JP2907705B2 - Main reflector support - Google Patents
Main reflector supportInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、天体観測などに用いら
れる反射望遠鏡に関し、特に主反射鏡を支持する装置に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflection telescope used for astronomical observation and the like, and more particularly to an apparatus for supporting a main reflection mirror.
【0002】[0002]
【従来の技術】今日、天体観測に用いられる光学望遠鏡
において、大口径のものはそのほとんどが反射望遠鏡で
ある。これは、同倍率の屈折望遠鏡に比べて、軸方向の
長さが短く製作できること、色収差が少ないことなどの
利点を有するためである。2. Description of the Related Art At present, most of optical telescopes used for astronomical observation are large-diameter reflective telescopes. This is because, compared to a refracting telescope of the same magnification, there are advantages such as a shorter length in the axial direction and less chromatic aberration.
【0003】反射望遠鏡の主反射鏡は凹面鏡であり、こ
の凹面鏡によって、観測対象からの光を集光する。この
主反射鏡とその支持装置の従来の装置が図13から図1
5に示されている。図13および図14において、主反
射鏡101は図中上面が凹面鏡101となっている。こ
の反射鏡101は支持台102に支持構造103を介し
て固定されている。この支持構造103の詳細図が図1
5に示されている。支持構造103は細棒104を含
み、この細棒104は支持台102と反射鏡101の熱
膨張率の差による伸びの違いを吸収するために反射鏡1
01の半径方向に撓む構造となっている。さらに、反射
鏡101には観測対象に向けるために主反射鏡を傾けた
際に、反射鏡の自重による変形を少なくするためのカウ
ンタウエイトである。[0003] The main reflecting mirror of the reflecting telescope is a concave mirror, and the concave mirror collects light from the observation object. FIGS. 13 to 1 show a conventional device of this main reflector and its supporting device.
It is shown in FIG. 13 and 14, the main reflecting mirror 101 has a concave mirror 101 on the upper surface in the figures. This reflecting mirror 101 is fixed to a support base 102 via a support structure 103. A detailed view of the support structure 103 is shown in FIG.
It is shown in FIG. The support structure 103 includes a thin rod 104. The thin rod 104 is used to absorb a difference in elongation due to a difference in the coefficient of thermal expansion between the support 102 and the reflecting mirror 101.
01 in the radial direction. Further, the reflecting mirror 101 is a counterweight for reducing deformation of the reflecting mirror due to its own weight when the main reflecting mirror is tilted so as to be directed to an observation target.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】従来の主反射鏡の支持
装置は以上のように構成されているので、地震などで反
射鏡に大きな力が加わった時に前記細棒が変形し、反射
鏡が所定の位置から大きく移動し、他の構造物と干渉し
て破損する可能性があるという問題があった。特に、こ
れは装置全体の重量を減少させるために主反射鏡を薄肉
構造とした場合には重要な問題となる。Since the conventional main mirror supporting device is constructed as described above, when a large force is applied to the reflecting mirror due to an earthquake or the like, the thin rod is deformed and the reflecting mirror is deformed. There has been a problem that it may move greatly from a predetermined position and may be damaged by interfering with other structures. In particular, this is an important problem when the main reflecting mirror has a thin structure in order to reduce the weight of the entire apparatus.
【0005】本発明は前述の問題点を解決するためにな
されたものであり、地震などにより反射鏡に大きな力が
加わった際に、破損することがないよう保護する機能を
有する主反射鏡支持装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and has a function of protecting a main reflector from being damaged when a large force is applied to the reflector due to an earthquake or the like. It is intended to provide a device.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】(1)前述の目的を達成
するために、本発明にかかる主反射鏡支持装置は、主反
射鏡を支持部材を介して支持する支持台と、前記支持台
上に設けられた副支持台と、前記主反射鏡の外周面と前
記副支持台の間に介在し、主反射鏡の半径方向の動きを
抑制する緩衝手段と、を有し、前記緩衝手段は、油圧ダ
ンパを含んでいる。Means for Solving the Problems (1) In order to achieve the above-mentioned object, a main reflector supporting device according to the present invention comprises a main mirror.
A support for supporting the mirror via a support member, and the support
An auxiliary support provided on the upper surface, an outer peripheral surface of the main reflecting mirror,
It is interposed between the sub-supports and controls the radial movement of the main reflector.
And a buffer means for suppressing the hydraulic pressure.
Includes damper .
【0007】(2)また、本発明にかかる他の主反射鏡
支持装置は、前記主反射鏡を支持部材を介して支持する
支持台と、前記支持台上に設けられた副支持台と、前記
主反射鏡の外周部と前記副支持台の間に介在する緩衝手
段と、を有している。そしてさらに、前記緩衝手段は、
主反射鏡の外周面と副支持台の間に設置された第1緩衝
手段と、前記外周部に主反射鏡の正面方向に向いて設け
られた第1当接面と副支持台の間に設置された第2緩衝
手段と、前記外周部に主反射鏡の背面方向に向いて設け
られた第2当接面と副支持台の間に設置された第3緩衝
手段と、を有し、前記第1緩衝手段は主反射鏡の半径方
向の動きを抑制し、前記第2および第3緩衝手段は、主
反射鏡の光軸方向の動きを抑制する。 (2) Another main reflecting mirror according to the present invention
The supporting device supports the main reflecting mirror via a supporting member.
