィルム、印刷用感光材料、マイクロフィル
ム、撮影用黒白フィルムなどを挙げることができる。
The treatment tank of the present invention is preferably used in a washing step and a stabilization step, but may be used in other treatment steps depending on the case. For example, in the desilvering step, more specifically, in the bleach-fixing step, it can be used in the same manner as in water washing. The light-sensitive material used in the present invention includes a black-and-white light-sensitive material in addition to a color light-sensitive material. For example, besides color paper, color reversal paper, color negative film for photography, color reversal film, negative or positive film for movie, direct positive color photosensitive material, X-ray film, photosensitive material for printing, microfilm, black and white film for photography And the like.

【0018】[0018]

【実施態様】以下、添付図面に基づいて本発明の実施態
様を説明する。なお、以下の説明において、上流及び下
流とはそれぞれ感光材料搬送方向についての方向を意味
する。図1は本発明の実施態様である感光材料処理装置
の水洗槽の断面図である。水洗槽2は仕切り壁3及び隔
壁4により区画された複数の処理室6a〜6eを上下方
向に沿って備えており、感光材料Sは隔壁4に形成され
た通路8を通って搬送される。水洗槽2における感光材
料Sは、搬送ローラ10によりまず下方に向けて搬送さ
れ、底部で反転してから次いで上方に向けて搬送される
間に、各処理室6a〜6eにおいて水洗処理される。通
路8には、片持支持された一対の弾性ブレード12が、
自由端部を当接して設けられており、感光材料Sは一対
のブレード12間を通過するようになっている。また、
一対のブレード12の代わりに、例えば高分子ポリエチ
レンの通路面に、片持支持された一片のブレード12が
弾性的に偏倚したシングルブレード構成でも同様に使用
できる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In the following description, “upstream” and “downstream” mean directions in the photosensitive material transport direction, respectively. FIG. 1 is a sectional view of a washing tank of a photosensitive material processing apparatus according to an embodiment of the present invention. The washing tank 2 includes a plurality of processing chambers 6a to 6e vertically defined by a partition wall 3 and a partition wall 4, and the photosensitive material S is transported through a passage 8 formed in the partition wall 4. The photosensitive material S in the washing tank 2 is first conveyed downward by the conveying rollers 10, and is washed in each of the processing chambers 6 a to 6 e while being inverted at the bottom and then conveyed upward. A pair of cantilevered elastic blades 12 are provided in the passage 8.
The photosensitive material S is provided in contact with the free end, and passes between the pair of blades 12. Also,
Instead of a pair of blades 12, a single blade configuration in which a single cantilevered blade 12 is resiliently biased on the passage surface of, for example, high-molecular-weight polyethylene can also be used.

【0019】最下室6cは隔膜14で仕切られており、
隔膜14の一部には、感光材料Sが通過可能な通路8が
形成され、該通路を実質的に液密に遮蔽可能な上記と同
じ弾性ブレード12が設けられている。水洗槽2の最下
流の処理室6eには水洗水の補充口16が設けられ、ま
た最上流の処理室6aにはオーバーフロー口18が設け
られている。感光材料Sが隔壁4に設けたブレード12
間を通過するときに、感光材料Sの幅方向両端部分から
水洗水がわずかに他室に移動することができる。例えば
感光材料1m2 につき20〜100mlの水洗水の補充
では(感光材料の形態、例えばパーフォレーションの有
無や感光材料巾の違いによっては水洗水の補充量は異な
るが)水洗水が十分他室に移動できる。一方これよりも
水の補充が多い場合には各処理室間を良好に移動できず
最下流処理室6eで液が、溢流してしまう。この場合に
は隔壁4には図2に示す補助的なオバーフロー構成が採
用できる。
The lowermost chamber 6c is partitioned by a diaphragm 14,
A passage 8 through which the photosensitive material S can pass is formed in a part of the diaphragm 14, and the same elastic blade 12 as described above, which can substantially block the passage 8 in a liquid-tight manner, is provided. A replenishing port 16 for washing water is provided in the processing chamber 6e at the most downstream of the washing tank 2, and an overflow port 18 is provided in the processing chamber 6a at the most upstream. Blade 12 provided with photosensitive material S on partition 4
When passing through the space, the rinsing water can slightly move to another room from both ends in the width direction of the photosensitive material S. For example, in the case of replenishing 20 to 100 ml of washing water per 1 m 2 of photosensitive material (although the replenishing amount of washing water varies depending on the form of photosensitive material, for example, the presence or absence of perforation and the difference in width of photosensitive material), the washing water sufficiently moves to another room. it can. On the other hand, if the replenishment of water is larger than this, it is not possible to favorably move between the processing chambers, and the liquid overflows in the most downstream processing chamber 6e. In this case, the auxiliary overflow structure shown in FIG.

