JP2929862B2 - Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic method - Google Patents
Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic methodInfo
- Publication number
- JP2929862B2 JP2929862B2 JP25757292A JP25757292A JP2929862B2 JP 2929862 B2 JP2929862 B2 JP 2929862B2 JP 25757292 A JP25757292 A JP 25757292A JP 25757292 A JP25757292 A JP 25757292A JP 2929862 B2 JP2929862 B2 JP 2929862B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- charge
- carbon
- electrophotographic
- charge injection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、アモルファスシリコン
電子写真感光体およびそれを用いる電子写真法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an amorphous silicon electrophotographic photosensitive member and an electrophotographic method using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】現在最も一般に行われている電子写真法
では、帯電にコロトロン、スコロトロンなどのコロナ放
電を利用している。しかしながら、コロナ放電を用いた
場合、放電生成物による画像ぼけ、画像喪失等の欠陥画
像をはじめ、オゾンの発生による変質および環境への影
響等問題がある。近年、水素化アモルファスシリコン感
光体が表面硬度、高感度、耐久性に優れた長寿命感光体
として提案されているが、比誘電率がセレン感光体や有
機感光体に比べて大きいため、帯電に要する電流が大き
く、コロナ放電による帯電の場合にはオゾンの発生や高
湿時に画像ぼけが発生する等の問題があった。このため
コロナ放電の代わりにローラー帯電等の接触帯電法の使
用が提案されているが(特開昭63−210864号、
64−29875号公報、特開平2−203359号公
報)が、依然として、帯電が不十分であった。さらにま
た、接触帯電器としてゴムローラーを用いた場合、水素
化アモルファスシリコン感光体は硬度が高いため、ゴム
ローラーが磨耗して経時変化が生じ、長寿命感光体の帯
電方法としては信頼性に欠けたものであった。2. Description of the Related Art In the electrophotography method most commonly used at present, a corona discharge such as a corotron or a scorotron is used for charging. However, when corona discharge is used, there are problems such as defective images such as image blur and image loss due to discharge products, deterioration of ozone, and influence on the environment. In recent years, hydrogenated amorphous silicon photoreceptors have been proposed as long-life photoreceptors with excellent surface hardness, high sensitivity, and durability. The required current is large, and in the case of charging by corona discharge, there have been problems such as generation of ozone and image blurring at high humidity. For this reason, use of a contact charging method such as roller charging instead of corona discharge has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 63-210864,
64-29875 and JP-A-2-203359) still have insufficient charging. Furthermore, when a rubber roller is used as a contact charger, the hydrogenated amorphous silicon photoreceptor has high hardness, and the rubber roller wears out, causing a change with time, and is unreliable as a charging method for a long-life photoreceptor. It was.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
における上記のような問題点に鑑みてなされたものであ
って、接触帯電法によって、高湿時でも十分な帯電を行
うことができると共に、長期間にわたり安定してコピー
操作を行うことが可能な電子写真感光体を提供すること
を目的とするものである。本発明の他の目的は、オゾン
の発生がなく、高信頼でかつ高速適性があり、長寿命の
電子写真法を提供することにある。本発明の他の目的
は、従来の電子写真法の要素を簡略化し、小型化および
省エネルギーを実現することができる電子写真法を提供
することにある。本発明のさらに他の目的は、高湿時で
も画像ぼけの無い高品質のプリントを提供する画像形成
法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems in the prior art, and can sufficiently charge even at high humidity by a contact charging method. It is another object of the present invention to provide an electrophotographic photosensitive member capable of performing a copying operation stably for a long period of time. It is another object of the present invention to provide a long-life electrophotographic method which does not generate ozone, has high reliability, is suitable for high-speed operation, and has a long life. It is another object of the present invention to provide an electrophotographic method capable of simplifying the elements of the conventional electrophotographic method and realizing miniaturization and energy saving. Still another object of the present invention is to provide an image forming method which provides a high quality print without image blur even at high humidity.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、感光体の表面
に電荷トラップ層と電荷注入層を積層して設けることに
より、機械的にも化学的にも安定な感光体が得られ、接
触帯電によって十分安定した帯電を行うことができると
いう知見に基づいてなされたものである。本発明の電子
写真感光体は、導電性基体上に、少なくとも、アモルフ
ァスシリコンからなる光導電層を設け、その上に、帯電
極性と同極性の電荷を注入させるための電荷注入層およ
びその電荷をトラップさせるための電荷トラップ層を、
電荷トラップ層および電荷注入層の順に設けたものであ
って、第1の電子写真感光体は、上記電荷注入層が少な
くとも第III 族元素を含むアモルファスシリコンまたは
アモルファスカーボンからなり、電荷トラップ層が炭
素、窒素、酸素および第V族元素から選択された少なく
とも一種を含有するアモルファスシリコンまたはアモル
ファスカーボンからなることを特徴とする帯電極性が正
帯電性の電子写真感光体であり、第2の電子写真感光体
は、上記電荷注入層が少なくとも第V族元素を含むアモ
ルファスシリコンまたはアモルファスカーボンからな
り、電荷トラップ層が炭素、窒素、酸素および第III 族
元素から選択された少なくとも一種を含有するアモルフ
ァスシリコンまたはアモルファスカーボンからなること
を特徴とする帯電極性が負帯電性である電子写真感光体
である。本発明の電子写真法は、上記の電子写真感光体
を帯電し、像露光し、現像し、定着する工程を含むもの
であって、金属帯電器を電子写真感光体表面に接触さ
せ、外部より電荷を供給して帯電させることを特徴とす
る。本発明において、金属帯電器は、クリーニングブレ
ードであってもよい。According to the present invention, a photoreceptor which is mechanically and chemically stable can be obtained by laminating a charge trapping layer and a charge injection layer on the surface of a photoreceptor. This is based on the finding that sufficiently stable charging can be performed by charging. The electrophotographic photosensitive member of the present invention, a conductive substrate, at least, a photoconductive layer made of amorphous silicon is provided, thereon a charge injection layer and the charge for injecting a the same polarity as the charging polarity of the charge Charge trapping layer for trapping,
Monodea provided in the order of the charge trapping layer and a charge injection layer
Therefore, the first electrophotographic photoreceptor has a small charge injection layer.
Amorphous silicon containing at least a group III element or
The charge trapping layer is made of amorphous carbon
At least one selected from silicon, nitrogen, oxygen and group V elements
Amorphous silicon or amorphous containing both
Positive charging polarity, characterized by being made of fast carbon
A second electrophotographic photosensitive member, which is a chargeable electrophotographic photosensitive member;
Means that the charge injection layer is made of an amorphous material containing at least a group V element.
Rufus silicon or amorphous carbon
The charge trapping layer contains carbon, nitrogen, oxygen and
Amorph containing at least one selected from elements
Made of silicon or amorphous carbon
Electrophotographic photoreceptor having a negatively chargeable polarity
It is. The electrophotographic method of the present invention includes a step of charging the above-mentioned electrophotographic photosensitive member, exposing the image, developing and fixing the metal electrophotographic photosensitive member. It is characterized by supplying electric charge and charging. In the present invention, the metal charger may be a cleaning blade.
【0005】以下、本発明を図面を参照して説明する。
図1ないし図3は、本発明の電子写真感光体の模式的断
面図であって、導電性支持体1の上に、アモルファスシ
リコンを主体とする光導電層2および電荷トラップ層3
と電荷注入層4が積層された構造を有している。図2に
おいては、導電性支持体1と光導電層2との間にさらに
電荷注入阻止層5が設けられており、また、電荷トラッ
プ層3が3つの層7〜9よりなる積層構造を有してい
る。図3においては、導電性支持体1と電荷注入阻止層
5との間に補助層6が設けられている。Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.
