JP2913775B2 - 光学装置 - Google Patents
光学装置Info
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- JP2913775B2 JP2913775B2 JP2149180A JP14918090A JP2913775B2 JP 2913775 B2 JP2913775 B2 JP 2913775B2 JP 2149180 A JP2149180 A JP 2149180A JP 14918090 A JP14918090 A JP 14918090A JP 2913775 B2 JP2913775 B2 JP 2913775B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は光学装置に係わり、特に、プリズムなどの光
学素子を半導体基板上に取り付け、光ディスクのような
光学記録媒体からの反射光ビームを上記プリズムを介し
て上記半導体基板に導くようにした光学装置に用いて好
適なものである。
学素子を半導体基板上に取り付け、光ディスクのような
光学記録媒体からの反射光ビームを上記プリズムを介し
て上記半導体基板に導くようにした光学装置に用いて好
適なものである。
〈発明の概要〉 本発明の光学装置は、接着剤層を介して光学装置本体
に取り付けられる光学素子の表面に形成されている光学
特性改善用の光学薄膜上に、接着強度を改善するための
第２の光学薄膜を設けることにより、装置全体の光学特
性を変えることなく上記光学素子を上記光学装置本体に
強く接着させることが出来るようにした光学装置であ
る。
に取り付けられる光学素子の表面に形成されている光学
特性改善用の光学薄膜上に、接着強度を改善するための
第２の光学薄膜を設けることにより、装置全体の光学特
性を変えることなく上記光学素子を上記光学装置本体に
強く接着させることが出来るようにした光学装置であ
る。
〈従来の技術〉 例えば、特開平1-237939号公報に示される光学ピック
アップ装置のように、プリズムなどの光学素子を半導体
基板上に取り付けて構成した光学装置が知られている。
この光学装置は第３図の側面図に示されるように、第１
の光検出器10および第２の光検出器11が配設されている
半導体基板２上にプリズム１のような光学素子を取り付
けて構成されている。上記プリズム１の端部は略45°に
カットされ、その表面に当てられた光の半分を透過させ
るとともに残りの半分を反射させる光半透過反射面1aと
して形成されている。また、上記光半透過反射面1aと対
向する半導体基板２上に半導体レーザ素子３が半田付け
などによって取り付けられていて、上記半導体レーザ素
子３から反射されたレーザ光ビーム４が上記光半透過反
射面1aで反射されて対物レンズ12に入射される。そし
て、この対物レンズ12により収束されて、光ディスク13
の記録トラック13aに入射される。そして、上記記録ト
ラック13aからの反射レーザ光ビーム５が対物レンズ12
を通じてプリズム１の光半透過反射面1aに戻り、上記プ
リズム１を介して上記第１および第２の光検出器10,11
に導かれる。
アップ装置のように、プリズムなどの光学素子を半導体
基板上に取り付けて構成した光学装置が知られている。
この光学装置は第３図の側面図に示されるように、第１
の光検出器10および第２の光検出器11が配設されている
半導体基板２上にプリズム１のような光学素子を取り付
けて構成されている。上記プリズム１の端部は略45°に
カットされ、その表面に当てられた光の半分を透過させ
るとともに残りの半分を反射させる光半透過反射面1aと
して形成されている。また、上記光半透過反射面1aと対
向する半導体基板２上に半導体レーザ素子３が半田付け
などによって取り付けられていて、上記半導体レーザ素
子３から反射されたレーザ光ビーム４が上記光半透過反
射面1aで反射されて対物レンズ12に入射される。そし
て、この対物レンズ12により収束されて、光ディスク13
の記録トラック13aに入射される。そして、上記記録ト
ラック13aからの反射レーザ光ビーム５が対物レンズ12
を通じてプリズム１の光半透過反射面1aに戻り、上記プ
リズム１を介して上記第１および第２の光検出器10,11
に導かれる。
