JP2919566B2 - Semiconductor device - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体集積回路(以下、ICという)チップ
等の半導体装置、特にこの静電破壊保護構造に関するも
のである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor device such as a semiconductor integrated circuit (hereinafter, referred to as IC) chip, and more particularly to this electrostatic discharge protection structure.
(従来の技術) 従来、ICチップ等は入力端子、出力端子等が外部に露
出した状態でパッケージングされており、それらの端子
に人体等が接触することにより、ICチップ内部へ静電気
が侵入し、静電破壊を起こしてしまう場合がある。殊
に、ICチップ等において入力端子及び出力端子は、ICチ
ップ内部の要部回路に直接接続されていることが多く、
静電破壊により受ける影響が大きい。またMOSLSI等のIC
チップでは、入力端子は通常MOSトランジスタのゲート
電極に接続されているが、そのゲート電極は酸化絶縁膜
によって絶縁されているため電気絶縁性がよく、例えば
衣服やプラスチック容器、その他、LSI取扱い中等に発
生する静電気によって高い電圧が加わりやすい。(Prior art) Conventionally, IC chips and the like are packaged with the input terminals and output terminals exposed to the outside, and static electricity invades the inside of the IC chip when a human body contacts the terminals. In some cases, electrostatic breakdown may occur. In particular, input terminals and output terminals of IC chips and the like are often directly connected to main circuits inside the IC chip.
Highly affected by electrostatic breakdown. ICs such as MOS LSI
In a chip, the input terminal is usually connected to the gate electrode of a MOS transistor, but the gate electrode is insulated by an oxide insulating film, so it has good electrical insulation, such as in clothes and plastic containers, and when handling LSI. High voltage is easily applied by the generated static electricity.
このような静電破壊に対する対策として、従来、入力
端子または出力端子と内部回路との間に接続される静電
破壊保護回路がICチップ内部に組込まれる。As a countermeasure against such an electrostatic breakdown, conventionally, an electrostatic breakdown protection circuit connected between an input terminal or an output terminal and an internal circuit is incorporated in an IC chip.
このような静電破壊保護回路としては、例えば文献
「日経マイクロデバイス」(1986年11月)p.131−137に
記載される技術があった。その構成を第2図に示す。As such an electrostatic discharge protection circuit, for example, there is a technique described in the document “Nikkei Microdevice” (November 1986), pp. 131-137. The configuration is shown in FIG.
第2図は、従来の第1の静電破壊保護回路を有するIC
チップの構成図である。FIG. 2 shows a conventional IC having a first electrostatic discharge protection circuit.
It is a block diagram of a chip.
このICチップ10は、電源パッド11、接地用の電源パッ
ド(以下、接地パッドという)12及び入力パッド13を有
しており、その電源パッド11には電源配線として電源ラ
イン14が結線され、接地パッド12には電源配線として接
地ライン15が結線されている。電源ライン14及び接地ラ
イン15間には、内部回路16と静電保護回路である静電気
抑制回路17とが並列に接続されている。This IC chip 10 has a power supply pad 11, a power supply pad for grounding (hereinafter referred to as a grounding pad) 12 and an input pad 13, and a power supply line 14 is connected to the power supply pad 11 as a power supply wiring. A ground line 15 is connected to the pad 12 as a power supply line. Between the power supply line 14 and the ground line 15, an internal circuit 16 and an electrostatic suppression circuit 17, which is an electrostatic protection circuit, are connected in parallel.
内部回路16は、例えばインバータを構成するMOSトラ
ンジスタ16a,16b等を有しており、静電気抑制回路17に
接続されている。The internal circuit 16 includes, for example, MOS transistors 16a and 16b constituting an inverter, and is connected to the static electricity suppressing circuit 17.
静電気抑制回路17は、入力パッド13からの静電気を抑
制して外部へ放出するための分流等を行う回路であり、
クランプ用のダイオード17a,17b及び放電電流制限用の
抵抗17cで構成されている。The static electricity suppressing circuit 17 is a circuit that performs a shunt or the like for suppressing static electricity from the input pad 13 and discharging the static electricity to the outside.
It is composed of clamping diodes 17a and 17b and a discharge current limiting resistor 17c.
次に、動作を説明する。 Next, the operation will be described.
通常、正または負の静電気が入力パッド13に加わった
場合、その静電気は抵抗17cにより放電電流が制限され
かつ放電の立ち上がりが遅くなり、正の静電気はダイオ
ード17aを通じて電源側へ流れ、負の静電気はダイオー
ド17bを介して接地側へ流れる。この時、例えば電源パ
ッド11が開放状態でかつ接地パッド12が接地されている
と、正の静電気は、抵抗17cを介してダイオード17bを流
れようとするが、ダイオード17bは、正の静電気に対し
て逆方向となり一般に感度が悪いため、第2図中に矢印
A1で示すようにダイオード17aを通じて電源側へ流れ、
さらに内部回路16のMOSトランジスタ16a,16bを通って接
地パッド12へ流れる。また、負の静電気については、第
2図中に矢印A2で示すようにダイオード17bを通って接
地パッド12へ流れる。Normally, when positive or negative static electricity is applied to the input pad 13, the static electricity restricts the discharge current by the resistor 17c and slows the rise of discharge, and the positive static electricity flows to the power supply side through the diode 17a, and the negative static electricity flows. Flows to the ground side via the diode 17b. At this time, for example, if the power supply pad 11 is open and the ground pad 12 is grounded, positive static electricity tends to flow through the diode 17b via the resistor 17c. In the opposite direction, the sensitivity is generally poor.
As shown by A1, it flows to the power supply side through the diode 17a,
Further, the current flows to the ground pad 12 through the MOS transistors 16a and 16b of the internal circuit 16. Further, the negative static electricity flows to the ground pad 12 through the diode 17b as shown by an arrow A2 in FIG.
さらに、従来の他の静電破壊保護回路の構成例として
は、例えば第3図に示すようなものがあった。FIG. 3 shows another example of the configuration of another conventional electrostatic breakdown protection circuit.
