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JP2923596B2 - Surface treatment agent for copper and copper alloys using imidazole compounds - Google Patents
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JP2923596B2 - Surface treatment agent for copper and copper alloys using imidazole compounds - Google Patents

Surface treatment agent for copper and copper alloys using imidazole compounds

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JP2923596B2
JP2923596B2 JP21794893A JP21794893A JP2923596B2 JP 2923596 B2 JP2923596 B2 JP 2923596B2 JP 21794893 A JP21794893 A JP 21794893A JP 21794893 A JP21794893 A JP 21794893A JP 2923596 B2 JP2923596 B2 JP 2923596B2
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登志子 中川
良昭 古川
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は特定のイミダゾール系化
合物を有効成分として含有する銅および銅合金の表面処
理剤に関する。本発明の表面処理剤は、特にプリント配
線板の防錆剤として有用である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface treating agent for copper and copper alloys containing a specific imidazole compound as an active ingredient. The surface treating agent of the present invention is particularly useful as a rust inhibitor for printed wiring boards.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント配線板の銅または銅合金からな
る回路を防錆し、はんだ付け性を保持する方法として
は、回路を他金属で覆う方法と有機皮膜で覆う方法とが
あり、コスト、表面の平滑性等の点から使い分けられて
いる。
2. Description of the Related Art As a method of preventing rust on a circuit made of copper or a copper alloy of a printed wiring board and maintaining solderability, there are a method of covering the circuit with another metal and a method of covering the circuit with an organic film. They are properly used in terms of surface smoothness and the like.

【0003】後者の方法に用いられる有機皮膜を形成す
る材料には、プリント配線板全体をコーティングするロ
ジン系プレフラツクスと、選択的に銅回路部に化学反応
で皮膜を形成するアルキルイミダゾール系プレフラック
スとがある。
[0003] Materials for forming an organic film used in the latter method include a rosin-based preflux for coating the entire printed wiring board and an alkylimidazole-based preflux for selectively forming a film on a copper circuit portion by a chemical reaction. There is.

【0004】ロジン系プレフラックスは、天然ロジン、
ロジンエステル、ロジン変性マレイン酸樹脂等を有機溶
剤に溶解させたものをプリント配線板全体に塗布、噴霧
または浸漬によって処理したのち、乾燥して皮膜を形成
する方法で使われる。しかしながら、この方法には、有
機溶剤が揮散するため作業環境および安全性に問題があ
る。このため、ドラフト等の排気手段を備える特別の装
置を必要とする。
[0004] Rosin preflux is a natural rosin,
A solution in which a rosin ester, a rosin-modified maleic resin, or the like is dissolved in an organic solvent is applied to the entire printed wiring board, treated by spraying or dipping, and then dried to form a film. However, this method has problems in working environment and safety because the organic solvent is volatilized. For this reason, a special device including an exhaust means such as a draft is required.

【0005】そこで、作業環境や安全性の面で優れてい
る水溶性のアルキルイミダゾール系プレフラックスを使
用したいという要望が高まってきている。しかしなが
ら、アルキルイミダゾール系プレフラックスの皮膜に
は、高温にさらされると変質し、はんだ付けの際に使用
されるポストフラツクスの作用を阻害し、はんだ付け性
を低下させるという欠点がある。
Therefore, there is an increasing demand for using a water-soluble alkylimidazole-based preflux which is excellent in work environment and safety. However, the coating film of the alkylimidazole-based preflux has a disadvantage that it is deteriorated when exposed to a high temperature, hinders the action of post-flux used in soldering, and lowers solderability.

【0006】近年、プリント配線板上に電子部品を接合
する方法は表面実装法へと移行しており、回路は部品の
仮止めやクリームはんだのリフロー等で高温にさらされ
る機会が多くなってきている。そのため高温にさらされ
た後でもはんだ付け性が低下しない水溶性の表面処理剤
が要求されるようになってきている。
In recent years, the method of joining electronic components on a printed wiring board has shifted to a surface mounting method, and the circuit is increasingly exposed to high temperatures due to temporary fixing of components, reflow of cream solder, and the like. I have. Therefore, a water-soluble surface treatment agent that does not reduce solderability even after being exposed to a high temperature has been required.