1 to 3 are schematic cross-sectional views of an electrophotographic photoreceptor of the present invention, in which a photoconductive layer 2 mainly composed of amorphous silicon and a charge trapping layer 3 are formed on a conductive support 1.
And the charge injection layer 4 are laminated. In FIG. 2, a charge injection blocking layer 5 is further provided between the conductive support 1 and the photoconductive layer 2, and the charge trapping layer 3 has a laminated structure including three layers 7 to 9. doing. In FIG. 3, an auxiliary layer 6 is provided between the conductive support 1 and the charge injection blocking layer 5.
【0006】本発明において、導電性支持体としては、
アルミニウム、ステンレススチール、ニッケル、クロム
等の金属およびその合金があげられ、また、導電化処理
を施した絶縁性基体よりなるものであってもよい。絶縁
性基体としては、ポリエステル、ポリエチレン、ポリカ
ーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド等
の高分子フィルム又はシート、ガラス、セラミック等が
あげられ、その少なくとも他の層と接触する面は、導電
化処理が施される。導電化処理は、上記金属あるいは、
金、銀、銅等を蒸着、スパッター、イオンプレーティン
グ法によって成膜することによって行なうことができ
る。本発明において、導電性支持体は、一般にオーステ
ナイト系ステンレス鋼と称されるCr−Ni含有鋼で形
成されているものを用いることができ、さらにまた、こ
れらオーステナイト系ステンレス鋼よりなる導電性支持
体の表面に、少なくとも、モリブデン、クロム、マンガ
ン、タングステンまたはチタンを主成分とする導電層を
形成させたものが好ましく使用される。これらの導電層
は、メッキ、スパッタリングまたは蒸着によって形成す
ることができる。本発明における導電性支持体は、ま
た、アルミニウム基板の上にクロム、チタン、タングス
テンまたはモリブデンを主成分として形成された導電層
を有するものを用いることができる。さらにまた、モリ
ブデン、タングステンまたはチタンから構成される導電
性支持体を用いることもできる。導電性支持体は、厚さ
0.5〜50mm、好ましくは1〜20mmの範囲のも
のが使用される。In the present invention, as the conductive support,
Examples thereof include metals such as aluminum, stainless steel, nickel, and chromium, and alloys thereof, and may be made of an insulating substrate subjected to a conductive treatment. Examples of the insulating substrate include a polymer film or sheet such as polyester, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyamide, and polyimide, glass, and ceramics. At least the surface of the insulating substrate that comes in contact with another layer is subjected to a conductive treatment. You. Conduction treatment, the metal or,
The deposition can be performed by depositing gold, silver, copper, or the like by vapor deposition, sputtering, or ion plating. In the present invention, as the conductive support, a support formed of a Cr-Ni-containing steel generally called an austenitic stainless steel can be used, and further, a conductive support made of these austenitic stainless steels Preferably, at least a conductive layer containing molybdenum, chromium, manganese, tungsten or titanium as a main component is formed on the surface thereof. These conductive layers can be formed by plating, sputtering, or vapor deposition. As the conductive support in the present invention, a conductive support having a conductive layer formed mainly on chromium, titanium, tungsten, or molybdenum on an aluminum substrate can be used. Furthermore, a conductive support made of molybdenum, tungsten, or titanium can be used. The conductive support has a thickness of 0.5 to 50 mm, preferably 1 to 20 mm.
【0007】本発明において、導電性支持体は、その表
面が研磨されているものを用いてもよい。すなわち、バ
フ研磨、砥石研磨等により、研磨剤の粗さを粗粒から微
粒に変えながら、繰り返し実施することにより平滑にし
たものを用いることができる。表面の粗さは、RS で2
Sから0.02Sの範囲であり、好ましくは0.5Sか
ら0.03Sの範囲のものを用いることができる。表面
は、完全鏡面であっても、また細い筋により、くもり状
になっていてもよいが、全体としては平滑であって、旋
盤切削においては、切削ピッチの境界面に凸状部が残留
していないことが必要である。In the present invention, a conductive support having a polished surface may be used. That is, it is possible to use a material which has been smoothed by repeatedly performing it while changing the roughness of the abrasive from coarse particles to fine particles by buff polishing, grinding stone polishing or the like. Surface roughness is 2 in R S
A range from S to 0.02S, preferably from 0.5S to 0.03S can be used. The surface may be completely mirror-finished or may be cloudy due to fine streaks, but as a whole it is smooth, and in lathe cutting, a convex part remains at the boundary of the cutting pitch. It is not necessary.
【0008】導電性支持体の上には、所望により電荷注
入阻止層が設けられる。電荷注入阻止層は、第III 族元
素または第V族元素が添加されたアモルファスシリコン
またはアモルファスカーボンよりなる。添加物として第
III 族元素を用いるか、或いは第V族元素を用いるか
は、感光体の帯電極性によって決められる。電荷注入阻
止層には、第III 族元素または第V族元素に加えて、さ
らに窒素、酸素、炭素およびハロゲンの少なくともいず
れか1つを含有させてもよい。[0008] A charge injection blocking layer is provided on the conductive support, if desired. The charge injection blocking layer is made of amorphous silicon doped with a group III element or a group V element.
Or it consists of amorphous carbon . No. as additive
Whether a Group III element or a Group V element is used is determined by the charging polarity of the photoconductor. The charge injection blocking layer may further contain at least one of nitrogen, oxygen, carbon, and halogen in addition to the group III element or the group V element.
【0009】さらにまた、電荷注入層と導電性支持体と
の間には、接着層として作用する補助層を設けてもよ
い。補助層は、例えば、窒素、炭素、酸素の元素のうち
少なくとも一種を含有するアモルファスシリコンよりな
ることができる。膜厚は0.01〜5μm、好ましくは
0.1〜1μmの範囲である。Furthermore, an auxiliary layer acting as an adhesive layer may be provided between the charge injection layer and the conductive support. The auxiliary layer can be made of, for example, amorphous silicon containing at least one element of nitrogen, carbon, and oxygen. The thickness is in the range of 0.01 to 5 μm, preferably 0.1 to 1 μm.
【0010】光導電層は、水素および/またはハロゲン
を含有するアモルファスシリコンを主体として形成され
る。膜厚は1〜10μmの範囲が好ましい。水素および
/またはハロゲンの含有量は3〜40原子%の範囲であ
る。光導電層には、導電性を制御する不純物元素とし
て、第III 族元素を含有させるのが好ましい。その添加
量は感光体の帯電符号、必要な分光感度によって決定さ
れ、0.01〜1000ppmの範囲で用いられる。ア
モルファスシリコンを主体とするこの光導電層には、帯
電性の向上、暗減衰の低減、感度の向上等の目的で、さ
らに窒素、炭素、酸素等の元素を添加することが可能で
ある。また、この光導電層には、GeおよびSnの少な
くとも一つが含有されていてもよい。本発明において、
この光導電層は、電荷発生層と電荷輸送層との二種類か
ら構成されていてもよい。[0010] The photoconductive layer is formed mainly of amorphous silicon containing hydrogen and / or halogen. The thickness is preferably in the range of 1 to 10 μm. The content of hydrogen and / or halogen ranges from 3 to 40 atomic%. The photoconductive layer preferably contains a group III element as an impurity element for controlling conductivity. The amount of addition is determined by the charging sign of the photoreceptor and the required spectral sensitivity, and is used in the range of 0.01 to 1000 ppm. Elements such as nitrogen, carbon, and oxygen can be further added to the photoconductive layer mainly composed of amorphous silicon for the purpose of improving chargeability, reducing dark decay, improving sensitivity, and the like. The photoconductive layer may contain at least one of Ge and Sn. In the present invention,
This photoconductive layer may be composed of two types, a charge generation layer and a charge transport layer.