第3図は、従来の第2の静電破壊保護回路を有するIC
チップの構成図である。FIG. 3 shows a conventional IC having a second electrostatic discharge protection circuit.
It is a block diagram of a chip.
このICチップ20は、ICチップ10とほぼ同様の構成を有
しており、異なる点は、静電気抑制回路17に加えて、放
電素子である静電耐圧性を有する保護トランジスタ21を
付加して構成したことである。This IC chip 20 has almost the same configuration as the IC chip 10, except that in addition to the static electricity suppressing circuit 17, a protection transistor 21 having electrostatic withstand voltage, which is a discharge element, is added. It was done.
保護トランジスタ21は、電源ライン14及び接地ライン
15間に接続され、かつゲート電極が接地ライン15に接続
されている。また、この保護トランジスタ21は、静電耐
圧性を持たせるために静電気が分散して流れるように、
例えばゲート幅等におけるディメンジョンを大きくして
構成されている。The protection transistor 21 includes a power line 14 and a ground line.
15, and the gate electrode is connected to the ground line 15. In addition, the protection transistor 21 is provided so that static electricity is dispersed and flows in order to have electrostatic withstand voltage.
For example, it is configured to have a large dimension in a gate width or the like.
このICチップ20では、例えばICチップ10の場合と同様
にして電源パッド11が開放状態の時に入力パッド13に加
わった正の静電気は、第3図中に矢印A3で示すようにダ
イオード17aを流れ、保護トランジスタ21を介して接地
パッド12へ流れる。In the IC chip 20, for example, similarly to the case of the IC chip 10, positive static electricity applied to the input pad 13 when the power supply pad 11 is in the open state flows through the diode 17a as shown by an arrow A3 in FIG. Flows to the ground pad 12 via the protection transistor 21.
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記構成の静電破壊保護回路では、次
のような課題があった。(Problems to be solved by the invention) However, the electrostatic breakdown protection circuit having the above configuration has the following problems.
(A)ICチップ10では、例えば電源パッド11が開放状態
の時に入力パッド13へ正の静電気が加わると、その静電
気は内部回路16のMOSトランジスタ16a,16bを流れるた
め、各MOSトランジスタ16a,16bのソースまたはドレイン
電極とサブストレートとの間のpn接合が破壊されてしま
うおそれがある。この場合、例えばMOSトランジスタ16
a,16bのpn接合の接合面積を広くしておくことによりこ
の問題の解決を図ることが考えられるが、そうするとチ
ップ面積が増大したりする問題が生じてしまう。(A) In the IC chip 10, for example, when positive static electricity is applied to the input pad 13 when the power supply pad 11 is open, the static electricity flows through the MOS transistors 16a and 16b of the internal circuit 16, so that each of the MOS transistors 16a and 16b The pn junction between the source or drain electrode and the substrate may be destroyed. In this case, for example, the MOS transistor 16
It is conceivable to solve this problem by increasing the junction area of the pn junctions a and 16b. However, in this case, there is a problem that the chip area increases.
(B)ICチップ20では、例えば電源パッド11が開放状態
にあるような時でも、入力パッド113から入って電源側
に流れた静電気は、ダイオード17aを通った後、内部回
路16へ回り込まず保護トランジスタ21を通って接地パッ
ド12へ流れる。ところが、保護トランジスタ21は静電気
を通すので静電耐圧性を得るために通常のMOSトランジ
スタ等よりも大きいディメンジョンを有しており、その
ためにICチップ20のチップ面積が大きくなってしまう。(B) In the IC chip 20, for example, even when the power supply pad 11 is in an open state, the static electricity entering from the input pad 113 and flowing to the power supply side passes through the diode 17a and is protected from sneaking into the internal circuit 16. It flows through transistor 21 to ground pad 12. However, since the protection transistor 21 conducts static electricity, the protection transistor 21 has a dimension larger than that of a normal MOS transistor or the like in order to obtain an electrostatic withstand voltage, so that the chip area of the IC chip 20 increases.
本発明は、前記従来技術の持っていた課題を解決し、
チップ面積を大きくすることなく、静電気から内部回路
を確実に保護することができる静電破壊保護構造を有す
る半導体装置を提供するものである。The present invention solves the problems of the prior art,
An object of the present invention is to provide a semiconductor device having an electrostatic discharge protection structure capable of reliably protecting an internal circuit from static electricity without increasing a chip area.
(課題を解決するための手段) 前記課題を解決するために、本発明のうちの第1の発
明では、第1の電源電位が供給される第1の電源パッド
と該第1の電源電位とは異なる第2の電源電位が供給さ
れる第2の電源パッドとを有し、前記第1の電源パッド
に第1の配線を介して電気的に接続され、前記第2の電
源パッドに第2の配線を介して電気的に接続された内部
回路と、入力パッドまたは出力パッドに電気的に接続さ
れると共に前記第1の電源パッド及び前記第2の電源パ
ッドに電気的に接続された静電保護回路とを有する半導
体装置において、第3の配線を用いて前記第1の電源パ
ッドと電気的に接続されると共に前記第2の電源パッド
に電気的に接続される放電素子を有し、前記静電保護回
路と前記第1の電源パッドまたは前記第2の電源パッド
とを接続する配線は前記第1の配線及び前記第2の配線
とは異なる配線であり、前記第3の配線のインピーダン
スは前記第1の配線または前記第2の配線のインピーダ
ンスより小さい。(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, according to a first aspect of the present invention, a first power supply pad to which a first power supply potential is supplied, and a first power supply potential are provided. And a second power supply pad to which a different second power supply potential is supplied. The second power supply pad is electrically connected to the first power supply pad via a first wiring, and a second power supply pad is connected to the second power supply pad. And an electrostatic circuit electrically connected to an input pad or an output pad and electrically connected to the first power supply pad and the second power supply pad. And a discharge element electrically connected to the first power supply pad using a third wiring and electrically connected to the second power supply pad. An electrostatic protection circuit and the first power supply pad or the second power supply pad; The wiring connecting to the power supply pad is different from the first wiring and the second wiring, and the impedance of the third wiring is smaller than the impedance of the first wiring or the second wiring.