A support, and a sub-support provided on the support,
Buffer hand interposed between the outer periphery of the main reflector and the sub support
And a step. And further, the buffer means
The first buffer installed between the outer peripheral surface of the main reflector and the sub support
Means, provided on the outer peripheral portion facing the front direction of the main reflecting mirror
Second buffer installed between the first contact surface and the sub-support
Means, provided on the outer peripheral portion facing the rear direction of the main reflecting mirror
Third buffer installed between the second contact surface and the sub-support
Means, wherein the first buffer means is provided in a radial direction of the main reflecting mirror.
Direction, and the second and third buffering means
Suppress movement of the reflector in the optical axis direction .
【0008】(3)また、本発明にかかるさらに他の主
反射鏡支持装置は、前記主反射鏡を支持部材を介して支
持する支持台と、前記支持台上に設けられた副支持台
と、前記主反射鏡の外周部と前記副支持台の間に介在す
る緩衝手段と、を有している。そしてさらに、前記主反
射鏡の外周部には、主反射鏡の光軸と半径方向の各々に
対し斜めに配置され反射鏡正面側を向く第1当接面と、
主反射鏡の光軸と半径方向の各々に対し斜めに配置され
反射鏡背面側を向く第2当接面とが設けられ、前記緩衝
手段は、前記第1当接面と副支持台の間に設置される第
1緩衝手段と、前記第2当接面と副支持台の間に設置さ
れる第2緩衝手段とを有し、前記第1および第2緩衝手
段により、主反射鏡の半径方向の動きと光軸方向の動き
を抑制する。 (3) Still another embodiment according to the present invention
The reflecting mirror support device supports the main reflecting mirror via a supporting member.
A supporting base to be held, and a sub-supporting base provided on the supporting base
Between the outer periphery of the main reflector and the sub-support.
Buffer means. And furthermore, the main counter
On the outer circumference of the mirror, the optical axis of the main reflector and the radial direction
A first contact surface that is arranged obliquely to the front of the reflecting mirror,
It is arranged obliquely to each of the optical axis and the radial direction of the main reflector.
A second contact surface facing the rear surface of the reflecting mirror;
The means is provided between the first contact surface and the auxiliary support.
(1) a cushioning means, provided between the second contact surface and the sub-support
And second buffer means, wherein the first and second buffer hands are provided.
The step allows the main reflector to move in the radial and optical directions.
Suppress .
【0009】さらに、前記(2)、(3)の緩衝手段は
油圧ダンパを含むものとすることができる。また、前記
(2)、(3)の緩衝手段はゴムよりなるものとするこ
とができる。また、前記(2)、(3)の緩衝手段はば
ねを含むものとすることができる。Further, the buffer means (2) and (3)
It may include a hydraulic damper. In addition,
The cushioning means of (2) and (3) shall be made of rubber.
Can be. Further, the buffer means of (2) and (3)
May be included .
【0010】さらに、前記ゴムよりなる緩衝手段は、主
反射鏡全周に渡って設けられたリング形状を呈する物と
することができる。Further, the cushioning means made of rubber is mainly
A ring-shaped object provided around the entire circumference of the reflecting mirror;
Can be done .
【0011】また、緩衝手段は主反射鏡の外周に少なく
とも3つ配置することができる。In addition, the buffer means is less at the outer periphery of the main reflecting mirror.
And three can be arranged .
【0012】また、油圧ダンパを含む緩衝手段を、主反
射鏡の外周を3つに等分割するブロックごとに、各ダン
パの油圧配管を連結しているものとすることができる。Further, the buffer means including the hydraulic damper may be
Each block that equally divides the outer periphery of the mirror into three
The hydraulic pipes of the pumps may be connected .
【0013】さらに、前記副支持台を、主反射鏡から所
定位置まで離れる退避機構を有するものとすることがで
きる。[0013] Further, the sub-support may be located from a main reflecting mirror.
It is possible to have an evacuation mechanism that moves to the home position.
I can .
【0014】さらに、前記退避機構は、前記支持台上に
前記主反射鏡の半径方向に設けられたレール上を前記副
支持台が摺動して退避する機構とすることができる。Further, the retracting mechanism is provided on the support table.
On the rail provided in the radial direction of the main reflecting mirror,
A mechanism in which the support base slides and retracts can be used .
【0015】また、前記退避機構は、前記副支持台が前
記支持台上に固定された回動軸に支持され、当該副支持
台が回動して退避する機構とすることもできる。[0015] In the retracting mechanism, the sub-support may be provided at a front side.
The sub-support is supported by a rotating shaft fixed on the support table.
A mechanism in which the table rotates and retracts may be used .
【0016】[0016]
【作用】本発明は以上のような構成を有しており、以下
のような作用を有する。The present invention has the above-described configuration and has the following functions.