このように構成された光学装置においては、第４図の
要部断面図に示すように、上記プリズム１と上記半導体
基板２との間に接着剤層６を設けてこれらの両者を接着
するようにしている。また、上記プリズム１の表面に光
学薄膜７を設け、上記プリズム１と接着剤層６との界面
における反射を防ぐようにして、これらの間の光学特性
を改善している。
要部断面図に示すように、上記プリズム１と上記半導体
基板２との間に接着剤層６を設けてこれらの両者を接着
するようにしている。また、上記プリズム１の表面に光
学薄膜７を設け、上記プリズム１と接着剤層６との界面
における反射を防ぐようにして、これらの間の光学特性
を改善している。
〈発明が解決しようとする課題〉 上記光学薄膜７は、プリズム１の屈折率および接着剤
層６の屈折率に基づき、使用可能な材料が一義的に決定
されるので、接着剤層６との接着性が悪い光学薄膜７が
形成されることがある。この場合、上記光学薄膜７と上
記接着剤層６との間の接着強度が弱くなり、これらの界
面で剥離が生じて上記光学素子が上記光学装置本体から
外れてしまう不都合が生じる。このような不都合を防止
するために、上記接着剤層６との濡れ性がよい材料を用
いて上記光学薄膜７を形成することが考えられるが、接
着強度を重視して上記光学薄膜７を形成する材料を選択
すると、上記接着剤層６との界面における光学特性が悪
化してしまう問題が生じる。
層６の屈折率に基づき、使用可能な材料が一義的に決定
されるので、接着剤層６との接着性が悪い光学薄膜７が
形成されることがある。この場合、上記光学薄膜７と上
記接着剤層６との間の接着強度が弱くなり、これらの界
面で剥離が生じて上記光学素子が上記光学装置本体から
外れてしまう不都合が生じる。このような不都合を防止
するために、上記接着剤層６との濡れ性がよい材料を用
いて上記光学薄膜７を形成することが考えられるが、接
着強度を重視して上記光学薄膜７を形成する材料を選択
すると、上記接着剤層６との界面における光学特性が悪
化してしまう問題が生じる。
本発明は上述の問題点に鑑み、光学特性を悪化させる
ことなく光学素子を光学装置本体上に強力に接着出来る
ようにすることを目的とする。
ことなく光学素子を光学装置本体上に強力に接着出来る
ようにすることを目的とする。
〈課題を解決するための手段〉 本発明の光学装置は、光の屈折もしくは分散などを起
こさせるための光学素子と、光学素子が取り付けられる
光学装置本体と、光学素子の光学装置本体側の表面に設
けられる光学特性改善用光学薄膜と、光学装置本体に光
学特性改善用光学薄膜が設けられた光学素子を接着剤層
を介して接着するにあたり、光学特性改善用光学薄膜と
前記接着剤層との間に介在し、前記接着剤層に対する濡
れ性が前記光学特性改善用光学薄膜より優れた接着強度
改善用光学薄膜とを備えており、この接着強度改善用光
学薄膜が、接着剤層と略同じ屈折率を有しているもので
ある。
こさせるための光学素子と、光学素子が取り付けられる
光学装置本体と、光学素子の光学装置本体側の表面に設
けられる光学特性改善用光学薄膜と、光学装置本体に光
学特性改善用光学薄膜が設けられた光学素子を接着剤層
を介して接着するにあたり、光学特性改善用光学薄膜と
前記接着剤層との間に介在し、前記接着剤層に対する濡
れ性が前記光学特性改善用光学薄膜より優れた接着強度
改善用光学薄膜とを備えており、この接着強度改善用光
学薄膜が、接着剤層と略同じ屈折率を有しているもので
ある。
〈作用〉 このような本発明では、光学特性改善用光学薄膜と接
着剤層との間に設けられる接着強度改善用光学薄膜の屈
折率が接着剤層と同じ場合には、光学的に見れば上記接
着強度改善用光学薄膜は存在しないのも同然となり、上
記接着強度改善薄膜を設けても上記光学特性改善用光学
薄膜と接着剤層との間の光学特性は変わらない。また、
光学薄膜同志の結合強度を非常に大きくすることが出来
るので、上記接着強度改善用光学薄膜と上記接着剤層と
の接着強度を強くすることにより、光学素子と光学装置
本体との間で剥離が生じにくくなり、上記光学装置本体
に対する上記光学素子の取り付け強度が向上する。
着剤層との間に設けられる接着強度改善用光学薄膜の屈
折率が接着剤層と同じ場合には、光学的に見れば上記接
着強度改善用光学薄膜は存在しないのも同然となり、上