【0011】光導電層の上に形成する電荷トラップ層
は、炭素、窒素、酸素および第III 族または第V族元素
から選択された少なくとも一種を含有するアモルファス
シリコンまたはアモルファスカーボンから構成される。The charge trapping layer formed on the photoconductive layer is made of amorphous silicon or amorphous carbon containing carbon, nitrogen, oxygen and at least one element selected from the group III or group V elements.
【0012】電荷トラップ層が、アモルファスシリコン
を主体とする場合、アモルファスシリコンには3〜40
原子%の水素および/またはハロゲンが含まれていても
よい。また、アモルファスカーボンを主体とする場合、
アモルファスカーボンには5〜50原子%の水素および
/またはハロゲンが含まれていてもよい。なお、アモル
ファスカーボンの場合、膜中に含まれる多量の水素或い
はハロゲンは、膜中に鎖状の−CH2 −結合、−CF2
−結合或いは−CH3 結合を増加させ、結果として膜の
硬度を損なうことになるため、膜中の水素およびハロゲ
ンの量は50原子%以下にすることが必要である。When the charge trapping layer is mainly composed of amorphous silicon, the amorphous silicon has 3 to 40
Atomic% of hydrogen and / or halogen may be included. In addition, when mainly amorphous carbon is used,
The amorphous carbon may contain 5 to 50 atomic% of hydrogen and / or halogen. In the case of amorphous carbon, a large amount of hydrogen or halogen contained in the film is converted into a chain-like CH 2 -bond, -CF 2
The amount of hydrogen and halogen in the film needs to be 50 atomic% or less, since the number of -bonds or -CH 3 bonds is increased, and as a result, the hardness of the film is impaired.
【0013】電荷トラップ層が、第III 族または第V族
元素を含有する場合には、第III 族または第V族元素は
感光体の帯電極性に応じて選択し、感光体が正帯電性の
場合には第V族元素を、また負帯電性の場合には第III
族元素を含有させる。第V族元素の量は0.01ppm
から1000ppmの範囲で、また第III 族元素の量は
5ppmから10000ppmの範囲で膜厚に応じて適
宜設定される。電荷トラップ層の膜厚は、0.01μm
から10μm、好ましくは0.1μmから5μmであ
る。When the charge trapping layer contains a Group III or Group V element, the Group III or Group V element is selected according to the charging polarity of the photoreceptor, and the photoreceptor is charged positively. Group V element in the case, and group III element in the case of negative chargeability.
Group element is contained. The amount of group V element is 0.01 ppm
To 1000 ppm, and the amount of the group III element is appropriately set depending on the film thickness in the range of 5 ppm to 10000 ppm. The thickness of the charge trap layer is 0.01 μm
To 10 μm, preferably 0.1 μm to 5 μm.
【0014】電荷トラップ層におけるトラップ密度の制
御のためには、炭素、酸素、窒素のうち少なくとも一種
を含有させるのが有効である。これら元素の含有量は、
炭素の場合1ppmから99.9atom%、酸素の場
合1ppmから60atom%、窒素の場合1ppmか
ら60atom%である。In order to control the trap density in the charge trap layer, it is effective to contain at least one of carbon, oxygen and nitrogen. The content of these elements is
1 ppm to 99.9 atom% for carbon, 1 ppm to 60 atom% for oxygen, and 1 ppm to 60 atom% for nitrogen.
【0015】電荷トラップ層の上に設ける電荷注入層
は、第III 族元素または第V族元素を含むアモルファス
シリコンまたはアモルファスカーボンから構成される。
電荷注入層が、アモルファスシリコンを主体とする場
合、アモルファスシリコンには3〜40原子%の水素あ
るいは/およびハロゲンが含まれていてもよい。また、
アモルファスカーボンを主体とする場合、アモルファス
カーボンには5〜50原子%の水素あるいは/およびハ
ロゲンが含まれいてもよい。なお、アモルファスカーボ
ンの場合、膜中に含まれる多量の水素或いはハロゲン
は、膜中に鎖状の−CH2 −結合、−CF2 −結合或い
は−CH3 結合を増加させ、結果として膜の硬度を損な
うことになるため、膜中の水素およびハロゲンの量は5
0原子%以下であることが必要である。The charge injection layer provided on the charge trap layer is made of amorphous silicon or amorphous carbon containing a group III element or a group V element.
When the charge injection layer is mainly composed of amorphous silicon, the amorphous silicon may contain 3 to 40 atomic% of hydrogen and / or halogen. Also,
When amorphous carbon is mainly used, the amorphous carbon may contain 5 to 50 atomic% of hydrogen and / or halogen. In the case of amorphous carbon, a large amount of hydrogen or halogen contained in the film increases chain-like —CH 2 —, —CF 2 —, or —CH 3 bonds in the film, and as a result, the hardness of the film is increased. Therefore, the amount of hydrogen and halogen in the film is 5%.
It must be 0 atomic% or less.
【0016】第III 族および第V族元素に関しては、感
光体の帯電極性に応じて選択し、感光体が正帯電性の場
合には第III 族元素を、負帯電性の場合にはV族元素を
含有させる。第III 族元素の量は、0.1ppmから1
00ppm、第V族元素の量は0.01ppmから10
000ppmである。また、電荷注入層には、電荷注入
性の制御、表面硬度の向上等の目的で、窒素、酸素、炭
素の1種またはそれ以上を含有させてもよい。窒素を含
有させる場合は1ppmから20atom%である。電
荷注入層の膜厚は、0.01μmから10μm好ましく
は0.1μmから5μmである。The Group III and Group V elements are selected according to the charging polarity of the photoreceptor. When the photoreceptor is positively charged, the Group III element is selected. Contains elements. The amount of Group III element is from 0.1 ppm to 1 ppm.
00 ppm, the amount of group V element is 0.01 ppm to 10
000 ppm. In addition, the charge injection layer may contain one or more of nitrogen, oxygen, and carbon for the purpose of controlling charge injection properties and improving surface hardness. When nitrogen is contained, the content is 1 ppm to 20 atom%. The thickness of the charge injection layer is 0.01 μm to 10 μm, preferably 0.1 μm to 5 μm.
【0017】本発明において、電荷トラップ層または電
荷注入層は、上記した第III 族元素または第V族元素、
窒素、酸素および炭素のいずれかを一つ以上含有するア
モルファスシリコンよりなる二つ以上の層よりなってい
てもよく、また、水素および/またはハロゲンを含有す
るアモルファス炭素よりなる層が積層されて形成されて
いてもよい。図2は、電荷注入層4と電荷トラップ層7
〜9との積層構造を有する構成となっている場合を示
す。In the present invention, the charge trapping layer or the charge injection layer is formed of the above-described group III element or group V element,
It may be composed of two or more layers of amorphous silicon containing one or more of nitrogen, oxygen and carbon, and may be formed by laminating layers of amorphous carbon containing hydrogen and / or halogen. It may be. FIG. 2 shows the charge injection layer 4 and the charge trap layer 7.