【0007】この要求に答えるべく開発されたものとし
て、特開平3−124395号公報には、2位に水素原
子、アルキル基またはフェニル基を有するベンゾイミダ
ゾール系化合物を用いたプレフラックスが開示されてい
る。
As a device developed to meet this requirement, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-124395 discloses a preflux using a benzimidazole compound having a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group at the 2-position. I have.

【0008】前記公報に記載のように、アルキルイミダ
ゾール系プレフラックスの耐熱性を改善する努力がなさ
れているが、満足し得るような性能が得られていないの
が実情である。
As described in the above publication, efforts have been made to improve the heat resistance of alkylimidazole-based prefluxes, but in reality, satisfactory performance has not been obtained.

【0009】本発明は、上記の点に鑑みてなされたもの
であり、作業環境や安全面に優れ、耐熱性がさらに改良
された銅および銅合金の表面処理剤を提供することを目
的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and has as its object to provide a surface treating agent for copper and a copper alloy which is excellent in working environment and safety and further improved in heat resistance. .

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】揮発性溶剤を使用せず、
かつ高温にさらされた後でもはんだ付け性のよい表面処
理剤をうるために種々検討を重ねた結果、一般式
(4)
SUMMARY OF THE INVENTION A volatile solvent is not used,
After various studies to obtain a surface treatment agent with good solderability even after exposure to high temperatures, the general formula
(4) :

【0011】[0011]

【0012】[0012]

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【0017】[0017]

【化22】 (式中、Aはアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、アラルキル基、フェニルカルボニル基
またはハロゲン原子、Aはアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、フェニ
ルカルボニル基またはハロゲン原子、Rはアルキレン
基、アルケニレンル基、アルキニレン基またはアリレン
基(Arylene)、aは0〜4の整数、bは0また
は1、cは0〜7の整数)
Embedded image (Where A 1 is an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, aralkyl group, phenylcarbonyl group or halogen atom, A 4 is an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, aralkyl group, phenylcarbonyl group Or a halogen atom, R 2 is an alkylene group, alkenylene group, alkynylene group or arylene group (Arylene), a is an integer of 0 to 4, b is 0 or 1, c is an integer of 0 to 7)

【0018】[0018]

【0019】[0019]

【0020】一般式(6):General formula (6):

【0021】[0021]

【化24】 (式中、dは1〜3の整数、A1 、A4 、R2 、aおよ
びbはそれぞれ前記と同じ)
Embedded image (In the formula, d is an integer of 1 to 3, and A 1 , A 4 , R 2 , a and b are the same as described above.)

【0022】[0022]

【0023】[0023]

【0024】[0024]

【0025】[0025]

【0026】[0026]

【0027】[0027]

【0028】[0028]

【0029】[0029]

【0030】[0030]

【0031】[0031]

【0032】[0032]

【0033】[0033]

【0034】[0034]

【0035】[0035]

【0036】もしくは一般式(14): Alternatively, the general formula (14):

【0037】[0037]

【化32】 (式中、A8 およびA9 はそれぞれアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基また
はフェニルカルボニル基)
Embedded image (Where A 8 and A 9 are an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group or a phenylcarbonyl group, respectively)

【0038】[0038]

【0039】[0039]

【0040】[0040]

【0041】[0041]

【0042】[0042]

【0043】[0043]

【0044】[0044]

【0045】[0045]

【0046】で示されるイミダゾール系化合物またはそ
れらの塩が、耐熱性のあるはんだ付け性にきわめて優れ
た皮膜を銅表面に形成しうることを見出した。
It has been found that the imidazole-based compound or a salt thereof represented by the formula (1) can form a heat-resistant film having excellent solderability on the copper surface.