【0020】図2は隔壁4に設けたオーバーフロー構成
の断面図である。仕切り壁3の左方と右方、すなわち感
光材料Sが下方に向けて搬送される側と上方に向けて搬
送される側とで、オーバーフロー構成は異なっている。
まず、仕切り壁3の右方のオーバーフロー構成について
説明する。隔壁4にはオーバーフロー孔20が形成さ
れ、該孔20の下部を開閉可能な底板22に固定したピ
ン24が孔20を挿通している。ピン24の上部にはス
トッパー26が固着され、該ストッパー26と隔壁4の
上面との間に圧縮ばね28が装着されている。そして、
圧縮ばね28の作用で底板22は通常は隔壁4の下面に
偏倚されており、孔20を閉塞するようになっている。
前記補充口16から水洗水が補充されると隔壁4の上方
の水圧が上昇し、ストッパー26がばね28の弾性力に
抗して下方に押される。すると、それまで隔壁4に偏倚
されて孔20を閉塞していた底板22が隔壁4から離れ
て孔20が開口し、矢印で示すように隔壁4の上方の水
洗水が孔20を通って隔壁4の下方に流れる。その後、
オーバーフローによって隔壁4の上方の水圧が下がる
と、底板22は再び隔壁4に偏倚されて孔20を閉塞す
る。したがって、補充により隔壁4の上方の水圧が上が
ったときのみ水洗水が適切にオーバーフローするように
なっている。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the overflow structure provided on the partition 4. The overflow configuration differs between the left and right sides of the partition wall 3, that is, the side where the photosensitive material S is transported downward and the side where it is transported upward.
First, the overflow configuration on the right side of the partition wall 3 will be described. An overflow hole 20 is formed in the partition wall 4, and a pin 24 fixing a lower part of the hole 20 to a bottom plate 22 that can be opened and closed passes through the hole 20. A stopper 26 is fixed to the upper part of the pin 24, and a compression spring 28 is mounted between the stopper 26 and the upper surface of the partition wall 4. And
The bottom plate 22 is normally biased to the lower surface of the partition wall 4 by the action of the compression spring 28 so as to close the hole 20.
When the washing water is replenished from the replenishing port 16, the water pressure above the partition wall 4 rises, and the stopper 26 is pushed downward against the elastic force of the spring 28. Then, the bottom plate 22 that has been biased by the partition wall 4 and closes the hole 20 is separated from the partition wall 4 and the hole 20 is opened, and the washing water above the partition wall 4 passes through the hole 20 as shown by the arrow, and the partition wall 4 passes through the hole 20. 4 flows below. afterwards,
When the water pressure above the partition 4 decreases due to the overflow, the bottom plate 22 is again biased by the partition 4 and closes the hole 20. Therefore, only when the water pressure above the partition wall 4 is increased by the replenishment, the flush water appropriately overflows.

【0021】次に、仕切り壁3の左方のオーバーフロー
構成について説明する。隔壁4にはオーバーフロー孔2
0が形成され、該孔20を開閉可能な蓋板30に固定し
たピン32が孔20を挿通している。そして、水洗水中
で蓋板30が常に隔壁4に偏倚されるように、ピン32
には重り34が備えてある。隔壁4の下方の水圧が上昇
すると、重り34が上方に押し上げられ、それまで隔壁
4に偏倚されて孔20の上部を閉塞していた蓋板30が
隔壁4から離れて孔20の上部が開口し、矢印で示すよ
うに水洗水が隔壁4の下方から上方に流れる。隔壁4の
下方から上方に水洗水が一部流れて、隔壁4の下方の水
圧が下がると、蓋板30は再び隔壁4の上面に偏倚され
て孔20を閉塞する。したがって、補充により隔壁4の
下方の水圧が上がったときのみ水洗水が適切にオーバー
フローするようになっている。
Next, the overflow configuration on the left side of the partition wall 3 will be described. The partition 4 has an overflow hole 2
A pin 32 fixed to a cover plate 30 capable of opening and closing the hole 20 is inserted through the hole 20. Then, the pins 32 are moved so that the cover plate 30 is always biased toward the partition wall 4 in the washing water.
Has a weight 34. When the water pressure below the partition wall 4 increases, the weight 34 is pushed upward, and the lid plate 30 that has been biased by the partition wall 4 and closes the upper portion of the hole 20 separates from the partition wall 4 and the upper portion of the hole 20 is opened. Then, as shown by the arrow, the washing water flows upward from below the partition wall 4. When a part of the washing water flows upward from below the partition wall 4 and the water pressure below the partition wall 4 decreases, the cover plate 30 is again biased to the upper surface of the partition wall 4 and closes the hole 20. Therefore, only when the water pressure below the partition wall 4 is increased by the replenishment, the washing water appropriately overflows.

【0022】最下流の処理室6eに水洗水が補充される
と、処理室内の水洗水は順次上流側にオーバーフロー
し、余分な水洗水が最上流の処理室6aのオーバーフロ
ー口18からオーバーフローすることによって排出され
る。したがって、水洗槽2は下流側の処理室ほど清浄度
が高いカスケード状態になっている。図1に示すよう
に、隔膜14を介して上流側には陽極36が、下流側に
は陰極38が設置され、両電極36、38に通電するよ
うになっている。また、陽極36の上方にはガス係止手
段40が設けられている。ガス係止手段40は傘形状で
あり、通電処理により発生したガスを水中で係止するも
のである。
When the washing water is replenished to the lowermost processing chamber 6e, the washing water in the processing chamber overflows sequentially to the upstream side, and excess washing water overflows from the overflow port 18 of the uppermost processing chamber 6a. Is discharged by. Therefore, the washing tank 2 is in a cascade state in which the cleanliness of the processing chamber on the downstream side is higher. As shown in FIG. 1, an anode 36 is provided on the upstream side and a cathode 38 is provided on the downstream side via the diaphragm 14, and the electrodes 36 and 38 are energized. Further, a gas locking means 40 is provided above the anode 36. The gas locking means 40 has an umbrella shape and locks the gas generated by the energization process in water.