第2の発明では、第1の発明の半導体装置において、
前記第1の電源パッド及び前記第2の電源パッドは、複
数の内部回路に電気的に接続される。In a second aspect, in the semiconductor device according to the first aspect,
The first power supply pad and the second power supply pad are electrically connected to a plurality of internal circuits.
第3の発明では、第1または第2の発明の半導体装置
において、前記第3の配線の幅を前記第1の配線または
前記第2の配線の幅より広くしている。In a third aspect, in the semiconductor device according to the first or second aspect, the width of the third wiring is wider than the width of the first wiring or the second wiring.
第4の発明では、第1〜第3の発明のいずれか1つの
半導体装置において、前記出力パッドに電気的に接続さ
れる前記静電保護回路は、入力側が前記内部回路の出力
と接続され、出力側が前記出力パッドに接続されるCMOS
インバータである。In a fourth aspect, in the semiconductor device according to any one of the first to third aspects, the electrostatic protection circuit electrically connected to the output pad has an input side connected to an output of the internal circuit, CMOS whose output side is connected to the output pad
It is an inverter.
第5の発明では、第1〜第4の発明のいずれか1つの
半導体装置において、前記放電素子は、隣接するパッド
間に配置されている。In a fifth aspect, in the semiconductor device according to any one of the first to fourth aspects, the discharge element is disposed between adjacent pads.
(作 用) 本発明によれば、以上のように半導体装置を構成した
ので、例えば、入力パッドまたは出力パッドに静電気に
よる高電圧が印加された場合、その高電圧は、内部回路
が接続された第1及び第2の配線とは異なる配線にて、
第1または第2の電源パッドへ伝達される。また、第1
と第2の電源パッドのうち、一方の電源パッドに伝達さ
れた高電圧は、配電素子によって他方の電源パッドへ伝
達される。この時、一方の電源パッドに伝達された高電
圧は、インピーダンスの大きい第1の配線や第2の配線
を介して内部回路に伝わることなく、インピーダンスの
小さい第3の配線に接続された放電素子を介して放電さ
れる。(Operation) According to the present invention, since the semiconductor device is configured as described above, for example, when a high voltage due to static electricity is applied to the input pad or the output pad, the high voltage causes the internal circuit to be connected. With wiring different from the first and second wirings,
The power is transmitted to the first or second power supply pad. Also, the first
The high voltage transmitted to one of the power supply pads and the second power supply pad is transmitted to the other power supply pad by the power distribution element. At this time, the high voltage transmitted to one of the power supply pads is not transmitted to the internal circuit through the first wiring or the second wiring having a large impedance, but is connected to the third wiring having a small impedance. Is discharged through.
(実施例) 第1図は、本発明の第1の実施例を示す静電破壊保護
回路を有するICチップの概略構成図である。図中、第3
図と共通の要素には、共通の符号が付されている。第4
図は、第1図の静電破壊保護回路に応じたICチップの一
構成例を示すレイアウト図である。第4図中、第1図と
共通の要素には共通の符号が付されている。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an IC chip having an electrostatic discharge protection circuit according to a first embodiment of the present invention. In the figure, the third
Elements common to the drawings are denoted by common reference numerals. 4th
FIG. 2 is a layout diagram showing one configuration example of an IC chip according to the electrostatic discharge protection circuit of FIG. 4, the same elements as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.
このICチップ30は、チップ板31を有しており、該チッ
プ板31上には、第1の電源パッドである電源パッド32、
該電源パッド32に隣接して設けられる第2の電源パッド
である接地パッド33、及び入力パッド34,34−1〜34−
nが形成されると共に、静電保護回路用の電源配線とし
て電源ライン35及び接地ライン36と、内部回路用の電源
配線として第1の配線である電源ライン37及び第2の配
線である接地ライン38とが形成されている。The IC chip 30 has a chip plate 31, on which a power supply pad 32 as a first power supply pad,
A ground pad 33, which is a second power pad provided adjacent to the power pad 32, and input pads 34, 34-1 to 34-
n, a power supply line 35 and a ground line 36 as power supply lines for an electrostatic protection circuit, and a power supply line 37 as a first wiring and a ground line as a second wiring as power supply lines for an internal circuit. 38 are formed.
電源ライン35は、電源パッド32に接続されている。電
源ライン37は、電源ライン35と異なる経路で電源パッド
32に接続されると共に、耐圧性を得るために電源ライン
37よりもライン幅が狭く設定されている。The power supply line 35 is connected to the power supply pad 32. The power line 37 is connected to the power pad
32 and a power supply line to obtain pressure resistance
The line width is set narrower than 37.
接地ライン36は、接地パッド33に接続されている。接
地ライン38は、接地ライン36と異なる経路で接地パッド
33に接続されると共に、耐圧性を得るために接地ライン
36よりもライン幅が狭く設定されている。The ground line 36 is connected to the ground pad 33. The ground line 38 has a different path from the ground line 36 to the ground pad.
Connected to 33 and ground line to obtain pressure resistance
The line width is set smaller than 36.
電源ライン35と接地ライン36との間には、例えばICチ
ップ10の場合と同一構成の静電保護回路である静電気抑
制回路17が接続されており、その抵抗17cは入力パッド3
4に接続されている。Between the power supply line 35 and the ground line 36, for example, an electrostatic suppression circuit 17, which is an electrostatic protection circuit having the same configuration as that of the IC chip 10, is connected, and its resistance 17c is connected to the input pad 3
Connected to 4.
電源ライン37と接地ライン38の間には、例えばICチッ
プ10の場合と同一構成の内部回路16が接続されている。
この内部回路16の入力側は、静電気抑制回路17を介して
入力パッド34に接続されている。Between the power supply line 37 and the ground line 38, for example, an internal circuit 16 having the same configuration as that of the IC chip 10 is connected.