【0047】[0047]

【0048】[0048]

【0049】[0049]

【0050】一般式(4)で示される化合物の具体例と
しては、例えば2−(α−ナフチルメチル)ベンゾイミ
ダゾール、2−(γ−ナフチルメチル)ベンゾイミダゾ
ール、γ−ナフチルベンゾイミダゾール、α−ナフチル
ベンゾイミダゾール、2−(γ−ナフチルエチル)−4
−ビニルベンゾイミダゾール、5,6−ジクロロ−2−
(α−ナフチルジクロロメチル)ベンゾイミダゾール、
6−イソブチル−2−(γ−ナフチルエチレン)ベンゾ
イミダゾール、7−オクチル−2−(4−メチル−1−
ナフチレンプロピル)ベンゾイミダゾール、4−クロロ
−2−(3−ヘキシル−2−ナフチレンブチル)ベンゾ
イミダゾール、5−ベンジル−2−(5−クロロ−1−
ナフチレンイソプロピル)ベンゾイミダゾール、2−
(2−ナフチル(2−ペンテン−4−イニル)ベンゾイ
ミダゾール、2−(5−クロロナフチレン)ベンゾイミ
ダゾール、7−メチル−2−(5−エチル−2−ナフチ
レン−t−ブチル)ベンゾイミダゾール、4−クロロ−
6−エチル−2−ナフチルエチルベンゾイミダゾール、
6−シクロヘキシル−2−(5−ブロモ−6−エチルナ
フチレンエチル)ベンゾイミダゾール、4−フェニル−
2−(3−ビニル−2−ナフチレンプロピル)ベンゾイ
ミダゾール、6−デシル−2−ナフチルオクチルベンゾ
イミダゾール、2−(7−フェネチル−2−ナフチレン
エチル)ベンゾイミダゾール、2−(6−ピリジル−3
−メチル−2−ナフチレンメチル)ベンゾイミダゾー
ル、6−チオニル−2−(6−p−クロロフェニル−2
−ナフチレン−p−フェニレン)ベンゾイミダゾール、
4−キノリル−2−(2−ナフチル−3−メチルベンジ
ル)ベンゾイミダゾール、2−(7−ベンゾイル−2−
ナフチレンプロピル)ベンゾイミダゾール、5−フルフ
リル−2−(7−ブチリル−2−ナフタレンスチリル)
ベンゾイミダゾール、2−(7−メトキシ−2−ナフチ
レンシクロヘキサン−1,5−イエン)ベンゾイミダゾ
ール、6−モルフォリノ−2−(4,5,8−トリクロ
ル−2−ナフチルメチル)ベンゾイミダゾール、2−
(7−インデニル−2−ナフチレンメチル)ベンゾイミ
ダゾール、5−トリルスルフォニル−2−ナフチルピリ
ジレンベンゾイミダゾール、4−トリアジン−2−(7
−t−ブチル−2−ナフチレン−3−メチル−2−ブテ
ニル)ベンゾイミダゾール、5−アルデヒド−2−(7
−ブタノン−2−ナフチレンヘキシル)ベンゾイミダゾ
ール、2−(7−クロロエチル−2−ナフチレンメチ
ル)ベンゾイミダゾール、4,5−ジメチル−2−
((4′−エチルフェニル)ナフチル)ベンゾイミダゾ
ール等があげられる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (4) include, for example, 2- (α-naphthylmethyl) benzimidazole, 2- (γ-naphthylmethyl) benzimidazole, γ-naphthylbenzimidazole, α-naphthyl Benzimidazole, 2- (γ-naphthylethyl) -4
-Vinylbenzimidazole, 5,6-dichloro-2-
(Α-naphthyldichloromethyl) benzimidazole,
6-isobutyl-2- (γ-naphthylethylene) benzimidazole, 7-octyl-2- (4-methyl-1-
Naphthylenepropyl) benzimidazole, 4-chloro-2- (3-hexyl-2-naphthylenebutyl) benzimidazole, 5-benzyl-2- (5-chloro-1-
Naphthyleneisopropyl) benzimidazole, 2-
(2-naphthyl (2-penten-4-ynyl) benzimidazole, 2- (5-chloronaphthylene) benzimidazole, 7-methyl-2- (5-ethyl-2-naphthylene-t-butyl) benzimidazole, 4-chloro-
6-ethyl-2-naphthylethylbenzimidazole,
6-cyclohexyl-2- (5-bromo-6-ethylnaphthyleneethyl) benzimidazole, 4-phenyl-
2- (3-vinyl-2-naphthylenepropyl) benzimidazole, 6-decyl-2-naphthyloctylbenzimidazole, 2- (7-phenethyl-2-naphthyleneethyl) benzimidazole, 2- (6-pyridyl-3)
-Methyl-2-naphthylenemethyl) benzimidazole, 6-thionyl-2- (6-p-chlorophenyl-2)
-Naphthylene-p-phenylene) benzimidazole,
4-quinolyl-2- (2-naphthyl-3-methylbenzyl) benzimidazole, 2- (7-benzoyl-2-
Naphthylenepropyl) benzimidazole, 5-furfuryl-2- (7-butyryl-2-naphthalenestyryl)
Benzimidazole, 2- (7-methoxy-2-naphthylenecyclohexane-1,5-yen) benzimidazole, 6-morpholino-2- (4,5,8-trichloro-2-naphthylmethyl) benzimidazole, 2-
(7-indenyl-2-naphthylenemethyl) benzimidazole, 5-tolylsulfonyl-2-naphthylpyridylene benzimidazole, 4-triazine-2- (7
-T-butyl-2-naphthylene-3-methyl-2-butenyl) benzimidazole, 5-aldehyde-2- (7
-Butanone-2-naphthylenehexyl) benzimidazole, 2- (7-chloroethyl-2-naphthylenemethyl) benzimidazole , 4,5-dimethyl-2-
((4'-ethylphenyl) naphthyl) benzimidazo
And the like .