【0023】ガスを係止することにより処理液とガスと
の接触面積が増し効率良く水の再生を行うことができ
る。本発明は、感光材料に付着して前浴から持ち込まれ
水洗水中に洗い出された増感色素、染料、ハイポ等は通
電により陽極で分解される。例えば、ハイポはチオ硫酸
イオンが酸化され感光材料に悪影響をおよぼさない硫酸
イオンになり、また、増感色素や染料は発色団である不
飽和結合部分が分断され小分子化、脱色化され、つまり
陽極で電子を奪われ酸化分解される。更に、感光材料か
ら溶出した銀イオンはチオ硫酸イオンの分解で生じたS
2-と反応し硫化銀として沈澱し、また、感光材料が隔膜
を通過するときに、陽極側からオーバーフローして陰極
側へ移動した銀イオンは、通電により陰極表面で電子を
受けとり銀として析出する。また更に、ガス係止手段に
より係止されたハロゲンガス、酸素ガスは陰極室からオ
ーバーフローして流入してくるため、中和再溶解した
り、増感色素、染料、チオ硫酸イオンと反応して溶解す
る。
By locking the gas, the contact area between the processing liquid and the gas is increased, and water can be efficiently regenerated. In the present invention, sensitizing dyes, dyes, hypo, etc., which are adhered to the photosensitive material and brought from the pre-bath and washed out in the washing water, are decomposed at the anode by energization. For example, in hypo, thiosulfate ions are oxidized and become sulfate ions that do not adversely affect the photosensitive material.In addition, sensitizing dyes and dyes are broken down into unsaturated molecules, which are chromophores, to become small molecules and decolorized. In other words, electrons are taken away at the anode and oxidized and decomposed. Further, silver ions eluted from the light-sensitive material are formed by decomposition of thiosulfate ions.
Silver ions that react with 2- and precipitate as silver sulfide, and when the photosensitive material passes through the diaphragm, silver ions that overflow from the anode side and move to the cathode side receive electrons on the cathode surface by energization and precipitate as silver. . Furthermore, since the halogen gas and oxygen gas locked by the gas locking means overflow from the cathode chamber and flow in, they are neutralized and redissolved, or react with sensitizing dyes, dyes, and thiosulfate ions. Dissolve.

【0024】このように、通電処理により水洗水を再生
でき、水洗水の量を増加させなくても低補充で十分に水
洗でき、良好な画像を得ることができる。チオ硫酸イオ
ンが水洗工程で十分に洗浄されないと、保存中に画像の
劣化が生じ、低補充処理の水洗では解決しなければなら
い重要な問題であるが、本発明は解決できるものであ
る。
As described above, the washing water can be regenerated by the energization treatment, and can be sufficiently washed with a small amount of replenishment without increasing the amount of washing water, and a good image can be obtained. If the thiosulfate ion is not sufficiently washed in the washing step, the image deteriorates during storage, and this is an important problem that must be solved by washing with low replenishment, but the present invention can solve it.

【0025】即ち、通電の過程で基本的には感光材料か
ら溶出してくるハロゲンを通電で活性化して、感光材料
から溶出してくる増感色素および染料を無害化すると同
時に、前浴から持ち込まれるチオ硫酸イオンや銀イオン
を無害化除去し、水が再生され、結果的には少ない水の
補充で感光材料を十分に洗うことができるのである。こ
の方法は特に現像、脱銀工程での補充が少ない処理シス
テムにおいて、即ち、水洗効果を下げるものが多い系、
例えば酸化還元反応物が多い系で、電気も通り易い系で
特に効果が発揮されるのである。
That is, in the process of energization, basically, the halogen eluted from the photographic material is activated by energization to render the sensitizing dye and dye eluted from the photographic material harmless, and at the same time, brought in from the pre-bath. Thus, thiosulfate ions and silver ions are made harmless and the water is regenerated, and as a result, the photosensitive material can be sufficiently washed with a small amount of water. This method is particularly effective in processing systems in which replenishment in the development and desilvering steps is small, that is, a system which often reduces the washing effect,
For example, the effect is particularly exhibited in a system having a large number of oxidation-reduction reactants and a system through which electricity can easily pass.

【0026】図3は水洗槽2の最下室の変形例を表す断
面図である。なお、搬送ローラ等の搬送手段は図示を省
略する。最下の処理室6cは底板42が傾斜しており、
底板42の最低部には沈澱物を排出するための弁44が
設けられている。底板44に平行に順に陽極46、陰イ
オン交換膜48、陰極50が設けられており、陽極46
の上方で陰イオン交換膜48の下には前記と同じガス係
止手段52が設けられている。また、陰イオン交換膜4
8の上にもガス係止手段52が設けられている。
FIG. 3 is a sectional view showing a modified example of the lowermost chamber of the washing tank 2. In addition, the conveyance means, such as a conveyance roller, is not illustrated. In the lowermost processing chamber 6c, the bottom plate 42 is inclined,
The bottom of the bottom plate 42 is provided with a valve 44 for discharging the precipitate. An anode 46, an anion exchange membrane 48, and a cathode 50 are provided in this order in parallel with the bottom plate 44.
The same gas locking means 52 as described above is provided above and below the anion exchange membrane 48. In addition, the anion exchange membrane 4
8 is also provided with gas locking means 52.

【0027】処理室6cは陰イオン交換膜48により概
ね上下に分割されているが、陰イオン交換膜48の端部
には間隙54が形成されている。陰イオン交換膜48の
下端の間隙54は主に上方の水洗水中の色素の通過用で
あり、陽極46で酸化分解されるべき色素等が上方から
自然と陽極46の近傍に集まるようになっている。ま
た、陰イオン交換膜48の上部には陰極があるためアル
カリ性となっており、かつ還元的雰囲気になっているた
め臭素ガス、塩素ガスは中和溶解する。
The processing chamber 6c is generally vertically divided by an anion exchange membrane 48, and a gap 54 is formed at an end of the anion exchange membrane 48. The gap 54 at the lower end of the anion exchange membrane 48 is mainly for the passage of the dye in the upper washing water, and the dye or the like to be oxidatively decomposed at the anode 46 naturally gathers near the anode 46 from above. I have. In addition, since the cathode is located above the anion exchange membrane 48, the cathode is alkaline, and since the atmosphere is in a reducing atmosphere, the bromine gas and chlorine gas are neutralized and dissolved.