【0017】この発明においては、緩衝手段によって主
反射鏡が他の構造物にぶつかって破損するのを防止する
ことができる。また、主反射鏡の半径方向の動きに対応
して、主反射鏡の破損防止をすることができる。さら
に、主反射鏡の光軸方向の動きを抑制する緩衝手段を設
けることにより、この方向の動きにも対向することがで
きる。また、緩衝部材を光軸および半径方向に対し斜め
に配置することにより、主反射鏡の半径方向と光軸方向
の動きを共に押さえることができる。In the present invention, the buffer means can prevent the main reflector from hitting other structures and being damaged. Further, the main reflector can be prevented from being damaged in response to the movement of the main reflector in the radial direction. Further
Buffer means for suppressing the movement of the main reflecting mirror in the optical axis direction.
By doing so, it is possible to oppose the movement in this direction. Further, by arranging obliquely to the optical axis and radially loose衝部material, it can be pressed together radially and the optical axis direction of the movement of the main reflector.
【0018】また、緩衝手段をゴム材とした場合には、
簡易な構成とすることができる。また、緩衝手段として
ばねを用いた場合は、十分なストロークを取ることが可
能であり、主反射鏡の大きな動きに対しても対応するこ
とができる。また、緩衝手段として油圧ダンパを用いた
場合は、小さなストロークの場合においても効果的に主
反射鏡の動きを押さえることができる。[0018] In addition, in the case where the loose opposition means a rubber material,
A simple configuration can be provided. Further, when a spring is used as the buffering means, it is possible to take a sufficient stroke and to cope with a large movement of the main reflecting mirror. Also, a hydraulic damper was used as a buffer means .
If also effectively primarily in the case of small strokes
The movement of the reflector can be suppressed.
【0019】さらに、ゴム材よりなる緩衝部材をリング
状に形成することにより、どの方向の力にも対応でき
る。また、緩衝手段を少なくとも3つ配置することによ
っても、どの方向の力にも対応できる。さらに、油圧ダ
ンパを3つのグループに分割し、グループごとに油圧配
管を共有することにより、構成が簡略化される。 Furthermore, by forming the cushioning member made of rubber material in a ring shape, it can correspond to any force. Also, by at least three placing gentle collision means may correspond to any force. Further, by dividing the hydraulic damper into three groups, by sharing hydraulic pipes for each group, the configuration is simplified.
【0020】さらに、副支持台を退避可能なものとする
ことにより、主反射鏡の保守作業が容易になる。 Furthermore, by <br/> be made retractable sub support base, maintenance of the main reflecting mirror is facilitated.
【0021】[0021]
【実施例】以下、本発明に好適な実施例を図面に従い説
明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0022】図1および図2に本発明にかかる主反射鏡
の支持装置の第1の実施例が示されている。図1は平面
図であり、図2は本発明の緩衝手段にかかる部分を詳細
に示す図である。主反射鏡11は支持台12に支持構造
13および過負荷防止装置14を介して支持されてい
る。主反射鏡11は図2において上面が鏡面11aであ
り、凹面鏡を形成している。本装置においては、従来の
装置に比較してこの主反射鏡11が薄く構成されている
のが分かる。したがって、従来の装置に比してより主反
射鏡11に強度に関し十分な配慮がなされなければなら
ない。前記支持構造13は従来の装置と同様に細棒13
aを有し、この細棒によって、ガラスにより形成される
主反射鏡11と鋼材により形成される支持台12の熱膨
張率の差を吸収する構成となっている。しかしながら、
この構成は地震などにより大きな負荷が加わった場合に
はこの細棒13aが折れてしまい、復帰させるために細
棒13aを新品と交換しなければならない。そこで、過
負荷防止機構14が設けられており、所定値以上の負荷
が支持構造13にかかると支持台12と主反射鏡11の
結合を解除し、細棒13aが破損するに至ることを防止
している。FIGS. 1 and 2 show a first embodiment of a supporting device for a main reflecting mirror according to the present invention. FIG. 1 is a plan view, and FIG. 2 is a view showing in detail a portion relating to a buffer means of the present invention. The main reflector 11 is supported by a support 12 via a support structure 13 and an overload prevention device 14. The upper surface of the main reflecting mirror 11 is a mirror surface 11a in FIG. 2, and forms a concave mirror. In this apparatus, it can be seen that the main reflecting mirror 11 is configured to be thinner than the conventional apparatus. Therefore, sufficient consideration should be given to the strength of the main reflecting mirror 11 as compared with the conventional apparatus. The support structure 13 has a thin rod 13 as in the conventional device.
a, and the thin rod absorbs the difference in the coefficient of thermal expansion between the main reflecting mirror 11 formed of glass and the support 12 formed of steel. However,
In this configuration, when a large load is applied due to an earthquake or the like, the thin rod 13a is broken, and the thin rod 13a has to be replaced with a new one in order to return. Therefore, an overload prevention mechanism 14 is provided, and when a load equal to or more than a predetermined value is applied to the support structure 13, the coupling between the support base 12 and the main reflecting mirror 11 is released to prevent the thin rod 13a from being damaged. doing.
【0023】この過負荷防止機構14により主反射鏡1
1が支持台12に対して固定された状態でなくなると、
主反射鏡が大きく移動し、反射望遠鏡の他の構成部材に
ぶつかる可能性が出てくる。特に、主反射鏡11は非常
に精密に製作され、例え破損までに至らない衝突であっ
ても、鏡面11aが歪んでしまっては使用に耐えるもの
ではなくなってしまう。The main reflection mirror 1 is provided by the overload prevention mechanism 14.