【0051】[0051]

【0052】一般式(6)で示される化合物の具体例と
しては、例えば2−(2−チエニル)ベンゾイミダゾー
ル、2−(2−(5−エチル)チエニル)ベンゾイミダ
ゾール、2−(2−(5−クロロ)チエニル)ベンゾイ
ミダゾール、2−(2−(4−クロロ)チエニル)ベン
ゾイミダゾール、5−クロロ−2−(2−チエニル)ベ
ンゾイミダゾール、5−メチル−2−(2−チエニル)
ベンゾイミダゾール、2−(2−チエニル)−5−ベン
ゾイルベンゾイミダゾール、5−フェニル−2−(2−
チエニル)ベンゾイミダゾール、5−フェネチル−2−
(2−チエニル)ベンゾイミダゾール、2−(2−チエ
ニルメチレン)ベンゾイミダゾール、2−(2−チエニ
ルエチレン)ベンゾイミダゾール、2−(2−チエニル
プロピレン)ベンゾイミダゾール、2−(2−チエニル
イソブチレン)ベンゾイミダゾール、5−クロロ−2−
(2−(5−エチル)チエニル)ベンゾイミダゾール、
5−メチル−2−(2−(5−クロロ)チエニル)ベン
ゾイミダゾール、5−フェネチル−2−(2−(5−イ
ソプロピル)チエニル)ベンゾイミダゾール、2−(2
−(5−イソプロピル)チエニルエチレン)ベンゾイミ
ダゾール、5−クロロ−2−(2−(5−メチル)チエ
ニルメチレン)ベンゾイミダゾール等があげられる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (6) include, for example, 2- (2-thienyl) benzimidazole, 2- (2- (5-ethyl) thienyl) benzimidazole, 2- (2- ( 5-chloro) thienyl) benzimidazole, 2- (2- (4-chloro) thienyl) benzimidazole, 5-chloro-2- (2-thienyl) benzimidazole, 5-methyl-2- (2-thienyl)
Benzimidazole, 2- (2-thienyl) -5-benzoylbenzimidazole, 5-phenyl-2- (2-
Thienyl) benzimidazole, 5-phenethyl-2-
(2-thienyl) benzimidazole, 2- (2-thienylmethylene) benzimidazole, 2- (2-thienylethylene) benzimidazole, 2- (2-thienylpropylene) benzimidazole, 2- (2-thienylisobutylene) benzo Imidazole, 5-chloro-2-
(2- (5-ethyl) thienyl) benzimidazole,
5-methyl-2- (2- (5-chloro) thienyl) benzimidazole, 5-phenethyl-2- (2- (5-isopropyl) thienyl) benzimidazole, 2- (2
-(5-isopropyl) thienylethylene) benzimidazole, 5-chloro-2- (2- (5-methyl) thienylmethylene) benzimidazole and the like.