【0028】また、陽極46の上部には亜硫酸イオンが
ありアルカリ性であるため、臭素ガス、塩素ガスは液中
で再びイオン化せずガス係止手段52により確実に係止
される。また、感光材料は隔膜の上方、つまり、陰極側
を搬送されるため陰イオン(増感色素、染料、ハイポ)
が隔膜を通過し陽極側へ移動するため、効率よく増感色
素等の不要物を水洗できる。すなわち、水洗水の再生を
効率よく行うことができる。
Further, since sulfurous ions are present above the anode 46 and are alkaline, the bromine gas and the chlorine gas are not ionized again in the liquid, and are reliably locked by the gas locking means 52. In addition, since the photosensitive material is transported above the diaphragm, that is, on the cathode side, anions (sensitizing dyes, dyes, hypo)
Move through the diaphragm to the anode side, so that unnecessary substances such as sensitizing dyes can be efficiently washed with water. That is, regeneration of washing water can be performed efficiently.

【0029】第1図と異なり第3図では陰イオン交換膜
の両端が開いていることと斜めに傾いていることから陽
極で発生したガスは係止手段52でトラップされ反応を
十分行いつつ、漏れたガスは上昇して陰極に移動し中和
されると同時に処理室6cに液の循環を起こす。この循
環により感光材料により持ち込まれた前浴成分を効率的
に陽極側へ移動させることができる。また、この循環は
処理室6cで感光材料の洗い出しを促進する。また、こ
の循環により陽極で酸化分解された沈澱物は下方へ落下
すると同時に感光材料の処理される陰極側には昇ってこ
ないため、感光材料にキズを発生させることもない。
Unlike FIG. 1, in FIG. 3, since both ends of the anion exchange membrane are open and inclined, the gas generated at the anode is trapped by the locking means 52 and the reaction is carried out sufficiently. The leaked gas rises, moves to the cathode and is neutralized, and at the same time, circulates the liquid in the processing chamber 6c. By this circulation, the prebath components brought in by the photosensitive material can be efficiently moved to the anode side. This circulation also promotes washing out of the photosensitive material in the processing chamber 6c. Further, the precipitate oxidatively decomposed at the anode by this circulation does not fall down and at the same time does not rise to the cathode side where the photosensitive material is processed, so that the photosensitive material is not scratched.

【0030】図4は最下室の他の変形例を表す断面図で
ある。なお、搬送ローラ等の搬送手段は図示を省略す
る。水洗槽2の最下の処理室6cは別置き型の通電槽と
接続され、最下の処理室6cと通電槽60との間でポン
プ62により水洗水を循環して再生するようになってい
る。通電槽60の内部には粒子状のカーボンからなる陽
極64と、ステンレスからなる陰極66とが設けられて
いる。陰極66の下方には陰極66による還元反応によ
り生じた沈澱物を集めて排出するための弁68が設けら
れている。陰極66の上方にはフィルター70が設けら
れ、水洗水は陰極66の上方からフィルター70を通っ
て処理室6cへ戻るようになっている。処理室6c内の
水洗水はポンプ62により通電室60に送られ、陽極6
4と接することにより酸化され、色素、染料、ハイポが
分解され、かつ液が酸性となりこれも分解を促進する。
ハイポが分解されると銀イオンは硫化銀として沈澱を生
ずる。また、ハイポ分解で硫黄も生成し沈澱を生ずる。
色素、染料、ハイポが分解された水洗水は更に陰極66
へ移動して、陰極66ではアルカリの発生と還元的雰囲
気によりハロゲンガス、酸素ガスが中和溶解することに
より水が再生される。この場合も陰イオン交換膜67の
一部は開放されている方がよい。陰極66の下に溜まっ
た沈澱物は、弁68を適宜開いて通電槽60から排出さ
れる。再生された水洗水はフィルター70を通って色素
や細かな硫化物等を除去されて処理室6cに戻され、再
び水洗水として使用される。
FIG. 4 is a sectional view showing another modification of the lowermost chamber. In addition, the conveyance means, such as a conveyance roller, is not illustrated. The lowermost processing chamber 6c of the washing tank 2 is connected to a separately placed energizing tank, and the washing water is circulated and regenerated by the pump 62 between the lowermost processing chamber 6c and the energizing tank 60. I have. An anode 64 made of particulate carbon and a cathode 66 made of stainless steel are provided inside the energization tank 60. A valve 68 is provided below the cathode 66 for collecting and discharging the precipitate generated by the reduction reaction by the cathode 66. A filter 70 is provided above the cathode 66, and the washing water returns to the processing chamber 6c from above the cathode 66 through the filter 70. The washing water in the processing chamber 6c is sent to the power supply chamber 60 by the pump 62,
When it comes into contact with 4, it is oxidized to decompose pigments, dyes and hypo, and the liquid becomes acidic, which also promotes decomposition.
When the hypo is decomposed, silver ions precipitate as silver sulfide. In addition, sulfur is also produced by the decomposition of hypo and precipitates are generated.
The washing water in which the pigments, dyes and hypos are decomposed is further supplied to the cathode 66.
Then, at the cathode 66, water is regenerated by neutralizing and dissolving the halogen gas and the oxygen gas by the generation of alkali and the reducing atmosphere. Also in this case, it is preferable that a part of the anion exchange membrane 67 be open. The sediment accumulated under the cathode 66 is discharged from the energization tank 60 by appropriately opening the valve 68. The regenerated washing water passes through the filter 70 to remove pigments and fine sulfides, and is returned to the processing chamber 6c, where it is used again as washing water.