記接着強度改善薄膜を設けても上記光学特性改善用光学
薄膜と接着剤層との間の光学特性は変わらない。また、
光学薄膜同志の結合強度を非常に大きくすることが出来
るので、上記接着強度改善用光学薄膜と上記接着剤層と
の接着強度を強くすることにより、光学素子と光学装置
本体との間で剥離が生じにくくなり、上記光学装置本体
に対する上記光学素子の取り付け強度が向上する。
〈実施例〉 第１図は、本発明の一実施例を示す光学装置の要部断
面図であり、第２図は光学装置の全体構成を示す側面図
である。なお、実施例の光学装置の全体的な構成は第３
図に示した従来の光学装置と略同じであり、同一部分に
ついては同一の番号を付して詳細な説明を省略する。
面図であり、第２図は光学装置の全体構成を示す側面図
である。なお、実施例の光学装置の全体的な構成は第３
図に示した従来の光学装置と略同じであり、同一部分に
ついては同一の番号を付して詳細な説明を省略する。
第１図に示すように、実施例の光学装置は、光学特性
改善用光学薄膜７と接着剤層６との間に接着強度改善用
光学薄膜８を介在させている。
改善用光学薄膜７と接着剤層６との間に接着強度改善用
光学薄膜８を介在させている。
上述したように、光学特性改善用光学薄膜７は、プリ
ズム１の屈折率および接着剤層６の屈折率に基づく所定
の屈折率を有する材料を用いて形成され、例えばフッカ
セリウムCeF3のようなフッ素系の材料により形成されて
いる。この場合、接着剤層６がシリコン系の接着剤によ
り形成されていると、光学特性改善用光学薄膜７と接着
剤層６との接着強度を強くすることが出来ず、従来の光
学装置の場合はこれらの界面で剥離が生じることがあっ
た。本実施例においては、光学特性改善用光学薄膜７の
表面に接着強度改善用光学薄膜８を設け、プリズム１を
半導体基板２上にしっかりと固着出来るようにしてい
る。
ズム１の屈折率および接着剤層６の屈折率に基づく所定
の屈折率を有する材料を用いて形成され、例えばフッカ
セリウムCeF3のようなフッ素系の材料により形成されて
いる。この場合、接着剤層６がシリコン系の接着剤によ
り形成されていると、光学特性改善用光学薄膜７と接着
剤層６との接着強度を強くすることが出来ず、従来の光
学装置の場合はこれらの界面で剥離が生じることがあっ
た。本実施例においては、光学特性改善用光学薄膜７の
表面に接着強度改善用光学薄膜８を設け、プリズム１を
半導体基板２上にしっかりと固着出来るようにしてい
る。
すなわち、このような接着強度改善用光学薄膜８は、
その屈折率ｎが接着剤層６と略同じで、しかも接着剤に
対する濡れ性がよい原料を用いて形成される。例えば、
シリコン系の接着剤層６の屈折率ｎが1.43〜1.45の場合
には、接着強度改善用光学薄膜８としてのSiO2膜が形成
される。
その屈折率ｎが接着剤層６と略同じで、しかも接着剤に
対する濡れ性がよい原料を用いて形成される。例えば、
シリコン系の接着剤層６の屈折率ｎが1.43〜1.45の場合
には、接着強度改善用光学薄膜８としてのSiO2膜が形成
される。
SiO2膜はその屈折率ｎが1.45程度なので、光から見れ
ばSiO2膜は無いのと同じであり、接着強度改善用光学薄
膜８を設けても全体の光学特性は変わらない。そして、
SiO2膜は接着剤層６に対する濡れ性がよいので、SiO2に
より接着強度改善用光学薄膜８を形成すると、接着強度
改善用光学薄膜８と接着剤層６とを強い接着力で接着す
ることが出来、これらの界面が剥離するような不都合は
生じない。
ばSiO2膜は無いのと同じであり、接着強度改善用光学薄
膜８を設けても全体の光学特性は変わらない。そして、
SiO2膜は接着剤層６に対する濡れ性がよいので、SiO2に
より接着強度改善用光学薄膜８を形成すると、接着強度
改善用光学薄膜８と接着剤層６とを強い接着力で接着す
ることが出来、これらの界面が剥離するような不都合は
生じない。
SiO2膜を形成する場合は、例えば蒸着などにより光学
特性改善用光学薄膜７の表面上に1,000Å程度の厚さに
設ければよい。蒸着法により光学特性改善用光学薄膜７
の表面に接着強度改善用光学薄膜８を設けた場合、これ
ら２つの薄膜同志を強力に結合させることが出来るの
で、これらの間が剥離するような不都合はない。したが
って、実施例の光学装置は接着剤層６と接着強度改善用