【0053】[0053]

【0054】[0054]

【0055】[0055]

【0056】[0056]

【0057】[0057]

【0058】[0058]

【0059】[0059]

【0060】一般式(14)で示される化合物の具体例
としては、例えば5,5’−ビベンゾイミダゾール、2
−メチル−2’−エチル−5,5’−ジベンゾイミダゾ
ール、2−ノニル−2’−イソプロピル−5,5’−ジ
ベンゾイミダゾール、2−ビニル−2’−スチリル−
4,5’−ジベンゾイミダゾール、2−エチニル−2’
−フェニル−4,4’−ジベンゾイミダゾール、2−ナ
フチル−2’−トリル−5,5’−ジベンゾイミダゾー
ル、2−フェネチルペンチル−2’−シナミル−5,
5’−ジベンゾイミダゾール、2−フェネチル−2’−
フェニルカルボニル−4,5’−ジベンゾイミダゾー
ル、2−クロロフェニルエチレン−2’−フェニルブチ
ル−5,5’−ジベンゾイミダゾール等があげられる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (14) include, for example, 5,5'-bibenzimidazole,
-Methyl-2'-ethyl-5,5'-dibenzimidazole, 2-nonyl-2'-isopropyl-5,5'-dibenzimidazole, 2-vinyl-2'-styryl-
4,5′-dibenzimidazole, 2-ethynyl-2 ′
-Phenyl-4,4'-dibenzimidazole, 2-naphthyl-2'-tolyl-5,5'-dibenzimidazole, 2-phenethylpentyl-2'-cinamyl-5,
5'-dibenzimidazole, 2-phenethyl-2'-
Phenylcarbonyl-4,5'-dibenzimidazole, 2-chlorophenylethylene-2'-phenylbutyl-5,5'-dibenzimidazole and the like can be mentioned.

【0061】[0061]

【0062】[0062]

【0063】[0063]

【0064】[0064]

【0065】前記一般式(4)、(6)および(14)
で示されるイミダゾール系化合物の塩に特に限定はな
く、種々の酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、グリ
コール酸、n−酪酸、イソ酪酸、アクリル酸、クロトン
酸、イソクロトン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、
アジピン酸、マレイン酸、アセチレンジカルボン酸、モ
ノクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、モノブロモ酢酸、トリ
ブロモ酢酸、乳酸、オキシ酪酸、グリセリン酸、酒石
酸、リンゴ酸、クエン酸等の有機酸や、塩酸、硫酸、硝
酸、リン酸等の無機酸との塩があげられる。
The general formulas (4), (6) and (14)
There is no particular limitation on the salts of the imidazole compound represented by, and various acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, glycolic acid, n-butyric acid, isobutyric acid, acrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, oxalic acid, and malonic acid , Succinic acid,
Organic acids such as adipic acid, maleic acid, acetylenedicarboxylic acid, monochloroacetic acid, trichloroacetic acid, monobromoacetic acid, tribromoacetic acid, lactic acid, oxybutyric acid, glyceric acid, tartaric acid, malic acid, citric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphorus And salts with inorganic acids such as acids.

【0066】本発明の表面処理剤中の前記イミダゾール
系化合物の好ましい含有量は、溶剤に対する溶解性等に
より一概には規定できないが、通常0.1〜5.0%
(重量%、以下同様)である。
The preferable content of the imidazole compound in the surface treating agent of the present invention cannot be specified unconditionally due to solubility in a solvent and the like, but is usually 0.1 to 5.0%.
(% By weight, hereinafter the same).

【0067】前記一般式(4)、(6)および(14)
で示されるイミダゾール系化合物は一般に水に不溶性で
あるが、前述の種々の酸や水溶性溶媒を併用することに
より、水溶液または水分散液にすることができる。
The general formulas (4), (6) and (14)
The imidazole compound represented by is generally insoluble in water, but can be made into an aqueous solution or aqueous dispersion by using the above-mentioned various acids and a water-soluble solvent in combination.

【0068】本発明の表面処理剤は水溶液または水分散
液であるが、水以外の例えばメタノール、エタノール、
イソプロピルアルコール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等
の水溶性溶媒を適宜添加してもよい。
The surface treating agent of the present invention is an aqueous solution or an aqueous dispersion.
A water-soluble solvent such as isopropyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether may be appropriately added.