【0031】上記のように処理室とは別の通電槽を設け
たことで、通電により生じる析出物または浮遊物などを
容易に水洗水から除去でき、更に通電によって液のpH
の変動による感光材料への悪影響を防止できる。また、
陽極は粒状のカーボンが好ましく、陽極が粒状のため表
面積が増加し効率良く酸化反応ができ、陰極の下方に設
けた排出口により、析出物の除去が容易となる。これに
より水洗水の再生が可能となり、水洗量を減らすことが
できる。
As described above, the provision of a current supply tank separate from the processing chamber makes it possible to easily remove precipitates or suspended matter generated by the current supply from the washing water, and furthermore, to increase the pH of the liquid by the current supply.
Can be prevented from adversely affecting the photosensitive material. Also,
The anode is preferably granular carbon, and the granular surface of the anode increases the surface area to allow efficient oxidation reaction. The discharge port provided below the cathode facilitates removal of precipitates. This makes it possible to regenerate the washing water and reduce the amount of washing.

【0032】図5は水洗槽2の最下室の他の変形例を表
す断面図である。なお、搬送ローラ等の搬送手段は図示
を省略する。最下の処理室6cには、陽極72と陰極7
4の対が2対設置されており、一方の対は感光材料Sが
搬入される側に、他方の対は感光材料Sが搬出される側
に設置されている。処理室6cの底面76は中央に向け
て傾斜しており、最低部には沈澱物を排出するための弁
78が設けられている。各対の陽極72による酸化作用
で、水洗水中の色素、染料、ハイポが分解され、また陰
極74では銀イオンが還元析出する。この場合には陽極
と陰極の間に隔壁がないため以上述べたような分別した
反応は明確に言えないが、結果として沈澱物の落下と色
素、染料の脱色が行われ水が再生される。この場合は通
電時の電流密度を上げる必要があり、2A/dm2 、よ
り好ましくは10A/dm2 以上が必要である。これは
隔壁がないため陽極反応と陰極反応が中和される前に強
烈に電極反応を行わせる必要があるからである。従っ
て、2対の電極間に隔壁を設けてやればもっと電流密度
を下げることができ、通電電源を小さくできる。
FIG. 5 is a sectional view showing another modified example of the lowermost chamber of the washing tank 2. In addition, the conveyance means, such as a conveyance roller, is not illustrated. An anode 72 and a cathode 7 are provided in the lowermost processing chamber 6c.
Four pairs are provided, one pair being provided on the side where the photosensitive material S is carried in, and the other pair being provided on the side where the photosensitive material S is carried out. The bottom surface 76 of the processing chamber 6c is inclined toward the center, and a valve 78 for discharging the precipitate is provided at the lowest part. Oxidation by the pair of anodes 72 decomposes pigments, dyes and hypo in the washing water, and reduces and deposits silver ions on the cathode 74. In this case, since there is no partition wall between the anode and the cathode, the above-mentioned fractionated reaction cannot be clearly described, but as a result, the precipitate falls and the pigments and dyes are decolorized to regenerate water. In this case, it is necessary to increase the current density during energization, and it is necessary that the current density be 2 A / dm 2 , more preferably 10 A / dm 2 or more. This is because, since there is no partition, it is necessary to cause an intense electrode reaction before the anodic reaction and the cathodic reaction are neutralized. Therefore, if a partition is provided between two pairs of electrodes, the current density can be further reduced, and the power supply can be reduced.

【0033】図6は図1に示す構成の変形例の断面図で
ある。図1に示す構成と異なる部分を説明すると、最下
の処理室6cは陽極80のみを設置した別置きの通電槽
82と連結されており、最下の処理室6cより上流側の
処理室6a(本実施態様では最上流の処理室)は陰極8
4のみを設置した別置きの通電槽86と連結され、両電
極80、84に通電するようになっている。各処理室6
a、6c内の水洗水は、ポンプ又はオーバーフロー等に
より各通電槽82、86へ送られて再生され、再生され
た後にポンプ又はオーバーフロー等により各処理室6
a、6cに戻るようになっている。
FIG. 6 is a sectional view of a modification of the configuration shown in FIG. Explaining the parts different from the configuration shown in FIG. 1, the lowermost processing chamber 6c is connected to a separately provided energizing tank 82 in which only the anode 80 is installed, and the processing chamber 6a on the upstream side of the lowermost processing chamber 6c. (In this embodiment, the most upstream processing chamber) is a cathode 8
4 is connected to a separately provided current supply tank 86 in which only the electrodes 4 and 4 are provided, so that the electrodes 80 and 84 are energized. Each processing room 6
The washing water in a and 6c is sent to each of the current supply tanks 82 and 86 by a pump or an overflow, and is regenerated.
a, 6c.

【0034】最上流の処理室6a内の水洗水は最も汚れ
ており、色素、染料、ハイポ、銀イオンを多量に含んで
いる。これらのうち、陰極84による還元反応でまず銀
イオンを析出させ(硫化物沈澱はあまり起こらない)、
銀の少ない水洗水として再生する。また、陽極80によ
る酸化反応では、水洗水中の色素、染料、ハイポを分解
して水洗水を無色にして再生する。このように、処理室
ごとに再生作用を変えて分別再生処理することにより、
効率良く水洗水を再生することができ、また銀の回収も
容易になる。
The washing water in the uppermost processing chamber 6a is the most dirty, and contains a large amount of pigments, dyes, hypo and silver ions. Of these, silver ions are first precipitated by a reduction reaction with the cathode 84 (sulphide precipitation does not occur much),
Regenerate as low silver wash water. In the oxidation reaction by the anode 80, the coloring water, dye and hypo in the washing water are decomposed to make the washing water colorless and regenerated. In this way, by performing a separate regeneration process by changing the regeneration action for each processing chamber,
The washing water can be efficiently regenerated, and silver can be easily recovered.