光学薄膜８との界面、および接着強度改善用光学薄膜８
と光学特性改善用光学薄膜７との界面の両方共に大きな
結合強度が得られるので、光学特性を何ら損なうこと無
くプリズム１と半導体基板２との強度を向上させること
が出来、半導体基板２上にプリズム１をしっかりと取り
付けることが出来る。或る実験によれば、このような接
着構造の光学装置の場合には、接着部分が剥がれる前に
接着剤層６が破壊してしまう程大きな接着強度でプリズ
ム１と半導体基板２とを接着させることが出来た。
特性改善用光学薄膜７の表面上に1,000Å程度の厚さに
設ければよい。蒸着法により光学特性改善用光学薄膜７
の表面に接着強度改善用光学薄膜８を設けた場合、これ
ら２つの薄膜同志を強力に結合させることが出来るの
で、これらの間が剥離するような不都合はない。したが
って、実施例の光学装置は接着剤層６と接着強度改善用
光学薄膜８との界面、および接着強度改善用光学薄膜８
と光学特性改善用光学薄膜７との界面の両方共に大きな
結合強度が得られるので、光学特性を何ら損なうこと無
くプリズム１と半導体基板２との強度を向上させること
が出来、半導体基板２上にプリズム１をしっかりと取り
付けることが出来る。或る実験によれば、このような接
着構造の光学装置の場合には、接着部分が剥がれる前に
接着剤層６が破壊してしまう程大きな接着強度でプリズ
ム１と半導体基板２とを接着させることが出来た。
なお、上記実施例においては、接着強度改善用光学薄
膜８としてSiO2膜を形成したが、この接着強度改善用光
学薄膜８を形成する材料は接着剤層６の構成材料に合わ
せて適宜選択すればよい。例えば、接着剤層６がエポキ
シ系材料によって形成され、その屈折率ｎが1.54程度な
らば、Al2O3またはSi2O3のように、エポキシ系の接着剤
層６と同じような屈折率を有する材料を用いて接着強度
改善用光学薄膜８を形成すればよい。
膜８としてSiO2膜を形成したが、この接着強度改善用光
学薄膜８を形成する材料は接着剤層６の構成材料に合わ
せて適宜選択すればよい。例えば、接着剤層６がエポキ
シ系材料によって形成され、その屈折率ｎが1.54程度な
らば、Al2O3またはSi2O3のように、エポキシ系の接着剤
層６と同じような屈折率を有する材料を用いて接着強度
改善用光学薄膜８を形成すればよい。
〈発明の効果〉 本発明は上述したように、接着剤層を介して光学素子
の光学特性改善用光学薄膜が設けられている面を光学装
置本体に接着するにあたり、光学特性改善用光学薄膜と
接着剤層との間に、上記接着剤層と略同じ屈折率を有
し、かつ、上記接着剤層に対する濡れ性のよい接着強度
改善用光学薄膜を形成したので、光学的には上記光学特
性改善用光学薄膜と接着剤層との間に何も設けられてい
ないのと同様な光学特性を保持することが出来るととも
に、上記接着剤層との接着強度を大幅に向上させること
が出来る。したがって、上記接着剤層と光学薄膜との界
面で剥離が生じる不都合を確実に防止することが出来、
装置全体の光学特性を変えることなく上記光学素子を上
記光学装置本体に強く接着させることが出来る。このた
め、例えば、プロセスの不安定性に基づく接着強度のば
らつきを最小限に抑制することが出来、光学装置の信頼
性を大幅に向上させることが出来る。
の光学特性改善用光学薄膜が設けられている面を光学装
置本体に接着するにあたり、光学特性改善用光学薄膜と
接着剤層との間に、上記接着剤層と略同じ屈折率を有
し、かつ、上記接着剤層に対する濡れ性のよい接着強度
改善用光学薄膜を形成したので、光学的には上記光学特
性改善用光学薄膜と接着剤層との間に何も設けられてい
ないのと同様な光学特性を保持することが出来るととも
に、上記接着剤層との接着強度を大幅に向上させること
が出来る。したがって、上記接着剤層と光学薄膜との界
面で剥離が生じる不都合を確実に防止することが出来、
装置全体の光学特性を変えることなく上記光学素子を上
記光学装置本体に強く接着させることが出来る。このた
め、例えば、プロセスの不安定性に基づく接着強度のば
らつきを最小限に抑制することが出来、光学装置の信頼
性を大幅に向上させることが出来る。
第１図は、本発明の一実施例を示す光学装置の要部断面