【0069】本発明の表面処理剤には、皮膜形成性、皮
膜の耐熱性等を向上させるために、例えば酢酸亜鉛、水
酸化亜鉛、硫化亜鉛、リン酸亜鉛、酸化亜鉛、塩化亜
鉛、酢酸鉛、水酸化鉛、塩化鉄、酸化鉄、塩化銅、酸化
銅、水酸化銅、臭化銅、リン酸銅、炭酸銅、酢酸銅、硫
酸銅、シュウ酸銅、ギ酸銅、酢酸ニッケル、硫化ニッケ
ル等の金属化合物等を添加してもよく、さらに従来から
表面処理剤に使用されている種々の添加剤を、必要に応
じて添加してもよい。また、皮膜形成性は、酸濃度を調
整することによっても向上させることができる。
The surface treating agent of the present invention includes, for example, zinc acetate, zinc hydroxide, zinc sulfide, zinc phosphate, zinc oxide, zinc chloride, and lead acetate in order to improve the film-forming properties and the heat resistance of the film. , Lead hydroxide, iron chloride, iron oxide, copper chloride, copper oxide, copper hydroxide, copper bromide, copper phosphate, copper carbonate, copper acetate, copper sulfate, copper oxalate, copper formate, nickel acetate, nickel sulfide And the like, and various additives conventionally used in surface treatment agents may be added as necessary. Further, the film forming property can be improved by adjusting the acid concentration.

【0070】以上のような本発明の表面処理剤を銅また
は銅合金に接触させることにより、その表面に耐熱性、
はんだ付けに優れた有機皮膜を形成することができる。
By bringing the surface treating agent of the present invention into contact with copper or a copper alloy, heat resistance and
An organic film excellent in soldering can be formed.

【0071】以下の実施例、比較例により本発明をさら
に具体的に説明する。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples and comparative examples.

【0072】[0072]

【実施例】実施例1 (一般式(4)で示される化合物を用いた表面処理剤) フェニレンジアミン108g(1モル)とα−ナフタレ
ン酢酸186g(1モル)とp−トルエンスルフォン酸
・1水和物(以下PTSという)190g(1モル)と
を充分に混合し、撹拌しながらマントルヒーターにより
30分間で200℃まで昇温し、200〜220℃で3
時間(水蒸気がほとんどでなくなる)加熱した。得られ
た反応生成物をアンモニア水中に注加し、撹拌して固化
させたものを水洗、乾燥し、紫色の粉体を得た。得られ
た粉体を溶媒を用いて再結晶させ、白色の針状結晶を得
た。得られた2−(α−ナフチルメチル)ベンゾイミダ
ゾール0.5gを、これを溶解しうる量の酢酸に加えて
溶解させた。得られた溶液を塩化第二銅0.04gが添
加された水100ml中に加え、処理液を調製した。
Example 1 (Surface treatment agent using compound represented by general formula (4)) 108 g (1 mol) of phenylenediamine and α-naphthale
186 g (1 mol) of acetic acid and 190 g (1 mol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate (hereinafter referred to as PTS) were sufficiently mixed, and the temperature was raised to 200 ° C. for 30 minutes with a heating mantle while stirring. And 3 at 200-220 ° C
Heated (substantially no water vapor) for hours. The obtained reaction product was poured into aqueous ammonia, stirred, solidified, washed with water and dried to obtain a purple powder. The obtained powder was recrystallized using a solvent to obtain white needle-like crystals. 0.5 g of the obtained 2- ( α-naphthylmethyl ) benzimidazole was added to a dissolvable amount of acetic acid and dissolved. The obtained solution was added to 100 ml of water to which 0.04 g of cupric chloride was added to prepare a treatment liquid.