The input side of the internal circuit 16 is connected to the input pad 34 via the static electricity suppressing circuit 17.
さらに、隣接して設けられた電源パッド32及び接地パ
ッド33間には、例えばICチップ10の場合と同一構成の放
電素子である保護トランジスタ21が形成されている。Further, between the power supply pad 32 and the ground pad 33 provided adjacent to each other, for example, a protection transistor 21 which is a discharge element having the same configuration as that of the IC chip 10 is formed.
保護トランジスタ21は、静電気に対してのみオンして
電流を流し、通常の電源電圧に対してはオフ状態にある
ように機能するものであるが、例えばNチャネル形MOS
トランジスタで構成されている。この保護トランジスタ
21は、ドレイン電極が第3の配線である電源ライン39を
介して電源パッド32に、ゲート電極及びソース電極が接
地パッド33にそれぞれ接続されている。The protection transistor 21 functions so as to be turned on only for static electricity and to flow a current, and to be turned off for a normal power supply voltage.
It is composed of transistors. This protection transistor
In 21, a drain electrode is connected to a power supply pad 32 via a power supply line 39 which is a third wiring, and a gate electrode and a source electrode are connected to a ground pad 33.
以上のように構成されるICチップでは、電源ライン35
における電源パッド32及び静電気抑制回路17間の第2の
配線である配線部分A11と、電源ライン37における電源
パッド32及び内部回路16間の第1の配線である配線部分
A12との間に次のような関係を設定している。即ち、入
力パッド34に入力が想定される静電気に対して、保護ト
ランジスタ21が接続される電源ライン39のインピーダン
スを、該電源ライン39の方へ静電気が流れるように、配
線部分A12のインピーダンスよりも小さく設定してお
り、ICチップ30では、配線部分A11のインピーダンスに
対しても電源ライン39のインピーダンスの方を小さく設
定している。これは、例えば電源ライン39のライン幅を
広くしたりすることによって実現している。In the IC chip configured as above, the power supply line 35
A wiring portion A11 which is a second wiring between the power supply pad 32 and the static electricity suppressing circuit 17 in FIG. 4 and a wiring portion which is a first wiring between the power supply pad 32 and the internal circuit 16 in the power supply line 37
The following relationship has been established with A12. That is, with respect to static electricity assumed to be input to the input pad 34, the impedance of the power supply line 39 to which the protection transistor 21 is connected is smaller than the impedance of the wiring portion A12 so that static electricity flows toward the power supply line 39. In the IC chip 30, the impedance of the power supply line 39 is set to be smaller than the impedance of the wiring portion A11. This is realized by, for example, increasing the line width of the power supply line 39.
次に、動作を説明する。 Next, the operation will be described.
例えば、電源パッド32が開放状態で接地パッド34が接
地されている時に、該入力パッド34に正の静電気が加わ
ると、その正の静電気は、抵抗17cによって放電の立ち
上がりが遅らされかつ放電電流の制限を受けて、ダイオ
ード17aを通じて配線部分A11を流れる。この正の静電気
は、電源パッド32へ入るが、配線部分A12のインピーダ
ンスを電源ライン39の部分のインピーダンスよりも大き
く設定したことにより、電源ライン39の方へ流れ、保護
トランジスタ21を介して接地パッド33へ流れて放電され
る。For example, if positive static electricity is applied to the input pad 34 while the power pad 32 is open and the ground pad 34 is grounded, the positive static electricity causes the rising of discharge to be delayed by the resistor 17c and the discharge current to rise. Flows through the wiring portion A11 through the diode 17a. This positive static electricity enters the power supply pad 32, but flows to the power supply line 39 because the impedance of the wiring portion A12 is set to be larger than the impedance of the power supply line 39, and passes through the protection transistor 21 to the ground pad. It flows to 33 and is discharged.
また、入力パッド34に負の静電気が加わった場合、そ
の静電気は、ダイオード17bを通り、接地ライン36を通
って接地パッド33へ流れる。When a negative static electricity is applied to the input pad 34, the static electricity flows through the diode 17b, the ground line 36, and the ground pad 33.
本実施例では、次のような利点を有している。 This embodiment has the following advantages.
(a)保護トランジスタ21は、電源パッド32及び接地パ
ッド33を隣接させ、その間の空き領域に形成するように
した。そのため、保護トランジスタ21を形成するための
領域をICチップ30内に特別に設ける必要がなくなる。従
って、保護トランジスタ21が大きなディメンジョンであ
ってもICチップ30のチップ面積の縮小化が可能な静電破
壊保護回路を実現できる。(A) The protection transistor 21 is formed in an empty area between the power supply pad 32 and the ground pad 33 adjacent to each other. Therefore, it is not necessary to provide a region for forming the protection transistor 21 in the IC chip 30. Therefore, even if the protection transistor 21 has a large dimension, an electrostatic breakdown protection circuit that can reduce the chip area of the IC chip 30 can be realized.
(b)本実施例では、配線部分A12のインピーダンスを
電源ライン39側のインピーダンスよりも大きく設定した
ので、入力パッド34に入力された正の静電気は、電源パ
ッド32までくると、インピーダンスの低い電源ライン39
側を流れて保護トランジスタ21を介して接地パッド33か
ら放電される。そのため、ICチップ30では、内部回路16
に静電破壊が起こるのを防止できる。(B) In this embodiment, since the impedance of the wiring portion A12 is set to be higher than the impedance of the power supply line 39, the positive static electricity input to the input pad 34 reaches the power supply pad 32 when Line 39
Then, the current flows from the ground pad 33 through the protection transistor 21 to be discharged. Therefore, in the IC chip 30, the internal circuit 16
Electrostatic breakdown can be prevented.