When 1 is no longer fixed to the support base 12,
There is a possibility that the main reflector moves greatly and hits other components of the reflector telescope. In particular, the main reflecting mirror 11 is manufactured very precisely, and even if the collision does not lead to damage, the mirror 11a will not be usable if the mirror surface 11a is distorted.
【0024】そこで本装置においては、主反射鏡11の
外側にこれを取り囲むように支持台12に固定配置され
た副支持台15と、この副支持台15と主反射鏡外周と
の間に配置された緩衝部材16とからなる緩衝機構を有
している。緩衝部材16はゴムなどの弾性材料により形
成され、主反射鏡11が1点鎖線で示す位置11´のよ
うに移動した場合に主反射鏡に当接し、十分な緩衝作用
をもって主反射鏡11をの動きを止めて、これが他の構
造物と衝突することを防止している。本装置において
は、この緩衝機構が主反射鏡の外周に8つ配置されてい
るが、少なくとも3つが等間隔で配置されていれば主反
射鏡11の動きを抑制することは可能である。本装置の
ように多くの緩衝機構が存在するのは、緩衝機構ひとつ
当りが受け持つ負荷を軽減するためであり、これによっ
て主反射鏡11にも局所的に大きな応力が発生すること
が防止できる。また、緩衝部材16を分割して配置する
のではなく、主反射鏡外周にリング状に配置してもよ
い。Therefore, in the present apparatus, a sub-support 15 fixed to the support 12 so as to surround the outside of the main reflector 11 and a space between the sub-support 15 and the outer periphery of the main reflector are arranged. And a cushioning mechanism including the cushioning member 16. The buffer member 16 is formed of an elastic material such as rubber, and comes into contact with the main reflecting mirror 11 when the main reflecting mirror 11 moves as indicated by a dashed line 11 ′, and the main reflecting mirror 11 is sufficiently buffered. To prevent it from colliding with other structures. In the present apparatus, eight buffer mechanisms are arranged on the outer periphery of the main reflecting mirror. However, if at least three are arranged at equal intervals, the movement of the main reflecting mirror 11 can be suppressed. The reason why there are many shock absorbing mechanisms as in the present apparatus is to reduce the load that each shock absorbing mechanism bears, and thereby it is possible to prevent locally large stress from being generated in the main reflecting mirror 11. Further, the buffer member 16 may be arranged in a ring shape around the main reflecting mirror instead of being divided and arranged.
【0025】図3には、本発明にかかる第2の実施例が
示されている。本実施例の中で第1の実施例と同様の構
成については、同一の符号を付しその説明を省略する。
第2の実施例は、第1の実施例に対して、主反射鏡11
の光軸方向の動きに対しても対応可能な緩衝機構を有す
ることである。FIG. 3 shows a second embodiment according to the present invention. In the present embodiment, the same components as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
The second embodiment is different from the first embodiment in that the main reflecting mirror 11 is provided.
In the optical axis direction.
【0026】図に示すように、第2実施例においては、
副支持台25の3か所に緩衝部材26a,26b,26
cが配置されている。第1の緩衝部材26aは第1実施
例と同様に主反射鏡の半径方向の動きに対応するが、第
2、第3の緩衝部材26b,26cは主反射鏡11の光
軸方向の動きに対応し、たとえば図の1点鎖線で示され
る位置21´に主反射鏡が移動したとき第2の緩衝部材
26bに当接するように構成されている。As shown in the figure, in the second embodiment,
The cushioning members 26a, 26b, 26
c is arranged. The first buffer member 26a corresponds to the radial movement of the main reflecting mirror as in the first embodiment, but the second and third buffer members 26b and 26c correspond to the movement of the main reflecting mirror 11 in the optical axis direction. Correspondingly, for example, when the main reflecting mirror is moved to a position 21 ′ indicated by a dashed line in the drawing, the main reflecting mirror is configured to come into contact with the second buffer member 26 b.
【0027】第2実施例においては、第2、第3の緩衝
部材26b,26cが光軸方向、半径方向に対しいずれ
にも斜めに配置されているので、光軸方向のみならず半
径方向の動きを抑制する効果がある。したがって、第1
の緩衝部材26aを取り去り、第2、第3の緩衝部材2
6b,26cのみによって半径方向と光軸方向の各々の
動きの抑制を行うことも可能である。また、第2、第3
の緩衝部材26b,26cは光軸方向の動きの抑制のみ
行うように、斜めに配置せずに、光軸方向に配置するこ
とも可能である。これらの配置については、主反射鏡1
1の重量と緩衝部材の負荷能力によって選択されるべき
である。In the second embodiment, the second and third cushioning members 26b and 26c are arranged obliquely with respect to both the optical axis direction and the radial direction. It has the effect of suppressing movement. Therefore, the first
The second and third buffer members 2 are removed.
It is also possible to suppress the movements in the radial direction and the optical axis direction only by 6b and 26c. In addition, the second and third
The buffer members 26b and 26c can be arranged in the optical axis direction without being arranged diagonally so as to suppress only movement in the optical axis direction. Regarding these arrangements, the main reflector 1
1 should be selected according to the weight and the load capacity of the cushioning member.