【0035】こうすることにより処理室6aでは水洗水
から銀が除去され、アルカリ性となり感光材料中のゼラ
チン膜が少し膨潤しやすくなり、感光材料中に残存する
銀も著しく少くなり、また色素等も著しく少なくなる。
この結果水洗効果が上昇する。また、処理室6cでは増
感色素、染料、ハイポが陽極で生成される酸とハロゲン
ガス、酸素ガスにより分解され水の再生と沈澱物の落下
が起こる。更に、ガスの上昇気流による攪拌と水の再生
により感光材料Sが効率良く水洗される。
By doing so, silver is removed from the washing water in the processing chamber 6a, becomes alkaline, the gelatin film in the photosensitive material slightly swells easily, the amount of silver remaining in the photosensitive material is remarkably reduced, and the dye and the like are also reduced. Significantly reduced.
As a result, the washing effect increases. In the processing chamber 6c, sensitizing dyes, dyes, and hypo are decomposed by the acid, halogen gas, and oxygen gas generated at the anode, and water is regenerated and precipitates fall. Further, the photosensitive material S is efficiently washed with water by the agitation of the rising gas flow and the regeneration of water.

【0036】また、図6に示す構成は水洗以外の処理浴
でも使用できる。例えば漂白定着処理工程に用いること
ができる。この場合、処理室6aでは漂白定着される直
後から銀イオンが還元析出除去され、定着が早められ
る。一方処理室6cでは前浴から持ち込まれた発色現像
液等を酸化分解するため漂白が促進される。この2つの
作用によりトータルとして漂白と定着が早められて漂白
定着の補充液量を少くすることができる。
The configuration shown in FIG. 6 can be used in a treatment bath other than water washing. For example, it can be used in a bleach-fixing process. In this case, in the processing chamber 6a, silver ions are reduced and removed immediately after bleach-fixing, so that fixing is hastened. On the other hand, in the processing chamber 6c, bleaching is promoted because the color developing solution and the like brought from the pre-bath are oxidatively decomposed. By these two actions, bleaching and fixing are accelerated as a whole, and the amount of replenisher for bleaching and fixing can be reduced.

【0037】さらに、図6で陽極と陰極を入替えた場合
にも他の処理浴でも使用できる。例えば漂白定着工程に
使用できる。この場合6c室に排液孔を設け補充孔18
から漂白成分を補充孔16から定着成分を補充すればよ
い。この場合には漂白定着処理工程が機能分離されるた
めさらに少ない補充液量でも漂白定着処理できる。図7
は各処理室6a〜6eを仕切る隔壁4や陰イオン交換膜
14等に設けるブレード12の変形例の分解斜視図であ
る。ブレード12は一対のブロック90、92を有する
ユニットとして隔壁4等に設けられる。ブレード12は
弾性ゴムからなり、一方のブロック90にねじ94によ
り片持支持されている。ブレード12の自由端部は自身
の弾性力により他方のブロック92に偏倚しており、感
光材料Sはブレード12とブロック92との間を通過で
きるようになっている。ブレード12、ブロック90、
92の側方は、シール部材96を介してブロック90、
92にねじ98により固定される側板100が設けられ
てユニットを構成する。
Further, when the anode and the cathode are exchanged in FIG. 6, another processing bath can be used. For example, it can be used in a bleach-fixing step. In this case, a drain hole is provided in the chamber 6c, and a replenishing hole 18 is provided.
The bleaching component can be replenished from the replenishing hole 16 with the fixing component. In this case, since the bleach-fixing process is functionally separated, the bleach-fixing process can be performed with a smaller replenisher amount. FIG.
FIG. 7 is an exploded perspective view of a modified example of a blade 12 provided on a partition wall 4 or an anion exchange membrane 14 that partitions each of the processing chambers 6a to 6e. The blade 12 is provided on the partition wall 4 and the like as a unit having a pair of blocks 90 and 92. The blade 12 is made of elastic rubber and is cantilevered on one block 90 by a screw 94. The free end of the blade 12 is biased toward the other block 92 by its own elastic force, so that the photosensitive material S can pass between the blade 12 and the block 92. Blade 12, block 90,
The side of 92 is a block 90 via a sealing member 96,
A side plate 100 fixed to the screw 92 by screws 98 is provided to form a unit.

【0038】ブレード12は弾性を有するので、自身の
弾性力によりブロック92に偏倚して感光材料通路を液
密に遮断することができる。更に、ブレード12の自由
端部に磁性を持たせ、ブロック92の表面近傍に鉄板1
02を埋設してあるので、ブレード12の弾性力と磁力
とにより、ブレード12の自由端部がブロック92に密
接することができる。したがって、この構成によれば、
感光材料Sが通過していないときの通路のシール性が著
しく向上し、隔壁4の上下に異なる処理液を充填して処
理することも可能である。また、ブレード12は、通路
のシール機能とともに、感光材料Sと接することによる
スクイズ機能も有するが、このスクイズ機能も向上する
ので、処理を迅速に行えるようになる。
Since the blade 12 has elasticity, the blade 12 is biased toward the block 92 by its own elastic force, so that the passage of the photosensitive material can be shut off in a liquid-tight manner. Further, the free end of the blade 12 is provided with magnetism, and the iron plate 1 is placed near the surface of the block 92.
Since the blade 02 is embedded, the free end of the blade 12 can be in close contact with the block 92 by the elastic force and the magnetic force of the blade 12. Therefore, according to this configuration,
The sealing property of the passage when the photosensitive material S does not pass through is remarkably improved, and it is possible to fill and process different processing liquids above and below the partition 4. The blade 12 also has a squeezing function by contacting the photosensitive material S in addition to a passage sealing function. However, the squeezing function is also improved, so that the processing can be performed quickly.