【0073】1cm×5cm×0.3mmの銅板を脱脂
し、水洗し、ついでマイクロエッチング剤(メック
(株)製のメックブライトCB−801)に30℃で1
分間浸漬し、さらに水洗して表面を清浄にした試験片を
準備した。この試験片を上記処理液にて40℃、1分間
の条件で浸漬処理した後、水洗、乾燥した。ついで熱風
循環器に入れて200℃で10分間加熱した。得られた
試験片に超低残渣タイプのポストフラックス(メック
(株)製のAP−4626)を塗布し、メニスコグラフ
法によりはんだ濡れ性試験を行った。試験結果を表1に
示す。なお、t1 およびt2 は、いずれもいずれも値が
小さいほどはんだ濡れ性がよいことを示す。
A copper plate of 1 cm × 5 cm × 0.3 mm was degreased, washed with water, and then added to a microetching agent (Mec Bright CB-801 manufactured by Mec Co.) at 30 ° C.
The test piece was immersed for 5 minutes and further washed with water to clean the surface. The test piece was immersed in the treatment liquid at 40 ° C. for 1 minute, washed with water, and dried. Then, it was heated in a hot air circulator at 200 ° C. for 10 minutes. Obtained test piece coated with the ultra-low residue type post flux (MEC Co., Ltd. AP-46 26), was solderability test by Meniscograph method. Table 1 shows the test results. It is to be noted that the smaller the value of each of t1 and t2, the better the solder wettability.

【0074】[0074]

【0075】[0075]

【0076】[0076]

【0077】[0077]

【0078】[0078]

【0079】実施例 (一般式(4)で示される化合物を用いた表面処理剤) フェニレンジアミンと2−ナフタレンプロピオン酸とP
TSとを用い、実施例1と同様にして2−(α−ナフチ
ルエチル)ベンゾイミダゾールを合成した。得られた化
合物を用い、実施例1と同様にして処理液を調製し、は
んだ濡れ性試験を行った。試験結果を表1に示す。
Example 2 (Surface treatment agent using compound represented by general formula (4)) Phenylenediamine, 2-naphthalenepropionic acid and P
2- (α-naphthylethyl) benzimidazole was synthesized in the same manner as in Example 1 using TS. Using the obtained compound, a treatment liquid was prepared in the same manner as in Example 1, and a solder wettability test was performed. Table 1 shows the test results.

【0080】実施例 (一般式(4)で示される化合物を用いた表面処理剤) 4−クロロフェニレンジアミンとα−ナフタレン酢酸と
PTSとを用い、実施例1と同様にして2−(α−ナフ
チルメチル)−5−クロロベンゾイミダゾールを合成し
た。得られた化合物を用い、実施例1と同様にして処理
液を調製し、はんだ濡れ性試験を行った。試験結果を表
1に示す。
Example 3 (Surface treating agent using compound represented by general formula (4)) Using 4-chlorophenylenediamine, α-naphthaleneacetic acid and PTS, 2- (α -Naphthylmethyl) -5-chlorobenzimidazole was synthesized. Using the obtained compound, a treatment liquid was prepared in the same manner as in Example 1, and a solder wettability test was performed. Table 1 shows the test results.

【0081】実施例 (一般式(4)で示される化合物を用いた表面処理剤) 4−メチルフェニレンジアミンとα−ナフタレン酢酸と
PTSとを用い、実施例1と同様にして2−(α−ナフ
チルメチル)−5−メチルベンゾイミダゾールを合成し
た。得られた化合物を用い、実施例1と同様にして処理
液を調製し、はんだ濡れ性試験を行った。試験結果を表
1に示す。
Example 4 (Surface treating agent using compound represented by general formula (4)) Using 4-methylphenylenediamine, α-naphthaleneacetic acid and PTS, 2- (α -Naphthylmethyl) -5-methylbenzimidazole was synthesized. Using the obtained compound, a treatment liquid was prepared in the same manner as in Example 1, and a solder wettability test was performed. Table 1 shows the test results.

【0082】実施例 (一般式(6)で示される化合物を用いた表面処理剤) フェニレンジアミンと2−チオフェン酸とPTSとを用
い、実施例1と同様にして2−(2−チエニル)ベンゾ
イミダゾールを合成した。得られた化合物を用い、実施
例1と同様にして処理液を調製し、はんだ濡れ性試験を
行った。試験結果を表1に示す。
Example 5 (Surface treating agent using compound represented by general formula (6)) Using phenylenediamine, 2-thiophenic acid and PTS, 2- (2-thienyl) was obtained in the same manner as in Example 1. Benzimidazole was synthesized. Using the obtained compound, a treatment liquid was prepared in the same manner as in Example 1, and a solder wettability test was performed. Table 1 shows the test results.