【0028】図4および図5には本発明にかかる第3の
実施例が示されている。本実施例において前述の各実施
例と同様の構成については同一の符号を付しその説明を
省略する。本実施例は第2実施例のゴムからなる緩衝部
材26a,26b,26cをばねを有する緩衝装置36
a,36b,36cに置き換えたことを特徴としてい
る。そして、図の1点鎖線に示される位置31´で主反
射鏡11がこれらの緩衝装置36a,36b,36cに
当接する。ばねを用いることによって、ストロークを長
くすることが可能であるので、主反射鏡11に加わる衝
撃を十分に緩衝することができる。また、ばねの弾性係
数・ばね全長を変更することにより容易に支持力の変更
を行うことができる。FIGS. 4 and 5 show a third embodiment according to the present invention. In this embodiment, the same components as those in the above-described embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. In this embodiment, the cushioning members 26a, 26b, 26c made of rubber according to the second embodiment are connected to the cushioning device 36 having a spring.
a, 36b, and 36c. Then, the main reflecting mirror 11 comes into contact with these buffering devices 36a, 36b, 36c at a position 31 'indicated by a one-dot chain line in the figure. By using a spring, the stroke can be lengthened, so that the shock applied to the main reflecting mirror 11 can be sufficiently buffered. Further, the supporting force can be easily changed by changing the elastic coefficient and the overall length of the spring.
【0029】図6には本発明にかかる第4の実施例が示
されている。本実施例において前述の各実施例と同様の
構成については同一の符号を付し、その説明を省略す
る。本実施例は第2実施例のゴムからなる緩衝部材26
a,26b,26cを油圧ダンパを有する緩衝装置46
a,46b,46cに置き換えたことを特徴としてい
る。そして、図の1点鎖線に示される位置31´まで主
反射鏡11が移動するとこれらの緩衝装置36a,36
b,36cに当接する。油圧ダンパによって、主反射鏡
11の小さな速度の移動に対しても少ない衝撃で支持す
ることができる。FIG. 6 shows a fourth embodiment according to the present invention. In this embodiment, the same components as those in the above-described embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. In this embodiment, the cushioning member 26 made of rubber of the second embodiment is used.
a, 26b, 26c are provided with a shock absorber 46 having a hydraulic damper.
a, 46b, and 46c. When the main reflecting mirror 11 moves to a position 31 'shown by a dashed line in FIG.
b, 36c. The hydraulic damper can support the movement of the main reflecting mirror 11 at a low speed with a small impact.
【0030】図7および図8には本発明にかかる第5の
実施例が示されている。本実施例においても前述の各実
施例と同様の構成については同一の符号を付し、その説
明を省略する。本実施例は第1の実施例の装置の緩衝部
材16を油圧ダンパを有する緩衝装置56に置き換えた
ものであり、さらに図7に示すように主反射鏡11の外
周に配置された複数個の緩衝機構を3つのブロック57
a,57b,57cに分割していることである。これら
の分割されたグループごとに油圧ダンパの配管58を連
結して、グループ内の各油圧ダンパの支持力を一定とし
ている。これによって、一つの油圧ダンパに集中して負
荷が加わることを防止している。FIGS. 7 and 8 show a fifth embodiment according to the present invention. Also in this embodiment, the same components as those in the above-described embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. In the present embodiment, the buffer member 16 of the device of the first embodiment is replaced by a buffer device 56 having a hydraulic damper, and a plurality of buffer members arranged on the outer periphery of the main reflecting mirror 11 as shown in FIG. Three blocks 57
a, 57b, and 57c. The piping 58 of the hydraulic damper is connected to each of the divided groups, and the supporting force of each hydraulic damper in the group is kept constant. This prevents the load from being concentrated on one hydraulic damper.
【0031】図9および図10には本発明にかかる第6
の実施例が示されている。本実施例においても前述の各
実施例と同様の構成については同一の符号を付し、その
説明を省略する。本実施例は第4の実施例の油圧ダンパ
を有する緩衝装置46a,46b,46cを3つのブロ
ックごとに共通の配管がなされた油圧ダンパを有する緩
衝装置66a,66b,66cに置き換えたことであ
る。主反射鏡11の半径方向に設置された第1油圧ダン
パ66aから導かれた油圧配管68aによって、同一の
ブロック内たとえばブロック67a内の半径方向に設置
された油圧ダンパと繋がっており、これらの油圧ダンパ
には均一の油圧が発生している。また、斜めに配置され
た第2、第3の油圧ダンパ66b,66cもそれぞれに
ブロック内の第2、第3の油圧ダンパと繋がっている。FIGS. 9 and 10 show a sixth embodiment of the present invention.
Is shown. Also in this embodiment, the same components as those in the above-described embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. This embodiment is different from the fourth embodiment in that the shock absorbers 46a, 46b, and 46c having the hydraulic dampers are replaced by the shock absorbers 66a, 66b, and 66c having the hydraulic dampers provided with the common piping for each of the three blocks. . A hydraulic pipe 68a led from a first hydraulic damper 66a installed in the radial direction of the main reflector 11 is connected to a hydraulic damper installed in the same block, for example, a radial direction in the block 67a. A uniform oil pressure is generated in the damper. Further, the second and third hydraulic dampers 66b and 66c arranged obliquely are respectively connected to the second and third hydraulic dampers in the block.