【0039】このような機構を有するスクイーズ区画部
材は広巾な感光材料(例えば50.8cm×61cm:
大全紙)などを処理する時に特に優れる。上記各実施態
様は、多室処理と通電処理とを組み合わせたものである
が、上記各構成要素に加えて、色素吸着フィルター、バ
クテリア防止用紫外線光源、オゾン発生器等を設けるこ
とが好ましい。
A squeeze partition member having such a mechanism is made of a wide photosensitive material (for example, 50.8 cm × 61 cm:
It is especially excellent when processing paper. Although each of the above embodiments is a combination of the multi-chamber treatment and the energization treatment, it is preferable to provide a dye adsorption filter, an ultraviolet light source for preventing bacteria, an ozone generator, and the like, in addition to the above components.

【0040】これらを併用すると色素、染料の分解除去
がより十分行われることにより更に水の補充を少くする
ことができる。
When these are used in combination, the replenishment of water can be further reduced by sufficiently decomposing and removing the pigments and dyes.

【0041】[0041]

【実施例】【Example】

実施例1 (感光材料):特開平2−250052号の実施例2の
感光材料(カラー印画紙) (処理剤及び工程):同上の実施例2と同様 但し水洗部分を図1のものを用い1m2 当たり80ml
で補充し、かつ以下の条件で通電を行った。
Example 1 (photosensitive material): photosensitive material of Example 2 of JP-A-2-250052 (color photographic paper) (processing agent and process): the same as in Example 2 above, except that the washing part shown in FIG. 1 was used. 1m 2 per 80ml
And supplied with electricity under the following conditions.

【0042】(通電条件) 陽極:黒鉛電極 15cm×60cm 陰極:ステンレスSUS316 15cm×60cm 感光材料1m2 に対して、印加電圧6V、電流4.5A
(電流密度0.5A/dm2 )で30分間通電する。
(Electrification conditions) Anode: graphite electrode 15 cm × 60 cm Cathode: stainless steel SUS316 15 cm × 60 cm Applied voltage 6 V, current 4.5 A to 1 m 2 of photosensitive material
(Current density 0.5 A / dm 2 ) for 30 minutes.

【0043】水洗工程を図1に示される処理装置を用い
て行った結果、特開平2−250052号の実施例2の
処理2Aと略同等に水洗性の良好なプリントが得られ
た。即ち、処理済みの白色部の赤濃度はほとんどなく、
また、処理済みサンプルを温度60℃、湿度70%の雰
囲気下に3日間放置後の白色部の増色は発生しなかっ
た。つまり、本発明の低補充の水洗処理は、水洗の補充
液量が少なくても効率良く水洗でき、良好な画像が得ら
れる。 実施例2 実施例1において水洗部分を図1の代わりに図3の処理
装置を用いた。
As a result of performing the rinsing step using the processing apparatus shown in FIG. 1, a print having good rinsing properties was obtained almost in the same manner as in the processing 2A of Example 2 of JP-A-2-250052. That is, the processed white part has little red density,
Further, after the treated sample was left in an atmosphere at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 70% for 3 days, no color increase of the white portion occurred. In other words, the low-replenishment washing process of the present invention enables efficient washing with a small amount of replenisher for washing, and a good image can be obtained. Example 2 In Example 1, the water washing part was replaced by the processing apparatus shown in FIG. 3 instead of FIG.

【0044】図3の処理装置を用いて行った結果、実施
例1と同様に白色部の赤濃度及び放置後の白色部の増色
のない水洗性の良好なプリントが得られた。
As a result of using the processing apparatus shown in FIG. 3, as in Example 1, a print with good redness in the white portion and good washability without increasing the color of the white portion after standing was obtained.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明は低補充処理を行っても、水洗槽
に負荷のかからない感光材料処理装置を提供することが
できる。また、得られる画像は良好である。
According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive material processing apparatus in which a load is not applied to a washing tank even when low replenishment processing is performed. Also, the obtained image is good.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は感光材料処理装置の水洗槽の断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view of a washing tank of a photosensitive material processing apparatus.

【図2】図2はオーバーフロー構成の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of an overflow configuration.

【図3】図3は最下の処理室の変形例の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a modification of the lowermost processing chamber.

【図4】図4は最下の処理室の他の変形例の断面図であ
る。
FIG. 4 is a cross-sectional view of another modification of the lowermost processing chamber.

【図5】図5は最下の処理室の他の変形例の断面図であ
る。
FIG. 5 is a sectional view of another modification of the lowermost processing chamber.

【図6】図6は水洗槽の変形例の断面図である。FIG. 6 is a sectional view of a modified example of the washing tank.

【図7】図7はブレードユニットの分解斜視図である。FIG. 7 is an exploded perspective view of the blade unit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 水洗槽 4 隔壁 6a、6b、6c、6d、6e 処理室 8 通路 10 搬送ローラ 12 ブレード 14、48、67 陰イオン交換膜 16 補充口 18 オーバーフロー口 20 オーバーフロー孔 22 底板 24、32 ピン 26 ストッパー 28 圧縮ばね 30 蓋板 34 重り 36、46、64、72、80 陽極 38、50、66、74、84 陰極 40、52 ガス係止手段 42、76 底板 44、68、78 弁 54 間隙 60、82、86 通電槽 62 ポンプ 70 フィルター 90、92 ブロック 94、98 ねじ 96 シール部材 100 側板 102 鉄板 2 Washing tank 4 Partition wall 6a, 6b, 6c, 6d, 6e Processing chamber 8 Passage 10 Transport roller 12 Blade 14, 48, 67 Anion exchange membrane 16 Refill port 18 Overflow port 20 Overflow hole 22 Bottom plate 24, 32 Pin 26 Stopper 28 Compression spring 30 Cover plate 34 Weight 36, 46, 64, 72, 80 Anode 38, 50, 66, 74, 84 Cathode 40, 52 Gas locking means 42, 76 Bottom plate 44, 68, 78 Valve 54 Gap 60, 82, 86 Current tank 62 Pump 70 Filter 90, 92 Block 94, 98 Screw 96 Seal member 100 Side plate 102 Iron plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03D 3/00 G03D 13/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Fields surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) G03D 3/00 G03D 13/00