9 shows a configuration having a stacked structure of the first to ninth embodiments.
【0018】なお、図2に示すように電荷トラップ層が
複数層形成されている場合においては、各層は、次のよ
うな構成を有しているのが好ましい。すなわち、第1の
層7は、炭素、酸素或いは窒素原子濃度が、ケイ素原子
に対する原子比として0.1〜1.0の範囲にあり、膜
厚が0.01〜0.1μmの範囲にあり、また、第2の
層8は、炭素、酸素或いは窒素原子濃度が、ケイ素原子
に対する原子比として0.1〜1.0の範囲にあり、膜
厚が0.05〜1μmの範囲にあり、さらに第3の層9
は、炭素、酸素或いは窒素原子濃度が、第2の層8にお
けるものよりも高く、ケイ素原子に対する原子比として
0.5〜1.3の範囲にあり、膜厚が0.01〜0.1
μmの範囲にあるのが好ましい。When a plurality of charge trapping layers are formed as shown in FIG. 2, each layer preferably has the following structure. That is, the first layer 7 has a carbon, oxygen or nitrogen atom concentration in the range of 0.1 to 1.0 as an atomic ratio to silicon atoms, and a film thickness in the range of 0.01 to 0.1 μm. The second layer 8 has a carbon, oxygen or nitrogen atom concentration in the range of 0.1 to 1.0 as an atomic ratio with respect to silicon atoms, and a film thickness in the range of 0.05 to 1 μm, Third layer 9
Has a carbon, oxygen or nitrogen atom concentration higher than that in the second layer 8, an atomic ratio to silicon atoms in the range of 0.5 to 1.3, and a film thickness of 0.01 to 0.1.
It is preferably in the range of μm.
【0019】次に、導電性支持体上に、上記各層を形成
する方法について説明する。導電性支持体上記形成する
各層は、いずれもプラズマCVD法によるグロー放電分
解法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真
空蒸着法等の手段によって形成することができる。その
際、原料ガスとしては、光導電層、電荷注入阻止層およ
び補助層の場合は、ケイ素原子を含む主原料ガスが用い
られ、また、電荷トラップ層および電荷注入層の場合
は、ケイ素原子を含む主原料ガス、または炭化水素また
はそのハロゲン置換体を含む主原料ガスが用いられる。Next, a method of forming each of the above layers on the conductive support will be described. Conductive Support Each layer to be formed can be formed by means such as a glow discharge decomposition method by a plasma CVD method, a sputtering method, an ion plating method, and a vacuum evaporation method. At that time, as the raw material gas, in the case of the photoconductive layer, the charge injection blocking layer and the auxiliary layer, a main raw material gas containing silicon atoms is used, and in the case of the charge trapping layer and the charge injection layer, silicon atoms are used. A main source gas containing a hydrocarbon or a halogen-substituted product thereof is used.
【0020】グロー放電分解法の場合を例にとって、そ
の製造法を示すと、次のようになる。原料ガスとして、
上記主原料ガスを用い、それに必要な添加物元素を含む
原料ガスを加えて混合ガスとする。その場合、必要に応
じて、水素、または、ヘリウム、アルゴン、ネオン等の
不活性ガスをキャリアガスとして併用することができ
る。グロー放電分解は、直流および交流放電のいずれを
採用してもよく、成膜条件としては、周波数0〜5GH
z、反応器内圧10-5〜10Torr(0.001〜1
333Pa)、放電電力10〜3000Wであり、ま
た、支持体温度は30〜400℃の範囲で適宜設定する
ことができる。膜厚は、放電時間の調整により適宜設定
することができる。Taking the glow discharge decomposition method as an example, the production method is as follows. As a raw material gas,
Using the main raw material gas, a raw material gas containing a necessary additive element is added thereto to form a mixed gas. In that case, if necessary, hydrogen or an inert gas such as helium, argon, or neon can be used as a carrier gas. The glow discharge decomposition may employ either direct current or alternating current discharge, and the film forming conditions include a frequency of 0 to 5 GHz.
z, reactor internal pressure 10 -5 to 10 Torr (0.001 to 1
333 Pa), the discharge power is 10 to 3000 W, and the temperature of the support can be appropriately set in the range of 30 to 400 ° C. The film thickness can be appropriately set by adjusting the discharge time.
【0021】アモルファスシリコンからなる層を形成す
る場合は、ケイ素原子を含む主原料ガスとしては、シラ
ン類、特にSiH4 および/またはSi2 H6 が使用さ
れる。また、窒素、酸素および炭素を含有させるための
原料ガスとして、例えば次のものが使用できる。すなわ
ち、窒素を含む原料ガスとして、N2 単体ガス、N
H3 、N2 H4 、HN3 等の水素化窒素化合物のガスを
用いることができ、炭素を含む原料ガスとして、メタ
ン、エタン、プロパン、アセチレンのような炭化水素、
CF4 、C2 F6 のようなハロゲン化炭化水素を用いる
ことができ、さらに、酸素を含む原料ガスとして、
O2 、N2 O、CO、CO2 等を用いることができる。In the case of forming a layer made of amorphous silicon, silanes, particularly SiH 4 and / or Si 2 H 6 are used as the main source gas containing silicon atoms. Further, as a source gas for containing nitrogen, oxygen and carbon, for example, the following can be used. That is, as the source gas containing nitrogen, N 2 simple gas, N 2
A gas of a hydrogenated nitrogen compound such as H 3 , N 2 H 4 or HN 3 can be used. As a raw material gas containing carbon, hydrocarbons such as methane, ethane, propane, and acetylene;
Halogenated hydrocarbons such as CF 4 and C 2 F 6 can be used. Further, as a source gas containing oxygen,
O 2 , N 2 O, CO, CO 2 and the like can be used.
【0022】第III 族元素を含む原料ガスとしては、典
型的にはジボラン(B2 H6 )があげられ、その他Al
H3 等も使用できる。また、第V族元素ガスを含む原料
ガスとしては、典型的には(PH3 )が用いられる。As a source gas containing a Group III element, diborane (B 2 H 6 ) is typically mentioned.
H 3 and the like can also be used. Further, (PH 3 ) is typically used as a source gas containing a group V element gas.
【0023】アモルファスカーボンより構成される膜を
形成するために使用できる原料としては次のものがあげ
られる。主体となる炭素の原料としては、メタン、エタ
ン、プロパン、ブタン、ペンタン等の一般式Cn H2n+2
で示されるパラフィン系炭化水素、エチレン、プロピレ
ン、ブチレン、ペンテン等の一般式Cn H2nで示される
オレフィン系炭化水素、アセチレン、アリレン、ブチン
等の一般式Cn H2n-2で示されるアセチレン系炭化水素
等の脂肪族炭化水素、シクロプロパン、シクロブタン、
シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シ
クロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン等の脂環
式炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタリ
ン、アントラセン等の芳香族炭化水素、或いはそれらの
置換体があげられる。これらの炭化水素化合物は、枝分
れ構造があってもよく、また、ハロゲン置換体であって
もよい。例えば、四塩化炭素、クロロホルム、四フッ化
炭素、トリフルオロメタン、クロロトリフルオロメタ
ン、ジクロロジフルオロメタン、ブロモトリフルオロメ
タン、パーフルオロエタン、パーフルオロプロパン等の
ハロゲン化炭化水素を用いることができる。以上列記し
た炭素の原料は、常温でガス状であっても、固体状或い
は液状であってもよく、固体状或いは液状である場合に
は、気化して用いられる。The raw materials that can be used to form a film composed of amorphous carbon include the following. As a raw material of the main carbon, a general formula C n H 2n + 2 such as methane, ethane, propane, butane and pentane is used.