図、 第２図は、光学装置の全体構成を示す側面図、 第３図は、従来の光学装置の全体構成を示す側面図、 第４図は、従来の光学装置の接着構造を示す断面図であ
る。 １……プリズム,2……半導体基板,6……接着剤層,7……
光学特性改善用光学薄膜,8……接着強度改善用光学薄
膜。
図、 第２図は、光学装置の全体構成を示す側面図、 第３図は、従来の光学装置の全体構成を示す側面図、 第４図は、従来の光学装置の接着構造を示す断面図であ
る。 １……プリズム,2……半導体基板,6……接着剤層,7……
光学特性改善用光学薄膜,8……接着強度改善用光学薄
膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−23301（ＪＰ，Ａ) 株式会社朝倉書店発行、久保田広他 編、「光学技術ハンドブック増補版」 （ｓ50，７，20）ｐｐ667〜674（９, ３，13コーティングの欄と９，３，14バ ルサム作業の欄。 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 7/135 G11B 7/22
Claims (1)
- 【請求項１】光の屈折もしくは分散などを起こさせるた
めの光学素子と、 前記光学素子が取り付けられる光学装置本体と、 前記光学素子の前記光学装置本体側の表面に設けられる
光学特性改善用光学薄膜と、 前記光学装置本体に、前記光学特性改善用光学薄膜が設
けられた前記光学素子を接着剤層を介して接着するにあ
たり、前記光学特性改善用光学薄膜と前記接着剤層との
間に介在し、前記接着剤層に対する濡れ性が前記光学特
性改善用光学薄膜より優れた接着強度改善用光学薄膜と
を備えており、 前記接着強度改善用光学薄膜は、前記接着剤層と略同じ
屈折率を有している ことを特徴とする光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2149180A JP2913775B2 (ja) | 1990-06-07 | 1990-06-07 | 光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2149180A JP2913775B2 (ja) | 1990-06-07 | 1990-06-07 | 光学装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0440637A JPH0440637A (ja) | 1992-02-12 |
| JP2913775B2 true JP2913775B2 (ja) | 1999-06-28 |
Family
ID=15469548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2149180A Expired - Fee Related JP2913775B2 (ja) | 1990-06-07 | 1990-06-07 | 光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2913775B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5339715A (en) * | 1993-09-02 | 1994-08-23 | Davidson Textron Inc. | Programmable pressure control system |
-
1990
- 1990-06-07 JP JP2149180A patent/JP2913775B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 株式会社朝倉書店発行、久保田広他編、「光学技術ハンドブック増補版」（ｓ５０，７，２０）ｐｐ６６７〜６７４（９，３，１３コーティングの欄と９，３，１４バルサム作業の欄。 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0440637A (ja) | 1992-02-12 |
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Legal Events
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