第5図は、本発明の第2の実施例を示す静電破壊保護
回路を有するICチップの概略構成図、第6図は、第5図
の静電破壊保護回路に応じたICチップの一構成例を示す
レイアウト図である。図中、第1図と共通の要素には、
共通の符号が付されている。FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an IC chip having an electrostatic discharge protection circuit according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 6 is an IC chip corresponding to the electrostatic discharge protection circuit of FIG. FIG. 3 is a layout diagram illustrating a configuration example. In the figure, elements common to FIG. 1 include:
Common symbols are assigned.
このICチップ40は、ICチップ30とほぼ同様に構成され
る電源パッド32、接地パッド33、保護トランジスタ21、
電源ライン35,37、及び接地ライン36,38を有すると共
に、入力パッド列41、静電気抑制回路列42、及び内部回
路列43を有している。This IC chip 40 has a power supply pad 32, a ground pad 33, a protection transistor 21,
It has power supply lines 35 and 37, and ground lines 36 and 38, and has an input pad row 41, a static electricity suppression circuit row 42, and an internal circuit row 43.
入力パッド列41は、例えば複数の入力パッド34−1〜
34−nで構成されており、それぞれが静電気抑制回路列
42に接続されている。The input pad row 41 includes, for example, a plurality of input pads 34-1 to 34-1.
34-n, each of which is a static suppression circuit row
Connected to 42.
静電気抑制回路列42は、それぞれ入力パッド34−1〜
34−nに接続され、それぞれ静電気抑制回路17の場合と
同様にして静電気抑制回路を構成するダイオード17a−
1,17b−1、抵抗17c−1と、ダイオード17a−2,17b−
2、抵抗17c−2と、ダイオード17a−3,17b−3、抵抗1
7c−3と、ダイオード17a−4,17b−4、抵抗17c−4
と、ダイオード17a−5,17b−5、抵抗17c−5と、ダイ
オード17a−n,17b−n、抵抗17c−n等で構成されてい
る。静電気抑制回路列42は、電源ライン35における配線
部分A11により電源パッド32に接続されると共に、内部
回路列43に接続されている。The static electricity suppression circuit row 42 has input pads 34-1 to 34-1 respectively.
34-n, each of which is connected to a diode 17a-
1, 17b-1, resistor 17c-1, diode 17a-2, 17b-
2, resistor 17c-2, diode 17a-3, 17b-3, resistor 1
7c-3, diodes 17a-4, 17b-4, resistor 17c-4
, Diodes 17a-5 and 17b-5, a resistor 17c-5, and diodes 17a-n and 17b-n, a resistor 17c-n, and the like. The static electricity suppression circuit row 42 is connected to the power supply pad 32 by a wiring portion A11 in the power supply line 35, and is also connected to the internal circuit row 43.
内部回路列43は、例えばそれぞれインバータを構成す
るMOSトランジスタ16a−1,16b−1と、MOSトランジスタ
16a−2,16b−2と、MOSトランジスタ16a−3,16b−3
と、MOSトランジスタ16a−4,16b−4と、MOSトランジス
タ16a−5,16b−5と、MOSトランジスタ16a−6,16b−6
等を有している。この内部回路列42は、電源ライン37に
おける配線部分A12により電源パッド32に接続されてい
る。The internal circuit array 43 includes, for example, MOS transistors 16a-1 and 16b-1 forming an inverter and a MOS transistor
16a-2, 16b-2 and MOS transistors 16a-3, 16b-3
, MOS transistors 16a-4, 16b-4, MOS transistors 16a-5, 16b-5, and MOS transistors 16a-6, 16b-6.
Etc. The internal circuit row 42 is connected to the power supply pad 32 by a wiring portion A12 in the power supply line 37.
この第2の実施例では、例えば、電源パッド32が開放
状態で、接地パッド33が接地されている状態では、入力
パッド34−1〜34−6のいずれかに正の静電気が加わっ
た場合、その正の静電気は、ダイオード17a−1〜17a−
nのいずれかを通じて配線部分A11を通って電源パッド3
2へ流れ、さらに配線部分A12に比べてインピーダンスを
小さく設定した電源ライン39の方へ流れて保護トランジ
スタ21を介して接地パッド33へ流れる。同様にして、入
力パッド34−1〜34−nのいずれかに負の静電気が加わ
った場合、その負の静電気は、ダイオード17b−1〜17b
−nのいずれかを通じて接地ライン36を介して接地パッ
ド33へ流れる。In the second embodiment, for example, when the power pad 32 is open and the ground pad 33 is grounded, if positive static electricity is applied to any of the input pads 34-1 to 34-6, The positive static electricity is generated by the diodes 17a-1 to 17a-
power pad 3 through wiring portion A11 through any of n
2, and further flows toward the power supply line 39 whose impedance is set smaller than that of the wiring portion A12, and flows to the ground pad 33 via the protection transistor 21. Similarly, when negative static electricity is applied to any of the input pads 34-1 to 34-n, the negative static electricity is applied to the diodes 17b-1 to 17b.
-N through any one of -n to ground pad 33.
この第2の実施例では、第1の実施例と同様の利点
(a),(b)に加えて次のような利点を有している。
即ち、静電気抑制回路列42の電源ライン35と内部回路列
43の電源ライン37とを別配線にし、静電気抑制回路列42
の接地ライン36と内部回路列43の接地ライン38とを別配
線にし、かつ第1の実施例の場合と同様にして電源ライ
ン35,37を構成した。そのため、入力パッド列41に加わ
った静電気を接地パッド33へ放電できるが、その際に保
護トランジスタ21は1つで済む。従って、本実施例で
は、複数の入力パッド34−1〜34−nに体しても静電破
壊防止効果が得られ、かつその実現をチップ面積を大き
くせずに行える。The second embodiment has the following advantages in addition to the advantages (a) and (b) similar to those of the first embodiment.