Acetylene shown in paraffinic hydrocarbon represented, ethylene, propylene, butylene, olefinic hydrocarbon represented by a general formula C n H 2n of pentene, acetylene, arylene, a general formula C n H 2n-2 butyne, etc. Aliphatic hydrocarbons such as hydrocarbons, cyclopropane, cyclobutane,
Examples thereof include alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclobutene, cyclopentene, and cyclohexene; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, naphthalene, and anthracene; and substituted products thereof. These hydrocarbon compounds may have a branched structure and may be a halogenated product. For example, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform, carbon tetrafluoride, trifluoromethane, chlorotrifluoromethane, dichlorodifluoromethane, bromotrifluoromethane, perfluoroethane, and perfluoropropane can be used. The carbon raw materials listed above may be in a gaseous state, a solid state or a liquid state at room temperature, and when in a solid state or a liquid state, are used after being vaporized.
【0024】次に、本発明の電子写真法について説明す
る。図4は、本発明を実施するための電子写真装置の概
略の構成図であって、本発明は次のように行われる。す
なわち、上記アモルファスシリコンを主体とする光導電
層を有する感光体ドラム10の感光体表面に、電源11
によって電圧を印加した金属帯電器12により帯電させ
た後、光学系を通した原稿像、レーザー、LED等の画
像入力装置13からの光によって露光し、静電潜像を形
成させる。形成された静電潜像は、現像器14によっ
て、トナーを用いて可視化され、トナー像に変換され
る。この場合、現像は、磁気ブラシ法を用いることがで
きる。形成されたトナー像は、圧力転写或いは静電転写
器15によって、用紙16に転写させる。転写後の感光
体表面に残留したトナーは、ブレードを用いたクリーナ
ー機構17により除去され、そして感光体表面に僅かに
残った電荷は、除電光器18により消去される。転写さ
れたトナー像は、定着装置19によって定着される。Next, the electrophotographic method of the present invention will be described. FIG. 4 is a schematic configuration diagram of an electrophotographic apparatus for carrying out the present invention, and the present invention is performed as follows. That is, the power supply 11 is provided on the surface of the photosensitive drum 10 having the photoconductive layer mainly composed of the amorphous silicon.
After being charged by the metal charger 12 to which a voltage has been applied, the image is exposed to light from an image input device 13 such as an original image, a laser, and an LED through an optical system to form an electrostatic latent image. The formed electrostatic latent image is visualized using a toner by the developing device 14 and is converted into a toner image. In this case, a magnetic brush method can be used for development. The formed toner image is transferred to a sheet 16 by a pressure transfer or an electrostatic transfer device 15. The toner remaining on the surface of the photoreceptor after the transfer is removed by a cleaner mechanism 17 using a blade, and the electric charge slightly remaining on the surface of the photoreceptor is erased by a static eliminator 18. The transferred toner image is fixed by the fixing device 19.
【0025】また、図5は他の電子写真装置の概略の構
成図であって、この場合、金属帯電器12がクリーニン
グブレードとしても作用するようになっている。また、
転写定着は、転写定着ロール20を感光体表面に対して
圧力を付与することによって行われるようになってい
る。この図に示される場合には、電子写真法の要素を簡
略化し、小型化、省エネルギー化の点で有利である。FIG. 5 is a schematic structural view of another electrophotographic apparatus. In this case, the metal charger 12 also functions as a cleaning blade. Also,
Transfer fixing is performed by applying pressure to the surface of the photoreceptor with the transfer fixing roll 20. In the case shown in this figure, the elements of the electrophotographic method are simplified, which is advantageous in terms of miniaturization and energy saving.
【0026】本発明において、金属帯電器に用いられる
ブレードとしては、種々の金属よりなるものを使用する
ことができるが、中でも、アルミニウム、鉄、ニッケ
ル、ステンレス鋼、タングステン、モリブデン、チタン
等よりなるものが好ましく使用できる。さらに電子写真
感光体に接触する部分を炭素、窒素、酸素、第III 族あ
るいは第V族元素の少なくとも1種を含み、かつ水素お
よび/またはハロゲンを含むアモルファスシリコンある
いはアモルファスカーボンにより被覆されていてもよ
い。この場合には、感光体にピンホールがあっても、そ
れによる電源電圧の変動を防ぐ効果がある。また、金属
ブレードの摩耗を低減する効果がある。本発明におい
て、金属帯電器には、外部から電圧が印加されるように
構成されている。電圧は、一般に50〜2000Vの範
囲が採用できる。In the present invention, as the blade used for the metal charger, those made of various metals can be used, and among them, aluminum, iron, nickel, stainless steel, tungsten, molybdenum, titanium and the like can be used. Those can be preferably used. Further, even if the portion in contact with the electrophotographic photosensitive member is covered with amorphous silicon or amorphous carbon containing at least one element of carbon, nitrogen, oxygen, group III or group V and containing hydrogen and / or halogen. Good. In this case, even if there is a pinhole in the photoconductor, there is an effect of preventing a fluctuation in the power supply voltage due to the pinhole. Further, there is an effect of reducing abrasion of the metal blade. In the present invention, a voltage is externally applied to the metal charger. Generally, a voltage in the range of 50 to 2000 V can be adopted.
【0027】[0027]
【実施例】次に、本発明を実施例および比較例を示し
て、さらに詳細に説明する。 実施例1 支持体として、厚さ4mmRmax 0.05μmの表面粗
度のAl製円筒状基体を使用し、その上にp型の電荷注
入阻止層、光導電層、および2つの層からなり、合計厚
さ0.5μmのSiNx よりなる電荷トラップ層と、膜
厚2μmのp型の電荷注入層を順次設けたアモルファス
シリコン感光体を作製した。Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples. Example 1 As a support, a cylindrical substrate made of Al having a surface roughness of 4 mmR max 0.05 μm was used, and a p-type charge injection blocking layer, a photoconductive layer, and two layers were formed thereon. An amorphous silicon photoreceptor was prepared in which a charge trap layer made of SiN x having a total thickness of 0.5 μm and a p-type charge injection layer having a thickness of 2 μm were sequentially provided.
【0028】反応器内を十分に排気し、次いで、シラン
ガス、水素ガスおよびジボランガスの混合ガスを導入し
て、グロー放電分解することにより、上記円筒状基体上
に、膜厚2μmの電荷注入阻止層を形成した。その際の
成膜条件は次の通りであった。 100%シランガス流量:180cm3 /min 100%水素ガス流量:90cm3 /min 200ppm水素希釈ジボランガス流量:90cm3 /
min 反応器内圧:1.0Torr 放電電力:200W 放電時間:60min 放電周波数:13.56MHz 支持体温度:250℃ (なお、以下において、各層の製造条件における放電周
波数および支持体温度は、上記の値に固定した。)The inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixed gas of silane gas, hydrogen gas and diborane gas is introduced and glow discharge decomposition is performed to form a charge injection preventing layer having a thickness of 2 μm on the cylindrical substrate. Was formed. The film forming conditions at that time were as follows. 100% silane gas: 180cm 3 / min 100% hydrogen gas flow rate: 90cm 3 / min 200ppm hydrogen dilution diborane flow rate: 90cm 3 /
min Reactor internal pressure: 1.0 Torr Discharge power: 200 W Discharge time: 60 min Discharge frequency: 13.56 MHz Support temperature: 250 ° C. (In the following, the discharge frequency and the support temperature under the production conditions of each layer are as described above. Fixed to.)