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数の処理室に区画された処理槽を有
し、前記処理室に充填された処理液中に感光材料を順次
搬送することにより処理する感光材料処理装置におい
て、 少なくとも1つの処理室を隔膜で仕切り、該隔膜の両側
の各処理液に接して通電される陰極及び陽極を設置し、
前記陽極の上方にハロゲン捕捉手段を備えたことを特徴
とする感光材料処理装置。
1. A photosensitive material processing apparatus having a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers and processing the photosensitive material by sequentially transporting the photosensitive material into a processing solution filled in the processing chamber, wherein at least one processing is performed. The chamber is partitioned by a diaphragm, and a cathode and an anode which are energized in contact with each processing solution on both sides of the diaphragm are installed,
A photosensitive material processing apparatus comprising a halogen capturing means above the anode.
【請求項2】 複数の処理室に区画された処理槽を有
し、前記処理室に充填された処理液中に感光材料を順次
搬送することにより処理する感光材料処理装置におい
て、 少なくとも1つの処理室を感光材料の通路を有する隔膜
で仕切り、該隔膜の両側の各処理液に接して通電される
陰極及び陽極を設置し、前記陽極は、該処理室へ感光材
料を搬入する側に設置されていることを特徴とする感光
材料処理装置。
2. A photosensitive material processing apparatus, comprising: a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers, wherein the processing is performed by sequentially transporting the photosensitive material into a processing solution filled in the processing chamber. The chamber is partitioned by a diaphragm having a passage for the photosensitive material, and a cathode and an anode are provided, which are energized in contact with the respective processing solutions on both sides of the diaphragm, and the anode is provided on the side for carrying the photosensitive material into the processing chamber. A photosensitive material processing apparatus.
【請求項3】 複数の処理室に区画された処理槽を有
し、前記処理室に充填された処理液中に感光材料を順次
搬送することにより処理する感光材料処理装置におい
て、 最下室の処理室を隔膜で上下に仕切り、該処理室の上方
部分に感光材料の搬入口と搬出口を設け、感光材料を前
記隔膜の上方で該搬入口から該搬出口へと通過させ、該
隔膜の上方で処理液に接する陰極と該隔膜の下方で処理
液に接する陽極とを設置し、両電極に通電する手段を備
えたことを特徴とする感光材料処理装置。
3. A photosensitive material processing apparatus having a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers and processing the photosensitive material by sequentially transporting the photosensitive material into a processing solution filled in the processing chamber, wherein: The processing chamber is vertically divided by a diaphragm, and a loading port and a loading port for the photosensitive material are provided in an upper portion of the processing chamber. The photosensitive material is passed from the loading port to the loading port above the partition, and A photosensitive material processing apparatus, comprising: a cathode disposed above and in contact with a processing liquid; and an anode disposed below the diaphragm and in contact with the processing liquid, and a means for energizing both electrodes.
【請求項4】 前記隔膜の端部に気体通過用通路を設け
たことを特徴とする請求項3に記載の感光材料処理装
置。
4. The apparatus according to claim 3, wherein a gas passage is provided at an end of the diaphragm.
【請求項5】 複数の処理室に区画された処理槽を有
し、前記処理室に充填された処理液中に感光材料を順次
搬送することにより処理する感光材料処理装置におい
て、 通電される陽極と陰極とを備え該陰極の下方に排出口を
形成した通電槽を、最下室の処理室と接続し、該処理室
内の処理液を前記陽極側から前記陰極側に向けて移動す
るように循環させる送液手段を備えたことを特徴とする
感光材料処理装置。
5. A photosensitive material processing apparatus having a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers and processing the photosensitive material by sequentially transporting the photosensitive material into a processing solution filled in the processing chamber. And a cathode, and an energization tank having a discharge port formed below the cathode is connected to a lowermost processing chamber so that a processing solution in the processing chamber moves from the anode side to the cathode side. A photosensitive material processing apparatus comprising a liquid sending means for circulating.
【請求項6】 複数の処理室に区画された処理槽を有
し、前記処理室に充填された処理液中に感光材料を順次
搬送することにより処理する感光材料処理装置におい
て、 前記処理槽を複数の処理室に区画する隔壁に、液圧の変
動で開閉する弁を設けたことを特徴とする感光材料処理
装置。
6. A photosensitive material processing apparatus which has a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers and performs processing by sequentially transporting photosensitive material into a processing liquid filled in the processing chamber, wherein the processing tank is A photosensitive material processing apparatus, wherein a valve that opens and closes due to fluctuations in liquid pressure is provided in a partition that is divided into a plurality of processing chambers.
【請求項7】 複数の処理室に区画された処理槽を有
し、前記処理室に充填された処理液中に感光材料を順次
搬送することにより処理する感光材料処理装置におい
て、 最下室の処理室が下端に排出口を有する傾斜した底面を
有し、前記処理室内に前記底面側から順に陽極、隔膜、
陰極を設け、両電極に通電する手段を備えたことを特徴
とする感光材料処理装置。
7. A photosensitive material processing apparatus having a processing tank partitioned into a plurality of processing chambers and processing the photosensitive material by sequentially transporting the photosensitive material into a processing solution filled in the processing chamber, The processing chamber has an inclined bottom surface having a discharge port at a lower end, and an anode, a diaphragm, and the like in order from the bottom surface side in the processing chamber.
An apparatus for processing a photosensitive material, comprising a cathode, and means for energizing both electrodes.
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