【0032】これらの分割されたグループごとに油圧ダ
ンパの配管58を連結して、グループ内の各油圧ダンパ
の支持力を一定としている。これによって、一つの油圧
ダンパに集中して負荷が加わることを防止している。The piping 58 of the hydraulic damper is connected to each of the divided groups so that the supporting force of each hydraulic damper in the group is constant. This prevents the load from being concentrated on one hydraulic damper.
【0033】図11に本実施例の第7の実施例が示され
ている。本実施例の緩衝装置の構造はほぼ第4実施例の
構造と同一の構造を採り、同一の構成部品に対しては同
位置の符号を付し、その説明を省略する。本実施例にお
いて特徴的なことは副支持台75が主反射鏡の半径方向
に移動可能な点である。副支持台75は支持台12上に
設けられた摺動レール79上を摺動移動可能である。し
たがって、通常時には図に示した主反射鏡11に近接す
る位置に固定され、主反射鏡11の保守・整備などを行
う場合には矢印Cの方向に退避させる。これによって、
保守・整備などの作業が容易となる。FIG. 11 shows a seventh embodiment of the present invention. The structure of the shock absorber of the present embodiment has substantially the same structure as that of the fourth embodiment, and the same components are denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. What is characteristic in this embodiment is that the sub-support 75 can be moved in the radial direction of the main reflecting mirror. The sub support 75 can slide on a slide rail 79 provided on the support 12. Therefore, it is normally fixed at a position close to the main reflecting mirror 11 shown in the figure, and is retracted in the direction of the arrow C when performing maintenance and maintenance of the main reflecting mirror 11. by this,
Work such as maintenance and maintenance becomes easy.
【0034】図12に本実施例の第8の実施例が示され
ている。本実施例の緩衝装置の構造はほぼ第4実施例の
構造と同一の構造を採り、同一の構成部品に対しては同
位置の符号を付し、その説明を省略する。本実施例にお
いて特徴的なことは副支持台75が支持台12に固定さ
れた回動軸89上に回動可能に設けられていることであ
る。通常時には、図に示す主反射鏡11に近接する位置
に固定され、保守・整備などを行う場合には前記の回動
軸89を軸に図中の矢印Dの方向に回動させ、退避させ
る。これによって、保守・整備などの作業が容易とな
る。FIG. 12 shows an eighth embodiment of the present invention. The structure of the shock absorber of the present embodiment has substantially the same structure as that of the fourth embodiment, and the same components are denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. The feature of this embodiment is that the sub-support 75 is rotatably provided on a rotation shaft 89 fixed to the support 12. Normally, it is fixed at a position close to the main reflecting mirror 11 shown in the figure, and is rotated in the direction of arrow D in FIG. . This facilitates operations such as maintenance and maintenance.
【0035】第7および第8の実施例については、第4
の実施例に適応した場合についてのみ記したが、その他
の実施例と組み合わせて実施することが容易であること
はいうまでもない。In the seventh and eighth embodiments, the fourth embodiment
Although only the case where the present embodiment is applied has been described, it goes without saying that the embodiment can be easily implemented in combination with the other embodiments.
【0036】[0036]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、主反射鏡
が地震などにより大きく動いた場合にも緩衝機構の作用
によって、主反射鏡が他の構造物にぶつかり破損・変形
することを防止することが可能となる。As described above, according to the present invention, even if the main reflecting mirror moves greatly due to an earthquake or the like, the action of the buffer mechanism prevents the main reflecting mirror from hitting another structure and being damaged or deformed. This can be prevented.
【0037】特に、請求項3および4記載の発明によれ
ば、主反射鏡の半径方向のみならず光軸方向の動きも抑
制することができる。さらに、請求項5ないし7に記載
の発明によって、緩衝部材を適切に選択することによ
り、所望の性能を得ることができる。さらに、形状にお
いても、請求項7ないし10に記載の発明によって前記
の緩衝部材に適した形状を採ることにより、より性能に
値する選択の幅が広がる。In particular, according to the third and fourth aspects of the present invention, it is possible to suppress not only the movement of the main reflecting mirror in the radial direction but also the optical axis direction. Further, according to the fifth to seventh aspects of the present invention, desired performance can be obtained by appropriately selecting the cushioning member. Further, in the shape, by adopting a shape suitable for the cushioning member according to the inventions of claims 7 to 10, the range of choices worth more performance is expanded.
【0038】また、請求項11ないし13記載の発明に
よれば、緩衝機構の設けられた副支持台を退避可能とす
ることにより、保守・点検整備の際に作業性の向上が図
られる。Further, according to the inventions described in claims 11 to 13, the workability can be improved at the time of maintenance / inspection / maintenance by making it possible to retract the auxiliary support provided with the buffer mechanism.
【図1】本発明にかかる主反射鏡支持装置の好適な第1
実施例の平面図である。FIG. 1 shows a preferred first embodiment of a main reflector supporting device according to the present invention.
It is a top view of an example.
【図2】第1実施例の装置の緩衝機構の詳細な説明図で
ある。FIG. 2 is a detailed explanatory view of a buffer mechanism of the device of the first embodiment.