【0029】電荷注入阻止層作製の後、反応器内を十分
に排気し、次いで、シランガス、水素ガス、およびジボ
ランガスの混合体を導入して、グロー放電分解すること
により、電荷注入阻止層の上に、膜厚20μmの光導電
層を形成した。その際の成膜条件は次の通りであった。 100%シランガス流量:180cm3 /min 100%水素ガス流量:162cm3 /min 20ppm水素希釈ジボランガス流量:18cm3 /m
in 反応器内圧:1.0Torr 放電電力:300W 放電時間:200minAfter the formation of the charge injection blocking layer, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas and diborane gas is introduced to decompose by glow discharge. Then, a photoconductive layer having a thickness of 20 μm was formed. The film forming conditions at that time were as follows. 100% silane gas flow rate: 180 cm 3 / min 100% hydrogen gas flow rate: 162 cm 3 / min 20 ppm hydrogen diluted diborane gas flow rate: 18 cm 3 / m
in Reactor internal pressure: 1.0 Torr Discharge power: 300 W Discharge time: 200 min
【0030】光導電層作製の後、反応器内を十分に排気
し、次いで、シランガス、水素ガス、およびアンモニア
ガスの混合体を導入して、グロー放電分解することによ
り、光導電層の上に、膜厚0.15μmの第1の電荷ト
ラップ層を形成した。その際の成膜条件は次の通りであ
った。 100%シランガス流量:20cm3 /min 100%水素ガス流量:180cm3 /min 100%アンモニアガス流量:30cm3 /min 反応器内圧:0.5Torr 放電電力:50W 放電時間:30minAfter the formation of the photoconductive layer, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas and ammonia gas is introduced, and glow discharge decomposition is performed, so that the surface of the photoconductive layer is Then, a first charge trap layer having a thickness of 0.15 μm was formed. The film forming conditions at that time were as follows. 100% silane gas flow rate: 20 cm 3 / min 100% hydrogen gas flow rate: 180 cm 3 / min 100% ammonia gas flow rate: 30 cm 3 / min Reactor internal pressure: 0.5 Torr Discharge power: 50 W Discharge time: 30 min
【0031】第1の電荷トラップ層作製の後、反応器内
を十分に排気し、次いで、シランガス、水素ガス、およ
びアンモニアガスの混合体を導入して、グロー放電分解
することにより、第1の電荷トラップ層の上に、膜厚
0.25μmの第2の電荷トラップ層を形成した。その
際の成膜条件は次の通りであった。 100%シランガス流量:24cm3 /min 100%水素ガス流量:180cm3 /min 100%アンモニアガス流量:36cm3 /min 反応器内圧:0.5Torr 放電電力:50W 放電時間:40minAfter the formation of the first charge trapping layer, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas and ammonia gas is introduced to decompose the first charge trap layer by glow discharge. A second charge trapping layer having a thickness of 0.25 μm was formed on the charge trapping layer. The film forming conditions at that time were as follows. 100% silane gas flow rate: 24 cm 3 / min 100% hydrogen gas flow rate: 180 cm 3 / min 100% ammonia gas flow rate: 36 cm 3 / min Reactor internal pressure: 0.5 Torr Discharge power: 50 W Discharge time: 40 min
【0032】第2の中間層作製の後、反応器内を十分に
排気し、次いで、シランガス、水素ガス、およびシボラ
ンガスの混合体を導入して、グロー放電分解することに
より、第2の電荷トラップ層の上に、膜厚0.1μmの
電荷注入層を形成した。その際の成膜条件は次の通りで
あった。 100%シランガス流量:180cm3 /min 100%水素ガス流量:90cm3 /min 200%ppm水素希釈シボランガス流量:150cm
3 /min 反応器内圧:1.0Torr 放電電力:200W 放電時間:20minAfter the formation of the second intermediate layer, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas and siborane gas is introduced and glow discharge decomposition is performed to thereby form a second charge trap. A charge injection layer having a thickness of 0.1 μm was formed on the layer. The film forming conditions at that time were as follows. 100% silane gas flow rate: 180 cm 3 / min 100% hydrogen gas flow rate: 90 cm 3 / min 200% ppm hydrogen diluted siborane gas flow rate: 150 cm
3 / min Reactor internal pressure: 1.0 Torr Discharge power: 200 W Discharge time: 20 min
【0033】上記のようにして作製された電子写真感光
体を、図4に示されるプリンターに組み込み、毎分40
枚で画像作製を行った。12の金属帯電器としては、厚
さ0.5mmの先端が研磨された鋼鉄製のブレードを用
い、それに400Vの電圧を印加した。また、現像剤と
して1成分現像剤を使用し、磁気ブラシ現像を行った。
得られた画像は鮮明であり、しかもカブリはまったく認
められなかった。The electrophotographic photosensitive member produced as described above was incorporated into a printer shown in FIG.
An image was prepared on one sheet. As the metal charger No. 12, a 0.5 mm-thick steel blade having a polished tip was used, and a voltage of 400 V was applied thereto. Magnetic brush development was performed using a one-component developer.
The obtained image was clear and no fog was observed.