【0083】[0083]

【0084】実施例 (一般式(14)で示される化合物を用いた表面処理
剤) 3,3’−ジアミノベンジジンとオクタン酸(2モル)
とPTSとを用い、実施例1と同様にして2,2’−ジ
ヘプチル−6,5’−ジベンゾイミダゾールを合成し
た。得られた化合物を用い、実施例1と同様にして処理
液を調製し、はんだ濡れ性試験を行った。試験結果を表
1に示す。
Example 6 (Surface treating agent using compound represented by general formula (14)) 3,3'-diaminobenzidine and octanoic acid (2 mol)
2,2′-diheptyl-6,5′-dibenzimidazole was synthesized in the same manner as in Example 1 using and PTS. Using the obtained compound, a treatment liquid was prepared in the same manner as in Example 1, and a solder wettability test was performed. Table 1 shows the test results.

【0085】比較例1 2−ノニルベンゾイミダゾールを用い、実施例1と同様
にして処理液を調製し、はんだ濡れ性試験を行った。試
験結果を表1に示す。
Comparative Example 1 Using 2-nonylbenzimidazole, a treatment liquid was prepared in the same manner as in Example 1, and a solder wettability test was conducted. Table 1 shows the test results.

【0086】[0086]

【表1】 [Table 1]

【0087】[0087]

【発明の効果】本発明の表面処理剤は、耐熱性に優れ、
高温下にさらされた後でもはんだ付け性が非常に良好な
皮膜を銅または銅合金の表面に形成しうるため、プリン
ト配線板に電子部品を表面実装する際に、特に顕著な効
果を発揮するものである。
The surface treating agent of the present invention has excellent heat resistance,
Very good solderability can be formed on the surface of copper or copper alloy even after exposure to high temperature, so it has a particularly remarkable effect when surface mounting electronic components on printed wiring boards. Things.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 王谷 稔 兵庫県尼崎市東初島町1番地 メック株 式会社内 (72)発明者 春田 孝史 兵庫県尼崎市東初島町1番地 メック株 式会社内 (56)参考文献 特開 平5−263275(JP,A) 特開 平6−173023(JP,A) 特開 平6−192851(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C23C 22/05 C23F 11/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Minoru Oya 1 Higashi-Hatsushima-cho, Amagasaki-shi, Hyogo Pref. (72) Inventor Takashi Haruta 1-Higashi-Hatsushima-cho, Amagasaki-shi, Hyogo Mech Co., Ltd. (56 References JP-A-5-263275 (JP, A) JP-A-6-172323 (JP, A) JP-A-6-192851 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB Name) C23C 22/05 C23F 11/00

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一般式(4): 【化4】 (式中、Aはアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、アラルキル基、フェニルカルボニル基
またはハロゲン原子、Aはアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、フェニ
ルカルボニル基またはハロゲン原子、Rはアルキレン
基、アルケニレンル基、アルキニレン基またはアリレン
基(Arylene)、aは0〜4の整数、bは0また
は1、cは0〜7の整数)一般式(6): 【化6】 (式中、dは1〜3の整数、A、A、R、aおよ
びbはそれぞれ前記と同じ)もしくは、一般式(1
4): 【化14】 (式中、AおよびAはそれぞれアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基また
はフェニルカルボニル基)で示される化合物またはそれ
らの塩の少なくとも1種を含有することを特徴とする銅
およぴ銅合金の表面処理剤。
1. A compound of the general formula (4): (Where A 1 is an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, aralkyl group, phenylcarbonyl group or halogen atom, A 4 is an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, aralkyl group, phenylcarbonyl group Or a halogen atom, R 2 is an alkylene group, alkenylene group, alkynylene group or arylene group (Arylene), a is an integer of 0 to 4, b is 0 or 1, and c is an integer of 0 to 7.) General formula (6) : (Where d is an integer of 1 to 3, and A 1 , A 4 , R 2 , a and b are the same as those described above), or a general formula (1
4): embedded image (Wherein, A 8 and A 9 are each an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group or a phenylcarbonyl group) or a salt thereof. Surface treatment agent for copper and copper alloys.
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