【図3】本発明にかかる好適な第2実施例を示す図であ
り、特に緩衝機構の詳細な説明図である。FIG. 3 is a view showing a second preferred embodiment according to the present invention, particularly a detailed explanatory view of a buffer mechanism;
【図4】本発明にかかる好適な第3実施例を示す図であ
り、特に緩衝機構の詳細な説明図である。FIG. 4 is a view showing a third preferred embodiment according to the present invention, particularly a detailed explanatory view of a buffer mechanism.
【図5】第3実施例の平面図である。FIG. 5 is a plan view of a third embodiment.
【図6】本発明にかかる好適な第4実施例を示す図であ
り、特に緩衝機構の詳細な説明図である。FIG. 6 is a view showing a fourth preferred embodiment according to the present invention, particularly a detailed explanatory view of a buffer mechanism.
【図7】本発明にかかる好適な第5実施例の平面図であ
る。FIG. 7 is a plan view of a fifth preferred embodiment according to the present invention;
【図8】第5実施例の緩衝機構の詳細な説明図である。FIG. 8 is a detailed explanatory view of a buffer mechanism according to a fifth embodiment.
【図9】本発明にかかる好適な第6実施例の平面図であ
る。FIG. 9 is a plan view of a sixth preferred embodiment according to the present invention;
【図10】第6実施例の緩衝機構の詳細な説明図であ
る。FIG. 10 is a detailed explanatory view of a buffer mechanism according to a sixth embodiment.
【図11】本発明にかかる好適な第7実施例を示す図で
あり、特に緩衝機構の詳細な説明図である。FIG. 11 is a view showing a seventh preferred embodiment according to the present invention, particularly a detailed explanatory view of a buffer mechanism.
【図12】本発明にかかる好適な第8実施例を示す図で
あり、特に緩衝機構の詳細な説明図である。FIG. 12 is a view showing a preferred eighth embodiment according to the present invention, in particular, a detailed explanatory view of a buffer mechanism.
【図13】従来の反射望遠鏡の主反射鏡の支持装置を示
す図であり、特にその正面断面を示す図である。FIG. 13 is a view showing a supporting device for a main reflecting mirror of a conventional reflecting telescope, particularly showing a front sectional view thereof.
【図14】図13に示す主反射鏡支持装置のBB矢視図
である。14 is a view of the main reflecting mirror support device shown in FIG.
【図15】図13に示す主反射鏡支持装置の支持構造の
詳細を示した図である。FIG. 15 is a diagram showing details of a support structure of the main reflector support device shown in FIG. 13;
11 主反射鏡 12 支持台 13 支持構造 13a 細棒 15、25、35、45、55、65、75、85 副
支持台 16、26a、26b、26c 緩衝部材(ゴム) 36a、36b、36c 緩衝部材(ばね) 46a、46b、46c、56、66a、66b、66
c 緩衝部材(油圧ダンパ) 68、68a、68b、68c 油圧配管 79 摺動レール 85 回動軸DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Main reflection mirror 12 Support stand 13 Support structure 13a Thin rod 15, 25, 35, 45, 55, 65, 75, 85 Sub support stand 16, 26a, 26b, 26c Buffer member (rubber) 36a, 36b, 36c Buffer member (Spring) 46a, 46b, 46c, 56, 66a, 66b, 66
c Buffer member (hydraulic damper) 68, 68a, 68b, 68c Hydraulic piping 79 Sliding rail 85 Rotating shaft
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G02B 7/18 G02B 7/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G02B 7/18 G02B 7/00
Claims (12)
鏡支持装置であって、 前記主反射鏡を支持部材を介して支持する支持台と、 前記支持台上に設けられた副支持台と、 前記主反射鏡の外周面と前記副支持台の間に介在し、主
反射鏡の半径方向の動きを抑制する緩衝手段と、 を有し、 前記緩衝手段は、油圧ダンパを含む ことを特徴とする主
反射鏡支持装置。1. A main reflector supporting device for supporting a main reflector of a reflecting telescope, comprising: a support for supporting the main reflector via a support member; and a sub-support provided on the support. Interposed between the outer peripheral surface of the main reflector and the sub-support ,
And suppressing damping means radial movement of the reflecting mirror, the possess, the buffer unit, the main reflector, characterized in that it comprises a hydraulic damper supporting device.
鏡支持装置であって、 前記主反射鏡を支持部材を介して支持する支持台と、 前記支持台上に設けられた副支持台と、 前記主反射鏡の外周部と前記副支持台の間に介在する緩
衝手段と、 を有し、 前記緩衝手段は、 主反射鏡の外周面と副支持台の間に設置された第1緩衝
手段と、 前記外周部に主反射鏡の正面方向に向いて設けられた第
1当接面と副支持台の間に設置された第2緩衝手段と、 前記外周部に主反射鏡の背面方向に向いて設けられた第
2当接面と副支持台の間に設置された第3緩衝手段と、 を有し、 前記第1緩衝手段は主反射鏡の半径方向の動きを抑制
し、前記第2および第3緩衝手段は、主反射鏡の光軸方
向の動きを抑制することを特徴とする主反射鏡支持装
置。2. A main reflection supporting a main reflection mirror of a reflection telescope.