【0034】実施例2 実施例1と同じ支持体の上にn型の電荷注入阻止層、光
導電層および膜厚0.1μmのp型の電荷トラップ層
と、膜厚1μmのn型の電荷注入層を順次設けたアモル
ファスシリコン感光体を作製した。その際の成膜条件は
次の通りであった。 100%シランガス流量:20cm3 /min 100%水素ガス流量:180cm3 /min 100%アンモニアガス流量:20cm3 /min 反応器内圧:0.5Torr 放電電力:50W 放電時間:30minExample 2 An n-type charge injection blocking layer, a photoconductive layer, a 0.1 μm-thick p-type charge trap layer, and a 1 μm-thick n-type charge were formed on the same support as in Example 1. An amorphous silicon photosensitive member provided with an injection layer in order was manufactured. The film forming conditions at that time were as follows. 100% silane gas flow rate: 20 cm 3 / min 100% hydrogen gas flow rate: 180 cm 3 / min 100% ammonia gas flow rate: 20 cm 3 / min Reactor internal pressure: 0.5 Torr Discharge power: 50 W Discharge time: 30 min
【0035】電荷注入阻止層作製の後、反応器内を十分
に排気し、次いで、シランガス、水素ガス、およびジボ
ランガスの混合体を導入して、グロー放電分解すること
により、電荷注入阻止層の上に、膜厚20μmの光導電
層を形成した。その際の成膜条件は次の通りであった。 100%シランガス流量:180cm3 /min 100%水素ガス流量:162cm3 /min 20ppm水素希釈ジボランガス流量:18cm3 /m
in 反応器内圧:1.0Torr 放電電力:300W 放電時間:200minAfter the formation of the charge injection blocking layer, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas and diborane gas is introduced to decompose by glow discharge. Then, a photoconductive layer having a thickness of 20 μm was formed. The film forming conditions at that time were as follows. 100% silane gas flow rate: 180 cm 3 / min 100% hydrogen gas flow rate: 162 cm 3 / min 20 ppm hydrogen diluted diborane gas flow rate: 18 cm 3 / m
in Reactor internal pressure: 1.0 Torr Discharge power: 300 W Discharge time: 200 min
【0036】光導電層作製の後、反応器内を十分に排気
し、次いで、シランガス、水素ガス、およびアンモニア
ガスの混合体を導入して、グロー放電分解することによ
り、光導電層の上に、膜厚1μmの電荷トラップ層を形
成した。その際の成膜条件は次の通りであった。 100%シランガス流量:180cm3 /min 200ppm水素希釈シボランガス流量:180cm3
/min 反応器内圧:1.0Torr 放電電力:200W 放電時間:10minAfter the formation of the photoconductive layer, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas, and ammonia gas is introduced and glow discharge decomposition is performed, so that the surface of the photoconductive layer is decomposed. A charge trap layer having a thickness of 1 μm was formed. The film forming conditions at that time were as follows. 100% silane gas flow rate: 180 cm 3 / min 200 ppm hydrogen diluted sivoran gas flow rate: 180 cm 3
/ Min Reactor internal pressure: 1.0 Torr Discharge power: 200 W Discharge time: 10 min
【0037】次いで、シランガス、水素ガス、およびア
ンモニアガスの混合体を導入して、グロー放電分解する
ことにより、光導電層の上に、膜厚1.0μmの電荷注
入層を形成した。その際の成膜条件は次の通りであっ
た。 100%シランガス流量:40cm3 /min 100%水素ガス流量:180cm3 /min 100%アンモニアガス流量:20cm3 /min 反応器内圧:0.5Torr 放電電力:50W 放電時間:30minNext, a charge injection layer having a thickness of 1.0 μm was formed on the photoconductive layer by introducing a mixture of silane gas, hydrogen gas, and ammonia gas and performing glow discharge decomposition. The film forming conditions at that time were as follows. 100% silane gas flow rate: 40 cm 3 / min 100% hydrogen gas flow rate: 180 cm 3 / min 100% ammonia gas flow rate: 20 cm 3 / min Reactor internal pressure: 0.5 Torr Discharge power: 50 W Discharge time: 30 min
【0038】この電子写真感光体を用い、金属帯電器に
印加する電圧を−400Vにした点および現像剤の極性
を変えた点を除いて、実施例1と同じ方法で画像試験を
行なった。得られた画像は鮮明であり、しかもカブリは
認められなかった。Using this electrophotographic photoreceptor, an image test was performed in the same manner as in Example 1 except that the voltage applied to the metal charger was -400 V and the polarity of the developer was changed. The obtained image was clear and no fog was observed.
【0039】実施例3 実施例2と同じ電子写真感光体を、図5に示す構造のプ
リンターに組み込み、毎分40枚で画像作製を行なっ
た。金属帯電器兼クリーナーとして、実施例1と同じ鋼
鉄製のブレードを使用した。金属帯電器には−400V
を印加した。100,000枚の画像試験の結果、感光
体表面にはトナーや添加物の付着は認められず、帯電も
安定していた。得られた画像は鮮明であった。Example 3 The same electrophotographic photosensitive member as in Example 2 was incorporated into a printer having the structure shown in FIG. 5, and an image was produced at 40 sheets per minute. The same steel blade as in Example 1 was used as a metal charger and cleaner. -400V for metal charger
Was applied. As a result of an image test on 100,000 sheets, no toner or additives were found to adhere to the surface of the photoreceptor, and the charge was stable. The obtained image was clear.
【0040】[0040]
【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、上記のよう
にアモルファスシリコンからなる光導電層の上に、上記
特定の組成を有する電荷トラップ層および電荷注入層を
設けてなるものであって、金属帯電器を用いて接触帯電
法により、高湿時でも画像ぼけのない高品質のプリント
が得られる。また、本発明の電子写真感光体を用いる電
子写真法は、オゾンの発生がなく、高信頼でかつ高速適
性があり、長寿命である。また、従来の電子写真法の要
素を簡略化し、小型省エネルギーを実現することができ
る。As described above, the electrophotographic photoreceptor of the present invention is provided on the photoconductive layer made of amorphous silicon as described above.
It is provided with a charge trapping layer and a charge injection layer having specific compositions, and a high quality print free from image blur even at high humidity can be obtained by a contact charging method using a metal charger. The electrophotographic method using the electrophotographic photoreceptor of the present invention does not generate ozone, has high reliability, is suitable for high speed, and has a long life. Also, to simplify the elements of conventional xerography, it is possible to realize a compact energy saving.
【図1】 本発明の電子写真感光体の一例の模式的断面
図。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of the electrophotographic photosensitive member of the present invention.
【図2】 本発明の電子写真感光体の他の一例の模式的
断面図。FIG. 2 is a schematic sectional view of another example of the electrophotographic photosensitive member of the present invention.
【図3】 本発明の電子写真感光体の他の一例の模式的
断面図。FIG. 3 is a schematic sectional view of another example of the electrophotographic photosensitive member of the present invention.
【図4】 本発明を実施するための電子写真装置の一例
の概略構成図。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of an example of an electrophotographic apparatus for carrying out the present invention.
【図5】 本発明を実施するための電子写真装置の他の
一例の概略構成図。FIG. 5 is a schematic configuration diagram of another example of an electrophotographic apparatus for carrying out the present invention.
1…導電性支持体、2…光導電層、3…電荷トラップ
層、4…電荷注入層、5…電荷注入阻止層、6…補助
層、10…感光体ドラム、11…電源、12…金属帯電
器、13…画像入力装置、14…現像器、15…静電転
写器、16…用紙、17…クリーナー機構、18…除電
光器、19…定着装置、20…転写定着ロール。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conductive support, 2 ... Photoconductive layer, 3 ... Charge trap layer, 4 ... Charge injection layer, 5 ... Charge injection blocking layer, 6 ... Auxiliary layer, 10 ... Photoconductor drum, 11 ... Power supply, 12 ... Metal Charger, 13 image input device, 14 developing device, 15 electrostatic transfer device, 16 paper, 17 cleaner mechanism, 18 static eliminator, 19 fixing device, 20 transfer fixing roll.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03G 5/08 331 G03G 5/08 331 333 333 334 334 335 335 336 336 15/02 101 15/02 101 (56)参考文献 特開 平2−173657(JP,A) 特開 昭62−28758(JP,A) 特開 平1−321440(JP,A) 特開 昭60−112048(JP,A) 特開 昭60−147756(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03G 5/08 301 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI G03G 5/08 331 G03G 5/08 331 333 333 334 334 334 335 335 335 336 336 15/02 101 15/02 101 (56) References Special features JP-A-2-173657 (JP, A) JP-A-62-28758 (JP, A) JP-A-1-321440 (JP, A) JP-A-60-112048 (JP, A) JP-A-60-147756 (JP, A) JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) G03G 5/08 301
Claims (9)
ァスシリコンからなる光導電層を設けた電子写真感光体
において、該光導電層上に、帯電極性と同極性の電荷を
注入させるための電荷注入層およびその電荷をトラップ
させるための電荷トラップ層を、電荷トラップ層および
電荷注入層の順に設けてなり、該電荷注入層が少なくと
も第III 族元素を含むアモルファスシリコンまたはアモ
ルファスカーボンからなり、電荷トラップ層が炭素、窒
素、酸素および第V族元素から選択された少なくとも一
種を含有するアモルファスシリコンまたはアモルファス
カーボンからなることを特徴とする帯電極性が正帯電性
である電子写真感光体。1. An electrophotographic photoreceptor having at least a photoconductive layer made of amorphous silicon provided on a conductive substrate, wherein charge injection for injecting a charge having the same polarity as the charged polarity onto the photoconductive layer. a charge trapping layer to layer and trapping the charge, Ri Na provided in the order of the charge trapping layer and a charge injection layer, the less charge injection layer
Also amorphous silicon or aluminum containing group III elements
Made of Rufus carbon, and the charge trapping layer
At least one member selected from the group consisting of silicon, oxygen and a group V element
Amorphous silicon or amorphous containing species
Positive charging characteristics, characterized by being made of carbon
Electrophotographic photosensitive member is.