That is, the power supply line 35 of the static electricity suppression circuit row 42 and the internal circuit row
The power supply line 37 of 43 is separately wired, and the static electricity suppression circuit row 42
And the ground line 36 of the internal circuit array 43 were separately wired, and power supply lines 35 and 37 were formed in the same manner as in the first embodiment. Therefore, the static electricity applied to the input pad row 41 can be discharged to the ground pad 33, but at this time, only one protection transistor 21 is required. Therefore, in the present embodiment, the effect of preventing electrostatic destruction can be obtained even when a plurality of input pads 34-1 to 34-n are used, and this can be realized without increasing the chip area.
第7図は、本発明の第3の実施例を示す静電破壊保護
回路を有するICチップの概略構成図である。図中、第1
図と共通の要素には、共通の符号が付されている。FIG. 7 is a schematic configuration diagram of an IC chip having an electrostatic discharge protection circuit according to a third embodiment of the present invention. In the figure, the first
Elements common to the drawings are denoted by common reference numerals.
このICチップ50は、ICチップ30とほぼ同様の構成を有
しており、次の点がICチップ30と異なっている。即ち、
接地パッド33と入力パッド34とを隣接配置し、その間の
空き領域に放電素子である保護トランジスタ21を形成し
ている。さらに、保護トランジスタ21は、第3の配線で
ある電源ライン51を介して静電気抑制回路17のダイオー
ド17a側に接続されている。なお、この電源ライン51の
インピーダンスは、配線部分A11及びA12のインピーダン
スの和よりも小さく設定してあり、これにより配線部分
A11及びA12よりも電源ライン51の方に静電気が流れやす
いようにしている。The IC chip 50 has substantially the same configuration as the IC chip 30, and differs from the IC chip 30 in the following points. That is,
The ground pad 33 and the input pad 34 are arranged adjacent to each other, and the protection transistor 21 which is a discharge element is formed in a space between them. Further, the protection transistor 21 is connected to the diode 17a side of the static electricity suppressing circuit 17 via a power supply line 51 which is a third wiring. The impedance of the power supply line 51 is set to be smaller than the sum of the impedances of the wiring portions A11 and A12.
Static electricity is made to flow more easily on the power supply line 51 than on A11 and A12.
この第3の実施例では、例えば、電源パッド32が開放
状態で、接地パッド33が接地された状態では、入力パッ
ド34に加わった正の静電気は、ダイオード17aを通り、
配線部分A11を流れずに電源ライン51側を流れて保護ト
ランジスタ21を介して接地パッド33へ流れる。負の静電
気が入力パッド34に加わった場合には、その負の静電気
は、ダイオード17bを介して接地ライン36を通って接地
パッド33へ流れる。In the third embodiment, for example, when the power supply pad 32 is open and the ground pad 33 is grounded, positive static electricity applied to the input pad 34 passes through the diode 17a,
The current flows through the power supply line 51 without flowing through the wiring portion A11, and flows through the protection transistor 21 to the ground pad 33. When negative static electricity is applied to the input pad 34, the negative static electricity flows to the ground pad 33 via the ground line 36 via the diode 17b.
この第3の実施例では、第1の実施例とほぼ同様の利
点(a),(b)が得られる。In the third embodiment, substantially the same advantages (a) and (b) as in the first embodiment can be obtained.
第8図は、本発明の第4の実施例を示す静電破壊保護
回路を有するICチップの概略構成図である。図中、第1
図と共通の要素には共通の符号が付されている。FIG. 8 is a schematic configuration diagram of an IC chip having an electrostatic discharge protection circuit according to a fourth embodiment of the present invention. In the figure, the first
Elements common to the drawings are denoted by common reference numerals.
このICチップ60は、ICチップ30と同様に構成される電
源パッド32、接地パッド33、保護トランジスタ21、電源
ライン35,37,39、及び接地ライン36,38を有している。
さらに、ICチップ60は、出力パッド61と、配線部分A11
により電源パッド32に接続されかつ接地ライン36により
接地パッド33に接続される静電気抑制回路62と、配線部
分A12を介して電源パッド32に接続されかつ接地ライン3
8により接地パッド33に接続される内部回路63とを有し
ている。The IC chip 60 includes a power supply pad 32, a ground pad 33, a protection transistor 21, power supply lines 35, 37, 39, and ground lines 36, 38, which are configured similarly to the IC chip 30.
Further, the IC chip 60 includes an output pad 61 and a wiring portion A11.
The static electricity suppressing circuit 62 is connected to the power supply pad 32 by the ground line 36 and is connected to the ground pad 33 by the ground line 36.
8 and an internal circuit 63 connected to the ground pad 33.
静電気抑制回路62は、PMOSトランジスタ62a及びNMOS
トランジスタ62bからなるCMOSインバータで構成されて
おり、一部が出力パッド61及び内部回路63に接続されて
いる。内部回路63は、例えばインバータを構成するMOS
トランジスタ63a,63b等で構成されている。The static electricity suppressing circuit 62 includes a PMOS transistor 62a and an NMOS transistor 62a.
It is composed of a CMOS inverter composed of a transistor 62b, and a part thereof is connected to the output pad 61 and the internal circuit 63. The internal circuit 63 is, for example, a MOS constituting an inverter.
It is composed of transistors 63a, 63b and the like.
このICチップ60では、通常、内部回路63の出力が静電
気抑制回路62を介して出力パッド61へ出力されるが、出
力パッド61に静電気が加わった場合に、第1の実施例の
場合とほぼ同様にして、PMOSトランジスタ62aまたはNMO
Sトランジスタ62bを介して静電気が例えば接地パッド33
へ流れる。In the IC chip 60, normally, the output of the internal circuit 63 is output to the output pad 61 via the static electricity suppressing circuit 62. However, when static electricity is applied to the output pad 61, almost the same as in the case of the first embodiment. Similarly, the PMOS transistor 62a or the NMO
Static electricity is applied to the ground pad 33 via the S transistor 62b, for example.
Flows to
この第4の実施例では、第1の実施例と同様の作用、
効果が得られて、出力パッド61に静電気が加わった場合
に内部回路63の静電破壊を防止できる。In the fourth embodiment, the same operation as in the first embodiment,
The effect is obtained, and the electrostatic breakdown of the internal circuit 63 can be prevented when static electricity is applied to the output pad 61.