A mirror support device, comprising: a support for supporting the main reflector via a support member; a sub-support provided on the support; and an outer peripheral portion of the main reflector and the sub-support. Intervening loose
And a buffering means , wherein the buffering means is provided between the outer peripheral surface of the main reflecting mirror and the sub-support, and is provided on the outer peripheral portion in a front direction of the main reflecting mirror. A second buffering means provided between the first contact surface and the sub-support, and a second buffer means provided between the second contact surface and the sub-support provided on the outer periphery toward the back of the main reflector. And third buffer means provided. Wherein the first buffer means suppresses the radial movement of the main reflector, and the second and third buffer means move the optical axis of the main reflector in the optical axis direction. A main reflector supporting device, characterized in that the main mirror is suppressed.
鏡支持装置であって、 前記主反射鏡を支持部材を介して支持する支持台と、 前記支持台上に設けられた副支持台と、 前記主反射鏡の外周部と前記副支持台の間に介在する緩
衝手段と、 を有し、 前記主反射鏡の外周部には、主反射鏡の光軸と半径方向
の各々に対し斜めに配置され反射鏡正面側を向く第1当
接面と、主反射鏡の光軸と半径方向の各々に対し斜めに
配置され反射鏡背面側を向く第2当接面とが設けられ、 前記緩衝手段は、前記第1当接面と副支持台の間に設置
される第1緩衝手段と、前記第2当接面と副支持台の間
に設置される第2緩衝手段とを有し、 前記第1および第2緩衝手段により、主反射鏡の半径方
向の動きと光軸方向の動きを抑制することを特徴とする
主反射鏡支持装置。3. A main reflection supporting a main reflection mirror of a reflection telescope.
A mirror support device, comprising: a support for supporting the main reflector via a support member; a sub-support provided on the support; and an outer peripheral portion of the main reflector and the sub-support. Intervening loose
Comprises a shock unit, and the outer periphery of the main reflector has a first abutment surface which is arranged obliquely with respect to each of the optical axis and the radial direction of the main reflecting mirror facing the reflector front side, the main reflection A second abutting surface disposed obliquely to each of the optical axis and the radial direction of the mirror and facing the back side of the reflecting mirror; and the buffer means is provided between the first abutting surface and the sub-support. A first buffering means, and a second buffering means installed between the second contact surface and the sub-support, wherein the first and second buffering means allow the main reflecting mirror to move in the radial direction. A main reflecting mirror support device, which suppresses movement and movement in an optical axis direction.
装置において、前記緩衝手段は油圧ダンパを含むことを
特徴とする主反射鏡支持装置。4. The main reflecting mirror support device according to claim 2 or 3, wherein the buffer means main reflecting mirror supporting device which comprises a hydraulic damper.
装置において、前記緩衝手段はゴムよりなることを特徴
とする主反射鏡支持装置。5. The main reflector supporting apparatus according to claim 2 or 3, wherein the buffer means main reflecting mirror supporting device characterized by comprising a rubber.
装置において、前記緩衝手段はばねを含むことを特徴と
する主反射鏡支持装置。6. The main reflecting mirror supporting device according to claim 2 or 3, wherein the buffer means main reflecting mirror supporting device which comprises a spring.
て、前記緩衝手段は主反射鏡全周に渡って設けられたリ
ング形状を呈することを特徴とする主反射鏡支持装置。7. The main reflector supporting device according to claim 5, wherein the buffering means has a ring shape provided over the entire circumference of the main reflector.
反射鏡支持装置において、前記緩衝手段は主反射鏡の外
周に少なくとも3つ配置されていることを特徴とする主
反射鏡支持装置。8. The main reflecting mirror support device according to any one of claims 1 to 6, wherein the buffer means main reflector main reflecting mirror supporting apparatus characterized by being at least three disposed around the .
装置において、前記油圧ダンパを含む緩衝手段が、主反
射鏡の外周を3つに等分割するブロックごとに、各ダン
パの油圧配管を連結していることを特徴とする主反射鏡
支持装置。9. The main reflecting mirror support device according to claim 1 , wherein the buffer means including the hydraulic damper comprises a hydraulic pipe of each damper for each block which equally divides the outer periphery of the main reflecting mirror into three. A main reflector supporting device, wherein
装置において、前記副支持台が主反射鏡から所定位置ま
で離れる退避機構を有していることを特徴とする主反射
鏡支持装置。10. wherein the main reflector supporting apparatus claim 8 or 9, wherein the auxiliary support stand main reflecting mirror supporting device, characterized in that a retraction mechanism away from the main reflecting mirror to a predetermined position.
おいて、前記退避機構は、前記支持台上に前記主反射鏡
の半径方向に設けられたレール上を前記副支持台が摺動
して退避する機構であることを特徴とする主反射鏡支持
装置。11. The main reflector supporting device according to claim 10 , wherein the retreat mechanism slides the sub-support on a rail provided on the support in a radial direction of the main reflector. A main reflector supporting device, which is a retracting mechanism.
おいて、前記退避機構は、前記副支持台が前記支持台上
に固定された回動軸に支持され、当該副支持台が回動し
て退避する機構であることを特徴とする主反射鏡支持装
置。12. The main reflecting mirror support device according to claim 10 , wherein the retracting mechanism is configured such that the sub-support is supported by a rotating shaft fixed on the support, and the sub-support rotates. A main reflecting mirror support device, wherein the main reflecting mirror support device is a retracting mechanism.
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