性と反対の極性の電荷の注入を阻止する電荷注入阻止層
を設けたことを特徴とする請求項1記載の電子写真感光
体。2. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein a charge injection blocking layer for blocking injection of a charge having a polarity opposite to the charging polarity is provided between the conductive substrate and the photoconductive layer. body.
元素の少なくとも一種および/または炭素、窒素および
酸素から選択された少なくとも一種を含有するアモルフ
ァスシリコンまたはアモルファスカーボンからなる電荷
注入阻止層を設けたことを特徴とする請求項1記載の電
子写真感光体。 3. A group III film between a conductive substrate and a photoconductive layer.
At least one of the elements and / or carbon, nitrogen and
Amorph containing at least one selected from oxygen
Charge made of silicon or amorphous carbon
2. The electrode according to claim 1, further comprising an injection blocking layer.
Child photoreceptor.
ァスシリコンからなる光導電層を設けた電子写真感光体
において、該光導電層上に、帯電極性と同極性の電荷を
注入させるための電荷注入層およびその電荷をトラップ
させるための電荷トラップ層を、電荷トラップ層および
電荷注入層の順に設けてなり、該電荷注入層が少なくと
も第V族元素を含むアモルファスシリコンまたはアモル
ファスカーボンからなり、電荷トラップ層が炭素、窒
素、酸素および第III 族元素から選択された少なくとも
一種を含有するアモルファスシリコンまたはアモルファ
スカーボンからなることを特徴とする帯電極性が負帯電
性である電子写真感光体。4. An electrophoretic display comprising at least an amorph
Electrophotographic photoreceptor provided with photoconductive layer made of silicon
In the above, a charge having the same polarity as the charging polarity is formed on the photoconductive layer.
Charge injection layer for injecting and trapping the charge
Charge trapping layer and
Will be provided in the order of the charge injection layer, the charge injection layer is made of amorphous silicon or amorphous carbon including at least a group V element, the charge trapping layer is carbon, nitrogen, at least one member selected from oxygen and the group III element amorphous silicon or electrostatic charging polarity, characterized in that an amorphous carbon Ru negatively charged der child photoreceptor contains.
性と反対の極性の電荷の注入を阻止する電荷注入阻止層
を設けたことを特徴とする請求項4記載の電子写真感光
体。 5. A band electrode between a conductive substrate and a photoconductive layer.
Charge injection blocking layer that blocks charge injection of the opposite polarity
5. The electrophotographic photosensitive apparatus according to claim 4, further comprising:
body.
素の少なくとも一種および/または炭素、窒素および酸
素から選択された少なくとも一種を含有するアモルファ
スシリコンまたはアモルファスカーボンからなる電荷注
入阻止層を設けたことを特徴とする請求項4記載の電子
写真感光体。6. A charge injection block made of amorphous silicon or amorphous carbon containing at least one group V element and / or at least one selected from carbon, nitrogen and oxygen between a conductive substrate and a photoconductive layer. The electrophotographic photosensitive member according to claim 4, wherein a layer is provided.
感光体を帯電し、像露光し、現像し、定着する工程を含
む電子写真法において、金属帯電器を電子写真感光体表
面に接触させ、外部より電荷を供給して帯電させること
を特徴とする電子写真法。7. An electrophotographic method comprising the steps of charging, imagewise exposing, developing and fixing the electrophotographic photosensitive member according to claim 1 or 4, wherein a metal charger is brought into contact with the surface of the electrophotographic photosensitive member. And an electric charge is supplied from the outside to charge the toner.
触する部分が、炭素、窒素、酸素、第III 族および第V
族元素から選択された少なくとも一種を含み、かつ水素
および/またはハロゲンを含有するアモルファスシリコ
ンまたはアモルファスカーボンにより被覆されているこ
とを特徴とする請求項7記載の電子写真法。8. A portion of the metal charger in contact with the electrophotographic photoreceptor is formed of carbon, nitrogen, oxygen, group III and V
The electrophotographic method according to claim 7, wherein the electrophotographic method includes at least one element selected from group III elements and is coated with amorphous silicon or amorphous carbon containing hydrogen and / or halogen.
る請求項7記載の電子写真法。9. The electrophotographic method according to claim 7, wherein the metal charger is a cleaning blade.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25757292A JP2929862B2 (en) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic method |
| US08/113,100 US5464721A (en) | 1992-09-02 | 1993-08-30 | Amorphous silicon photoreceptor and electrophotographic process using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25757292A JP2929862B2 (en) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0683090A JPH0683090A (en) | 1994-03-25 |
| JP2929862B2 true JP2929862B2 (en) | 1999-08-03 |
Family
ID=17308140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25757292A Expired - Lifetime JP2929862B2 (en) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2929862B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5252775A (en) * | 1990-02-17 | 1993-10-12 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Automatically up-dated apparatus for generating music |
| DE60231350D1 (en) | 2001-04-24 | 2009-04-09 | Canon Kk | Negative-chargeable electrophotographic element |
| DE60309253T2 (en) | 2002-08-09 | 2007-05-24 | Canon K.K. | ELECTROPHOTOGRAPHIC LIGHT-SENSITIVE ELEMENT |
| CN114220817B (en) * | 2021-11-22 | 2026-02-10 | 长江存储科技有限责任公司 | Memory and its manufacturing method |
-
1992
- 1992-09-02 JP JP25757292A patent/JP2929862B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0683090A (en) | 1994-03-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5139911A (en) | Electrophotographic photoreceptor with two part surface layer | |
| US4760005A (en) | Amorphous silicon imaging members with barrier layers | |
| US5262262A (en) | Electrophotographic photoreceptor having conductive layer and amorphous carbon overlayer | |
| JPS6061761A (en) | Photosensitive body for electrophotography | |
| JP2929862B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic method | |
| JP2920718B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic method | |
| US4932859A (en) | Electrophotographic photoreceptor having doped and/or bilayer amorphous silicon photosensitive layer | |
| JPH0572783A (en) | Electrophotographic sensitive material | |
| US5514507A (en) | Electrophotographic photoreceptor with amorphous Si-Ge layer | |
| US4698288A (en) | Electrophotographic imaging members having a ground plane of hydrogenated amorphous silicon | |
| JP2004219855A (en) | Image forming device | |
| JP2887828B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor and electrophotography | |
| JP2599642B2 (en) | Copier | |
| JP2887830B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic method | |
| JPH08171220A (en) | Electrophotographic photoreceptor and its production | |
| JP2806174B2 (en) | Electrophotography using conductive toner | |
| JP2883002B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic image forming method | |
| JPH06118741A (en) | Image forming device | |
| JPH0695214B2 (en) | Electrophotographic photoconductor | |
| US5462827A (en) | Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic process | |
| JP2985984B2 (en) | Image forming device | |
| JPS61275853A (en) | Electrophotographic sensitive body | |
| JPH0695220B2 (en) | Electrophotographic photoconductor | |
| JPH0695219B2 (en) | Electrophotographic photoconductor | |
| JP2971166B2 (en) | Image forming device |