なお、本発明は、図示の実施例に限定されず、種々の
変形が可能である。その変形例としては、例えば次のよ
うなものがある。Note that the present invention is not limited to the illustrated embodiment, and various modifications are possible. For example, there are the following modifications.
(I)ICチップ30,40,50,60の回路構成は変形が可能で
ある。(I) The circuit configuration of the IC chips 30, 40, 50, 60 can be modified.
内部回路16及び内部回路列43は、一例を図示したもの
であり、その回路構成は種々の変形が可能である。The internal circuit 16 and the internal circuit array 43 are merely examples, and their circuit configurations can be variously modified.
静電気抑制回路17及び静電気抑制回路列42は、ダイオ
ードと抵抗素子の組合わせ以外の構成の適用が可能であ
る。例えば、複数のMOSトランジスタで構成したり、MOS
トランジスタと抵抗の組み合わせで構成するなど、種々
の変形例が考えられる。The configuration of the static electricity suppressing circuit 17 and the static electricity suppressing circuit row 42 other than the combination of the diode and the resistance element can be applied. For example, it can be composed of multiple MOS transistors,
Various modifications can be considered, such as a combination of a transistor and a resistor.
保護トランジスタ21は、PMOSトランジスタで構成して
もよい。この場合には、ゲート電極をソース電極と共に
電源パッド32に共通接続するようにする。さらに、放電
素子としては、例えばICチップ30,40,50,60の構成に対
応して、保護トランジスタ21に代えて、バイポーラトラ
ンジスタや、ツェナーダイオード等を用いて構成するよ
うにしてもよい。The protection transistor 21 may be configured by a PMOS transistor. In this case, the gate electrode and the source electrode are commonly connected to the power supply pad 32. Further, as the discharge element, for example, a bipolar transistor, a Zener diode, or the like may be used instead of the protection transistor 21 corresponding to the configuration of the IC chips 30, 40, 50, and 60.
(II)上記第1〜第4の実施例では、電源パッド32が開
放状態にあり、接地パッド33が接地されている場合につ
いて説明したが、本発明は、電源配線である接地ライン
36,38のインピーダンスに対しても電源ライン35,37の場
合と同様に放電素子の電源配線に応じてインピーダンス
設定を行い、また保護トランジスタ21の構成を適宜設定
することにより、ICチップ30,40,50,60が単体で存在し
ているような場合に電源パッド32が人や物に触れたりし
て接地状態にあり、かつ接地パッド33が開放状態にある
ような場合にも適用が可能である。(II) In the first to fourth embodiments, the case where the power supply pad 32 is open and the ground pad 33 is grounded has been described.
Similarly to the power supply lines 35 and 37, the impedances of 36 and 38 are set according to the power supply wiring of the discharge element, and the configuration of the protection transistor 21 is appropriately set, so that the IC chips 30 and 40 are set. , 50, 60 can be applied to the case where the power pad 32 is in the grounding state by touching a person or an object and the grounding pad 33 is in the open state. is there.
(III)上記第1〜第4の実施例では、ICチップ30,40,5
0,60としてMOS形の半導体集積回路について説明した
が、本発明はバイポーラ形、バイポーラ及びMOSの混成
形や、GaAs等の化合物半導体を用いたものなど、種々の
半導体集積回路のICチップ等に体しても幅広く適用が可
能である。(III) In the first to fourth embodiments, the IC chips 30, 40, 5
Although the description has been given of the MOS type semiconductor integrated circuit as 0,60, the present invention is applicable to IC chips of various semiconductor integrated circuits, such as bipolar type, mixed molding of bipolar and MOS, and those using compound semiconductors such as GaAs. It can be applied to a wide range of cases.
(発明の効果) 以上詳細に説明したように、本発明によれば、内部回
路と第1の電源パッドとを電気的に接続する第1の配線
並びに該内部回路と第2の電源パッドとを電気的に接続
する第2の配線とは異なる配線にて、静電保護回路を第
1の電源パッドまたは第2の電源パッドと電気的に接続
し、さらに、第3の配線を用いて第1の電源パッドと第
2の電源パッドに接続された放電素子を設け、該第3の
配線のインピーダンスを第1の配線または第2の配線の
インピーダンスより小さくしている。(Effects of the Invention) As described in detail above, according to the present invention, the first wiring for electrically connecting the internal circuit and the first power supply pad, and the internal circuit and the second power supply pad are connected to each other. The electrostatic protection circuit is electrically connected to the first power supply pad or the second power supply pad with a wiring different from the second wiring electrically connected, and further, the first wiring is formed using the third wiring. And a discharge element connected to the second power supply pad and the third power supply pad, and the impedance of the third wiring is made smaller than the impedance of the first wiring or the second wiring.
これにより、例えば、入力パッドや出力パッドに静電
気による高電圧が印加されたとしても、この高電圧を、
内部回路が接続された第1及び第2の配線とは異なる配
線にて一方の電源パッド(例えば、電源電圧側のパッ
ド)に伝達することができる。このため、内部回路に高
電圧が伝わることをより確実に防止できる。また、一方
の電源パッドに伝達された高電圧は、放電素子により他
方の電源パッド(例えば、接地電圧側パッド)に伝達す
ることができる。この時、放電素子と電源パッドとの接
続に用いられる第3の配線のインピーダンスを、第1の
配線または第2の配線のインピーダンスより小さくして
いる。このため、一方の電源パッド(例えば、電源電圧
側のパッド)に伝達された高電圧が第1の配線や第2の
配線を介して内部回路に伝わることなく、放電素子を介
して放電させることができる。よって、内部回路をより
確実に保護することを実現できる。Thereby, for example, even if a high voltage due to static electricity is applied to the input pad or the output pad, this high voltage is
The power can be transmitted to one power supply pad (for example, a pad on the power supply voltage side) by a wiring different from the first and second wirings to which the internal circuit is connected. Therefore, transmission of a high voltage to the internal circuit can be more reliably prevented. In addition, the high voltage transmitted to one power supply pad can be transmitted to the other power supply pad (for example, a ground voltage side pad) by a discharge element. At this time, the impedance of the third wiring used for connecting the discharge element and the power supply pad is set lower than the impedance of the first wiring or the second wiring. For this reason, the high voltage transmitted to one power supply pad (for example, a pad on the power supply voltage side) is discharged via the discharge element without being transmitted to the internal circuit via the first wiring or the second wiring. Can be. Therefore, it is possible to more reliably protect the internal circuit.
また、放電素子を隣接パッド間に配置する構成にした
場合、半導体装置内に該放電素子を形成するための特別
な領域を設ける必要がなく、該半導体装置の縮小化を図
ることができる。Further, when the discharge element is arranged between the adjacent pads, it is not necessary to provide a special region for forming the discharge element in the semiconductor device, and the semiconductor device can be downsized.
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の第1の実施例の静電破壊保護回路を有
するICチップの概略構成図、第2図は従来の第1の静電
破壊保護回路を有するICチップの構成図、第3図は従来
の第2の静電破壊保護回路を有するICチップの構成図、
第4図は第1図の静電破壊保護回路に応じたICチップの
一構成例を示すレイアウト図、第5図は本発明の第2の
実施例の静電破壊保護回路を有するICチップの概略構成
図、第6図は第5図の静電破壊保護回路に応じたICチッ
プの一構成例を示すレイアウト図、第7図は本発明の第
3の実施例の静電破壊保護回路を有するICチップの概略
構成図、第8図は本発明の第4の実施例の静電破壊保護
回路を有するICチップの概略構成図である。 16,63……内部回路、17,62……静電気抑制回路、21……
保護トランジスタ、30,40,50,60……ICチップ、32……
電源パッド、33……接地パッド、34,34−1〜34−n…
…入力パッド、35,37,39,51……電源ライン、36,38……
接地ライン、41……入力パッド列、42……静電気抑制回
路列、43……内部回路列、61……出力パッド、A11,A12
……配線部分。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an IC chip having an electrostatic discharge protection circuit according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a conventional first electrostatic discharge protection circuit. FIG. 3 is a configuration diagram of an IC chip, and FIG. 3 is a configuration diagram of an IC chip having a second conventional electrostatic discharge protection circuit.
FIG. 4 is a layout diagram showing one configuration example of an IC chip according to the electrostatic discharge protection circuit of FIG. 1, and FIG. FIG. 6 is a layout diagram showing one configuration example of an IC chip corresponding to the electrostatic discharge protection circuit of FIG. 5, and FIG. FIG. 8 is a schematic configuration diagram of an IC chip having an electrostatic discharge protection circuit according to a fourth embodiment of the present invention. 16,63 ... internal circuit, 17,62 ... static electricity suppression circuit, 21 ...
Protection transistor, 30, 40, 50, 60 ... IC chip, 32 ...
Power supply pad, 33 Ground pad, 34, 34-1 to 34-n
… Input pad, 35, 37, 39, 51… power supply line, 36, 38…
Ground line, 41: Input pad row, 42: Static electricity suppression circuit row, 43: Internal circuit row, 61: Output pad, A11, A12
... Wiring part.
Claims (5)
ッドと該第1の電源電位とは異なる第2の電源電位が供
給される第2の電源パッドとを有し、前記第1の電源パ
ッドに第1の配線を介して電気的に接続され、前記第2
の電源パッドに第2の配線を介して電気的に接続された
内部回路と、入力パッドまたは出力パッドに電気的に接
続されると共に前記第1の電源パッド及び前記第2の電
源パッドに電気的に接続された静電保護回路とを有する
半導体装置において、 第3の配線を用いて前記第1の電源パッドと電気的に接
続されると共に前記第2の電源パッドに電気的に接続さ
れる放電素子を有し、前記静電保護回路と前記第1の電
源パッドまたは前記第2の電源パッドとを接続する配線
は前記第1の配線及び前記第2の配線とは異なる配線で
あり、前記第3の配線のインピーダンスは前記第1の配
線または前記第2の配線のインピーダンスより小いさい
ことを特徴とする半導体装置。A first power supply pad to which a first power supply potential is supplied; and a second power supply pad to which a second power supply potential different from the first power supply potential is supplied. One power supply pad via a first wiring, and
And an internal circuit electrically connected to a power supply pad via a second wiring, and electrically connected to an input pad or an output pad and electrically connected to the first power supply pad and the second power supply pad. And a discharge circuit electrically connected to the first power supply pad using a third wiring and electrically connected to the second power supply pad. A wiring for connecting the electrostatic protection circuit to the first power supply pad or the second power supply pad, the wiring being different from the first wiring and the second wiring; 3. The semiconductor device according to claim 3, wherein the impedance of the third wiring is smaller than the impedance of the first wiring or the second wiring.
パッドは、複数の内部回路に電気的に接続されることを
特徴とする請求項1記載の半導体装置。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein said first power supply pad and said second power supply pad are electrically connected to a plurality of internal circuits.
は前記第2の配線の幅より広くすることを特徴とする請
求項1または2記載の半導体装置。3. The semiconductor device according to claim 1, wherein a width of said third wiring is wider than a width of said first wiring or said second wiring.
静電保護回路は、入力側が前記内部回路の出力と接続さ
れ、出力側が前記出力パッドに接続されるCMOSインバー
タであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項
に記載の半導体装置。4. The static electricity protection circuit electrically connected to the output pad is a CMOS inverter having an input side connected to an output of the internal circuit and an output side connected to the output pad. The semiconductor device according to claim 1.
されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1
項に記載の半導体装置。5. The device according to claim 1, wherein said discharge element is arranged between adjacent pads.
13. The semiconductor device according to item 9.
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| Publication number | Publication date |
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| JPH0461371A (en) | 1992-02-27 |
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